DD245648A1 - Verfahren und vorrichtung zur herstellung hochdisperser kieselsaeuren - Google Patents
Verfahren und vorrichtung zur herstellung hochdisperser kieselsaeuren Download PDFInfo
- Publication number
- DD245648A1 DD245648A1 DD28588886A DD28588886A DD245648A1 DD 245648 A1 DD245648 A1 DD 245648A1 DD 28588886 A DD28588886 A DD 28588886A DD 28588886 A DD28588886 A DD 28588886A DD 245648 A1 DD245648 A1 DD 245648A1
- Authority
- DD
- German Democratic Republic
- Prior art keywords
- compounds
- highly dispersed
- combustion
- starting materials
- item
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 31
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 22
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 4
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 claims description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 125000005624 silicic acid group Chemical class 0.000 claims 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 abstract description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000011148 porous material Substances 0.000 abstract description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 3
- 239000000499 gel Substances 0.000 abstract 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 15
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- -1 alkylchlorosilanes Chemical class 0.000 description 5
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 3
- 239000002737 fuel gas Substances 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 3
- 150000004819 silanols Chemical class 0.000 description 3
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 2
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 2
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 2
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000571 coke Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000013467 fragmentation Methods 0.000 description 1
- 238000006062 fragmentation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- IQCYANORSDPPDT-UHFFFAOYSA-N methyl(silyl)silane Chemical class C[SiH2][SiH3] IQCYANORSDPPDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N methylsilane Chemical class [SiH3]C UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 1
- 230000001698 pyrogenic effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 238000007725 thermal activation Methods 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000002912 waste gas Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und die Vorrichtung zur Herstellung disperser Kieselsaeuren mit variabel einstellbarer Partikelgroesse und Oberflaechenstruktur (einschliesslich Porenstruktur bei Kieselgelen) und Oberflaechengroesse sowie waehlbaren oberflaechenchemischen Eigenschaften. Ziel und Aufgabe der Erfindung ist es, diese Produkte mit hoher Ausbeute zeit- und energiesparend aus fluessigen Ausgangsstoffen herzustellen. Die Aufgabe wird dadurch geloest, dass die fluessigen Ausgangsverbindungen: siliciumorganische Verbindungen in einer pulsierenden Verbrennung eines Schwingfeuerreaktors umgesetzt werden, indem sie in den Reaktor direkt eingesprueht oder eingespritzt werden.
Description
Hierzu 1 Seite Zeichnung
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und die Vorrichtung zur Hersteilung hochdisperser Kieselsäuren aus siliciumorganischen Verbindungen für Füllstoffe, als Verdickungsmittel für Lacke, Farben, salbenartige Masse, für chromatographische Zwecke, für Katalysatorträger, zum Herstellen von Poliermittelmischungen, als Adsorbentien, von Sinterwerkstoffen auf SiO2-Basis.
Hochdisperse SiO2-Produkte nehmen hinsichtlich Herstellungsverfahren und Einsatzgebieten in der Literatur breiten Raum ein.
Diese SiO2-Produkte können nach ihren Herstellungsverfahren in pyrogen oder thermisch erzeugte Produkte (Plasmaverfahren, Flammenhydrolyseverfahren, Lichtbogenverfahren) und nach Naßverfahren (Fällungsverfahren, Gelverfahren, Hydrothermalverfahren) erzeugte Produkte unterteilt werden. Die so erzeugten Produkte überstreichen in Abhängigkeit von den Herstellungsbedingungen und -verfahren, von den verwendeten Ausgangsstoffen und von Zusätzen ein breites Eigenschaftsspektrum, das insbesondere durch die chemischen und strukturellen Oberflächeneigenschaften bestimmt wird.
Bestimmende strukturelle Oberflächeneigenschaften sind: die spezifische Oberflächengröße (von 10m2/g bis 1 000m2/g), die Primärteilchenradien und deren Verteilung, die Porengröße und -verteilung, Partikelhabitus und -agglomeration.
Die chemischen Oberflächeneigenschaften werden determiniert durch die Oberflächen-OH-Gruppen-Konzentration und verteilung, durch andere funktionell Oberflächengruppen, durch Fremdstoffe in der Oberfläche. Entsprechend dieser variierbaren Eigenschaftspalette finden disperse SiO2-Produkte ein breites Einsatzspektrum.
Für die vorliegende Erfindung sind nur die thermischen bzw. pyrogenen Verfahren von Belang, da die nach dem Naßverfahren hergestellten hochdispersen SiO2-Produkte generell andere Produkteigenschaften aufweisen.
Bei den Pyrolyse- und thermischen Herstellungsverfahren dominieren die Flammenhydrolyse gegenüber plasmachemischen und Lichtbogenverfahren.
Flammenpyrolyseverfahren basieren auf der Umsetzung flüchtiger Metall- bzw. Nichtmetallverbindungen mit oxidierenden bzw. hydrolysierenden Verbindungen bei höheren Temperaturen in der Gasphase. Ausgangsverbindungen für die Erzeugung von dispersem SiO2 sind dabei vor allem SiCI4, teilweise SiF4, aber auch zahlreiche Siliciumorganoverbindungen.
Grundlegende Patente zur Umsetzung von SiCI4 sind unter anderem die DE-OS 2923182, die DE-OS 3045190 und DE-OS 223454. Neben SiCI4 werden dabei teilweise auch Halogenide anderer Metalle sowie nurteilweise halogeniert^ Silane eingesetzt. Als Brenngas dient dabei meist Wasserstoff, wobei das in der Knallgasflamme primär entstehende Wasser in der ersten Reaktionsphase zur Hydrolyse der Halogenide unter Bildung von Silanolverbindungen führt, die bei erhöhten Temperaturen unter H2O-Abspaltung kondensieren.
Aus den so gebildeten Primärteilchen entstehen Sekundärstrukturen, die schließlich entsprechend der Reaktionsführung weiter aggregieren. Neben Wasserstoff sind aber auch andere Brennstoffe, wie Wassergas, Leuchtgas, Kokereigas, die bei der Verbrennung Wasser bilden, einsetzbar.
Die Umsetzung von SiF4 nach dem gleichen Prinzip ist 1J. a. in der EP 54531 beschrieben.
Brennbare siliciumorganische Verbindungen (Silane, Chlorsilane, Methylsilane, Alkylchlorsilane, Methyldisilane, Alkoxysilane, Siloxane, Silanole u.a.) sind auch ohne Brennstoff einsetzbar. Sie sind im wesentlichen aus den Patenten DE-OS 2620737 und DE-OS 3028363 bekannt.
Es sind weiterhin eine Reihe von Lösungen bekannt, die die Konstruktion von Apparaturen und Brennern für diese Flammenpyrolyse zum Inhalt haben.
Die gasförmigen Verbindungen (Halogenide, Silane, siliciumorganische Verbindungen) werden mit Luft eingeblasen, teilweise wird H20-Dampf zugesetzt, in entsprechenden Kammern vermischt und in das Brennergas gebracht. Zumeist verhindern dabei Ringspüldüsen das Absetzen des SiO2 am Brennerausgang. Dabei wird kalte Spülluft eingeblasen, die zugleich für Abkühlung der Reaktionsprodukte und der Brennerdüse sorgt. Entsprechende Konstruktionen sorgen für die Abscheidung der Produkte, wobei die Länge der Koagulationsstrecke und die Strömungsgeschwindigkeit entscheidend sind.
Mit diesem Verfahren bilden sich je nach den gewählten Versuchsbedingungen hochdisperse, kugelförmige Partikel mit Durchmessern zwischen 5nm bis 50nm.
Die Produkte besitzen eine hoche chemische Reinheit und sind nahezu porenfrei (kleinere innere Porenoberfläche).
Die plasmachemische Umsetzung von SiCI4 und O2 wird in der DE-PS 3332558 beschrieben, wobei die Ausgangsstoffe von einem elektrisch aufgeheizten, wasserstofffreien Plasmastrom eingeführt werden, um disperses SiO2 zu erzeugen. Das daher entstehende CI2-GaS muß nach der Reaktion abgetrennt werden.
Für die Herstellung von dispersem SiO2 aus festen Ausgangsstoffen werden in der DE-AS 1140911 und DE-AS 1180723 Verfahren im Lichtbogen beschrieben, die von SiO2 und Kohle ausgehen.
Die beiden letztgenannten Verfahren besitzen gegenüber der Flammenpyrolyse eine untergeordnete Bedeutung, obwohl damit auch disperse Produkte analoger Qualität, wie beschrieben, erzielt werden können. Die dargestellten Verfahren zeichnen sich durch hohe Produktausbeuten aus, wobei die Steuerbarkeit des Flammenpyrolyseprozesses in weiten Grenzen möglich ist und zu hoher Chargentreue der Produkte führt.
Allerdings sind bei allen Verfahren relativ aufwendige Konstruktionen für Brenner, zur Stabilisierung des Brenners, zur Kondensation und Koagulation der Produkte notwendig. Die Ausgangsstoffe müssen verdampft werden.
Das Ziel der Erfindung besteht in einem Verfahren, bei dem disperse Kieselsäuren mit vorbestimmter Partikelgröße, Oberflächenstruktur und Reinheit in hoher Ausbeute aus möglichst kostengünstigen Ausgangsstoffen energie- und zeitsparend hergestellt werden.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine erhebliche Reduzierung des Verfahrens, insbesondere der Verfahrenstechnik oder -stufen bei gleichzeitiger Verbesserung der Wärmeübertragung, Verkürzung der Reaktionszeiten und ohne zusätzliche Zerteilung des Brenngutes zu erreichen.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß in einem Einstufenprozeß die Ausgangsstoffe durch pulsierende Verbrennung, beispielsweise in einem Schwingfeuerreaktor, umgesetzt werden.
Die pulsierende Verbrennung bietet gegenüber der stationären Verbrennung die Vorteile der Steigerung der Energieumsetzung, der verbesserten Wärmeübertragung, der raschen thermischen Aktivierung der Ausgangsstoffe, der Verkürzung der Reaktionszeiten in den Millisekundenbereich und insbesondere der zusätzlichen Zerteilung des Brenngutes durch den pulsierenden Betrieb. Die Ausgangsstoffe können direkt in flüssiger Form in den Reaktor eingedüst werden. Damit werden zugleich hohe Umsätze garantiert.
Die Erfindung ist nachstehend an Hand eines Ausführungsbeispieles näher erläutert. In der dazugehörigen Zeichnung ist eine Einrichtung mit pulsierender Verbrennung schematisch dargestellt.
Als Ausgangsstoffe werden flüssige oder in organischen Lösungsmitteln gelöste Siliciumorganoverbindungen, wie Alkoxysilane: Si(OR)4, gemischte Alkoxysilane: Si(OR'HOR")(OR"')(ORlv), Alkylsilane: SiHmR4.m, Silanole: Si(OH)mR4^ m; Atkoxysilanole: Si(OH)111(OR)4 _m, Siloxane: SinOn-1R2n + 2, mit m = 1 bis 3, R = organische Restgruppen wie Alkyl (CnH2n + ι); Alkenyl (CnH2n _ ι); aromatische Gruppen; Alkohol-, Ester- und Ethergruppen sowie gemischte Gruppen (R', R", R'", Rlv) sowie Mischungen dieser Siliciumorganoverbindungen in den Reaktor eingespritzt. Als Brenngas dient Stadtgas (Diesel). Durch Regelung der Luftzufuhr, der Reaktortemperatur, der Brenngaszufuhr und der Ausgangsstoffdosierung werden hochdisperse Kieselsäuren mit variablen Partikelgrößen und spezifischen Oberflächengrößen steuerbar erzeugt.
Bei entsprechender Prozeßführung, z. B. durch Drosselung der Sauerstoffzufuhr oder Erhöhung der Ausgangsstoffdosierung, können z. B. ausTetraethoxysilan hochdisperse modifizierte Kieselsäuren mit Ethoxyoberflächengruppen erzeugt werden. Weiterhin können als Ausgangsstoffe flüssige Kieselsole in den Reaktor eingespritzt werden; der hohe Aufheizgradient und das Schwingfeuerprinzip ermöglichen eine Tropfenzerteilung und rasche Wasserverdampfung. Durch Einstellung der Reaktortemperatur swowie der Luftzufuhr sind auf diese Weise ebenfalls hochdisperse Kieselsäuren herstellbar. Günstige Reaktionsbedingungen für die Herstellung hochdisperser kugeliger SiO2-Partikel mit Durchmessern von 15 bis 25 nm und einer spezifischen Oberflächengröße von 210m2/g sind: Einsatz von Tetraethoxysilan, Einspritzen von 10 l/h über eine Danfoss-Düse, Reaktortemperatur von 6000C bis 8000C.
Für hochdisperse Produkte mit Partikelgrößen 20 bis 30nm und spezifischen Oberflächengrößen von 130m2/g muß bei sonst gleichen Bedingungen die Reaktortemperatur bei 500°C liegen. Durch Reduktion des Luftstromes entstehen beim Einsatz von Tetraethoxysilan disperse, mit Ethoxygruppen modifizierte Kieselsäuren mit stark hydrophoben Eigenschaften. Zur Durchführung des Verfahrens wird ein Schwingfeuerreaktor 1 mit Stadtgas 2 und Verbrennungsluft 3, die von einem Rootsgebläse 4 gefördert wird, so betrieben, daß am Ende des Resonanzrohres 5 eine Temperatur von beispielsweise 6000C herrscht. Von einer Pumpe 6 wird Tetraethoxysilan über eine Düse 7 am Beginn des Resonanzrohres, d. h. kurz nach der Brennkammer 8 senkrecht zum Gasstrom eingedüst. Auf Grund der feinen Zerstäubung, z.B. durch eine Danfoss-Düse, und der hohen Turbulenz im Resonanzrohr sowie der Schwingungsfrequenz der Gassäule von 50Hz bis 100 Hz wird das feinzerstäubte Tetraethoxysilan zu SiO2-Teilchen unter 50 nm umgewandelt. Die chemische Reaktion läuft dabei in wenigem Millisekunden ab. Das hochdisperse SiO2 wird nach dem Resonanzrohr sowie nach Zumischen von Kaltluft 9 in einem Filter 10 abgeschieden. Durch Einsatz halogenfreierAusgangsstoffe entstehen keine umweltschädigenden Abgase, ein Vorteil gegenüber Verfahren, die halogenierte Verbindungen einsetzen. EineAbgasentsorgung entfällt ebenso wie ein Waschprozeß. Durch eineCO-Kontrolleim Abgas ist die Vollständigkeit der Verbrennung von siliciumorganischen Verbindungen kontrollier- und regulierbar.
Claims (4)
1. Verfahren zur Herstellung hochdisperser Kieselsäuren mit einstellbarer Partikelgröße, Oberflächengröße und -struktur und wählbaren oberflächenchemischen Eigenschaften, gekennzeichnet dadurch, daß flüssige oder in organischen Lösungsmitteln gelöste Siliciumorganoverbindungen in einem Einstufenprozeß durch Kombination von Feinzerstäubung und pulsierender Verbrennung umgesetzt werden und als siIiciumorganische Verbindungen alle Substanzen als Ausgangsstoffe einsetzbar sind, die selbst brennbar sind und bei ihrer Verbrennung H2O und CO2 bilden.
2. Verfahren zur Herstellung hochdisperser Kieselsäuren nach Punkt 1, gekennzeichnet dadurch, daß die siliciumorganischen. Verbindungen oder ihre Lösungen mittels Preßluft oder Pumpen in die Zone der pulsierenden Verbrennungen eingesprüht oder eingespritzt werden.
3. Verfahren zur Herstellung mit organischen Endgruppen modifizierter hochdisperser Kieselsäuren nach Punkt 1 und 2, gekennzeichnet dadurch, daß die Art der Endgruppenkonzentration durch die Einstellung der Ausgangsstoffe und/oder durch Zusatz organischer Verbindungen oder durch Variation der Reaktionsbedingungen steuerbar ist.
4. Vorrichtung zur Herstellung hochdisperser Kieselsäuren nach Punkt 1 bis 3, gekennzeichnet dadurch, daß an einem Schwingfeuerreaktor (1) eine Gaszuführung (2) und eine Zuführung für die Verbrennungsluft (3) sowie am Anfang des Resonanzrohres (5) eine Düse (7) angeordnet ist und dem Schwingfeuerreaktor ein Filter (10) nachgeschaltet ist.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD28588886A DD245648A1 (de) | 1986-01-02 | 1986-01-02 | Verfahren und vorrichtung zur herstellung hochdisperser kieselsaeuren |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD28588886A DD245648A1 (de) | 1986-01-02 | 1986-01-02 | Verfahren und vorrichtung zur herstellung hochdisperser kieselsaeuren |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DD245648A1 true DD245648A1 (de) | 1987-05-13 |
Family
ID=5575643
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DD28588886A DD245648A1 (de) | 1986-01-02 | 1986-01-02 | Verfahren und vorrichtung zur herstellung hochdisperser kieselsaeuren |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DD (1) | DD245648A1 (de) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102006046803A1 (de) * | 2006-09-29 | 2008-04-03 | Ibu-Tec Gmbh & Co. Kg | Verfahren und thermischer Reaktor zur Herstellung von Partikeln |
| DE102007003744A1 (de) * | 2007-01-19 | 2008-07-31 | Ibu-Tec Advanced Materials Gmbh | Verfahren und thermischer Reaktor zur Herstellung von Partikeln |
| EP2335821B1 (de) | 2006-07-13 | 2016-03-16 | IBU-tec advanced materials AG | Verfahren zur Herstellung nanokristalliner Metalloxide |
| DE102015003398A1 (de) * | 2015-03-18 | 2016-09-22 | Dennert Poraver Gmbh | Verfahren und Anlage zur Herstellung von Mikrohohlkugeln aus Glas |
| EP3053571B1 (de) | 2015-02-05 | 2017-03-22 | Dentsply DeTrey GmbH | Verfahren zur Herstellung einer teilchenförmigen Dentalfüllstoffzusammensetzung |
| DE102015223376A1 (de) * | 2015-11-26 | 2017-06-01 | Dennert Poraver Gmbh | Verfahren und Anlage zur Herstellung von mono- oder multizellulär expandierten Partikeln aus einem glasartigen oder keramischen Material |
| DE102016001349A1 (de) * | 2016-02-08 | 2017-08-24 | Horst Büchner | Verfahren zur thermischen Materialbehandlung |
| DE102016002566A1 (de) | 2016-03-04 | 2017-09-07 | Horst Büchner | Vorrichtung und Verfahren zur thermischen Materialbehandlung |
| EP3228876A1 (de) | 2016-03-31 | 2017-10-11 | FTE automotive GmbH | Vorrichtung zur reduktion von vibrationen in einem hydraulischen betätigungssystem, insbesondere einer hydraulischen kupplungsbetätigung für kraftfahrzeuge |
| EP3236152A1 (de) | 2016-04-22 | 2017-10-25 | Büchner, Horst | Verfahren und vorrichtung zur thermischen materialbehandlung in einem schwingfeuer-reaktor |
-
1986
- 1986-01-02 DD DD28588886A patent/DD245648A1/de not_active IP Right Cessation
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2335821B1 (de) | 2006-07-13 | 2016-03-16 | IBU-tec advanced materials AG | Verfahren zur Herstellung nanokristalliner Metalloxide |
| DE102006046803A1 (de) * | 2006-09-29 | 2008-04-03 | Ibu-Tec Gmbh & Co. Kg | Verfahren und thermischer Reaktor zur Herstellung von Partikeln |
| DE102007003744A1 (de) * | 2007-01-19 | 2008-07-31 | Ibu-Tec Advanced Materials Gmbh | Verfahren und thermischer Reaktor zur Herstellung von Partikeln |
| EP3053571B1 (de) | 2015-02-05 | 2017-03-22 | Dentsply DeTrey GmbH | Verfahren zur Herstellung einer teilchenförmigen Dentalfüllstoffzusammensetzung |
| DE102015003398B4 (de) | 2015-03-18 | 2018-11-22 | Dennert Poraver Gmbh | Verfahren und Anlage zur Herstellung von Mikrohohlkugeln aus Glas und Verwendung eines Pulsationsreaktors |
| DE102015003398A1 (de) * | 2015-03-18 | 2016-09-22 | Dennert Poraver Gmbh | Verfahren und Anlage zur Herstellung von Mikrohohlkugeln aus Glas |
| DE102015223376A1 (de) * | 2015-11-26 | 2017-06-01 | Dennert Poraver Gmbh | Verfahren und Anlage zur Herstellung von mono- oder multizellulär expandierten Partikeln aus einem glasartigen oder keramischen Material |
| DE102016001349A1 (de) * | 2016-02-08 | 2017-08-24 | Horst Büchner | Verfahren zur thermischen Materialbehandlung |
| WO2017148562A1 (de) | 2016-03-04 | 2017-09-08 | Büchner Horst | Vorrichtung und verfahren zur thermischen materialbehandlung |
| DE102016002566A1 (de) | 2016-03-04 | 2017-09-07 | Horst Büchner | Vorrichtung und Verfahren zur thermischen Materialbehandlung |
| DE102016002566B4 (de) | 2016-03-04 | 2022-01-20 | Horst Büchner | Vorrichtung und Verfahren zur thermischen Materialbehandlung |
| EP3228876A1 (de) | 2016-03-31 | 2017-10-11 | FTE automotive GmbH | Vorrichtung zur reduktion von vibrationen in einem hydraulischen betätigungssystem, insbesondere einer hydraulischen kupplungsbetätigung für kraftfahrzeuge |
| EP3236152A1 (de) | 2016-04-22 | 2017-10-25 | Büchner, Horst | Verfahren und vorrichtung zur thermischen materialbehandlung in einem schwingfeuer-reaktor |
| DE102016004977A1 (de) * | 2016-04-22 | 2017-10-26 | Horst Büchner | Verfahren und Vorrichtung zur thermischen Materialbehandlung in einem Schwingfeuer-Reaktor |
| DE102016004977B4 (de) | 2016-04-22 | 2023-09-21 | Ibu-Tec Advanced Materials Ag | Verfahren und Vorrichtung zur thermischen Materialbehandlung in einem Schwingfeuer-Reaktor |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100232438B1 (ko) | 열분해법 실리카, 이의 제조방법 및 이의 용도 | |
| DE69215791T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Quarzglas | |
| DE2909815C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von hochdispersem Siliciumdioxid | |
| US5776240A (en) | Granules based on pyrogenically prepared silicon dioxide, methods for their preparation and use thereof | |
| DE1163784C2 (de) | Verfahren zur Oberflaechenbehandlung von hochdispersen Oxyden | |
| KR100500122B1 (ko) | 폴리알킬실록산의정제방법및이의제품 | |
| DD245648A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur herstellung hochdisperser kieselsaeuren | |
| DE102011119341A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von synthetischem Quarzglas nach der Sootmethode | |
| US3924029A (en) | Method of modifying the surface properties of finely divided metal oxides | |
| US3383172A (en) | Process for producing silica in the form of hollow spheres | |
| DE69122039T2 (de) | Verfahren zum Herstellen von hochreinem Glaspulver | |
| US6129899A (en) | Processes for producing synthetic quartz powder and producing shaped quartz glass | |
| CN105283425A (zh) | 用于制造合成石英玻璃的蒸发器和方法 | |
| DE10359951A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von ultratrockenem, Cl-freiem und F-dotiertem hochreinem Quarzglas | |
| EP2782875A1 (de) | Verfahren zur herstellung von synthetischem quarzglas durch abscheidung von silicasoot aus der dampfphase auf einer unterlage | |
| WO2013076192A1 (de) | VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON SYNTHETISCHEM QUARZGLAS DURCH ABSCHEIDUNG VON SiO2-SOOT AUS DER DAMPFPHASE AUF EINER UNTERLAGE | |
| US5372795A (en) | Process for hydrophobicizing of pyrogenic silica | |
| US4022152A (en) | Apparatus for making particulate materials, particularly oxides, hydrophobic | |
| EP3233743A1 (de) | Verfahren zur herstellung von synthetischem quarzglas unter verwendung einer reinigungsvorrichtung | |
| EP0844979B1 (de) | PORÖSE MONODISPERSE SiO2-PARTIKEL | |
| DE1150955B (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Reinigen von hochdispersen Oxyden | |
| WO2016131849A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von quarzglas aus einer polymerisierbaren polyalkylsiloxanverbindung mit membranfilter als reinigungsvorrichtung | |
| EP0421313B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Karbidprodukten | |
| JP2004509041A (ja) | チタニアドープ石英ガラスプリフォームの作成方法 | |
| DD245649A1 (de) | Verfahren zur herstellung hochdisperser oxide |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| UW | Conversion of economic patent into exclusive patent | ||
| ENJ | Ceased due to non-payment of renewal fee |