DD241653A1 - Herstellungsverfahren von druckformen fuer den feuchtmittelfreien offsetdruck - Google Patents

Herstellungsverfahren von druckformen fuer den feuchtmittelfreien offsetdruck Download PDF

Info

Publication number
DD241653A1
DD241653A1 DD28148285A DD28148285A DD241653A1 DD 241653 A1 DD241653 A1 DD 241653A1 DD 28148285 A DD28148285 A DD 28148285A DD 28148285 A DD28148285 A DD 28148285A DD 241653 A1 DD241653 A1 DD 241653A1
Authority
DD
German Democratic Republic
Prior art keywords
polymer
item
surface tension
irradiated
pressure
Prior art date
Application number
DD28148285A
Other languages
English (en)
Inventor
Wolfgang Sobek
Rainer Trauzeddel
Ina Fleddermann
Reinhard Tosch
Juergen Rieger
Original Assignee
Leipzig Tech Hochschule
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Leipzig Tech Hochschule filed Critical Leipzig Tech Hochschule
Priority to DD28148285A priority Critical patent/DD241653A1/de
Publication of DD241653A1 publication Critical patent/DD241653A1/de

Links

Landscapes

  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Druckformen fuer den feuchtmittelfreien Offsetdruck, bei dem ein Polymeres, das infolge seiner geringen Oberflaechenspannung farbabweisend ist, in Anwesenheit eines ethylenisch ungesaettigten Monomeren informationsmaessig mit aktinischem Licht bestrahlt wird. An den bestrahlten Stellen nimmt das Polymere dabei die Oberflaechenspannung des Polymerisationsproduktes des Monomeren an. Bei Anwendung geeigneter Monomerer resultiert daraus die Farbannahme der bestrahlten Stellen, waehrend die unbestrahlten Stellen farbabweisend bleiben.

Description

Anwendungsgebiet der Erfindung
Die Erfindung ist anwendbar bei der Herstellung von Druckformen für den Flach- bzw. Offsetdruck im feuchtmittelfreien Verfahren.
Charakteristik der bekannten technischen Lösungen
Beim konventionellen Offsetdruck müssen die nichtdruckenden Bereiche durch ein Feuchtmittel vor der Farbannahme geschützt werden, was zu den bekannten Nachteilen führt (Kompliziertheit des Verfahrens, Wasseraufnahme des Bedruckstoffes). Es hat deshalb nicht an Versuchen gefehlt, durch Herabsetzung der Oberflächenspannung der nichtdruckenden Bereiche die Farbannahme ohne Zuhilfenahme eines Feuchtmittels zu verhindern. Im allgemeinen erreicht man das durch Verwendung von Siliconkautschuk mit einer Oberflächenspannung von ca. 2O...25mN/m. Zum Beispiel wird in der DE 2747231 eine Druckplatte beschrieben, bei der eine Siliconmasse im Sinne einer Fotopolymerisation durch Licht vernetzt und damit unlöslich gemacht wird. Diesem und ähnlichen Verfahren ist gemeinsam, daß sie z.T. sehr teure Spezialsilicone und weitere, ebenfalls sehr teure Vernetzungsmittel enthalten. Außerdem handelt es sich, da die bestrahlten Stellen farbabweisend sind, um Positivmaterialien, während der internationalen Trend zur Negativplatte geht um sowohl Zeit als auch Fotomaterial einzusparen.
Ziel der Erfindung
Es ist Ziel der Erfindung, Trockenoffsetdruckformen bei Einsparung von Material und Energie herzustellen.
Wesen der Erfindung
Es ist Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren zu entwickeln, bei dem die Oberfläche eines makromolekularen Werkstoffes mit niedriger Oberflächenspannung an informationstragenden Stellen so modifiziert wird, daß sie Druckfarbe annimmt. Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß ein Polymeres mit niedriger Oberflächenspannung mit einem ethylenisch ungesättigten, radikalisch polymerisierbaren Monomeren und einem bei Belichtung im Polymeren Radikale erzeugenden Fotoinitiator sowie evtl. weiteren Substanzen in Kontakt gebracht und anschließend mit aktinischem Licht bestrahlt wird. Die Oberflächenspannung des Polymerisationsproduktes des Monomeren muß über der des Basispolymeren liegen. Die Bestrahlung kann bildmäßig durch eine Kopiervorlage oder sequentiell mit einem Laser erfolgen.
Bei der Bestrahlung mit aktinischem Licht bildet der Fotoinitiator in Wechselwirkung mit dem Polymeren Radikale. Auf diese Weise wird an den bestrahlten Stellen die Oberflächenspannung erhöht.
Geeignete Polymere extrem niedriger Oberflächenspannung sind in erster Linie Polysiloxane, außerdem Polypropylen bzw. Ethylen-Propylen-Copolymere sowie fluorhaltige Polymere. Als geeignete Monomere kommen fast alle ethylenisch ungesättigten Verbindungen in Frage, sofern sie nur zur radikalischen Additionspolymerisation fähig sind und die Oberflächenspannung ihres Polymerisationsproduktes höher ist als die des verwendeten Basispolymeren. Die Auswahl wird sich nach den vorgesehenen Reaktionsbedingungen, insbesondere einem evtl. vorgesehenen Lösungsmittel sowie der vorgesehenen Druckfarbe, richten. Als Initiatoren kommen, sofern keine speziell funktionalisierten Basispolymeren Verwendung finden sollen (dies würde das Verfahren stark verteuern), in erster Linie fotoreduzierbare Übergangsmetallverbindungen in Frage. Weitere Substanzen können Lösungsmittel, Thixotropiemittel u.a. sowie spektrale Sensibilisatoren sein. Bei der
Verwendung von Lösungsmitteln erscheint Wasser sowohl aus ökonomischen Erwägungen als auch aus Gründen des Brand- und Umweltschutzes besonders geeignet. In diesem Falle erscheint der Zusatz eines Netzmittels oder eines Hilfslösungsmittels zur Senkung der Oberflächenspannung angezeigt, um einen guten physikalischen Kontakt zwischen dem Basispolymeren und der Monomerlösung zu erreichen.
Ausführungsbeispiel
Die folgenden Beispielesollen die Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens verdeutlichen:
Beispiel 1
Auf eine elektrolytisch aufgerauhte und anodisch oxidierte Aluminiumplatte, die mit dem Haftvermittler NVB 6130 (VEB Chemiewerk Nünchritz) vorbehandelt worden war, wurde in einer Horizontalschleuder die Siliconkautschukpaste NG 3150 mit 4Ma.-% Vernetzer 5 (VEB Chemiewerk Nünchritz) aufgebracht. Nach drei Tagen wurde'diese Platte in einem Gießrahmen mit einer Lösung von 3 Mol/l Acrylsäure und 0,002 Mol/l Eisen-lll-chlorid sowie 2g/I des Netzmittels E30 in Wasser in Kontakt gebracht. Die Lösung wurde mit einer PETP-Folie so abgedeckt, daß sich auf dem Siliconkautschuk eine 0,5 mm starke Schicht der Lösung befand. Anschließend wurde durch die PETP-Folie hindurch mit einer Quecksilberdampfhochdrucklampe unterschiedlich lange bestrahlt. Danach wurde die Platte mit destilliertem Wasser gespült und mit einer Gummiwalze eine für den wasserlosen Offsetdruck modifzierte Unisetfarbe (VEB Druckfarbenfabrik Halle/Techn. Hochschule Karl-Marx-Stadt) aufgebracht. Es zeigte sich, daß die nicht oder nur kurz bestrahlten Partien die Farbe abweisen, die während alle länger als 10 Minuten bestrahlten Partien dauerhaft farbaufnehmend waren.
Beispiel 2
Eine wie im Beispiel 1 hergestellte Platte wurde in der gleichen Weise mit einer wäßrigen Lösung folgender Zusammensetzung in Kontakt gebracht:
3 Mol/l Acrylsäure
0,001 Mol/l FeCI3-6H2O
0,05Ma.-% Erythrosin
2 Ma.-% Gelatine
0,2Ma.-%E30
Die Belichtung erfolgte mit einem Argonionenlaser der Leitung 1 Watt und einem Brennfleckdurchmesser von 2 mm. Bei der anschließenden Behandlung mit Trockenoffsetfarbe nahmen alle langer als 10 Sekunden bestrahlten Punkte Farbe an.

Claims (7)

  1. Erfindungsansprüche:
    1. Herstellungsverfahren von Druckformen für den feuchtmittelfreien Offsetdruck, dadurch gekennzeichnet, daß ein Polymeres mit niedriger Oberflächenspannung mit einem ethylenisch ungesättigten, radikalisch polymerisierbaren Monomeren, dessen Polymerisationsprodukt eine Oberflächenspannung über der des Basispolymeren hat und einem bei Belichtung im Polymeren Radikale erzeugenden Fotoinitiator sowie evtl. weiteren Substanzen in Kontakt gebracht und anschließend mit aktinischem Licht bestrahlt wird.
  2. 2. Verfahren nach Punkt 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Polymeres ein Polysiloxan verwendet wird.
  3. 3. Verfahren nach Punkt 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Polymeres ein Polymerisationsprodukt des Propylen verwendet wird.
  4. 4. Verfahren nach Punkt 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Polymeres einefluorhaltige makromolekulare Substanz verwendet wird.
  5. 5. Verfahren nach Punkt 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß als Fotoinitiator eine Übergangsmetallverbindung verwendet wird.
  6. 6. Verfahren nach Punkt 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Belichtung bildmäßig durch eine Kopiervorlage hindurch erfolgt.
  7. 7. Verfahren nach Punkt 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Belichtung sequentiell mit einem Laser erfolgt.
DD28148285A 1985-10-08 1985-10-08 Herstellungsverfahren von druckformen fuer den feuchtmittelfreien offsetdruck DD241653A1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DD28148285A DD241653A1 (de) 1985-10-08 1985-10-08 Herstellungsverfahren von druckformen fuer den feuchtmittelfreien offsetdruck

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DD28148285A DD241653A1 (de) 1985-10-08 1985-10-08 Herstellungsverfahren von druckformen fuer den feuchtmittelfreien offsetdruck

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DD241653A1 true DD241653A1 (de) 1986-12-17

Family

ID=5571962

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DD28148285A DD241653A1 (de) 1985-10-08 1985-10-08 Herstellungsverfahren von druckformen fuer den feuchtmittelfreien offsetdruck

Country Status (1)

Country Link
DD (1) DD241653A1 (de)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2939989C2 (de) Lichtempfindliches Gemisch und flexographische Druckplatte
DE2064079C2 (de) Photopolymerisierbares Gemisch
DE2361041C3 (de) Photopolymerisierbares Gemisch
EP0316706B1 (de) Polymerisierbare Verbindungen und dieses enthaltendes durch Strahlung polymerisierbares Gemisch
DE2027467C3 (de) Photopolymerisierbare Kopiermasse
DE2924294C2 (de) Lichtempfindliche lithographische Druckplatte
DE2039861B2 (de) Photopolymerisierbare kopiermasse
EP0048876A1 (de) Lichthärtbares Gemisch und damit hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial
DE2903454A1 (de) Lichtempfindliche latexbeschichtungsmasse und ihre verwendung
EP0222297A2 (de) Einbrenngummierung für Offsetdruckplatten
DE2821500A1 (de) Verfahren zum entfernen der oberflaechenklebrigkeit von einer gehaerteten, radikalisch polymerisierten harzmasse
DE2638710C2 (de) Vorsensibilisierte Druckplatte
DE2823300A1 (de) Verfahren zur herstellung von klebfreien oberflaechen von photopolymeren reliefdruckformen
DE2843762A1 (de) Offsetdruckplatte
DE2725730B2 (de) Photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial
DE1797308C3 (de) Lichtempfindliches Gemisch
DE1772947C2 (de) Vorsensibilisierte Flachdruckplatte
DE3704067A1 (de) Verfahren zum nicht-klebrigmachen der oberflaeche einer harzplatte
DE3521955A1 (de) Verfahren zur herstellung von klebfreien, glatten oberflaechen von photopolymerisierten reliefdruckformen fuer den flexodruck
EP0064733B1 (de) Verfahren zur Herstellung von Reliefkopien
DE69605766T2 (de) Auf der druckpress entwickelbare druckplatten mit ausbildendem wasserstoffbrücken entwicklungstabilisator
DE3129501A1 (de) "flachdruckform und verfahren zu ihrer herstellung"
DE3738215C2 (de)
DE69121623T2 (de) Klebefolie und deren Verwendung bei einem Plattenzylinder
DE2211814A1 (de) Lichtempfindliche Masse für vorsensibilisierte Druckplatten

Legal Events

Date Code Title Description
ENJ Ceased due to non-payment of renewal fee