DD221475A1 - Vorrichtung zur analyse der charakteristischen lichtemission bei plasmaprozessen - Google Patents
Vorrichtung zur analyse der charakteristischen lichtemission bei plasmaprozessen Download PDFInfo
- Publication number
- DD221475A1 DD221475A1 DD25633183A DD25633183A DD221475A1 DD 221475 A1 DD221475 A1 DD 221475A1 DD 25633183 A DD25633183 A DD 25633183A DD 25633183 A DD25633183 A DD 25633183A DD 221475 A1 DD221475 A1 DD 221475A1
- Authority
- DD
- German Democratic Republic
- Prior art keywords
- concave mirror
- mirror
- plasma
- light emission
- plane
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract description 3
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 claims 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 abstract description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 3
- 238000004886 process control Methods 0.000 abstract description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 102100027340 Slit homolog 2 protein Human genes 0.000 description 1
- 101710133576 Slit homolog 2 protein Proteins 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 238000002294 plasma sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Abstract
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Prozesskontrolle von Plasmaprozessen, vorzugsweise beim Plasmaaetzen, Zerstaeuben und Plasma CVD von Halbleitern und deren Verbindungen. Ziel der Erfindung ist es, bei den unterschiedlichen Plasmaprozessen mittels nur einer Vorrichtung die fuer den jeweiligen Plasmaprozess charakteristische Lichtemission zu erfassen. Die erfindungsgemaesse Loesung zeichnet sich dadurch aus, dass zur Begrenzung der Breite des Lichtbuendels eine Aperturblende angeordnet ist, der nachfolgend im weiteren Strahlengang ein Eintrittsspalt und ein Hohlspiegel angeordnet sind. Dem Hohlspiegel ist ein drehbarer Gittermonochromator so zugeordnet, dass die zu selektierende Spektralkomponente nahezu in sich selbst zum Hohlspiegel reflektiert wird und von dort ueber einen Planspiegel rechtwinklig ueber einen Austrittsspalt einem Fotoempfaenger zugeleitet wird. Fig. 1
Description
Vorrichtung zur Analyse der charakteristischen Lichtemission bei Plasmaprozessen
Anwendungsgebiet der Erfindung
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Prozeßkontrolle von Plasmaprozessen, vorzugsweise beim Plasmaätzen, Zerstäuben und Plasma CVD von Halbleitern und deren Verbindungen, Gläsern und keramischen Materialien, Metallen und deren Verbindungen sowie organischen .Materialien.
Charakteristik der bekannten technischen Lösungen
Zur Kontrolle von Plasmaprozessen ist es bekannt, daß die zeitliche Änderung bestimmter spektraler Komponenten der im Plasmaraum durch Elektronenstoß induzierten Lichtemission während des Prozesses mit Hilfe einer meist unmittelbar am Reaktorraum angeordneten Vorrichtung erfaßt wird.
Aus der DE OS 27 3& 262 ist es bekannt, daß die Selektion der spektralen Komponenten durch Interferenzfilter, die geeigneten Fotoempfängern vorgeschaltet sind, realisiert wird. Dieser Lösung haftet aber der Mangel an, daß für jedes technologische Problem in der Regel ein spezieller Interferenzfilter erforderlich ist und die Auflösung der Apparatur durch die Bandbreite der Filter begrenzt wird.
ο ο τ
Ferner ist es auch (z.B. US PS 43 12 732) bekannt, die Selektion mit Hilfe eines Gittermonochromators oder eines Beugungsprismas zu realisieren. Durch Drehung des Gittermonochromators kann innerhalb eines festgelegten Abstimmbereiches eine kontinuierliche Abstimmung erfolgen. Gegenüber Interferenzfiltern kann eine mehrfach bessere Auflösung durch eine entsprechende Dimensionierung der optischen Bauelemente erzielt werden. Dieser Lösung haftet jedoch der Mangel an, daß die Vorrichtungen durch die wesentlichen optischen Bauelemente, die entsprechend dem gewählten Grundaufbau ein Gittermonochromator und zwei Hohlspiegel oder ein Konkavgittermonochromator und zwei Planspiegel sein können, sehr teuer und volumenintensiv sind.
Z-iel der Erfindung
.Ziel der Erfindung ist es, bei den unterschiedlichen Plasmaprozessen mittels nur einer Vorrichtung die für den jeweiligen Plasmaprozeß charakteristische Lichtemission zu erfassen.
Darlegung des Wesens der Erfindung
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung zur Prozeßkontrolle zu schaffen, die eine kontinuierliche Abstimmung ermöglicht, den Forderungen des technologischen Prozesses entsprechend in ihrer Auflösung einstellbar ist und sich durch eine geringe Zahl hochwertiger optischer Bauelemente und einem raumsparenden Aufbau auszeichnet. Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß zur Begrenzung der Breite des aus dem Rezipienten austretenden Lichtbündels eine Aperturblende angeordnet ist, der nachfolgend' i'm weiteren Strahlengang ein Eintrittsspalt und ein Hohlspiegel an-geordnet sind,
wobei dem Hohlspiegel ein drehbarer Gittermonochromator so zugeordnet ist, daß die zu selektierende Spektralkomponente nahezu in sich selbst zum Hohlspiegel reflektiert wird und von dort über einen von der Brennebene des Hohlspiegels in einem Abstand davor angeordneten Planspiegels rechtwinklig durch einen Austrittsspalt einem in einem Abstand zum Planspiegel angeordneten Potoempfanger zugeleitet wird. Vorteilhafterweise ist zur Einstellung der Auflösung vor dem Eintrittsspalt eine verstellbare Aperturblende angeordnet. Durch den erfindungsgemäßen Aufbau der Vorrichtung erfolgt eine zweifache nutzung des Hohlspiegels innerhalb des Strahlenganges und durch die Verschachtelung des Strahlenganges wurde ein sehr kompakter Aufbau der Vorrichtung erzielt. Ein weiterer Vorteil für den Gesamtaufbau der Vorrichtung besteht darin, daß das austretende Lichtbündel durch den Planspiegel so umgeleitet wird, daß sich eine günstige (raumsparende) Anordnung des Austrittsspaltes und des nachfolgenden Fotoempfängers ergibt.
Ausführungsbeispiel
Die Erfindung wird anhand einer Zeichnung näher erläutert.
Zur Begrenzung des aus dem in der Zeichnung nicht dargestellten Rezipienten austretenden Lichtbündels ist eine Aperturblende 1 vorgesehen. Das Lichtbündel trifft durch den Eintrittsspalt 2 auf den im Brennpunktabstand angeordneten Hohlspiegel 3. Von dort wird es als nahezu paralleles Strahlenbündel auf den als Abstimme lenient angeordneten um den Betrag drehbaren Gittermonochromator 4 reflektiert. Der Gittermoncchromator 4 reflektiert entsprechend der bekannten Wellenlängen-
abhängigen Beugung die einzelnen spektralen Komponenten. Das Gitter wird nun so eingestellt, daß die zu selektierende Komponente nahezu in sich selbst reflektiert wird und mit einem geringen Versatz zur optischen Achse den Hohlspiegel 3 erneut trifft. Danach wird diese Komponente von dem im Abstand X vor der Brennebene des Hohlspiegels 3 angeordneten Planspiegel 5 rechtwinklig durch den Austrittsspalt 6 dem Fotoempfanger 7 züge- leitet.
Claims (3)
- Srfindungsanpruch1. Vorrichtung zur Analyse der charakteristischen Lichtemission bei. Plasmaprozessen, insbesondere beim plasmachemischen Atzen von Substraten, beim Zerstäuben und bei der Plasma CVD, gekennzeichnet dadurch, daß zur Begrenzung der Breite des aus dem Hezipientenaustretenden Lichtbündels eine Aperturblende (1) angeordnet ist, der nachfolgend im weiteren Strahlengang ein Eintrittsspalt (2) und ein Hohlspiegel (3) angeordnet sind, wobei dem Hohlspiegel (3) ein drehbarer Gittermonochromator (4) so zugeordnet ist, daß die zu selektierende Spektralkomponente nahezu in sich selbst zum Hohlspiegel (3) reflektiert wird und von dort über einen von der Brennebene des Hohlspiegels im Abstand (X) davor angeordneten Planspiegel (5) rechtwinklig durch einen im Abstand (X) zum Planspiegel (5) angeordneten Austrittsspalt (6) einem Fotoempfänger (7) zugeleitet wird.
- 2. Vorrichtung nach Punkt 1, gekennzeichnet dadurch, daß der Hohlspiegel (3) als Zylinderspiegel ausgebildet ist.
- 3. Vorrichtung nach Punkt 1, gekennzeichnet dadurch, daß eine verstellbare Aperturblende (1) vor dem Eintrittsspalt (2) angeordnet ist.- Hierzu 1 Blatt Zeichnung -
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD25633183A DD221475A1 (de) | 1983-11-04 | 1983-11-04 | Vorrichtung zur analyse der charakteristischen lichtemission bei plasmaprozessen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD25633183A DD221475A1 (de) | 1983-11-04 | 1983-11-04 | Vorrichtung zur analyse der charakteristischen lichtemission bei plasmaprozessen |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DD221475A1 true DD221475A1 (de) | 1985-04-24 |
Family
ID=5551637
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DD25633183A DD221475A1 (de) | 1983-11-04 | 1983-11-04 | Vorrichtung zur analyse der charakteristischen lichtemission bei plasmaprozessen |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DD (1) | DD221475A1 (de) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0208966A1 (de) * | 1985-07-03 | 1987-01-21 | Gregory A. Roche | Vorrichtung und Verfahren zum Abscheiden einer Substanz auf einem Substrat |
| EP0230652A1 (de) * | 1985-12-30 | 1987-08-05 | International Business Machines Corporation | Vorrichtung zur Ausbildung einer im Vakuum abgeschiedenen Legierung oder Zusammensetzung und Anwendung dieser Vorrichtung |
-
1983
- 1983-11-04 DD DD25633183A patent/DD221475A1/de unknown
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0208966A1 (de) * | 1985-07-03 | 1987-01-21 | Gregory A. Roche | Vorrichtung und Verfahren zum Abscheiden einer Substanz auf einem Substrat |
| EP0230652A1 (de) * | 1985-12-30 | 1987-08-05 | International Business Machines Corporation | Vorrichtung zur Ausbildung einer im Vakuum abgeschiedenen Legierung oder Zusammensetzung und Anwendung dieser Vorrichtung |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2005121723A1 (de) | Echelle-spektrometer mit verbesserter detektorausnutzung durch die verwendung zweier spektrometeranordnungen | |
| EP2985579A1 (de) | Spektrometer mit monochromator und order-sorting-filter | |
| DE69023875T2 (de) | Vorrichtung zum Messen der Lichtabsorption oder Fluoreszenz in flüssigen Proben. | |
| EP0966657A1 (de) | Hadamard-spektrometer | |
| DD260326A1 (de) | Justierbare echelle-spektrometer-anordnung und verfahren zu dessen justage | |
| DE2758141C2 (de) | Spektrophotometer | |
| DE2015316B2 (de) | Vorrichtung zur Analyse von Flüssigkeiten im Ablauf einer chromatographischen Säule | |
| EP3139147A1 (de) | Vorrichtung und verfahren zur messung einer wellenlängenabhängigen optischen kenngrösse eines optischen systems | |
| DD221475A1 (de) | Vorrichtung zur analyse der charakteristischen lichtemission bei plasmaprozessen | |
| EP0217054B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Spektralphotometrie | |
| DE3304110C2 (de) | Spektralphotometer zum gleichzeitigen Untersuchen mehrerer Proben | |
| WO1999030169A1 (de) | Vorrichtung und verfahren zur bildaufnahme an tropfenerzeugenden dispensierköpfen | |
| DE102022110651B4 (de) | Kompaktes optisches Spektrometer | |
| EP1751508B1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur detektierung optischer spektren | |
| DE2823912A1 (de) | Vorrichtung zur messung der reflexion einer ebenen, spiegelnd reflektierenden flaeche | |
| DE10348898B4 (de) | Optische Messvorrichtung mit einer Laserlichtquelle | |
| DE10325735B4 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Analyse einer Materialbibliothek | |
| DE102018124345A1 (de) | Spektrometer und Verfahren zum Analysieren einer Lichtprobe mittels eines Spektrometers | |
| DE19652513A1 (de) | Küvette, Transferoptik und Spektroskopievorrichtung für die Absorptionsspektroskopie von Gasen | |
| DE19814660C1 (de) | Gitterspektrometer und Verfahren zur Messung spektraler Intensitäten von weißem Licht | |
| DE19833356A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Ausfiltern einer bestimmten zu untersuchenden Wellenlänge aus einem Lichtstrahl | |
| DE102022129497A1 (de) | Vorrichtung zur Untersuchung von Stoffproben mittels elektromagnetischer Strahlung | |
| DE2027450C (de) | Sequentiell messendes Spektrometer | |
| EP1236981A1 (de) | Optisches Spektrometer mit variabler Bandbreite | |
| DD221203A1 (de) | Vorrichtung zur mehrkanaligen prozesskontrolle von plasmaprozessen |