DD202080A5 - Verfahren und vorrichtung zur kontrolle von mikromasken - Google Patents
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Abstract
Verfahren zur Kontrolle von Mikromasken, deren Muster in Form einer in einem Gedaechtnis gespeicherten Information ueber die Position der Mikromaske bei ihrer Herstellung in Beziehung zu einem quer zu ihr einfallenden, in Intensitaet und/oder Lage wechselnden Laserstrahl, und einer Information ueber die Intensitaets- und/oder Lageaenderung des Laserstrahles vorliegt. Erfindungsgemaess wird die zu kontrollierende Mikromaske mittels einer Vorrichtung fuer Relativbewegung in zwei zueinander senkrechten Richtungen zwischen der Optik eines Lasers und der Mikromaske in Beziehung zu einem vom Laser gegen die Mikromaske einfallenden Laserstrahl verschoben. Der Laserstrahl wird danach gegen die Mikromaske reflektiert oder durch sie hindurchgeleitet, wobei er mittels des Musters der Mikromaske moduliert wird. Danach wird das reflektierte oder hindurchgeleitete Licht von einem lichtempfindlichen Mittel abgefuehlt, dessen Ausgangssignal einem Vergleichkreis gleichzeitig und synchron mit der Auflage eines Steuersignales auf den Vergleichskreis aufgelegt wird. Das Steuersignal entspricht einem bei Erzeugung der Mikromaske ausgesendeten Steuersignal bezueglich der genannten Aenderungen in der Intensitaet und/oder Lage d. Laserstrahles u. ist in genanntem Gedaecht. gespeichert.ImVergleichskreis werden diese 2 Signale vergl.,wobei bei Uebereinstimmung zwischen den Signalen eine Anzeige korrekter Erzeugung der Mikromaske, und bei einer Abweichung zwischen den Signalen eine Anzeige des Vorliegens eines Fehlers erhalten wird.
Description
Berlin, den 10.3.1982 6o
Verfahren und Vorrichtung zur Kontrolle von Mikromasken
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Erzeugung von Mikromasken,
Solche Mikromasken werden bei der Herstellung von integrierten Kreisen angewendet, ·
In den SB-PS 375 216 und 7 501 605-5 sowie in den US-PS 3 903 536 und 4 060 816 werden ein Verfahren, und Vorrichtungen zur Erzeugung von Mikromasken beschrieben,
Die dort beschriebenen Vorrichtungen bestehen aus Mitteln zur Erreichung einer Relativbewegung zwischen einer Strahlungsquelle und einem strahlungsempfindlichen Medium. Diese Mittel enthalten einen ersten Schlitten für verhältnismäßig langsame Bewegung in einer Richtung und einen zweiten Schlitten für rasche Hin- und Herbewegung in einer quer zur erstgenannten Richtung verlaufenden Richtung zwecks Absuchung einer Oberfläche des strahlungsempfindlichen Mittels mit einem Strahl von der Strahlungsquelle, wobei dieser das strahlungsempfindliche Mittel exponiert.
•Die beschriebene Technik ist gut anwendbar und genau. Als Beispiel kann erwähnt werden, daß das Muster der erzeugten Maske eine Toleranz von etwa ± O,25//öm hat.
Mit Hilfe dieser Technik kann eine Maske mit außerordentlich kompliziertem Muster hergestellt werden, die normalerweise
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eine größere Oberfläche ala 10 ζ 10 cm hat.
Bei dieser Maskentechnik als solcher besteht jedoch ein großes Problem, nämlich die Kontrolle, daß eine erzeugte . Maske korrekt ist,.
.Gegenwärtig werden erzeugte Masken von Hand kontrolliert, indem man die Masken im Mikroskop betrachtet* Die Untersuchung von nur einer Maske mit einem Muster von normaler Kompliziertheit nimmt etwa einen Arbeitstag in Anspruch und ist sehr anstrengend· Außerdem besteht die Gefahr, daß Fehler bei der Kontrolle nicht entdeckt werden.
Ziel der Erfindung ist es, die vorgenannten Nachteile des Standes der Technik zu vermeiden.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und eine Vorrichtung zur automatischen Kontrolle einer erzeugten Mikromaske zu schaffen·
Die vorliegende'Erfindung,betrifft somit ein Verfahren zur Kontrolle von Mikromasken, deren Muster in Porm einer in einem Speicher gespeicherten Information bezüglich der Position der Mikromaske' bei ihrer Herstellung in Beziehung zu einem quer zu ihr einfallenden, in Intensität und/oder Lage wechselnden Laserstrahl in jedem so erzeugten Punkt der Mikromaske und einer Information bezüglich der Veränderung der Intensität und/oder Lage des Laserstrahles vorliegt, Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, daß eine zu kontrollieren de Mikromaske veranlaßt wird, mittels einer Vorrichtung, für Relativbewegung in zwei zueinander senkrechten
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Richtungen zwischen.der Optik eines Lasers und der Mikromaske in Beziehung zu einem von genanntem Laser quer zur Mikromaske auf dieselbe Weise wie bei Herstellung der Mikromaske einfallenden Laserstrahl verschoben zu werden, wobei letztgenannter Laserstrahl veranlaßt wird,- gegen die Mikro-. maske reflektiert oder durch sie hindurchgeleitet zu werden, daß das so reflektierte oder hindurchgeleitete Laserlicht mittels eines lichtempfindlichen Mittels abgetastet wird, . dessen Ausgangssignal einer Vergleichsschaltung zugeführt wird, was gleichzeitig und synchron damit erfolgt, daß ein Steuersignal der Vergleichsschaltung zugeführt wird, und das Steuersignal einem bei Erzeugung der Mikromaske ausgesendeten Steuersignal bezüglich der genannten Änderungen in der *·· Intensität und/oder Lage des Laserstrahles entspricht, das in dem Speicher gespeichert liegt, und daß bei Überein-. Stimmung zwischen den so verglichenen Signalen die Anzeige einer korrektem Erzeugung der Mikromaske ,und .,bei Abweichung zwischen den Signalen die Anzeige eines vorliegenden Fehlers erfolgt. - .
Das Verfahren ist weiter dadurch gekennzeichnet, daß das Zuführen des im Speicher gespeicherten Steuersignales unter Steuerung von lageabfühlenden Mitteln bezüglich der Position der Mikromaske in Beziehung zu dem quer gegen sie einfallenden Laserstrahl erfolgt, und daß bei einer Abweichung zwischen den genannten verglichenen Signalen die Position für · die Abweichung in einem Speicher gespeichert wird. Für den Fall, daß die Mikromaske mittels eines Laserstrahles erzeugt wurde, dessen Intensität und/oder Lage mittels eines Modulators, z. B. eines akusto-optischen Modulators, geändert wurde, ist das Verfahren dadurch gekennzeichnet,-daß das bei der Erzeugung der Mikromaske dem Modulator zugeführte Modulationssignal der genannten Vergleichsschaltung zugeführt wird, das dabei mit genanntem reflektiertem oder hin-
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60 186/13 durchgeleiteteja Signal verglichen wird.
Eine Vorrichtung zur Kontrolle von Mikromasken ist dadurch gekennzeichnet, daß ein Laser mit zugehöriger Optik angeordnet ist,.einen quer zur Mikromaske gerichteten. Laserstrahl auszusenden. Ein lichtempfindliches Mittel ist "vorgesehen, die Reflektion des Laserstrahles gegen die Mikromaske oder, einen hindurchgeleiteten Teil des Laserstrahles abzüfühlen. In einer Vergleichsschaltung..wird'-ein von dem lichtempfindlichen Mittel abgegebenes Signal mit einem von einer Steuereinrichtung an' die Vergleichsschaltung abgegebenes Steuersignal verglichen, das der Information über Änderungen in der Intensität und/oder Lage eines Laserstrahles entspricht. Die Steuermittel sind vorgesehen, um das genannte Steuersignal synchron mit von den Positionsmitteln angegebener aktueller Position abzugeben, so daß das Steuersignal dem bei der Erzeugung der Mikromaske ausgesendeten Steuersignal entspricht. Die Vergleichsschaltung ist für den.Pail, daß eine Abweichung zwischen den zwei an die Vergleichsschaltung abgegebenen Signalen vorliegt, vorgesehen, um ein Signal abzugeben. Von der Vergleichsschaltung wird ein Signal an eine Schaltung,die einen Speicher oder Entsprechendes enthält, geliefert. Perner dient die Vergleichsschaltung dazu, die Position, bei der das Signal auftritt, mittels Signalen von den Positionsmitteln zu registrieren. Von der Steuerein- richtung wird an die Vergleichsschaltung ein Modulations- . signal gleich dem Modulationssignal gegeben, das dem Modulator bei Erzeugung der Mikromaske zugeführt wurde.
Die Erfindung betrifft ferner eine Vorrichtung zur Kontrolle von Mikromasken gemäß genanntem Verfahren von der Art und im wesentlichen mit den im Anspruch 4 definierten Kennzeichen.
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Die Erfindung wird nachstehead unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen beschrieben, in denen
ca.
Mg. 1: eine Vorrichtung .schemat is cn zeigt, bei der die Erfindung angewendet wird, und wo" die Vorrichtung durch eine Mischung von Blockplan und Skizze dargestellt ist, und
Pig. 2: ein Prinzipquerschnitt einer Musterplatte ist.
In Pig. 1 bezeichnet 1 eine mechanische Vorrichtung zur Ver-Schiebung eines Teiles der Optik 2 einer Strahlungsquelle in zv/ei Querrichtungen in Beziehung zu einer Musterplatte 3 mit einein Substrat 4 zur Herstellung einer Mikromaske,
In der als Beispiel gezeigten Ausführungsbeispiel der Vorrichtung 1, die der in SE-PS 7501 605-5 gezeigten Vorrichtung entspricht, ist ein erster Schlitten 5 für eine relativ langsame Bewegung in y-Richtung mittels eines Schrittmotors 6 mit zugehöriger Schraube-? angeordnet. Ein zweiter Schlitten 8 ist für eine relativ schnelle Hin-und Herbewegung in x-Richtung mittels zweier Federn 9, TO und einer elektromagnetischen Antriebseinrichtung 11 angepaßt und besteht aus einer schwingenden Masse in einem mechanischen System·
Der genannte Teil .2 der Optik ist an dem zweiten Schlitten angeordnet · ,,
Bei Erzeugung einer Mikromaske 4 wird der zweite Schlitten 8 schnell hin- und hergeführt, während der erste Schlitten 5 sich langsam bewegt« Dies bedeutet, daß das durch die
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Optik 2 geleitete Licht von einem Laser 12 in einem Linienmuster über das strahlungsempfindliche Substrat 4 schweift. Durch Änderung der Lichtintensität, die das Substrat 4 trifft, wird ein Muster, d· h. eine Mikromaske, erhalten.
Gemäß ÜS-PS 3 903 536 ist ein akusto-optischer Modulator 13 angeordnet, dem ein moduliertes hochfrequentes Signal von einer Steuereinrichtung,14 über einen in. Pig. 1 gestrichelt gezeigten Leiter 15 aufgedrückt wird. Der Modulator 13 hat die Aufgabe, den Strahl 16 vom Laser 12 abzulenken und die Intensität des Strahles bei dessen Durchgang durch den Modulator 13 zu modulieren. Der akusto-optische Modulator 13 enthält einen Glaskörper 17, gegen den ein oder mehrere piezoelektrische Kristalle 18 anliegen. Diesem oder diesen Kristallen wird das genannte Signal aufgedrückt, wobei im Glaskörper 17 ultraschallwellen gebildet werden, die zur Folge haben, daß ein Raster von verschiedener Dichte im Glaskörper gebildet wird und Ablenkung des Strahles 16 bewirkt»
Die Änderung des Laserstrahles 16 in Kombination mit der Relativbewegung der Optik 2 der Strahlungsquelle gegenüber dem strahlungsempfindlichen Substrat ergibt somit eine Mikromaske.in Übereinstimmung mit dem Signal, das dem Modulator 13 von der Steuereinheit aufgedrückt wurde##
Zwecks kontinuierlicher Bestimmung der Lage des Substrates 4 in Beziehung zur Optik 2 ist ein Lagegeber in Form eines Gebers am Schrittmotor 6, der ein Pulszähler 23 sein kann, und eines Laserinterferometers 19, 20 von bekanntem Typ, beispielsweise gem. ÜS-PS 3 903 536 angeordnet. An den Laserint erferomet er 19, 20 sind ein Zähler 21 und ein Dekoder
22 von bekannter Art zur Herstellung eines Signales ange-
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schlossen, das der Lage des zweiten Schlittens 8 in Beziehung zum. Substrat entspricht. An den Pulserzeuger ist auch ein entsprechender Dekoder 24 zur Herstellung eines Signales angeschlossen, das der Lage des ersten Schlittens 5 in Beziehung zum Substrat entspricht.
Bei Erzeugung einer Mikromaske ist somit genanntes an den Modulator 13 abgegebenes Signal über die Steuereinrichtung 14 mit der Lage der Optik 2 in Beziehung zum Substrat 4 synchronisiert.
Die Steuereinrichtung 14 ist von gemäß obigem Patent bekannter Art und enthält Register zum Empfang von Information von einem die Konfiguration der gewünschten Mikromaske enthaltenden Gedächtnis, und Einrichtungen zur Erzeugung genannten Signales an den Modulator 13 in. Übereinstimmung mit genannter Information.
Vorstehend wurde ein Beispiel einer Vorrichtung zur Bewirkung von Relativbewegung zwischen einem Teil einer Optik 2 und einem.Sübstrat 4 sowie zur Erzeugung einer Mikromaske beschrieben«
Es ist klar, daß zur Erreichung der genannten Relativbe- , wegung andere mechanische οder"elektronische/mechanische Vorrichtungen angewendet werden können."
Die vorliegende Erfindung, die nachstehend ausgehend von der vorstehend als Beispiel beschriebenen Vorrichtung" beschrieben wird, kann bei Masken angewendet werden, die mit irgendeiner beliebigen Vorrichtung erzeugt sind, wo die Information von einer Steuereinrichtung in Form eine^ Modulation des Strahles 16 enthaltenden Steuersignales abgegeben wird,
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das in Abhängigkeit von. Positionsangaben bezüglich des Auftreffpunktes des Strahles auf dem-Substrat in Beziehung zur Oberfläche des Substrates abgegeben wird.
Die Musterplatte 3 enthält eine Glasscheibe 25, auf der sich eine Schicht 26 aus z. B. Ghrom oder Chromoxid, und auf dieser eine Schicht. 27 aus einem Photodeckmittel befindet. Mittels des Lasers 12, der ein He- Cd-<Laser sein kann,, wird die Schicht 27 aus.einem Photodeckmittel belichtet, das bei Entwicklung an belichteten oder nicht belichteten Stellen verschwindet. Danach wird die Schicht aus Chrom oder Chromoxid geätzt, und die Mikromaske ist dann fertig.
Die genannte Information bezüglich der Lage der Mikromaske bei deren Herstellung in Beziehung zu einem gegen sie einfallenden, in Intensität und/oder Lage wechselnden Laserstrahl und der Intensitäts- und/oder Lageänderung des Laserstrahles wird in die Steuereinrichtung 14 eingespeist.
Die Mikromaske 4 wird in. der Vorrichtung zur Erreichung der genannten Relativbewegung angeordnet und in ihr in Startposition eingerichtet.
Der Laserstrahl 16 darf unmoduliert durch den Modulator 13 und/oder ein Linsensystem 28,2"hindurchgehen. Das vom Substrat reflektierte Laserlicht wird durch einen für den Zweck vorgesehenen halbdurchsichtigen Spiegel 29 geleitet und dabei von einem lichtempfindlichen Mittel 30 von bekannter Art "empfangen. Efach Verstärkung in einem Verstärker 31 wird das Signal am Ausgang des lichtempfindlichen Mittels 30 an eine Vergleichsschaltung 32 abgegeben.
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Durch die Reflektierung des unmodulierten Laserstrahles 43 gegen die Mikromaske-wird der Laserstrahl auf eine Weise moduliert, die der Weise entspricht, in der" er bei Erzeugung' der Mikromaske moduliert war, alternativ moduliert sein · sollte, um eine- solche Mikromaske herzustellen. Der vom lichtempfindlichen Mittel 30 abgefühlte reflektierte Laserstrahl 44 enthält somit Information Eiber das Muster der Mikromaske in Form einer Modulierung.
Die Vergleichsschaltung 32 enthält vorzugsweise ein EXKLUSIV-QDER-Tor 33·
So wie der Laserstrahl zur Reflektierung gegen die Mikromaske veranlaßt wird, kann er anstelle dessen auch dazu gebracht werden, hindurchgeleitet und danach von einem entsprechenden lichtempfindlichen Mittel abgefühlt zu v/erden ο
Vor Ingangsetzung der Vorrichtung 1 wird die Lage der Schlitten 5, 8 mittels der Lagegeber 23, 19, 20 eingestellt. Die beiden Dekoder 22, 24 sind hierbei vorgesehen, z. B. eine binäre "0" anzugeben, was die Startposition für die Schlitten anzeigt. Das Ausgangssignal jedes Dekoders 22, 24 wird einem UlTD-Tor 34 zugeführt, das bei gleichen Ausgangssignalen einen Star/tpuls über den Leiter 35 an die Steuereinrichtung 14 abgibt.
Die Steuereinrichtung 14 ist so angeordnet, um die An-., triebseinrichtung 11 und den Schrittmotor 6 zu starten, wobei die Lage der Mikromaske in Beziehung zu dem gegen sie einfallenden Laserstrahl gemäß einem Linienmuster auf entsprechende Weise wie bei Erzeugung der Mikromaske verändert wird.
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Die Lagegeber 23, 19, 20 geben über die Dekoder 22, 24 kontinuierlich. Signale bezüglich der Lage der Schlitten 8, 5 .entsprechend der Position des genannten gegen die Mikromaske einfallenden Laserstrahles in Beziehung zur Mikromaske ab. Die Signale gehen zu einer logischen Schaltung 36 über die Leiter 39, 40 und zur Steuereinrichtung 14 über die Leiter 41, 42, Von der Steuereinrichtung 14 wird auf der Grundlage dieser Signale ein Steuersignal in Form. z. B, eines Modulationssignales entsprechend der einleitend er-.wähnten Information synchron mit der Position ausgesendet, die die Mikromaske in Beziehung zum einfallenden Laserlicht 43 hat.. Dieses Modulations signal, das bei Erzeugung der Mikromaske den Modulator 13 steuert, wird der genannten Vergleichsschaltung 32 aufgegeben.
Die zwei der Vergleichsschaltung 32 somit aufgegebenen Signa-.Ie, nämlich das Modulationssignal, und das dem reflektierten Laserlicht entsprechende Signal, werden in der Schaltung 32 verglichen. Bei Übereinstimmung zwischen den so verglichenen Signalen wird angezeigt, daß die Mikromaske korrekt erzeugt ist, und bei Abweichung zwischen den Signalen wird das Vorliegen eines Fehlers angezeigt. Bei Abweichung zwischen den Signalen gibt die Vergleichsschaltung 32 über.einen Leiter 37 ein Signal an die logische Schaltung 36 ab, der angeordnet ist, die von den Dekodern 22, 24 angegebene Position auf einem'Drucker 38 o. dgl, auszuschreiben, oder die Position in einen Speicher einzuspeisen. Es besteht hier für gewisse Fälle die Möglichkeit, von der Positionsangabe ausgehend den Fehler zu korrigieren.
Die logische Schaltung 36 kann ausgeführt sein, anhand des Signales von einem modifizierten Vergleichskreis 33 für Abgabe kontinuierlicher Signale zu entdecken, welcher Feh-
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lertyp vorliegt, und dabei angeordnet sein, die Information, in einen Speicher 38 zusammen mit der Position zu speichern.
Vorstehend wurden das Verfahren und die Vorrichtung gemäß der Erfindung im Zusammenhang mit der in Fig. 1 gezeigten bevorzugten Vorrichtung beschrieben, wo ein akusto-optischer Modulator 13 vorhanden ist, und ein Schlitten 8. die Optik 2 trägt. Die Änderung der Intensität und/oder Lage des Laserstrahles in Beziehung zu einem Substrat kann, natürlich auf andere Weise bewirkt werden, bei der die abgegebenen Steuersignale auf entsprechende Weise ausgenutzt werden»
Die Erfindung ist somit in dieser Hinsicht nicht auf dis vorstehend angegebenen Ausführungsformen beschränkt anzusehen,, sondern kann in ihrem in den beigefügten Ansprüchen angegebenen Rahmen geändert v/erden»
Der reflektierte Laserstrahl 44 oder ein hindurchgeleiteter Laserstrahl enthalten somit Information über das Muster der Mikromaske in Form einer Modulation oder, Signaländerung am ,Ausgang des lichtempfindlichen Mittels 30. Es ist offenbar, daß mit der vorliegenden Erfindung jede Mikromaske kontrolliert werden kann, ungeachtet der Vorrichtung, mittels derer sie erzeugt wurde, vorausgesetzt, daß sich in einem.Speicher Information über das Muster der Mikromaske befindet, und· die Information, wenn notwendig, in ein Signal umgewandelt werden kann, das mit dem Signal vergleichbar ist, das am ,Ausgang des lichtempfindlichen Mittels 30 auftritt.
Vorstehend wurde erwähnt, daß das der Vergleichsschaltung zugeführte Steuersignal dem Steuersignal entspricht, das
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bei Erzeugung der Mikromaske ausgenutzt wurde.
In diesem Zusammenhang lassen sich wenigstens zwei Fälle unterscheiden.
Im ersten Fall wird die Mikromaske mittels eines Laserstrahles erzeugt, dem über einen akusto-optischen Modulator nur Intensitätsänderungen bezüglich des vom Substrat getroffenen Laserstrahles gegeben wurden. Das Steuersignal besteht hier also aus einer Intensitätssteuerung. In diesem Fall wird bei dem Verfahren gemäß der Erfindung ein unmodulierter Laserstrahl gegen die Mikromaske ausgesendet, und gleichzeitig wird das Steuersignal der Vergleichsschaltung zugeführt »
In einem zweiten Fall wird die Mikromaske mittels eines Laserstrahles erzeugt, dem über einen oder zwei akustooptische Modulatoren 13 sowohl Intensitätsänderungen als auch Lageänderungen gegeben wurden, d. h. eine Schweifung zwischen von den Schlitten mechanisch bewirkten naheliegenden parallelen Verschiebungen der Optik 2 in Beziehung zum Substrat* -
In diesem Fall wird bei dem vorliegenden Verfahren gegen die Mikromaske ein Laserstrahl ausgesendet, der mittels des Steuersignales gesteuert wird, dieselbe Lageänderung wie bei der Erzeugung der Mikromaske durchzuführen. Dieser Teil des Steuersignales wird somit dem oder den Modulatoren 13 zugeführt, die.bei der Erzeugung die Lageänderungen ergaben. In Fig. 1 geschieht dies über den Leiter 15· Gleichzeitig mit der Zuführung dieses Teiles des Steuersignales an den Modulator 13 wird der Teil des Steuerst- '" gnales, der bei der Erzeugung die Intensitätsänderungen
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steuerte, der Vergleichsschaltung 32 zugeführt.
In beiden Fällen werden somit in.der Vergleichsschaltung 32 Intensitätsänderungen verglichen«
Im Rahmen der Erfindung kann jedoch das lichtempfindliche MLttel 30 zur Abfühlung auch von Lageänderungen ausgeführt werden« Wenn das Steuersignal einen Teil für Steuerung von Lageänderungen enthält, kann deshalb auch dieser Teil der . Vergleichsschaltung-32 zugeführt werden, der in solchem Pail angeordnet ist, sowohl Intensitätsänderungen als auch Lageänderungen zu vergleichen, ;
Die Erfindung ist somit nicht auf die vorstehend genannten AusfUhrungsformen beschränkt anzusehen, sondern kann innerhalb ihres von den beigefügten Ansprüchen angegebenen Rahmens geändert werden» . . .
Claims (3)
- Erfindungsansprach1. Verfahren aar Kontrolle von Mikromasken, deren Muster in 3?orm einer in einem Speicher gespeicherten Information, über die Lage der Mikromaske bei ihrer Herstellung in Beziehung zu einem quer gegen sie einfallenden, in Intensität und/oder Lage wechselnden Laserstrahl in jedem so erzeugten Punkt'der Mikromaske, und einer Information über die Intensitäts- und/oder Lageänderung des Laserstrahles vorliegt, gekennzeichnet dadurch, daß eine zu kontrollierende Mikromaske veranläßt wird, mittels einer,.Vorrichtung für Relativbewegung in zwei zueinander senkrechten Richtungen zwischen der Optik eines Lasers und der Mikromaske in Beziehung zu einem von genanntem Laser quer zur Mikromaske auf dieselbe Weise wie bei Herstellung der Mikromaske einfallenden Laserstrahl verschoben zu werden, wobei letztgenannter Laserstrahl veranlaßt wird, gegen die Mikromaske.reflektiert oder- durch sie hindurchgeleitet zu werden, daß das so reflektierte oder hindurchgeleitete Laserl.icht mittels eines lichtempfindlichen Mittels abgetastet wird, dessen Ausgangssignal einer Vergleichsschaltung zugeführt wird, was gleichzeitig und synchron damit erfolgt, daß ein Steuersignal der Vergleichsschaltung zugeführt wird, und das Steuersignal einem.bei Erzeugung der Mikro-• maske ausgesendeten Steuersignal bezüglich der genannten Änderungen in der Intensität und/oder Lage des Laserstrahles entspricht, das in dem genannten Speicher gespeichert liegt, und daß bei Übereinstimmung zwischen den so verglichenen Signalen eine Anzeige korrekter Erzeugung der Mikromaske, und bei Abweichung zwischen den Signalen eine Anzeige eines vorliegenden Fehlers erfolgt* ' -7 3 5 ß 2 9 L -15- 10.3.1932"JD£3 4 - . 60.186/13
- 2. Verfahren nach Punkt 1, gekennzeichnet dadurch, daß das Zuführen des im Speicher gespeicherten Steuersignales unter Steuerung von.lageabfUhlenden Mitteln bezüglich der Position der Mikromaske in Beziehung zu dem quer gegen sie einfallenden Laserstrahl erfolgt, und daß bei einer Abweichung zwischen den genannten verglichenen Signalen die Position für die Abweichung in einem Speicher gespeichert wird. '-··.-3· Verfahren nach den Punkten 1 oder 2, für.den Fall daß die Mikromaske mittels eines Laserstrahles erzeugt wurde, dessen Intensität und/oder Lage mittels eines Modulators, z. B, eines akusto-optischen Modulators, geändert wurde, gekennzeichnet dadurch, daß das bei der Erzeugung der Mikromaske dem Modulator zugeführte Modulationssignal der genannten'Vergleichsschaltung zugeführt wird, das dabei mit genanntem reflektiertem oder hindurchgeleitetem. , Signal verglichen wird·4· Vorrichtung zur Kontrolle von Mikromasken, deren Muster in Form einer in einem Speicher gespeicherten Information über die Lage der Mikromaske bei ihrer Herstellung in -Beziehung zu einem quer gegen sie einfallenden, in Intensität und/oder Lage wechselnden Laserstrahl in jedem so erzeugten Punkt der Mikromaske, und einer Information über die Intensitäts- und/oder Lageänderung des Laserstrahles vorliegt, bestehend aus einer Vorrichtung zur Auslösung einer Relativbewegung zwischen einer einem Laser zugehörigen Optik und der Mikromaske in zwei zueiru ander senkrechten Richtungen, und aus Positionsmitteln für Anzeige der Position der Mikromaske in Beziehung zu genannter Optik, gekennzeichnet dadurch, daß genannter Laser (12) mit zugehöriger Optik (2, 28, 13) angeordnetο 35 fi 2 Q L.-16- 10.3.198260 186/13ist, einen quer.zur Mikromaske gerichteten Laserstrahl (43) auszusenden, daß ein lichtempfindliches Mittel (30) angeordnet ist, die Reflektion des Laserstrahles (43) gegen die Mikromaske oder einen hindurchgeleiteten Teil des Laserstrahles (43) abzufühlen, daß eine Vergleichsschaltung (32) angeordnet ist, ein von dem lichtempfindlichen Mittel (30) abgegebenes Signal mit einem von einem Steuermittel (14) an die Vergleichsschaltung (32) abgegebenen Steuersignal zu.vergleichen, das der genannten - Information über Änderungen in der Intensität und/oder Lage eines Laserstrahles entspricht, und daß das Steuermittel (14) angeordnet ist, das genannte Steuersignal synchron mit von den Positionsmittein (19, 20, 23) angegebener aktueller Position abzugeben, so daß das Steuersignal dem bei der Erzeugung der Mikromaske (4) ausgesendeten Steuersignal entspricht, und daß die Vergleichsschaltung (32) angeordnet ist, für den Fall, daß eine Abweichung "zwischen den zwei an die Vergleichsschaltung abgegebenen Signalen vorliegt, ein Signal abzugeben. -5· Vorrichtung nach Punkt 4, gekennzeichnet dadurch, daß die Vergleichsschaltung (32) angeordnet ist, genanntes Signal an eine Schaltung (36) abzugeben, die einen Speicher oder Entsprechendes' enthält, und die angeordnet ist, um die Position, bei der genanntes Signal auftritt, mittels Signalen von genannten Positionsmitteln (19, 20, 23) zu registrieren. ·
- 6. Vorrichtung nach den Punkten 4 oder 5, für den Pail, daß. die Mikromaske mittels eines Laserstrahles erzeugt wurde^ dessen Intensität und/oder Lage mittels eines Modulators,2 35629 4 -17- 10.3.1982• " 60 186/13ζΦ Β· eines akusto-optischen Modulators, geändert wurden, gekennzeichnet dadurch, daß die Steuereinrichtung (14) angeordnet ist,, an die "Vergleichsschaltung (32) ein Modulationssignal gleich dem Modulationsaignal abzugeben, das genanntem Modulator (13) bei Erzeugung der Mikromaske (4) zugeführt' wurde.Hierzu 1 Seite Zeichnungen
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