DE10003471A1 - Spin-Ventil-Magnetowiderstandselement und Verfahren zu seiner Herstellung - Google Patents
Spin-Ventil-Magnetowiderstandselement und Verfahren zu seiner HerstellungInfo
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Abstract
Ein Magnetowiderstandselement vom Spin-Typ und ein ein solches Element enthaltender Dünnschicht-Magnetkopf üben auf eine fixierte magnetische Schicht ein hervorragendes anisotropes Austauschmagnetfeld aus, zeigen zufriedenstellendes lineares Ansprechverhalten, können Barkhausen-Rauschen unterdrücken, Lesestrom-Nebenschluß minimieren und eine zufriedenstellende Widerstands-Änderungsrate aufweisen. Das Magnetowiderstandselement besitzt eine Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht aus einem ersten antiferromagnetischen Material, eine fixierte magnetische Schicht, deren Koerzitivkraft durch die Verstärkungsschicht zum Festlegen ihrer Magnetisierungsrichtung erhöht wird, und eine freie magnetische Schicht, deren Magnetisierung in einer Richtung orientiert ist, die diejenige der fixierten magnetischen Schicht schneidet. Ein Lesestrom fließt in eine Richtung, die die fixierte Richtung der Magnetisierung der fixierten magnetischen Schicht schneidet. Eine Änderung des elektrischen Widerstands wird ermittelt aus einem Winkel, der gebildet wird durch die Magnetisierung der fixierten magnetischen Schicht und diejenige der freien magnetischen Schicht. Die fixierte magnetische Schicht ist durch eine nichtmagnetische Zwischenschicht in eine erste und eine zweite fixierte Teilschicht aufgeteilt, wobei die zweite Teilschicht der nichtmagnetischen leitenden Schicht benachbart ist.
Description
Die Erfindung betrifft ein Spin-Ventil-Magnetowiderstandselement, wel
ches Anwendung bei einem Magnetkopf, einem Stellungsfühler, einem
Drehfühler etc. findet. Außerdem betrifft die Erfindung ein Herstellungs
verfahren für ein solches Element und einen Dünnschicht-Magnetkopf
mit einem solchen Element.
Bekannt sind als Magnetowiderstands-Lesekopf (MR-Kopf) ein anisotro
per Magnetowiderstands-Kopf oder Magnetoresistenz-Kopf (AMR), der
den anisotropen Magnetowiderstands-Effekt nutzt, und ein sogenannter
Riesenmagnetowiderstands-Kopf oder Riesen-Magnetoresistenz-Kopf
(GMR; Giant Magneto-Resistive-Head), der das Phänomen des spin
abhängigen Streuens von Leitungselektronen nutzt. Als spezielles Beispiel
für den GMR-Kopf ist in dem US-Patent 5,159,513 ein Spinventilkopf
(spin-valve head) dargestellt, der in einem schwachen externen Magnet
feld einen starken Magnetoresistenzeffekt aufweist.
Die Erfinder haben gemäß dem US-Patent 5,910,344 ein Magnetowider
standselement offenbart, welches in der Lage ist, einen extrem starken
Magnetoresistenzeffekt zu zeigen, wobei es sich um ein Beispiel ange
wandter Technologie bei einem Spinventilkopf handelt.
Fig. 16 zeigt ein Beispiel für den Aufbau eines Magnetowiderstands
elements, wie es in der US-A-5,910,344 dargestellt ist. Bei dem Aufbau
nach diesem Beispiel sind auf einem Substrat 200 eine Koerzitivkraft-
Verstärkungsschicht 201, eine fixierte magnetische Schicht 202, eine
nicht magnetische leitende Schicht 203 und freie magnetische Schicht 204
in dieser Reihenfolge niedergeschlagen. Außerdem finden sich an den
beiden Rändern der freien magnetischen Schicht 204 antiferromagne
tische Schichten 205, die einen Abstand voneinander aufweisen, welcher
einer Spurbreite Tw entspricht. Auf den antiferromagnetischen Schichten
205 befinden sich Stromleitschichten 206, und auf den Stromleitschichten
206 sowie einem mittleren Bereich der freien magnetischen Schicht 204
befindet sich eine diese Schichten abdeckende obere Isolierschicht 207.
Bei dem Aufbau des in Fig. 16 gezeigten Elements ist die Koerzitivkraft-
Verstärkungsschicht 201 z. B. aus α-Fe2O3 gebildet, die fixierte magne
tische Schicht 202 besteht aus Co oder einer Ni-Fe-Legierung, die nicht
magnetisch leitende Schicht 203 besteht aus Cu, die freie magnetische
Schicht 204 aus Co oder einer Ni-Fe-Legierung, die antiferromagneti
schen Schichten 205 sind aus einer eine unregelmäßige Struktur aufwei
senden PtMn-Legierung gebildet, die Stromleitschichten 206 bestehen aus
Cu, und die Schutzschicht 207 besteht aus Al2O3.
Die Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht 201 hat die Aufgabe, eine Koer
zitivkraft der fixierten magnetischen Schicht 202, die ihr benachbart ist,
zu erhöhen, um die Magnetisierung in einer Richtung zu orientieren. Bei
dem in Fig. 16 dargestellten Aufbau beispielsweise ist die Magnetisie
rungsrichtung der fixierten magnetischen Schicht 202 in die Richtung Y
orientiert, angedeutet durch einen Pfeil b in Fig. 16. Außerdem verleihen
die antiferromagnetischen Schichten 205 der benachbarten freien magne
tischen Schicht 204 eine unidirektionale Anisotropie. Dies hat zur Folge,
daß eine in einen Einzeldomänenzustand auszurichtende Zone entspre
chend der Spurbreite in der Magnetisierung orientiert wird. Wenn eine
Längs-Vormagnetisierung bei Fehlen eines äußeren Magnetfeldes ange
legt wird, wird die Magnetisierung der freien magnetischen Schicht 204
in Richtung X' orientiert, angedeutet durch Pfeile a.
Wenn die Magnetisierung der vierten magnetischen Schicht 202 durch
die oben erläuterte Struktur des Elements in Richtung Y fixiert ist, und
dabei ein magnetischer Streu- oder Randfluß von einem magnetischen
Aufzeichnungsmedium, beispielsweise einer Festplatte, angelegt wird, so
wird die Magnetisierungs-Orientierung der freien magnetischen Schicht
204 gegenüber der Orientierung der Magnetisierung der fixierten magne
tischen Schicht 202 gedreht, was eine Änderung des Widerstands zur
Folge hat, zurückzuführen auf die spinabhängige Streuung von Leitungs
elektroden. Dies macht es möglich, Änderungen des Widerstands zu
lesen, indem ein Ruhestrom, d. h. ein Lesestrom durch die Stromlei
tungsschichten 206 der in Fig. 16 dargestellten Struktur geleitet wird,
anhand dessen magnetische Information in einem magnetischen Aufzeich
nungsmedium gelesen werden kann.
Die Längs-Vormagnetisierung in der oben erläuterten Struktur des Ele
ments wird in Richtung X' gemäß Fig. 16 aufgeprägt, um Barkhausen-
Rauschen zu unterdrücken, welches von der freien magnetischen Schicht
204 erzeugt wird, die zahlreiche magnetische Domänen bildet. In ande
ren Worten: die Längs-Vormagnetisierung wird angelegt, um die Wider
standsänderungen mit weniger Rauschen für Induktionsflüsse aus einem
magnetischen Medium zu garantieren.
Bei diesem Typ von Spinventil-Magnetowiderstandselement muß aus
reichend Strom durch die freie magnetische Schicht 204, die nicht ma
gnetische leitende Schicht 203 und die fixierte magnetische Schicht 202
fließen, die zu dem Magnetowiderstandseffekt beitragen. Wünschenswert
ist es, einen Stromnebenschluß zu anderen Teilen weitgehend zu ver
meiden.
In diesem Zusammenhang kann das Spinventil-Magnetowiderstandsele
ment mit einem antiferromagnetischen Oxidmaterial, α-Fe2O3, das die in
Fig. 16 dargestellte Struktur hat, den Nebenschluß des Lesestroms des
halb verringern, weil α-Fe2O3 selbst ein Isolator ist. Dieses Merkmal
liefert einen starken Magnetowiderstandseffekt mit sich daraus ergeben
dem hohen Ausgangssignal.
Eine Sperrtemperatur des antiferromagnetischen Oxidmaterials, α-Fe2O3,
beträgt 320°C oder mehr, was höher ist als die 230°C betragende
Sperrtemperatur von NiO, welches als weiteres antiferromagnetisches
Oxidmaterial bekannt ist, oder auch viel höher ist als die 150°C betra
gende Sperrtemperatur einer FeMn-Legierung, welche in großem Um
fang als antiferromagnetisches Material bekannt ist. Deshalb ist das
antiferromagnetische Oxidmaterial α-Fe2O3 gekennzeichnet durch hervor
ragende thermische Stabilität. Außerdem ist α-Fe2O3 ursprünglich ein
Oxid, so daß es auch zufriedenstellende Korrosionsbeständigkeit besitzt,
wohingehen die FeMn-Legierung, die als antiferromagnetisches Material
weithin bekannt ist, eine unzureichende Korrosionsbeständigkeit aufweist.
Wenngleich das Magnetowiderstandselement mit dem in Fig. 16 Aufbau
die oben angegebenen Merkmale aufweist, so weist es trotzdem das
Problem auf, daß die Schwierigkeit bei der antiferromagnetischen Oxid
schicht aus α-Fe2O3 besteht, ein anisotropes Austauschmagnetfeld (Hex)
zum Fixieren der Magnetisierung der fixierten Magnetschicht 202 zu
erhöhen. Aus diesem Grund ergab sich das Problem, daß die Richtung
der Magnetisierung der fixierten Magnetschicht 202 durch ein Magnet
feld geneigt wurde, welches durch eine Längs-Vormagnetisierung gebil
det wurde, was zu einer geringen Stabilität des Magnetowiderstandsele
ments führte.
Darüber hinaus kann das Spinventil-Magnetowiderstandselement unter
Verwendung des oben angesprochenen antiferromagnetischen Oxidmate
rials α-Fe2O3 ein anisotropes Austauschmagnetfeld von annähernd 600
Oe liefern. Derzeit wird es für ein typisches Spinventil-Magnetowider
standselement als erstrebenswert angesehen, ein anisotropes Austausch
magnetfeld von 400 Oe oder darüber zu schaffen. Folglich erfüllt das
Element unter Verwendung von α-Fe2O3 die Grundforderung, allerdings
mußte das Element ein viel stärkers anisotropes Austauschmagnetfeld
bereitstellen.
Fig. 17 zeigt ein weiteres Beispiel der Struktur, in der eine Längs-Vor
magnetisierung in dem Spinventil-Magnetowiderstandselement angelegt
wird. Bei diesem Aufbau sind auf einem Substrat ein Laminat 215 aus
einer antiferromagnetischen Schicht 210, einer fixierten magnetischen
Schicht 211, eine nicht magnetischen leitenden Schicht 212 und einer
freien magnetischen Schicht 213 niedergeschlagen, und auf der rechten
und auf der linken Seite des Laminats 215 sind eine harte Vormagnetisie
rungsschicht 216 aus einem harten magnetischen Material und Stromleit
schichten 217 niedergeschlagen.
Bei dem in Fig. 17 dargestellten Elementenaufbau besteht die Möglich
keit, die antiferromagnetische Schicht 210 durch Verwendung von α-
Fe2O3 zu bilden, damit sie als Spinventilelement fungieren kann. Aller
dings gibt es das Problem, daß eine äußerst komplizierte, zwei Schritte
umfassende Magnetisierung im Zuge des Fertigungsverfahrens erforder
lich ist, um die in Fig. 17 dargestellte Struktur des Elements zu erhalten.
Genauer: Der im folgenden beschriebene Weg, das in Fig. 17 darge
stellte Element herzustellen, hat beträchtliche Schwierigkeiten bereitet.
Wenn man die antiferromagnetische Schicht 210 als erstes magnetisiert,
um anschließend die harte Vormagnetisierungsschicht 216 zu magnetisie
ren, so ist es äußerst schwierig, diese harte Vormagnetisierungsschicht
216 zu magnetisieren, ohne dabei die Magnetisierungsrichtung der anti
ferromagnetischen Schicht 210 zu stören, die als erstes magnetisiert
wurde, weil nämlich die Magnetisierungsrichtung der antiferromagneti
schen Schicht 210 aus α-Fe2O3 gegenüber der Magnetisierungsrichtung
der harten Vormagnetisierungsschicht 216 um 90° versetzt ist.
Die vorliegende Erfindung wurde im Hinblick auf eine Lösung der oben
angesprochenen Probleme gemacht, und folglich ist es Ziel der vorlie
genden Erfindung, ein Spinventil-Magnetowiderstandselement anzugeben,
welches sich durch hervorragende Korrosionsbeständigkeit auszeichnet,
das Anlegen eines extrem guten anisotropen Austauschmagnetfelds er
möglicht, zufriedenstellend lineares Ansprechverhalten zeigt, in der Lage
ist, Barkhausen-Rauschen zu unterdrücken, den Nebenschluß des Lese
stroms minimiert und außerdem eine zufriedenstellende Widerstands
änderungsrate aufweist; außerdem soll ein Dünnschicht-Magnetkopf
geschaffen werden, der mit einem Spinventil-Magnetowiderstandselement
ausgestattet ist.
Ein weiteres Ziel der Erfindung ist es, ein Spinventil-Magnetowider
standselement anzugeben, welches sich durch hervorragendes lineares
Ansprechverhalten, Beständigkeit gegenüber Temperaturänderungen und
durch Unterdrücken von Barkhausen-Rauschen auszeichnet, indem eine
antiferromagnetische Schicht mit hoher Sperrtemperatur geschaffen wird;
außerdem soll ein Dünnschicht-Magnetkopf mit dem Spinventil-Magneto
widerstandselement ausgerüstet werden.
Ein noch weiteres Ziel der Erfindung besteht in der Schaffung eines
Verfahrens zum Fertigen eines Spinventil-Magnetowiderstandselements,
welches ein einfaches, zuverlässiges Magnetisieren einer antiferromagne
tischen Schicht und einer harten Vormagnetisierungsschicht ermöglicht,
die verschiedene Magnetisierungsrichtungen aufweisen, ohne daß das
Erfordernis einer speziellen Wärmebehandlung bei der Fertigung eines
Magnetowiderstandselements mit den oben angegebenen hervorragenden
Merkmalen besteht.
Zu diesem Zweck schafft die vorliegenden Erfindung ein Magnetowider
standselement vom Spinventil-Typ mit einer aus einem ersten antiferro
magnetischen Material gebildeten Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht;
einer fixierten magnetischen Schicht, deren Koerzitivkraft durch ein
magnetisches Austauschkoppelfeld seitens der Koerzitivkraft-Verstär
kungsschicht verstärkt wird, um ihre Magnetisierungsrichtung zu fixie
ren; und eine nichtmagnetische leitende Schicht, die zwischen der fixier
ten magnetischen Schicht und einer freien magnetischen Schicht gebildet
ist, deren Magnetisierung in eine Richtung orientiert ist, die die fixierte
Magnetisierungsrichtung der fixierten magnetischen Schicht schneidet;
wobei ein Lesestrom in einer Kreuzungsrichtung der fixierten Magneti
sierungsrichtung der fixierten magnetischen Schicht geleitet wird und
eine Änderung des elektrischen Widerstands nachgewiesen wird, aus
einem Winkel, der durch die Magnetisierung der fixierten magnetischen
Schicht und der Magnetisierung der freien magnetischen Schicht gebildet
wird; wobei die fixierte magnetische Schicht in zwei Schichten separiert
ist, nämlich eine erste fixierte magnetische Teilschicht benachbart zu der
Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht, und eine zweite fixierte magnetische
Teilschicht benachbart zu der nicht magnetischen leitenden Schicht,
wobei zwischen diesen beiden Schichten eine nichtmagnetische
Zwischenschicht vorhanden ist.
In einer bevorzugten Form der Erfindung wird ein ferromagnetischer
Zustand erzeugt, bei dem eine Magnetisierungsorientierung der ersten
fixierten magnetischen Teilschicht um 180° versetzt wird gegenüber
derjenigen der zweiten fixierten magnetischen Teilschicht, wodurch eine
antiparallele Beziehung geschaffen wird.
In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform ist ein Wert eines ma
gnetischen Moments, repräsentiert durch einen integrierten Wert einer
Sättigungsmagnetisierung und eine Dicke der ersten fixierten magneti
schen Teilschicht, verschieden von einem Wert eines magnetischen Mo
ments, der repräsentiert wird durch einen integrierten Wert einer Sätti
gungsmagnetisierung und eine Dicke der zweiten fixierten magnetischen
Teilschicht, wobei die Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht eine magne
tische Austauschkupplung auf die durch die erste fixierte magnetische
Teilschicht und die zweite fixierte magnetische Teilschicht gebildete
fixierte magnetische Schicht in dem obigen Zustand ausübt, in welchem
die Werte der magnetischen Momente unterschiedlich sind, um dadurch
ein magnetisches Austauschkoppelfeld zu steigern.
In einer noch weiteren bevorzugten Ausführungsform bestehen Mittel
zum Anlegen einer Längs-Vormagnetisierung zur Orientierung der Ma
gnetisierung der freien magnetischen Schicht aus harten Vormagnetisie
rungsschichten, die gebildet werden durch ein hartmagnetisches Material
und auf beiden Seiten in einer Richtung orthogonal zur Dickenrichtung
der freien magnetischen Schicht vorgesehen sind.
In einer noch weiteren bevorzugten Ausführungsform kann die Einrich
tung zum Anlegen einer Längs-Vormagnetisierung zum Orientieren der
Magnetisierung der freien magnetischen Schicht eine Längs-Vormagneti
sierungsschicht sein, gebildet aus einem zweiten antiferromagnetischen
Material, welches benachbart zu der freien magnetischen Schicht nieder
geschlagen ist, wobei ein unidirektionales Austausch-Vormagnetisie
rungsfeld auf die freie magnetische Schicht von der Längs-Vormagneti
sierungsschicht zur Einwirkung gebracht wird, um magnetische Anisotro
pie zu induzieren und damit eine magnetische Domäne innerhalb der
freien magnetischen Schicht zu stabilisieren.
In einer weiteren bevorzugten Form kann die Einrichtung zum Anlegen
einer Längs-Magnetisierung zur Orientierung der Magnetisierung der
freien magnetischen Schicht eine Längs-Vormagnetisierungsschicht sein,
gebildet durch eine ferromagnetische Schicht benachbart zu der freien
magnetischen Schicht, und eine zweite antiferromagnetische Schicht, die
auf die ferromagnetische Schicht niedergeschlagen ist, wobei von der
Längs-Vormagnetisierungsschicht auf die ferromagnetische Schicht ein
unidirektionales Austausch-Vormagnetisierungsfeld zur Einwirkung ge
bracht wird, um magnetische Anisotropie zu induzieren und dadurch eine
magnetische Domäne in der freien magnetischen Schicht zu stabilisieren
aufgrund der ferromagnetischen Kopplung zwischen der freien magneti
schen Schicht und der ferromagnetischen Schicht.
In einer weiteren bevorzugten Form setzt sich die Koerzitiv-Verstär
kungsschicht zusammen aus einem antiferromagnetischen Oxidmaterial,
wobei die Koerzitivkraft der fixierten magnetischen Schicht, deren Ma
gnetisierung durch die Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht fixiert wird, so
eingestellt wird, daß sie größer ist als ein unidirektionales Austausch-
Vormagnetisierungsfeld, welches in der fixieren magnetischen Schicht
von der antiferromagnetischen Schicht induziert wird.
Vorzugsweise wird in der erfindungsgemäßen Struktur die Koerzitivkraft-
Verstärkungsschicht durch α-Fe2O3 gebildet.
Ein erfindungsgemäßer Dünnschicht-Magnetkopf ist mit einem oben
beschriebenen Spinventil-Magnetowiderstandselement ausgestattet als
Element zum Lesen magnetischer Information.
Gemäß einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein
Fertigungsverfahren für ein Spinventil-Magnetowiderstandselement ange
geben, welches gebildet wird durch eine Koerzitivkraft-Verstärkungs
schicht, eine dieser benachbarte fixierte magnetische Schicht, eine nicht
magnetische leitende Schicht, eine freie magnetische Schicht, eine Vor
magnetisierungsschicht zum Anlegen einer Längs-Vormagnetisierung an
die freie magnetische Schicht, und eine Stromleitschicht, die auf ein
Substrat niedergeschlagen sind, wobei die fixierte magnetische Schicht
aufgetrennt ist in zwei Schichten mit einer dazwischenliegenden nicht
magnetischen Zwischenschicht, und wobei das Fertigungsverfahren bein
haltet: einen Schritt des Ausbildens der vorerwähnten Schichten auf dem
Substrat, das anschließende Steigern der Koerzitivkraft der fixierten
magnetischen Schicht durch Magnetisieren der fixierten magnetischen
Schicht in einem Magnetfeld in einer Richtung rechtwinklig zu einer
Spurbreite, oder durch Glühen in einem magnetischen Feld mit einer
ersten Temperatur, um die Magnetisierung der fixierten magnetischen
Schicht festzulegen, und einen Schritt des Glühens im Beisein eines
angelegten Magnetfelds, welches schwächer ist als die Koerzitivkraft der
fixierten magnetischen Schicht in Richtung der Spurbreite, um dadurch
ein Vormagnetisierungsfeld zu erzeugen.
Gemäß einem noch weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein
Fertigungsverfahren für ein Spinventil-Magnetowiderstandselement ge
schaffen, welches folgende Schritte beinhaltet: Auf einem Substrat wird
ein Laminat gebildet, welches eine Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht,
eine fixierte magnetische Schicht, eine nicht magnetische leitende Schicht
und eine freie magnetische Schicht enthält und eine einer Spurbreite
entsprechende Breite besitzt; es werden Hart-Vormagnetisierungsschich
ten aus einem hartmagnetischen Material auf beiden Seiten des Laminats
in Richtung der Spurbreite gebildet; die Koerzitivkraft der fixierten
magnetischen Schicht wird erhöht durch ein Austausch-Koppelmagnetfeld
der Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht, indem auf die fixierte Schicht,
die der Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht benachbart ist, in einer Rich
tung rechtwinklig zur Richtung der Spurbreite bei Zimmertemperatur ein
Magnetfeld zur Einwirkung gebracht wird, oder letzteres geschieht,
während gleichzeitig geglüht wird, um dadurch eine Magnetisierungs
richtung zu fixieren; außerdem wird ein Magnetfeld, welches schwächer
ist als eine Koerzitivkraft der Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht, in
einer Richtung der Spurbreite zur Einwirkung gebracht, um die hartma
gnetische Vormagnetisierungsschicht zu magnetisieren und dadurch zu
veranlassen, daß auf die freie magnetische Schicht ein Längs-Vormagne
tisierungsfeld einwirkt.
Gemäß einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein
Fertigungsverfahren für ein Spinventil-Magnetowiderstandselement ge
schaffen, welches aufweist: Bilden einer Koerzitivkraft-Verstärkungs
schicht, einer fixierten magnetischen Schicht, einer nicht magnetischen
leitenden Schicht, einer freien magnetischen Schicht und einer Längs-
Vormagnetisierungsschicht aus einem zweiten antiferromagnetischen
Material auf einem Substrat; Magnetisieren der fixierten magnetischen
Schicht bei Zimmertemperatur oder durch Glühen bei einer ersten Wär
mebehandlungstemperatur im Beisein eines an die fixierte magnetische
Schicht angelegten Magnetfelds, wobei die fixierte magnetische Schicht
der Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht benachbart ist und das Magnetfeld
in einer Richtung rechtwinklig zu einer Spurbreiten-Richtung angelegt
wird, damit die Koerzitivkraft der fixierten magnetischen Schicht ver
stärkt wird durch ein Austausch-Koppelmagnetfeld, um auf diese Weise
die Richtung der Magnetisierung der fixierten magnetischen Schicht
festzulegen; einen Schritt des Glühens der Längs-Vormagnetisierungs
schicht in Beisein eines angelegten Magnetfelds, welches schwächer ist
als Koerzitivkraft der fixierten magnetischen Schicht, und zwar in der
Richtung der Spurbreite, um ein Längs-Vormagnetisierungsfeld durch ein
unidirektionales Austausch-Koppelmagnetfeld zu erzeugen; und einen
Schritt des Entfernens der antiferromagnetischen Schicht in einer Breite,
die der Spurbreite entspricht.
Vorzugsweise erfolgt die Wärmebehandlung in Richtung der Spurbreite
bei einer zweiten Wärmebehandlungstemperatur, die höher ist als die
erste Wärmebehandlungstemperatur.
Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung wird ein Fertigungsver
fahren für ein Spinventil-Magnetowiderstandselement angegeben, welches
folgende Schritte enthält: Bilden einer Koerzitivkraft-Verstärkungs
schicht, einer fixierten magnetischen Schicht, einer nicht magnetischen
leitenden Schicht und einer freien magnetischen Schicht in kontinuierli
cher Weise auf einem Substrat; Ausbilden einer ferromagnetischen
Schicht auf der freien magnetischen Schicht mit einer dazwischenliegen
den vorbestimmten Spurbreite, und weiterhin Ausbilden einer Längs-
Vormagnetisierungsschicht aus einem zweiten antiferromagnetischen
Material auf der ferromagnetischen Schicht; Durchführen einer Magneti
sierung bei Zimmertemperatur oder bei Glühen mit einer ersten Tempe
ratur unter Einwirkung eines Magnetfelds auf die fixierte magnetische
Schicht, die der Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht benachbart ist, in
einer Richtung rechtwinklig zu der Spurbreite, um eine Koerzitivkraft
der fixierten magnetischen Schicht zu steigern durch ein Austausch-Kop
pelmagnetfeld, um so eine Magnetisierungsrichtung festzulegen; und
Wärmebehandlung der antiferromagnetischen Schicht unter Einwirkung
eines Magnetfelds, welches schwächer ist als Koerzitivkraft der fixierten
magnetischen Schicht, in Spurbreiten-Richtung, um dadurch ein Längs-
Vormagnetisierungsfeld durch ein unidirektionales Austausch-Koppelma
gnetfeld zu erzeugen.
Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung wird ein Fertigungsver
fahren für ein Spinventil-Magnetowiderstandselement geschaffen, wel
ches folgende Schritte beinhaltet: Auf einem Substrat wird ein Laminat
mit einer einer Spurbreite entsprechenden Breite gebildet, bestehend aus
einer Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht, einer fixierten magnetischen
Schicht, einer nicht magnetischen leitenden Schicht und einer freien
magnetischen Schicht; Bilden von ferromagnetischen Schichten auf bei
den Seiten des Laminats in Spurbreiten-Richtung, und außerdem Bilden
einer Längs-Vormagnetisierungsschicht aus einem zweiten antiferroma
gnetischen Material auf der ferromagnetischen Schicht; Ausführen einer
Magnetisierung bei Zimmertemperatur oder durch Wärmebehandlung bei
einer ersten Temperatur unter Einwirkung eines Magnetfelds auf die
fixierte magnetische Schicht, die der Koerzitivkraft-Verstärkungschicht
benachbart ist, und zwar in einer Richtung senkrecht zu der Spurbreite,
um die Koerzitivkraft der fixierten magnetischen Schicht durch ein Aus
tausch-Koppelmagnetfeld zu verstärken und eine Magnetisierungsrichtung
festzulegen; und Durchführen einer Wärmebehandlung unter Einwirkung
eines Magnetfelds, welches kleiner ist als die Koerzitivkraft der Koerzi
tivkraft-Verstärkungsschicht, auf die antiferromagnetische Schicht und
die ferromagnetische Schicht, um dadurch aufgrund eines unidirektiona
len Austausch-Koppelmagnetfelds ein Längs-Vormagnetisierungsfeld zu
erzeugen.
Fig. 1 ist eine schematische Schnittansicht einer ersten Ausfüh
rungsform eines Spinventil-Magnetowiderstandselements
gemäß der Erfindung;
Fig. 2 ist eine Schnittansicht des in Fig. 1 gezeigten Spinventil-
Magnetowiderstandselements bei Betrachtung von einer
Seite gegenüber einem magnetischen Aufzeichnungsmedi
um;
Fig. 3 ist eine perspektivische Ansicht eines Dünnschicht-Magnet
kopfs mit dem Spinventil-Magnetowiderstandselement
gemäß der ersten Ausführungsform;
Fig. 4 ist eine Schnittansicht, die einen wesentlichen Abschnitt des
in Fig. 3 gezeigten Dünnschicht-Magnetkopfs veranschau
licht;
Fig. 5 ist eine perspektivische Ansicht eines Abschnitts eines Teils
des in Fig. 3 gezeigten Dünnschicht-Magnetkopfs;
Fig. 6 zeigt eine Magnetisierungskurve einer antiferromagneti
schen Schicht und einer fixierten magnetischen Schicht
eines Mechanismus' zum Fixieren der Magnetisierung der
fixierten magnetischen Schicht mit Hilfe unidirektionaler
Anisotropie;
Fig. 7 zeigt eine Magnetisierungskurve einer Koerzitivkraft-Ver
stärkungsschicht und einer fixierten magnetischen Schicht
eines Mechanismus zum Festlegen der Magnetisierung der
fixierten magnetischen Schicht durch Einsatz einer Koerzi
tivkraft-Differenz;
Fig. 8 ist eine schematische Schnittansicht einer zweiten Ausfüh
rungsform des erfindungsgemäßen Spinventil-Magnetowi
derstandselements;
Fig. 9 ist eine Schnittansicht des in Fig. 8 gezeigten Spinventil-
Magnetowiderstandselements bei Betrachtung von einer
Fläche gegenüber einem magnetischen Aufzeichnungsmedi
um;
Fig. 10 ist eine Schnittansicht einer dritten Ausführungsform des
erfindungsgemäßen Spinventil-Magnetowiderstandselements
bei Betrachtung von einer Fläche gegenüber einem magne
tischen Aufzeichnungsmedium;
Fig. 11 ist eine Schnittansicht einer vierten Ausführungsform eines
erfindungsgemäßen Spinventil-Magnetowiderstandselements
bei Betrachtung von einer Fläche gegenüber einem magne
tischen Aufzeichnungsmedium;
Fig. 12 zeigt die Änderungsrate des magnetischen Widerstands bei
einem Spinventil-Magnetowiderstandselements, welches
eine Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht aus polykristalli
nem α-Fe2O3 gemäß einer Ausführungsform aufweist;
Fig. 13 zeigt eine Änderungsrate des magnetischen Widerstands
eines Magnetowiderstandselements mit einer Koerzitivkraft-
Verstärkungsschicht aus einkristallinem α-Fe2O3 gemäß
einer Ausführungsform;
Fig. 14 zeigt eine Änderungsrate des magnetischen Widerstands bei
einem Spinventil-Magnetowiderstandselement, welches eine
Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht aus polykristallinem α-
Fe2O3 gemäß einem Vergleichsbeispiel verwendet;
Fig. 15 zeigt die Änderungsrate des magnetischen Widerstands bei
einem Spinventil-Magnetowiderstandselement, welches eine
Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht aus einem polykristalli
nen α-Fe2O3 gemäß einem weiteren Vergleichsbeispiel
verwendet;
Fig. 16 ist eine Schnittansicht eines ersten Beispiels für ein her
kömmliches Spinventil-Magnetowiderstandselement;
Fig. 17 ist eine Schnittansicht eines zweiten Beispiels eines kon
ventionellen Spinventil-Magnetowiderstandselements;
Fig. 18 ist eine Schnittansicht einer fünften Ausführungsform des
erfindungsgemäßen Spinventil-Magnetowiderstandselements
bei Betrachtung von einer Seite gegenüber einem magneti
schen Aufzeichnungsmedium.
Anhand der Zeichnungen sollen nun Ausführungsbeispiele der Erfindung
erläutert werden.
Fig. 1 und 2 sind Schnittansichten eines Beispiels für ein Spinventil-
Magnetowiderstandselement an einem Dünnschicht-Magnetkopf einer
ersten erfindungsgemäßen Ausführungsform.
Fig. 1 zeigt eine Struktur, die z. B. in einem fliegenden oder schwim
menden Dünnschicht-Magnetkopf eingesetzt wird, wie er in Fig. 3-5
dargestellt ist. Ein Dünnschicht-Magnetkopf 180 gemäß diesem Beispiel
ist in einem Festplattenlaufwerk oder dergleichen angeordnet.
In einem Gleitstück 151 des Dünnschicht-Magnetkopfs 150 gemäß die
sem Beispiel ist ein mit dem Bezugszeichen 155 in Fig. 3 bezeichnetes
Ende ein vorlaufendes Ende, welches einer stromaufwärtigen Seite in
Bewegungsrichtung einer Plattenoberfläche zugewandt ist, während das
Ende 156 ein nachlaufendes Ende ist, welches einer stromabwärtigen
Seite zugewandt ist. Eine einer Magnetplatte zugewandte Fläche des
Gleitstücks 151 besitzt schienenförmige Luftlagerflächen (ABS-Flächen
(Air Bearing Surfaces) oder Gleitflächen eines Schienenteils) 151a, 151a
und 151b und Luftnuten 159c. Das Gleitstück 151 gemäß diesem Beispiel
besteht aus einem Keramikwerkstoff, beispielsweise Al2O3-Tic (Handels
bezeichnung: AlTic).
Ein Magnetkern 157 befindet sich an einer Stirnfläche 151d am nachlau
fenden Ende des Gleitstücks 151.
Der Magnetkern 157 des Dünnschicht-Magnetkopfs gemäß diesem Bei
spiel ist ein Verbundmagnetkern, dessen Schnittbild in den Fig. 4 und
5 dargestellt ist. Ein Lesekopf h1 oder ein GMR-Kopf (Giant Magnetore
sistive Heat) unter Verwendung eines Spinventil-Magnetowiderstands
elements, und ein Schreibkopf h2 oder ein induktiver Kopf, sind überein
andergestapelt an der nachlaufenden Stirnfläche 151d des Gleitstücks 151
angeordnet.
Der GMR-Kopf h1 dieses Beispiels besitzt eine untere Spaltschicht 164,
bestehend aus einem Isolator, wie z. B. Aluminiumoxid (Al2O3), nieder
geschlagen auf einer unteren Abschirmschicht 163 aus einer magneti
schen Legierung, die ihrerseits auf einer Schutzschicht 162 aus Isolier
material, beispielsweise Aluminiumoxid (Al2O3) niedergeschlagen ist,
welche sich an dem nachlaufenden Endabschnitt des Gleitstücks 151
befindet.
Außerdem befindet sich auf der unteren Spaltschicht 164 ein Spinventil-
Magnetowiderstandselement GMR1. Auf dem Magnetowiderstandsele
ment GMR1 ist die obere Spaltschicht 166 gebildet, auf der unteren
Spaltschicht 164 ist eine obere Abschirmungsschicht 167 ausgebildet.
Diese dient auch als untere Kernschicht des induktiven Kopfs h2, der
darüber liegt.
In dem induktiven Kopf h2 ist auf der unteren Kernschicht, die auch als
die obere Abschirmungsschicht 167 fungiert, eine Spaltschicht 174 ausge
bildet. Darauf ist mit einem Schraubenmuster flach eine Spule 176 aus
gebildet, die von einer Isolierschicht 177 umgeben ist. Eine obere Kern
schicht 174 befindet sich auf der Isolierschicht 177, so daß ein freier
Endabschnitt 178a der oberen Kernschicht der unteren Kernschicht 167
an der ABS-Fläche 171 mit einem extrem schmalen Spalt dazwischen
gegenüberliegt, und ein freies Ende 178b der oberen Kernschicht magne
tisch mit der unteren Kernschicht 167 gekoppelt ist.
Eine aus Aluminiumoxid oder dergleichen bestehende Schutzschicht 179
befindet sich auf der oberen Kernschicht 178.
Der GMR-Kopf h1 mit dem oben erläuterten Aufbau liest eine Änderung
des Widerstands des Magnetowiderstandselements GMR1, die verursacht
wird durch das Vorhandensein oder Fehlen eines extrem schwachen
magnetischen Rand- oder Streuflusses aus einem magnetischen Aufzeich
nungsmedium, z. B. einer Platte eines Festplattenlaufwerks, um dadurch
die auf dem magnetischen Aufzeichnungsträger aufgezeichnete Informa
tion zu lesen.
In dem die obere Struktur aufweisenden induktiven Kopf h2 wird in die
Spule 176 ein Aufzeichnungsstrom eingespeist, und von der Spule 176
wird an die Kernschicht ein Aufzeichnungsstrom gelegt. Der induktive
Kopf h2 zeichnet magnetische Signale auf einem magnetischen Aufzeich
nungsträger, z. B. eine Festplatte, mit Hilfe eines Magnetfelds auf,
welches aus freien Endabschnitten der unteren Kernschicht 167 und der
oberen Kernschicht 178 eines Magnetspalts G ausstreut.
Dies vervollständigt die Beschreibung des Gesamtaufbaus des Dünn
schicht-Magnetkopfs 150. Das Magnetowiderstandselement GMR1, das
eine wesentlichen Abschnitt der Erfindung bildet, wird im nachfolgenden
anhand der Fig. 1 und 2 erläutert.
Ein magnetischer Aufzeichnungsträger, z. B. eine Festplatte, bewegt sich
in Richtung Z gemäß Fig. 1 und 2, wobei aus dem magnetischen Auf
zeichnungsträger in Richtung Y gemäß Fig. 1 und 2 ein Magnetfeld
ausstreut.
Bei dem Aufbau nach diese Ausführungsform wird das Spinventil-Ma
gnetowiderstandselement GMR1 an der oberen Spaltschicht 164 über
dem Gleitstück 151 gebildet.
Die Fig. 1 und 2 zeigen eine Ausführungsform des erfindungsgemäßen
Magnetowiderstandselements. Die Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht 1,
die fixierte Magnetschicht, die nicht magnetische leitende Schicht 3, die
freie magnetische Schicht 4 und die Schutzschicht 5 sind auf der unteren
Spaltschicht 164 in diese Reihenfolge mit einer Breite niedergeschlagen,
die der Spurbreite Tw in etwa entspricht, um ein Laminat 6 zu bilden,
dessen Querschnittsform einem gleichschenkligen Trapez entspricht.
Harte Vormagnetisierungsschichten 7 sind aus hartmagnetischem Mate
rial in der Art geformt, daß sie in Berührung mit den Schrägflächen an
beiden Seiten in Spurbreitenrichtung des Laminats 6 stehen. Eine Strom
führungsschicht 8 befindet sich auf den Vormagnetisierungsschichten 7.
Bei diesem Aufbau ist die fixierte magnetische Schicht aufgetrennt in
eine erste fixierte magnetische Teilschicht 11 benachbart zu der Koerzi
tivkraft-Verstärkungsschicht 1 und eine zweite fixierte magnetische Teil
schicht 12 benachbart zu der nicht magnetischen leitenden Schicht 3,
wobei zwischen diesen Teilschichten eine nicht magnetische Zwischen
schicht 10 liegt. Außerdem ist bei diesem Aufbau die freie magnetische
Schicht 4 durch eine erste freie Schicht 13 benachbart zu der nicht ma
gnetischen leitenden Schicht 3 und eine zweite freie Schicht 14 gebildet.
Die Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht 1 erhöht eine Koerzitivkraft der
fixierten magnetischen Schicht 2, indem sie ein Austausch-Koppelma
gnetfeld an die fixierte Magnetschicht 2 auf der Koerzitivkraft-Verstär
kungsschicht 1 legt, um dadurch eine Magnetisierungsrichtung der fixier
ten magnetischen Schicht 2 festzulegen. Vorzugsweise besteht die Koer
zitivkraft-Verstärkungsschicht 1 aus einem antiferromagnetischen Materi
al. einem antiferromagnetischen Oxid insbesondere. Spezifische Beispiele
beinhalten α-Fe2O3, NiO und CoO, wobei das α-Fe2O3 am meisten be
vorzugt ist.
Die erste fixierte magnetische Teilschicht 11 und die zweite fixierte
Teilschicht 12 bestehen z. B. aus Co, einer NiFe-Legiening, einer Co-
NiFe-Legierung oder CoFe-Legierung.
Vorzugsweise besteht die nicht magnetische Zwischenschicht 10 zwi
schen der ersten und der zweiten Teilschicht 11 und 12 nach Fig. 1 und
2 aus einer Legierung aus einem oder zwei oder mehr der folgenden
Elemente: Ru, Rh, Ir, Cr, Re und Cu.
Wie in Fig. 1 und 2 gezeigt ist, besteht die freie magnetische Schicht 4
aus zwei Teilschichten, nämlich der ersten freien Schicht 13 in Berüh
rung mit der nicht magnetischen leitenden Schicht 3 in Form eines Co-
Films und der zweiten freien Schicht 14 aus einer NiFe-Legiening, einer
CoFe-Legierung, eine CoNiFe-Legierung oder dergleichen. Die erste, als
Co-Film ausgebildete freie Schicht 13 befindet sich auf der Seite, die in
Berührung mit der nicht magnetischen leitenden Schicht 3 steht, da die
Diffusion von Metallelementen oder dergleichen an der Grenze bezüglich
der nicht magnetischen leitenden Schicht 3, die aus Cu besteht, verhin
dert werden kann, und außerdem eine Widerstandsänderungsrate, hier
mit ΔMR bezeichnet, gesteigert werden kann.
Ergänzend zu dem oben gesagten sei angemerkt, daß bei einem Mecha
nismus zur Erzeugung des Riesen-Magnetoresistenzeffekts bei einer
Struktur, in der die nicht magnetische leitende Schicht 2 sandwichartig
zwischen der ferromagnetischen fixierten magnetischen Schicht 2 und der
freien magnetischen Schicht 4 eingeschlossen ist, ein stärkerer Effekt der
spinabhängigen Streuung von Leitungselektronen an der Grenze von Co
und Cu erwartet werden kann. Darüber hinaus führt die Ausbildung der
fixierten magnetischen Schicht 2 und der freien magnetischen Schicht 4
mit ein und demselben Materialtyp zu einer geringeren Wahrscheinlich
keit der Entstehung eines anderen Faktors als der spinabhängigen Streu
ung von Leitungselektronen, verglichen mit einer Struktur, die zwei
verschiedene Materialtypen verwendet. Somit läßt sich ein stärkerer
Magnetowiderstandseffekt erwarten. Aus diesen Gründen ist es, falls die
zweite magnetische Teilschicht 12 aus Co gebildet ist, zu bevorzugen,
die erste freie Schicht 13, die der nicht magnetischen leitenden Schicht 3
in der freien Magnetschicht 4 benachbart ist, durch eine Co-Schicht
vorbestimmter Dicke zu bilden. Alternativ kann man, anstatt bei dieser
Ausführungsform die Co-Schicht separat vorzusehen, die freie magne
tische Schicht 4 als Einzelschicht aus einer Legierung bilden, die einen
Konzentrationsgradienten aufweist, gemäß dem ein Teil der Schicht in
der Nachbarschaft der nicht magnetischen leitenden Schicht 3 eine höhere
Co-Konzentration aufweist und die Konzentration von Co allmählich in
Richtung der Schutzschicht 5 abnimmt.
Vorzugsweise ist die Schutzschicht 5 aus Metall, beispielsweise Ta gebil
det, welche eine hohe Temperaturstabilität und außerdem eine hohe
Beständigkeit gegenüber Oxidieren aufweist.
Die hartmagnetischen Vormagnetisierungsschichten 7 gemäß Fig. 2
bestehen aus einem hartmagnetischen Material, beispielsweise einer Co-
Pt-Legierung oder Co-Cr-Pt-Legierung. Die stromführenden Schichten 8
bestehen aus einem leitenden Werkstoff, z. B. Au, Ta, W, Cr etc. Die
harten Vormagnetisierungsschichten 7 haben die Aufgabe, ein Vormagne
tisierungsfeld an die freie Magnetschicht 4 zu legen, um deren Magneti
sierung in Richtung X1 zu orientieren, wie sie durch einen Pfeil in Fig.
2 angedeutet ist, und dadurch die freie magnetische Schicht 4 in einen
Einzeldomänenzustand zu bringen. Die in Verbindung mit der ersten
fixierten magnetischen Teilschicht 11 und der zweiten fixierten magneti
schen Teilschicht 12 nach Fig. 1 dargestellten Pfeile repräsentieren Be
träge und Richtungen von magnetischen Momenten der jeweiligen
Schichten. Die Beträge der magnetischen Momente bestimmen sich durch
einen Wert, den man erhält, indem man die Sättigungsmagnetisierung
(Ms) mit der Schichtdicke (t) multipliziert.
Die erste fixierte magnetische Teilschicht 11 und die zweite fixierte
magnetische Teilschicht 12 nach Fig. 2 bestehen aus demselben Material,
beispielsweise einem Co-Film bei einer Schichtdicke von tP2 der zweiten
Teilschicht 12, die größer ist als die Schichtdicke tP1 der ersten Teil
schicht 11, so daß die zweite Teilschicht 12 ein höheres magnetisches
Moment als die erste fixierte magnetische Teilschicht 11 besitzt.
Bei dieser Ausführungsform müssen die erste und die zweite magnetische
Teilschicht 11 und 12 verschiedene magnetische Momente besitzen.
Folglich kann die Schichtdicke tP1 der ersten Teilschicht 11 größer sein
als die Schichtdicke tP2 der zweiten Teilschicht 12.
Basierend auf dem oben gesagten beträgt vorzugsweise die Dicke der
ersten fixierten Teilschicht 11 l bis 7 nm, die Dicke der zweiten Teil
schicht 12 zwischen 1 und 7 nm, wobei die Differenz der Schichtdicke
etwa 0,2 nm oder mehr beträgt. Die Dicke der nicht magnetischen Zwi
schenschicht 10 reicht vorzugsweise von 0,5 bis 1 nm.
Wenn die Dicke der ersten fixierten magnetischen Teilschicht und der
zweiten Teilschicht 12 die oben angegebenen Bereiche übersteigt, erhö
hen sich die Nebenschlüsse von Leitungselektronen, die keinen Beitrag
zu dem Magnetowiderstandseffekt leisten, was die Widerstands
änderungsrate in unerwünschter Weise senkt. Wenn die Dicke weniger
beträgt als die Werte in jenen Bereichen, so ergibt sich ein zu hoher
Elementenwiderstand, und die Widerstandsänderungsrate sinkt beträcht
lich.
Noch einmal auf Fig. 2 bezugnehmend, wurde die erste fixierte magne
tische Teilschicht 11 in Y-Richtung weg von einem Aufzeichnungsträger
magnetisiert (in Richtung der Bauelementhöhe oder in Höhenrichtung).
Die zweite fixierte magnetische Teilschicht 12, die der ersten Teilschicht
11 über die nicht magnetische Zwischenschicht 10 gegenübersteht, wurde
antiparallel (in einem ferrimagnetischen Zustand) relativ zu der Magneti
sierungsrichtung der ersten fixierten magnetischen Teilschicht 11 magne
tisiert.
Die erste fixierte magnetische Teilschicht 11 steht in Berührung mit der
Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht 1, wobei ihre Magnetisierungsrich
tung in Richtung Y festgelegt wurde durch ein Austausch-Koppelmagnet
feld, das durch die Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht 1 ausgeübt wurde.
Darüber hinaus steigern ein von der ersten Teilschicht 11 erzeugtes
Austausch-Koppelmagnetfeld und ein von der zweiten Teilschicht 12
erzeugtes Austausch-Koppelmagnetfeld, deren gemeinsame Wirkung als
"RKKY-Interaktion" bekannt ist, die Koerzitivkraft der zweiten Teil
schicht 12 so, daß letztere ein stärkeres magnetisches Moment besitzt.
Auf diese Weise wird als Ergebnis der Magnetisierung oder der Wärme
behandlung in einem Magnetfeld die Orientierung der Magnetisierung
der zweiten fixierten magnetischen Teilschicht 12 in eine Richtung fi
xiert, die gegenüber der Richtung Y in Fig. 1 um 180° verschoben ist.
Wenn das Austausch-Koppelmagnetfeld stärker wird, können die Magne
tisierung der ersten Teilschicht 11 und die Magnetisierung der zweiten
Teilschicht 12 in einem weiterhin stabilen antiparallelen Ausrichtungs
zustand gehalten werden. Diese Ausführungsform verwendet α-Fe2O3,
welches eine hohe Sperrtemperatur besitzt, für die Koerzitivkraft-Ver
stärkungsschicht 1, so daß die magnetisierten Zustände der ersten Teil
schicht 11 und der zweiten Teilschicht 12 ebenfalls thermisch stabil
gehalten werden können. Die Erfinder haben in der japanischen unge
prüften Patentveröffentlichung 10-112562 offenbart, daß die Koerzitiv
kraft-Verstärkungsschicht einen erheblichen Wärmewiderstand besitzt,
wenn sie aus α-Fe2O3 besteht. Das α-Fe2O3-Material besitzt eine Neel-
Temperatur von 667°C und eine Sperrtemperatur von 320°C, was deut
lich macht, daß dieses Material eine weit höhere Wärmebeständigkeit
besitzt als andere antiferromagnetische Stoffe wie z. B. FeMn, welches
eine Sperrtemperatur von 150°C hat, oder NiO, welches eine Sperrtem
peratur von 230°C besitzt.
Üblicherweise wurde eine antiferromagnetische Schicht, die von der
unidirektionalen Anistropie eines antiferromagnetischen Materials Ge
brauch machte, zum Fixieren der Magnetisierung der fixierten Magnet
schicht 2 verwendet. Spezielle Beispiele beinhalten eine Fe-Mn-Legie
rungsschicht, eine Legierungsschicht aus Ni-Mn und eine Legierungs
schicht aus Fe-Pt-Mn.
Die Legierungen mit einer solchen unidirektionalen Anisotropie zeigen
eine MH-Kurve mit einer Hysterese, die in vertikaler Richtung langge
streckt ist, wie es in Fig. 6 gezeigt ist. Die unidirektionale Anisotropie,
repräsentiert dadurch, daß die Mitte der Hystereseschleife gegenüber
einer Position eines Magnetfelds Null auf der Abszisse verschoben ist,
dient zur Fixierung der Magnetisierung der fixierten Magnetschicht.
Im Gegensatz zu der obigen MH-Kurve besitzt eine MH-Schleife, die
durch ein Laminat gebildet wird, dessen Koerzitivkraft-Verstärkungs
schicht 1 und dessen fixierte magnetische Schicht von einer Differenz der
Koerzitivkraft Gebrauch machen, und die erfindungsgemäß eingesetzt
wird, eine quadratische, in seitlicher Richtung symmetrisch aufgespreizte
Form, wie sie in Fig. 7 gezeigt ist. Der unter Verwendung der unidirek
tionalen Anisotropie gemäß Fig. 6 erreichte Fixiermechanismus (Pinning)
ist dadurch gekennzeichnet, daß die Magnetisierung unverändert bleibt,
wenn nicht das Austausch-Koppelmagnetfeld (Hex) überschritten wird.
Bei einem Fixiermechanismus unter Verwendung einer starken Koerzitiv
kraft gemäß Fig. 7 bleibt die Magnetisierung solange konstant, wie das
Magnetfeld sich innerhalb des Bereichs der Koerzitivkraft befindet. In
beiden Fällen nach Fig. 6 und 7 läßt sich eine Aufwärtsmagnetisierung
(↑) beispielsweise gemäß den Pfeilen in den Fig. 6 und 7 erreicht. In
jedem Fall läßt sich eine Fixierkraft oder Haltkraft (pinning force) für
die fixierte magnetische Schicht erzielen.
Nunmehr auf die MH-Kurven in den Fig. 6 und 7 bezugnehmend, unter
stützen diese das Verständnis des Unterschieds zwischen dem konventio
nellen Magnetisierungsmechanismus unter Ausnutzung der unidirektiona
len Anisotropie eines antiferromagnetischen Materials zum Fixieren der
Magnetisierung der fixierten Magnetschicht einerseits und dem Magneti
sierungsmechanismus gemäß der Erfindung unter Einsatz der Koerzitiv
kraft-Verstärkungsschicht, andererseits.
Die vorliegende Ausführungsform macht also Gebrauch von einem
Schichtdickenverhältnis zwischen der ersten fixierten magnetischen Teil
schicht 11 und der zweiten fixierten magnetischen Teilschicht 12, wel
ches auf einen Wert innerhalb eines geeigneten Bereichs eingestellt wird,
ferner von der Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht 1, die aus einem anti
ferromagnetischen Oxidmaterial besteht, beispielsweise α-Fe2O3, damit
die Koerzitivkraft (Hcp) basierend auf dem Austausch-Koppelmagnetfeld
gesteigert wird. Diese Anordnung macht es möglich, die Magnetisierung
der ersten und der zweiten fixierten Teilschicht 11 und 12 in einer ther
misch stabilen antiparallelen Ausrichtung oder einem ferrimagnetischen
Zustand zu halten.
Die Stärke oder der Betrag der Koerzitivkraft (Hcp), die auf einem
Austausch-Koppelmagnetfeld beruht, wobei es sich um die Kraft handelt,
die die aus α-Fe2O3 bestehende Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht 1 dazu
benutzt, die Magnetisierung der fixierten Magnetschicht 2 zu fixieren,
die aus dem ersten Teilschicht 11 und der zweiten Teilschicht 12 besteht,
hängt ab von einem resultierenden Moment magnetischer Momente der
beiden fixierten magnetischen Schichten 11 und 12; dies deshalb, weil
die Orientierungen der Magnetisierungen der ersten Teilschicht 11 und
der zweiten Teilschicht 12 antiparallel sind.
Genauer gesagt: bekanntlich gibt es eine Beziehung in der Form Hcp =
EI(Ms × t), wobei E die Energie (eine Konstante), Ms eine Sättigungs
magnetisierung der gesamten fixierten Magnetschicht und t eine Dicke
der gesamten fixierten Magnetschicht ist. Ein Wert Ms × t der gesamten
fixierten Magnetschicht muß also verringert werden, wenn man den Wert
der Koerzitivkraft (Hcp) basierend auf der Austauschkopplung steigern
will.
Erneut auf die Struktur der in Fig. 1 gezeigten Ausführungsform bezug
nehmend, ist das magnetische Moment (Ms × tP2) der zweiten fixierten
magnetischen Teilschicht 12 größer als das magnetische Moment (Ms) ×
tP1 der ersten fixierten magnetischen Teilschicht 11. Deshalb erhält man
ein resultierendes magnetisches Moment in der Form (Ms × tP2) - (Ms ×
tP1). Die Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht 1 vollzieht eine Festlegung
entgegen dem resultierenden magnetischen Moment, so daß die Aus
tauschkopplung effizienter eingesetzt werden kann als dann, wenn die
fixierte magnetische Schicht als Einzelschicht ausgebildet ist. Möglich
wird also die Erzielung einer stärkeren Koerzitivkraft basierend auf der
Austauschkopplung. Folglich bietet der Aufbau der ersten Ausführungs
form nach den Fig. 1 und 2 den Vorteil, daß man eine viel stärkere
Fixierkraft erhalten kann als bei einer Struktur, in der die fixierte Ma
gnetschicht 2 eine Einzelschichtstruktur ist. Genauer gesagt: die fixierte
Magnetschicht 2 kann eine extrem hohe Koerzitivkraft Hcp liefern, und
zwar von 2000 bis 5000 Oe, wie im Zuge der Diskussion eines Aus
führungsbeispiels unten noch verdeutlicht wird.
Die Koerzitivkraft Hcp der fixierten Magnetschicht 2 bedeutet die durch
die fixierte Magnetschicht 2 zum Ausdruck gebrachte Koerzitivkraft,
welche durch die Austauschkopplung der Koerzitivkraft-Verstärkungs
schicht 1 erhöht wurde. Dies bedeutet, daß die Magnetisierung der fi
xierten magnetischen Schicht 2, die festgelegt wurde, sich nicht ändert,
wenn nicht ein äußeres Magnetfeld einwirkt, welches stärker ist als die
Koerzitivkraft. Daher ist ersichtlich, daß die Fixierkraft zum Fixieren
der Magnetisierung der fixierten magnetischen Schicht 2 keineswegs
beeinflußt wird durch einen Streu-Induktionsfluß aus einem magnetischen
Aufzeichnungsmedium oder durch ein magnetisches Feld, welches von
der harten Vormagnetisierungsschicht 7 erzeugt wird.
Wenn in dem in Fig. 1 und 2 gezeigten Aufbau ein magnetischer Streu
fluß von einem magnetischen Aufzeichnungsträger einwirkt und eine
Lesestrom durch das Element fließt, wird die Orientierung der Magneti
sierung der fixierten magnetischen Schicht 2 durch die Koerzitivkraft
fixiert, die von der magnetischen Austauschkopplung aufgrund des Vor
handensein der Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht 1 erhöht wurde, und
die Orientierung der Magnetisierung der freien Magnetschicht 4 ist in
einem der Spurbreite Tw entsprechenden Bereich frei. Im Ergebnis läßt
sich der Riesen-Magnetowiderstandseffekt erzielen. Genauer: wenn ein
äußeres Magnetfeld, so z. B. ein Streu-Magnetfeld von einem magneti
schen Aufzeichnungsträger, auf die freie magnetische Schicht 4 ausgeübt
wird, in welcher die Drehung der Magnetisierung frei ist, so dreht sich
die Orientierung der Magnetisierung der freien magnetischen Schicht 4
ungehindert, wohingegen die Richtungen der Magnetisierungen der ersten
fixierten magnetischen Teilschicht 11 und der zweiten fixierten magneti
schen Teilschicht 12 unverändert bleiben. Wenn sich daher die Magneti
sierung der freien magnetischen Schicht dreht, findet eine Widerstands
änderung in dem Spinventil-Magnetowiderstandselement GMR1 statt.
Durch Messen der Widerstandsänderung läßt sich magnetische Informa
tion von einem magnetischen Aufzeichnungsträger lesen.
Wenn sich der Widerstand ändert, wird eine Längs-Vormagnetisierung
durch die harte Vormagnetisierungsschicht 7 auf die freie Magnetschicht
4 ausgeübt, um die Schicht 4 in einen Einzeldomänenzustand auszurich
ten und dadurch die magnetische Domänenstruktur zu stabilisieren. Dies
ermöglicht glatte Übergänge im Widerstand frei von Barkhausen-Rau
schen.
Im folgenden wird ein Lesestrom-Magnetfilm in dem in Fig. 1 und 2
dargestellten Bauelementaufbau erläutert.
In dem in Fig. 1 und 2 gezeigten Magnetowiderstandselement ist die
zweite fixierte magnetische Teilschicht 12 unterhalb der nicht magneti
schen leitenden Schicht 3 ausgebildet. In diesem Fall wird eine Richtung
eines Lesestrom-Magnetfelds in eine Magnetisierungsrichtung der ersten
fixierten Teilschicht 11 oder der zweiten fixierten Teilschicht 12 einge
stellt, abhängig davon, welche Schicht das stärkere magnetische Moment
besitzt.
Erneut auf Fig. 1 bezugnehmend, ist das magnetische Moment der zwei
ten fixierten magnetischen Teilschicht 12 stärker als dasjenige der ersten
Teilschicht 11, und das magnetische Moment der zweiten fixierten ma
gnetischen Teilschicht 12 ist entgegen der Richtung Y, oder nach links in
der Zeichnung orientiert. Dementsprechend ist ein resultierendes magne
tisches Moment als Summe des magnetischen Moments der ersten Teil
schicht 11 und des magnetischen Moments der zweiten Teilschicht in
einer Richtung entgegen der Richtung Y orientiert, also in der Zeich
nungsfigur nach links.
Wie oben ausgeführt, ist die nicht magnetische leitende Schicht 3 über
der zweiten fixierten magnetischen Teilschicht 12 und der ersten fixierten
magnetischen Teilschicht 11 ausgebildet. Ein Lesestrom-Magnetfeld, das
durch einen Lesestrom 112 gebildet wird, welcher durch die nicht ma
gnetische leitende Schicht 3 fließt, läßt sich also steuern, indem man die
Richtung steuert, in der der Lesestrom 112 fließt, so daß das Lesestrom-
Magnetfeld in der Zeichnung in Schichten unterhalb der nicht magneti
schen leitenden Schicht 3 nach links orientiert ist. Hierdurch stimmt die
Richtung des resultierenden magnetischen Moments aus dem magneti
schen Moment der ersten Teilschicht 11 und demjenigen der zweiten
Teilschicht 12 überein mit der Richtung des Lesestrommagnetfelds.
Der Lesestrom 112 fließt in Richtung X1 der Zeichnung nach Fig. 1.
Nach der Rechte-Hand-Regel bildet sich das Lesestrom-Magnetfeld auf
grund des fließenden Lesestroms im Uhrzeigersinn auf der Zeichnungs
ebene aus, in Fig. 1 durch den Pfeil angedeutet. Folglich werden die
Schichten unterhalb der nicht magnetischen leitenden Schicht 3 einem
Lesestrom-Magnetfeld in der dargestellten Richtung ausgesetzt, nämlich
in der der Richtung Y entgegengesetzten Richtung. Das Lesestrom-Ma
gnetfeld wird in einer Richtung angelegt, in der es das resultierende
magnetische Moment der fixierten magnetischen Schicht 2 verstärkt,
demzufolge das Austausch-Koppelmagnetfeld oder die RKKY-Interaktion
zwischen der ersten fixierten magnetischen Teilschicht 11 und der zwei
ten fixierten mägnetischen Teilschicht 12 verstärkt wird. Dies ermög
licht, die thermische Stabilität der antiparallelen Ausrichtung der Magne
tisierung in der ersten Teilschicht 11 und der zweiten Teilschicht 12 zu
verbessern.
Es wurde herausgefunden, daß, wenn ein Lesestrom von 1 mA fließt, ein
Lesestrom-Magnetfeld von etwa 30 Oe erzeugt wird und die Temperatur
des Elements um etwa 10°C ansteigt. Außerdem erhöht sich die Anzahl
der Umdrehungen eines Aufzeichnungsträgers um etwa 10000 upm. Die
Zunahme der Drehzahl bewirkt eine Temperaturerhöhung des Geräts um
etwa 100°C. Wenn ein Lesestrom von etwa 10 mA fließt, so steigt die
Temperatur des Dünnschicht-Magnetelements leicht auf etwa 200°C an,
und außerdem steigt das Lesestrom-Magnetfeld ebenfalls auf 300 Oe an.
Wenn ein starker Lesestrom bei einer derart hohen Umgebungstempera
tur fließt und die Richtung des resultierenden magnetischen Moments,
erhalten durch Summieren des magnetischen Moments der ersten Teil
schicht 11 und des magnetischen Moments der zweiten Teilschicht 12,
entgegengesetzt ist der Richtung des Lesestrom-Magnetfelds, so lassen
sich die antiparallelen Ausrichtungen der Magnetisierung der ersten
Teilschicht 11 und der Magnetisierung der zweiten Teilschicht 12 leicht
stören.
Damit die antiparallele Ausrichtung auch bei hoher Umgebungstempera
tur Bestand hat, ist es notwendig, von einem Material für die Koerzitiv
kraft-Verstärkungsschicht 1 Gebrauch zu machen, welches eine hohe
Sperrtemperatur besitzt, zusätzlich zu der Steuerung der Richtung eines
Lesestrom-Magnetfelds. Aus diesem Grund verwendet die vorliegende
Ausführungsform α-Fe2O3, welches eine Sperrtemperatur von etwa
320°C besitzt.
Wenn das resultierende magnetische Moment aufgrund des magnetischen
Moments der ersten fixierten magnetischen Teilschicht 11 und desjenigen
der zweiten fixierten magnetischen Teilschicht 12 gemäß Fig. 1 nach
rechts orientiert ist, d. h. entgegen der in der Zeichnung angegebenen
Richtung (in Richtung Y der Zeichnung orientiert ist), so wird der Lese
strom in einer Richtung entgegen der Richtung X1 der Zeichnung ge
führt, so daß das Lesestrom-Magnetfeld relativ zur Zeichnungsebene im
Gegenuhrzeigersinn verläuft.
Wenn von einer Magnetkopfstruktur Gebrauch gemacht wird, wie sie in
Fig. 4 dargestellt ist, bei der eine Isolierschicht ein Magnetowiderstands
element GMR1 umgibt, so wird bevorzugt, wenn das Magnetowider
standselement GMR1 so dünn wie möglich ist. Üblicherweise wird der
Dünnschicht-Magnetkopf 150 so augelegt, daß die Isolierschicht eine
gewisse Dicke haben kann, um zufriedenstellende Isoliereigenschaften zu
garantieren. In dem Magnetowiderstandselement GMR1 lassen sich die
Isoliereigenschaften dadurch verbessern, daß man einen Isolator in Form
des α-Fe2O3 für die Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht 1 verwendet,
welche den Hauptanteil der Dicke des Magnetowiderstandselements
GMR1 ausmacht. Als Ergebnis der verbesserten Isoliereigenschaften
durch Ausbildung der Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht 1 durch das
isolierende α-Fe2O3 werden die Anforderungen bezüglich der Isolier
eigenschaften der das Magnetowiderstandselement GMR1 umgebenden
Isolierschicht gemildert. Indem man die Isolierschicht, z. B. eine Spalt
schicht, dünner macht, als es bislang üblich war, kann man eine höhere
Auflösung beim Lesevorgang durch den Dünnschicht-Magnetkopf erzie
len, so daß der Magnetkopf dem Wunsch einer höheren Spuraufzeich
nungsdichte entgegenkommt.
Fig. 8 ist eine schematische Schnittansicht des Aufbaus eines Spinventil-
Magnetowiderstandselements nach einer zweiten Ausführungsform der
Erfindung. Fig. 9 ist eine Schnittansicht, die schematisch einen Aufbau
des Magnetowiderstandselements nach Fig. 8 wiedergibt, betrachtet von
einer Fläche, die dem magnetischen Aufzeichnungsträger gegenüberliegt.
Wie im Fall des Magnetowiderstandselements nach den Fig. 1 und 2 ist
auch das Spinventil-Magnetowiderstandselement GMR2 nach dieser
Ausführungsform an dem nachlaufenden Endbereich eines Gleitstücks in
einem Festplattenlaufwerk vorgesehen, um ein Aufzeichnungsmagnetfeld
einer Festplatte oder dergleichen zu erfassen. Ein magnetischer Aufzeich
nungsträger, z. B. eine Festplatte bewegt sich in der Zeichnungsebenen-
Richtung Z, wobei die Richtung eines aus dem magnetischen Aufzeich
nungsträger streuenden Magnetfelds mit Y bezeichnet ist. In dem Magne
towiderstandselement GMR2 der zweiten Ausführungsform ist eine freie
magnetische Schicht sowie eine fixierte magnetische Schicht in zwei
Teilschicht aufgetrennt, nämlich eine erste freie magnetische Schicht und
eine zweite freie magnetische Schicht, wobei sich dazwischen eine nicht
magnetische Zwischenschicht befindet.
Bei dem in den Fig. 8 und 9 gezeigten Aufbau sind gleiche und
ähnliche Elemente wie bei dem Aufbau der ersten Ausführungsform nach
den Fig. 1 und 2 mit entsprechenden Bezugszeichen versehen, eine
Wiederholung der detaillierten Beschreibung dieser Teile entfällt.
Der Aufbau der zweiten Ausführungsform ist der gleiche wie der der
ersten Ausführungsform insofern, als eine erste fixierte magnetische
Teilschicht 11, eine nicht magnetische Zwischenschicht 10, eine zweite
fixierte magnetische Teilschicht 12 und eine nicht magnetische leitende
Schicht 3 in dieser Reihenfolge auf einer Koerzitivkraft-Verstärkungs
schicht 1 niedergeschlagen sind. Allerdings sind bei dieser zweiten Aus
führungsform eine erste freie magnetische Schicht 20, eine nicht magne
tische Zwischenschicht 21, eine zweite freie magnetische Schicht 22 und
eine Schutzschicht 5 auf der nicht magnetischen leitenden Schicht 3
niedergeschlagen, um ein Laminat 9 zu bilden. Die für diese Schichten
verwendeten Materialien können die gleichen wie bei der ersten Aus
führungsform sein.
Die erste fixierte magnetische Teilschicht 11 und die zweite fixierte
magnetische Teilschicht 12 werden gebildet aus einem Co-Film, einer
NiFe-Legierung, einer CoFe-Legierung, einer CoNiFe-Legierung oder
dergleichen. Vorzugsweise ist die nicht magnetische Zwischenschicht 10
aus einer Legierung oder einem Element oder aus zwei oder mehr Ele
menten folgender Gruppe gebildet: Ru, Rh, Ir, Cr, Re und Cu. Die nicht
magnetische leitende Schicht 3 besteht aus Cu, Cr oder dergleichen.
Bei dieser Ausführungsform ist die nicht magnetische Zwischenschicht
21 zwischen der ersten freien magnetischen Schicht 20 und der zweiten
freien magnetischen Schicht 22 vorzugsweise aus einer Legierung aus
einem oder zwei oder mehr der folgenden Elemente gebildet: Ru, Rh, Ir,
Cr, Re und Cu.
Die Magnetisierung der ersten fixierten magnetischen Teilschicht 11 und
die Magnetisierung der zweiten fixierten magnetischen Teilschicht 12
entspricht einem ferrimagnetischen Zustand, also antiparallel. Beispiels
weise ist die Magnetisierung der ersten Teilschicht 11 in Richtung Y
magnetisiert, während die zweite Teilschicht 12 entgegen der Richtung Y
magnetisiert ist. Um die Stabilität des ferrimagnetischen Zustands zu
erhalten, ist ein starkes Austausch-Koppelmagnetfeld erforderlich. Bei
dieser Ausführungsform sind verschiedene, unten erläuterte Maßnahmen
getroffen, um ein solches stärkeres Austausch-Koppelmagnetfeld zu
erreichen.
Die erste freie Magnetschicht 20 ist auf der in den Fig. 8 und 9
gezeigten nicht magnetischen leitenden Schicht 3 gebildet. Wie in Fig. 8
und 9 gezeigt, besteht die erste frei magnetische Schicht 20 aus zwei
Schichten, nämlich einer ersten freien Schicht 27 aus Co in Berührung
mit der nicht magnetischen Schicht 3, wobei die erste freie Schicht 27
aus Co in Berührung mit der nicht magnetischen leitenden Schicht 2
ermöglicht, den Wert für ΔMR zu steigern, und wobei außerdem eine
Diffusion der Elemente an der Grenze bezüglich der nicht magnetischen
leitenden Schicht 3 unterbunden wird.
Eine zweite freie Schicht 28 aus einer NiFe-Legierung oder dergleichen
ist auf der ersten freien Schicht 27 gebildet. Außerdem ist eine nicht
magnetische Zwischenschicht 21 auf der zweiten freien Schicht 22 gebil
det, wobei die zweite freie Schicht 22 auf der nicht magnetischen Zwi
schenschicht 21 gebildet ist, und die Schutzschicht 50 auf der zweiten
freien Schicht 22 beindet.
Die zweite freie magnetische Schicht 22 besteht aus einem Co-Film, oder
einem Film aus einer NiFe-Legierung, einer CoFe-Legierung, einer
CoNiFe-Legierung oder dergleichen.
Das Laminat 9 aus den Schichten von der Koerzitivkraft-Verstärkungs
schicht 1 bis hin zu der Schutzschicht 5 ist an seinen seitlichen Flächen
zur Bildung von Schrägflächen angeschnitten, so daß das Laminat 9 die
Form eines gleichschenkligen Trapezes hat. Wie in der Struktur der
ersten Ausführungsform sind auf den beiden Seiten des Laminats 9 eine
hartmagnetische Vormagnetisierungsschicht 9 und eine Stromleitschicht 8
niedergeschlagen. Die harte Vormagnetisierungsschicht 7 ist in Richtung
X1 magnetisiert, so daß das Längs-Vormagnetisierungsfeld in Richtung
X1 an die freie Magnetschicht 20 gelangt und die Magnetisierung der
freien Magnetschicht 20 der Richtung X1 entspricht.
Die nicht magnetische Zwischenschicht 21 zwischen der ersten freien
magnetischen Schicht 20 und der zweiten freien magnetischen Schicht 22
ist in Fig. 8 und 9 ebenfalls dargestellt. Ein Austausch-Koppelmagnet
feld, welches zwischen der ersten und der zweiten freien magnetischen
Schicht 20 und 22 gebildet wird (die RKKY-Interaktion), veranlaßt, daß
die Magnetisierung der ersten und der zweiten freien magnetischen
Schicht 20 und 22 zueinander antiparallel sind, was einem ferrimagneti
schen Zustand entspricht.
Bei dem in Fig. 8 und 9 dargestellten Dünnschicht-Magnetelement wird
beispielsweise die Schichtdicke tF1 der ersten freien magnetischen
Schicht 20 kleiner eingestellt als die Schichtdicke tF2 der zweiten freien
magnetischen Schicht 22.
Außerdem wird der Wert Ms × tF1 der ersten freien magnetischen
Schicht 20 kleiner eingestellt als Ms × tF2 der zweiten freien magneti
schen Schicht 22. Wenn von der harten Vormagnetisierungsschicht 7 in
Richtung X1 ein Vormagnetisierungsfeld angelegt wird, so ist die Ma
gnetisierung der zweiten freien Magnetschicht 22 mit dem großen Wert
von Ms × tF2 unter den Einflüssen des Vormagnetisierungsfeldes in
Richtung X1 orientiert, während die Magnetisierung der ersten freien
magnetischen Schicht 20 mit dem kleinen Wert von Ms × tF1 antiparallel
zu der Richtung X1 orientiert ist, bedingt durch das magnetische Feld
der Austauschkopplung (die RKKY-Wechselwirkung) mit der zweiten
freien magnetischen Schicht 22.
Wenn ein äußeres Magnetfeld von der Richtung Y in den Fig. 8 und 9
einwirkt, drehen sich die Magnetisierungen der ersten freien magneti
schen Schicht 20 und der zweiten freien magnetischen Schicht 22 unter
Einflüssen des äußeren Magnetfelds unter Beibehaltung des ferrimagneti
schen Zustands. Der elektrische Widerstand ändert sich nach Maßgabe
einer Beziehung zwischen einer veränderlichen Magnetisierung der ersten
freien magnetischen Schicht 20, die einen Beitrag ΔMR leistet, und einer
fixen Magnetisierung (d. h. einer Magnetisierung entgegen der Richtung
Y in der Zeichnung) der zweiten fixierten magnetischen Teilschicht 12,
wobei das äußere Magnetfeld erfaßt wird als Änderung des elektrischen
Widerstands.
Zu dieser Zeit wird ein Längs-Vormagnetisierungsfeld an die freien
magnetischen Schichten 20 und 22 gelegt, und zwar durch die Magneti
sierung der Vormagnetisierungsschicht 7, so daß glatte Widerstandsände
rungen möglich sind, frei von Barkhausen-Rauschen.
Im folgenden wird ein Lesestrom-Magnetfeld für das in den Fig. 8
und 9 dargestellte Element erläutert.
Bei dem Magnetowiderstandselement nach den Fig. 8 und 9 ist die
zweite fixierte magnetische Teilschicht 12 unterhalb der nicht magneti
schen leitenden Schicht 13 gebildet, wie es auch bei der ersten Ausfüh
rungsform der Fall war. In diesem Fall wird eine Richtung eines Lese
strom-Magnetfelds eingestellt auf eine Magnetisierungsrichtung der er
sten fixierten magnetischen Teilschicht 11 oder der zweiten fixierten
magnetischen Teilschicht 12, und zwar derjenigen Schicht, die das grö
ßere magnetische Moment aufweist.
Bezugnehmend auf Fig. 9 ist das magnetische Moment der zweiten fi
xierten magnetischen Teilschicht 12 größer als das magnetische Moment
der ersten Teilschicht 11, und das magnetische Moment der zweiten
fixierten magnetischen Teilschicht 12 ist entgegen der Richtung Y, d. h.
in der Figur nach links orientiert. Folglich ist ein resultierendes magneti
sches Moment als Summe des magnetischen Moments der ersten Teil
schicht 11 und des magnetischen Moments der zweiten Teilschicht 12 in
einer Richtung entgegen der Richtung Y, also nach links in der Figur,
orientiert.
Wie oben ausgeführt, ist die nicht magnetische leitende Schicht 3 über
der zweiten Teilschicht 12 und der ersten Teilschicht 11 gebildet. Fol
glich läßt sich ein Lesestrom-Magnetfeld, der durch einen durch die nicht
magnetisch leitende Schicht 3 fließenden Lesestrom 112 erzeugt wird,
dadurch steuern, daß man die Richtung des Lesestroms 12 derart ein
stellt, daß das Lesestrom-Magnetfeld nach links in der Zeichnung in
solchen Schichten orientiert ist, die von der nicht magnetischen leitenden
Schicht 3 nach unten anschließen. Durch diese Maßnahme wird erreicht,
daß die Richtung des resultierenden magnetischen Moments aus dem
magnetischen Moment der ersten fixierten magnetischen Teilschicht 11
und der zweiten fixierten magnetischen Teilschicht 12 übereinstimmen
mit der Richtung des Lesestrom-Magnetfelds. Auf diese Weise ist auch
die Ausführungsform nach den Fig. 8 und 9 in der Lage, für eine höhere
thermische Stabilität der antiparallelen Ausrichtung der Magnetisierung
der ersten und der zweiten Teilschicht 11 und 12 zu sorgen, genauso wie
bei der ersten Ausführungsform.
Wenn das resultierende magnetische Moment, welches durch das magne
tische Moment der ersten fixierten Teilschicht 11 und dasjenige der
zweiten fixierten Teilschicht 12 nach Fig. 8 entsteht, nach rechts orien
tiert ist, also entgegen der Richtung Y in der Zeichnung, so wird der
Lesestrom in einer Richtung geführt, der der Richtung X1 entgegenge
setzt ist, demzufolge das Lesestrom-Magnetfeld im Gegenuhrzeigersinn
auf der Zeichnungsebene verläuft.
Der in den Fig. 8 und 9 dargestellte Aufbau ist äquivalent dem Auf
bau der ersten Ausführungsform, was den Pinning-Effekt, also das Fixie
ren durch die Schaffung der Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht 1 angeht.
Folglich ist auch die zweite Ausführungsform im Stande, einen thermisch
stabilen Fixier- oder Pinning-Effekt zu erzielen, so wie in dem Fall der
ersten Ausführungsform.
Fig. 10 ist eine Schnittansicht eines Beispiels eines Spinventil-Magneto
widerstandselement an einem Dünnschicht-Magnetkopf einer dritten
Ausführungsform der Erfindung.
Fig. 10 zeigt einen Aufbau, der z. B. in dem in den Fig. 3 bis 5
gezeigten gleitenden Dünnschicht-Magnetkopf eingesetzt wird. Der
Dünnschicht-Magnetkopf nach diesem Beispiel ist in einem Festplatten
laufwerk oder dergleichen angeordnet.
In dem in Fig. 10 gezeigten Magnetowiderstandselement GMR3 sind auf
einer Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht 31 eine fixierte magnetische
Schicht 32, eine nicht magnetische leitende Schicht 33 und eine freie
magnetische Schicht 34 in dieser Reihenfolge niedergeschlagen. Antifer
romagnetische Schichten 35 sind auf den beiden Rändern der freien
magnetischen Schicht 34 niedergeschlagen, wobei zwischen ihnen ein
Interval verbleibt, welches einer Spurbreite Tw entspricht. Stromleit
schichten 36 sind auf den antiferromagnetischen Schichten 35 nieder
geschlagen, und auf den Stromleitschichten 36 und der freien magneti
schen Schicht 34 ist eine obere Isolierschicht 37 niedergeschlagen. Bei
dem Aufbau dieser Ausführungsform bilden die Koerzitivkraft-Verstär
kungsschicht 31, die fixierte magnetische Schicht 32, die nicht magne
tische leitende Schicht 33, die freie magnetische Schicht 34, die antifer
romagnetische Schichten 35 und die Stromleitschichten 36 das Spinventil-
Magnetowiderstandselement GMR3.
In dem Aufbau der dritten Ausführungsform wird die fixierte magne
tische Schicht 32 gebildet aus einer ersten fixierten magnetischen Teil
schicht 40, einer nicht magnetischen Zwischenschicht 41 und einer zwei
ten fixierten magnetischen Teilschicht 42, die in dieser Reihenfolge auf
der Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht 31 ausgebildet sind. Die Schich
ten können die gleichen Materialien aufweisen wie bei dem obigen Aus
führungsformen.
Vorzugsweise bestehen die antiferromagnetischen Schichten 35 aus bei
spielsweise einer X-Mn-Legierung mit ungeordneter Struktur. In einer
Zusammensetzungsformel besteht X vorzugsweise aus ein oder mehreren
der Elemente Ru, Rh, Ir, Pd und Pt.
Die Mn-Legierung besitzt eine ungeordnete Kristallstruktur. Die unge
ordnete Kristallstruktur bedeutet eine Kristallstruktur, die nicht als flä
chenzentrierte tetragonale Struktur geordnet ist (flächenzentriertes Gitter;
CuAuI-Struktur oder dergleichen). Genauer gesagt; die X-Mn-Legierung
dieser Ausführungsform wird keiner bei hoher Temperatur erfolgenden
längeren Erhitzung ausgesetzt, um eine geordnete Kristallstruktur zu
erhalten (die CuAuI-Struktur oder dergleichen), z. B. die flächenzen
trierte tetragonale Struktur, nachdem eine Schicht durch einen Nieder
schlagungsprozeß gebildet wurde, beispielsweise Sputter-Niederschla
gung. Die ungeordnete Kristallstruktur wird unmittelbar nach dem Auf
sputtern erhalten, oder nachdem ein weiterer Niederschlagungsprozeß
abgeschlossen oder ein typischer Wärmebehandlungsprozeß, der nicht
dazu dienen soll, eine geordnete Kristallstruktur zu bilden, dem Nieder
schlagungsprozeß angefügt würde.
Wenn X in der X-Mn-Legierung ein einzelnes Metallatom ist, so lautet
die bevorzugten Bereiche für die Anteile X: 10-45 Atom-% Ru, 10-40
Atom-% Rh, 10-40 Atom-% Ir, 10-25 Atom-% Pd und 10-25
Atom-% Pt. In der obigen Beschreibung bedeutet 10-45 Atom-% "10
Atom-% oder mehr" und "45 Atom-% oder weniger", wobei obere und
untere Grenzen der Wertebereiche, welche durch "- Zeichen" verbunden
sind, stets definiert sind im Sinne von "oder mehr" und "oder weniger",
falls nichts anderes angegeben ist.
Wenn die antiferromagnetische Schicht 35 sich aus der X-Mn-Legierung
mit der ungeordneten Kristallstruktur zusammensetzt, so kann die Ma
gnetisierung in einer Pfeilrichtung a in Fig. 10 dadurch orientiert wer
den, daß der freien Magnetschicht 34 eine unidirektionale Anisotropie
aufgeprägt wird, um eine Längs-Vormagnetisierung anzulegen. Auf diese
Weise können die Magnetisierungsrichtungen der beiden Endbereiche der
freien magnetischen Schicht 34, die mit den antiferromagnetischen
Schichten 35 in Kontakt stehen, in die Richtungen eingestellt werden, die
mit den Pfeilen a bezeichnet sind. Darüber hinaus kann auch die Magne
tisierung eines Bereichs der freien magnetischen Schicht 34, der sich
zwischen den antiferromagnetischen Schichten 34 und 35 befindet (ein
mittlerer magnetisch empfindlicher Bereich der freien magnetischen
Schicht 34, welcher einer Spurbreite Tw entspricht) in die durch die
Pfeile a angebenen Richtungen mittels magnetischer Induktion orientiert
werden.
Die Verwendung der X-Mn-Typ-Legierung für die antiferromagnetischen
Schichten 35 sorgt für eine höhere Korrosionsbeständigkeit als konventio
nelle antiferromagnetische Schichten aus Fe-Mn. Die Verwendung der
antiferromagnetischen Schichten 35 verbessert also die Beständigkeit
gegen Umgebungseinflüsse, minimiert das Auftreten von Rauschen beim
Detektieren eines Streu-Induktionsflusses von einem magnetischen Medi
um, und ermöglicht eine hochgenaue magnetische Detektion. Die Ver
wendung der X-Mn-Legierung für die antiferromagnetischen Schichten
35 macht die Hochtemperatur- und Langzeitwärmebehandlung überflüssig
und minimiert damit die Möglichkeit des Auftretens von Elementen-
Diffusion unter den magnetischen Schichten aufgrund der Aufheizung
und unterbindet Änderungen oder Beeinträchtigungen der magnetischen
Kennwerte oder eine Beschädigung einer Isolierschicht.
Im folgenden wird eine ergänzende Beschreibung der Struktur angeboten,
die die X-Mn-Legierung oder eine Pt-Mn-X-Legierung mit der flächen
zentriert geordneten Kristallstruktur der CuAuI-Struktur verwendet,
welche, eine Wärme- oder Glühbehandlung erfordert, um als antiferroma
gnetische Schichten 35 fungieren zu können.
Eine Pt-Mn-Legierung mit der geordneten Struktur bietet eine bessere
Korrosionsbeständigkeit als eine NiMn-Legierung, eine FeMn-Legierung
oder dergleichen, die üblicherweise für die antiferromagnetischen Schich
ten eingesetzt wird. Darüber hinaus, besitzt die Pt-Mn-Legierung eine
hohe Sperrtemperatur und ein größeres Austausch-Koppelmagnetfeld.
Die antiferromagnetischen Schichten 35 können aus einer Legierung
gebildet werden, die dargestellt wird durch eine Formel X-Mn (X be
zeichnet ein Element aus der Gruppe Pd, Ru, Ir, Rh und Os) oder einer
Legierung, die durch die Formal X'-Pt-Mn repräsentiert wird (X' bzeich
net ein, zwei oder mehr Elemente aus der Gruppe Pd, Ru, Ir, Rh, Os,
Au, Ag, Ne, Ar, Xe und Kr) anstelle der Pt-Mn-Legierung.
In den durch Pt-Mn und X-Mn repräsentierten Legierungen ist es wün
schenswert, daß Pt oder X im Bereich von 37-63 Atom-%, vorzugs
weise in einem Bereich von 47-57 Atom-% liegt. Darüber hinaus liegt
in der Legierung entsprechend der Formel X'-Pt-Mn der Anteil X'-Pt im
Bereich von 37 bis 63 Atom-%, vorzugsweise in einem Bereicht von 47 -
57 Atom-%. Für die durch X'-Pt-Mn repräsentierte Legierung liegt,
wenn X' durch Au, Ag, Ne, Ar, Xe oder Kr gebildet wird, der Anteil
von X' vorzugsweise in einem Bereich von 0,2 bis 10 Atom-%; falls X'
Pd, Ru, Ir, Rh oder Os ist, so liegt X' vorzugsweise in einem Bereich
von 0,2 bis 40 Atom-%.
Der Einsatz und das Glühen der Legierungen mit den richtigen, oben
angegebenen Zusammensetzungen für die antiferromagnetischen Schich
ten 35 machen es möglich, daß diese Schichten eine geordnete Kristall
struktur besitzen, die ein starkes Austausch-Koppelmagnetfeld erzeugen.
Die Verwendung der PtMn-Legierung mit der geordneten Kristallstruktur
ermöglicht insbesondere, daß die antiferromagnetischen Schichten 35 ein
Austausch-Koppelmagnetfeld liefern, welches den Wert von 800 Oe
sowie eine extrem hohe Sperrtemperatur von 380°C übersteigt, wobei
bei letzterer Temperatur das Austausch-Koppelmagnetfeld verloren geht.
Für die Längs-Vormagnetisierung der freien magnetischen Schicht reicht
ein Austauschkoppelmagnetfeld von 100 bis 200 Oe aus, was bedeutet,
daß die Legierungen mit geordneten Strukturen der vorstehend genannten
Zusammensetzungen die Möglichkeit bieten, ausreichend starke Aus
tausch-Koppelmagnetfelder zu erreichen.
Bei der in Fig. 10 dargestellten Struktur wird dem Spinventil-Magneto
widerstandselement GMR 3 aus den Stromleitschichten 36 ein Ruhestrom
zugespeist.
In der in Fig. 10 dargestellten Struktur verursacht das Vorhandensein der
Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht 31, daß die fixierte magnetische
Schicht 32 einer magnetischen Austauschkopplung unterzogen wird, der
zufolge ihre Koerzitivkraft erhöht wird, die Orientierung ihrer Magneti
sierung festgelegt wird, und die Orientierung der Magnetisierung der
freien magnetischen Schicht 34 in dem der Spurbreite Tw entsprechenden
Bereich freigestellt wird. Im Ergebnis wird eine Differenz der Koerzitiv
kraft zwischen der fixierten magnetischen Schicht 32 und der freien
magnetischen Schicht 34 geschaffen, was einen Riesen-Magnetoresistenz
effekt darstellt. Genauer gesagt, wenn ein äußeres Magnetfeld, beispiels
weise ein Streu-Induktionsfluß seitens eines magnetischen Aufzeichnungs
mediums, auf den mittleren Bereich ausgeübt wird, welcher der Spur
breite Tw der freien magnetischen Schicht 34 entspricht, in der die Ma
gnetisierung frei drehbar ist, so dreht sich die Orientierung der Magneti
sierung der freien magnetischen Schicht 34 ungehindert und bewirkt eine
Änderung des Widerstands innerhalb des Magnetowiderstandselements
GMR3. Durch Messen der Widerstandsänderung kann magnetische Infor
mation von dem magnetischen Aufzeichnungsmedium gelesen werden.
Wenn die Änderung des Widerstands stattfinden, befindet sich die freie
magnetische Schicht 34 in einem Zustand, in welchem die Schicht 34 in
einem Einzeldomänenzustand ausgerichtet und einer Längs-Vormagneti
sierung unterzogen ist. Folglich lassen sich Widerstandsänderungen mit
gutem linearen Ansprechverhalten ohne Barkhausen-Rauschen erzielen.
Auch bei der dritten Ausführungsform wird eine Filmdicke tP2 der zwei
ten fixierten magnetischen Teilschicht 42 größer eingestellt als eine
Filmdicke tP1 der ersten fixierten magnetischen Teilschicht 40, wie es
auch der Fall bei der ersten und der zweiten, oben beschriebenen Aus
führungsform ist. Deshalb besitzt die zweite fixierte magnetische Teil
schicht 42 eine stärkeres magnetisches Moment als die erste Teilschicht
40.
Folglich ist gemäß Fig. 10 aufgrund des Aufbaus dieser Ausführungs
form das magnetische Moment (Ms × tP2) der zweiten fixierten magneti
schen Teilschicht 43 größer als das magnetische Moment (Ms × tP1) der
ersten fixierten magnetischen Teilschicht 40. Daher beträgt das resultie
rende magnetische Moment (Ms × tP2) - (Ms × tP1). Die Koerzitivkraft-
Verstärkungsschicht 31 vollzieht eine Festlegung (Pinning) gegenüber
dem resultierenden magnetischen Moment, so daß die Austauschkopplung
wirksamer vorgenommen werden kann als dann, wenn die fixierte ma
gnetische Schicht eine Einzelschichtstruktur aufweist. Man kann also ein
stärkeres Austausch-Koppelmagnetfeld erreichen.
Die Struktur der dritten Ausführungsform schafft also einen so guten
Fixier- oder Pinning-Effekt, wie er bei der ersten Ausführungsform er
reicht wird. Insbesondere hat die Struktur der dritten Ausführungsform
insofern einen Vorteil, als eine viel größere Fixierkraft, die zudem ther
misch stabil ist, als bei einer Struktur erhalten werden kann, bei der die
fixierte magnetische Schicht eine Einzelschichtstruktur ist.
Fig. 11 zeigt eine vierte Ausführungsform des erfindungsgemäßen Spin
ventil-Magnetowiderstandselements. Das Magnetowiderstandselement
GMR4 dieser Ausführungsform besitzt ein Laminat 6 mit der gleichen
Struktur wie das Laminat 6 der ersten Ausführungsform. Aus einem
antiferromagnetischen Material gebildete antiferromagnetische Schichten
46 befinden sich beidseitig des Laminats 6, und auf den betreffenden
antiferromagnetischen Schichten 46 sind ferromagnetis 39430 00070 552 001000280000000200012000285913931900040 0002010003471 00004 39311che Schichten 47
aus ferromagnetischem Material und Stromleitschichten 48 aus nicht
magnetischem, leitenden Material niedergeschlagen.
Die antiferromagnetischen Schichten 46 der vierten Ausführungsform
sind derart ausgebildet, daß sie Seitenbereiche des Laminats 6 an den
Endabschnitten 46a abdecken, allerdings die Seitenabschnitte der freien
magnetischen Schicht 4 nicht oder nur zu halben Dicke abdecken. Die
ferromagnetischen Schichten 47 auf den antiferromagnetischen Schichten
46 decken mehr als die Hälfte der Dicke der Seitenabschnitte der freien
magnetischen Schicht 4 an den Endabschnitten 47a ab. Eine Relation
zwischen den Dicken der Schichten ist nicht auf die aus der Zeichnung
entnehmbare Relation beschränkt.
Alternativ kann die vertikale Lagebeziehung zwischen den antiferroma
gnetischen Schichten 46 und den ferromagnetischen Schichten 47 umge
kehrt werden, oder man kann mehrere Laminate stapeln, jeweils die
antiferromagnetische Schichten 46 und die ferromagnetischen Schichten
47 umfassen.
Bei der obigen Struktur sind vorzugsweise eine Koerzitivkraft-Verstär
kungsschicht 1, eine fixierte magnetische Schicht 2, eine nicht magne
tische Zwischenschicht 3 und eine freie magnetische Schicht 4 die glei
chen Schichten, wie sie bei der ersten Ausführungsform verwendet wer
den. Vorzugsweise bestehen die antiferromagnetischen Schichten 46 aus
demselben Material wie die antiferromagnetischen Schichten 35 der
dritten Ausführungsform, und die ferromagnetischen Schichten 47 beste
hen aus laminierten Filmen mit einem ferromagnetischen Film aus amor
phem CoNbZr, CoFeß, CoFeZr oder dergleichen, und einem aus einer
NiFe-Legierung oder dergleichen bestehenden Kristallfilm.
In der in Fig. 11 gezeigten Struktur wird die Richtung der Magnetisie
rung der ferromagnetischen Schichten 47 in Richtung X1 mit Hilfe unidi
rektionaler Anisotropie der antiferromagnetischen Schichten 46 fixiert,
die Richtung der Magnetisierung der freien magnetischen Schicht 4 wird
in Richtung X1 geleitet, um die Magnetisierungsrichtung der ferromagne
tischen Schichten 47 so einzustellen, daß das Anlegen einer Längs-Vor
magnetisierung möglich ist, um die freie magnetische Schicht 4 in einen
Einzeldomänenzustand auszurichten. Darüber hinaus läßt sich die Rich
tung der Magnetisierung der fixierten magnetischen Schicht 2 in einer
Richtung rechtwinklig zur Zeichnungsebene der Fig. 10 mit Hilfe der
Koerzitivkraft-Verstärkungschicht 1 fixieren.
Auf diese Weise läßt sich die freie magnetische Schicht 4 in einen Ein
zeldomänenzustand ausrichten, und die Magnetisierungsrichtung der
freien magnetischen Schicht 4 läßt sich Rechtwinklig-Machen bezüglich
einer Magnetisierungsrichtung der fixierten magnetischen Schicht 2.
Die Bildung der ferromagnetischen Schichten 47 durch ein amorphes
ferromagnetisches Material bietet den Vorteil, daß Änderungen und
Neben-Lesevorgänge (das Aufnehmen von magnetischen Feldern eines
magnetischen Mediums an Stellen außerhalb des Spurbereichs) minimiert
werden und die unidirektionale Anisotropie mit weniger Dispersion
eingeführt werden kann, weil die amorphe ferromagnetische Schicht
einen schwächeren MR-Effekt aufweist.
Wie im Fall des Aufbaus der ersten bis dritten Ausführungsform, die
oben erläutert wurden, ermöglicht der Aufbau der vierten Ausführungs
form, daß die freie magnetische Schicht 4 in einen Einzeldomänenzu
stand ausgerichtet und die Längs-Vormagnetisierung angewendet wird.
Folglich lassen sich Widerstandsänderungen mit gutem linearen An
sprechverhalten ohne Barkhausen-Rauschen erzielen. Weiterhin schafft
der in Fig. 11 gezeigte Aufbau den gleichen Pinning-Effekt, den man
durch die Schaffung der Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht 1 erzielt,
ebenso wie bei der oben erläuterten ersten Ausführungsform. Dies be
deutet, daß der Aufbau der vierten Ausführungsform im Stande ist, den
gleichen Vorteil zu liefern, nämlich ein thermisch stabilen hervorragen
den Pinning-Effekt, wie er bei der ersten Ausführungsform erzielt wird.
Fig. 18 zeigt den Aufbau einer fünften Ausführungsform des erfindungs
gemäßen Spinventil-Magnetowiderstandselements. Bei dem Aufbau der
fünften Ausführungsform sind auf einer Koerzitivkraft-Verstärkungs
schicht 1 eine erste fixierte magnetischen Teilschicht 11, eine nicht
magnetische Zwischenschicht 10 und eine zweite fixierte magnetische
Teilschicht niedergeschlagen. Die erste Teilschicht 11, die nicht magne
tische Zwischenschicht 10 und die zweite Teilschicht 12 bilden die fi
xierte magnetische Schicht. Eine freie magnetische Schicht 16, bestehend
aus einer ersten freien magnetischen Schicht 17 und einer zweiten freien
magnetischen Schicht 18, ist über eine nicht magnetische leitende Schicht
15 auf die obigen Schichten niedergeschlagen. Außerdem sind auf der
zweiten freien magnetischen Schicht 18 mit einem Abstand, der der
Spurbreite Tw entspricht, ferromagnetische Schichten 19, antiferroma
gnetische Schichten 130 und Stromleitschichten 131 niedergeschlagen.
Auf diese Weise wird das Spinventil-Magnetowiderstandselement GMR5
gebildet.
Der in Fig. 18 gezeigte Aufbau zeigt den gleichen Effekt wie der Aufbau
der dritten Ausführungsform, der oben in Verbindung mit Fig. 10 erläu
tert wurde.
Im folgenden wird ein Fertigungsverfahren für das Spinventil-Magneto
widerstandselement mit dem Aufbau der ersten Ausführungsform nach
Fig. 2 erläutert.
Ein Substrat aus Al2O3-TiC (AlTic) wird in die Kammer einer Hoch
frequenz-Magnetron-Sputterapparatur oder in eine Ionenstrahl-Sputter
apparatur eingebracht, die Kammer wird mit einer in Inertgas-Atmo
sphäre unter Einsatz von Ar-Gas oder dergleichen gebracht, die benötig
ten Schichten werden nacheinander niedergeschlagen, und es wird mittels
Photolithographie und Ionen-Abtrag dafür gesorgt, daß solche Teile
entfernt werden, die nicht zu einer Zone gehören, die einer Spurbreite
entspricht, um hierdurch das Laminat zu erzeugen, dessen Querschnitts
form einem gleichschenkligen Trapez entspricht. Die hartmagnetischen
Schichten und die Stromleitschichten werden auf beide Seiten des Lami
nats in der Richtung der Spurbreite niedergeschlagen, anschließend wird
in einem Magnetfeld geglüht, wie es weiter unten erläutert wird. Targets
für den Niederschlag-Vorgang der Schichten enthalten ein α-Fe2O3-Tar
get, ein Co-Target, ein Ni-Fe-Legierungs-Target und ein Cu-Target.
Zum Fertigen des in Fig. 1 gezeigten Spinventil-Magnetowiderstands
element ist es notwendig, die Magnetisierungsrichtung einzustellen, in
der die Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht 1 die Koerzitivkraft der fixier
ten magnetischen Schicht 2 erhöht, um die Orientierung der Magnetisie
rung zu fixieren (tatsächlich geht es um die Orientierung einer resultie
renden Magnetisierung, repräsentiert durch ein resultierendes magneti
sches Moment der ersten fixierten magnetischen Teilschicht 11 und der
zweiten fixierten magnetischen Teilschicht 12), und die Magnetisierungs
richtung, die erhalten wird, wenn die hartmagnetische Vormagnetisie
rungsschicht 7 eine Längs-Vormagnetisierung an die freie magnetische
Schicht 4 legt, um die freie magnetische Schicht 4 in einen Einzeldomä
nenzustand auszurichten, derart einzustellen, daß die beiden Orientie
rungen gegeneinander um 90° versetzt sind. Dies macht einen zwei
Schritte umfassenden Magnetisierungsprozeß erforderlich. Erfindungs
gemäß wird die Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht 1 magnetisiert durch
Glühen in einem Magnetfeld, oder wird bei Zimmertemperatur in einem
ersten Schritt magnetisiert, und anschließend wird in einem zweiten
Schritt die hartmagnetische Vormagnetisierungsschicht 7 durch einen
Magnetisierungsprozeß magnetisiert.
Die Koerzitivkraft der fixierten magnetischen Schicht 2 erhält man als
Ergebnis einer Austauschkopplung, die bezüglich der fixierten magneti
schen Schicht 2 von der Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht 1 aus α-
Fe2O3 vorgenommen wird, um ihre Koerzitivkraft zu steigern. Diese
Koerzitivkraft ist größer als eine Koerzitivkraft der hartmagnetischen
Vormagnetisierungsschicht 7, die z. B. aus einer Co-Pt- oder einer Co-
Cr-Legierung besteht. Aus diesem Grund erfolgt der Magnetisierungs
prozeß des ersten Schritts bei Zimmertemperatur oder durch Glühen bei
einer ersten Temperatur von 150°C bis 250°C während ein Magnetfeld
(vorzugsweise 3 k bis 15 k Oe) in einer Richtung senkrecht zur Papiere
bene der Fig. 2 erzeugt wird, welches größer ist als die Koerzitivkraft,
die von der fixierten magnetischen Schicht 2 erzeugt wird.
Dann wird bei dem Magnetisierungsprozeß des zweiten Schritts ein
Magnetfeld (vorzugsweise 1 k bis 3 k Oe), welches ausreichend groß ist,
um die harte Vormagnetisierungsschicht 7 zu magnetisieren, und welches
ausreichend schwach ist, um die Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht 1
nicht gleichzeitig zu magnetisieren, in Richtung der Spurbreite zur Ein
wirkung gebracht, d. h. in seitlicher Richtung in Fig. 2, um auf diese
Weise eine Magnetisierung in einer Richtung zu erreichen, die gegenüber
der in dem ersten Schritt bewirkten Magnetisierung um 90° versetzt ist.
In diesem Fall beträgt die Koerzitivkraft Hcp der fixierten magnetischen
Schicht 2, erreicht durch Erhöhen der Koerzitivkraft der fixierten magne
tischen Schicht 2 mit Hilfe der Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht 1, die
aus α-Fe2O3 besteht, 2000 bis 5000 Oe, was viel mehr ist als die 1000
bis 1400 Oe, die die hartmagnetische Vormagnetisierungsschicht 7 auf
weist. Selbst wenn daher die Magnetisierung in der anderen Richtung
während des zweiten Schritts ausführt wird, kann die harte Vormagneti
sierungsschicht 7 magnetisiert werden, ohne dabei die Magnetisierung
der fixierten magnetischen Schicht 2, welche während des ersten Schritts
durchgeführt wurde, zu stören.
Man kann also das Magnetowiderstandselement mit dem in Fig. 1 und 2
dargestellten Aufbau erhalten, bei dem die Magnetisierungsorientierung
der fixierten magnetischen Schicht 2 sowie die der freien magnetischen
Schicht 4 rechtwinklig zueinander gemacht werden können, d. h. so
eingestellt werden können, daß sie sich unter einem Winkel von 90°
schneiden.
Im Folgenden wird ein Fertigungsverfahren für das Spinventil-Magntowi
derstandselement mit dem in Fig. 10 dargestellten Aufbau beschrieben.
Die Fertigung des Magnetowiderstandselements nach Fig. 10 erfordert
ebenfalls, daß die Orientierung der Magnetisierung der fixierten magneti
schen Schicht 32 und die Magnetisierungsrichtung unter Verwendung der
Längs-Vormagnetisierung, die durch die antiferromagnetischen Schichten
35 auf die freie magnetische Schicht 34 aufgebracht wird, um 90° gegen
einander versetzt sind.
Zu diesem Zweck erfolgt in einem ersten Schritt eine Magnetisierung bei
Zimmertemperatur oder eine Magnetisierung durch Glühen in einem
Magnetfeld, anschließend erfolgt in einem zweiten Schritt die Magneti
sierung durch Glühen (oder Wärmebehandlung) in einem Magnetfeld.
Wenn eine X-Mn-Legierung oder eine Pt-Mn-X-Legierung mit einer
geordneten Kristallstruktur für die antiferromagnetischen Schichten 35
verwendet wird, wird die fixierte magnetische Schicht 32, die auf die
Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht 31 niedergeschlagen ist, durch Wär
mebehandlung in einem Magnetfeld bei Zimmertemperatur oder bei einer
ersten Temperatur magnetisiert. Dann wird die Orientierung der Magne
tisierung, die durch die antiferromagnetischen Schichten 35 bezüglich der
freien magnetischen Schicht 34 bewirkt wird, durch Glühen in einem
Magnetfeld bei einer zweiten Temperatur im Rahmen eines zweiten
Schritts vorgenommen. Die Stärke des Magnetfelds bei der Wärmebe
handlung im Magnetfeld im Rahmen des zweiten Schritts ist kleiner als
das Magnetfeld bei der Magnetisierung der fixierten magnetischen
Schicht 32 im ersten Schritt. Folglich läßt sich die Wärmebehandlung
oder das Glühen im Magnetfeld im Rahmen des zweiten Schritts realisie
ren, ohne daß dabei die Orientierung der Magnetisierung der fixierten
magnetischen Schicht 32, die im ersten Schritt magnetisiert wird, gestört
wird.
Ein Fertigungsverfahren, bei dem eine x-Mn-Legierung mit einer un
geordneten Struktur für die antiferromagnetischen Schichten 35 mit dem
in Fig. 10 dargestellten Aufbau verwendet wird, soll im Folgenden
beschrieben werden.
In diesem Fall wird die fixierte magnetische Schicht 32 auf der Koerzi
tivkraft-Verstärkungsschicht 31 magnetisiert durch Glühen in einem
Magnetfeld bei Zimmertemperatur oder bei einer ersten Temperatur, was
einem ersten Schritt entspricht. Anschließend wird in einem zweiten
Schritt die x-Mn-Legierung mit der ungeordneten Struktur durch einen
Niederschlagungsprozeß auf der freien Magnetschicht ausgebildet, bei
spielsweise durch Sputtern, d. h. Zerstäuben, in einem Magnetfeld. Auf
diese Weise lassen sich die antiferromagnetischen Schichten 35 für die
Längs-Vormagnetisierung zum Ausrichten der Magnetisierungsrichtung
der freien magnetischen Schicht 34 ausbilden.
Um im Rahmen des ersten Schritts das Glühen in dem Magnetfeld auszu
führen, liegt die Temperatur vorzugsweise im Bereich von 150°C bis
250°C, die Stärke des Magnetfelds reicht vorzugsweise von 3 k bis 15 k
Oe, wenn α-Fe2O3 für die Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht verwendet
wird, und eine Co- oder ein Co-Fe-Legierung wird für die fixierten
magnetischen Schichten 40 und 42 verwendet. Für das Glühen im Ma
gnetfeld im Rahmen des zweiten Schritts liegt die Temperatur vorzugs
weise im Bereich von 200°C bis 270°C, die Stärke des Magnetfelds liegt
vorzugsweise im Bereich von 30 bis 500 Oe.
Auf diese Weise kann das Magnetowiderstandselement mit dem in Fig.
10 gezeigten Aufbau erhalten werden, bei dem die Magnetisierungsrich
tung der fixierten magnetischen Schicht 32 sowie diejenige der freien
magnetischen Schicht 34 dazu gebracht werden können, daß sie rechtwin
klig aufeinanderstehen oder einander unter einem Winkel von 90° schnei
den.
Im folgenden wird ein Fertigungsverfahren für das Spinventil-Magneto
widerstandselement mit dem in Fig. 11 gezeigten Aufbau erläutert.
Die Fertigung des Magnetowiderstandselements nach Fig. 11 macht es
auch erforderlich, daß die Magnetisierungsrichtung der fixierten magneti
schen Schicht 2 und die Magnetisierungsrichtung, die unter Einsatz der
Längs-Vormagnetisierung durch die ferromagnetischen Schichten 47 über
die antiferromagnetischen Schichten 46 auf die freie Magnetschicht 4
aufgebracht wird, gegeneinander um 90° versetzt sind.
Wenn die x-Mn-Legierung oder eine Pt-Mn-x-Legierung mit einer geord
neten Struktur für die antiferromagnetischen Schichten 46 verwendet
wird, erfolgt in einem ersten Schritt die Magnetisierung bei Zimmertem
peratur oder eine Magnetisierung durch Wärmebehandlung im Magnet
feld, anschließend erfolgt in einem zweiten Schritt die Magnetisierung
durch Wärmebehandlung im Magnetfeld.
In diesem Beispiel wird die auf der Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht 1
niedergeschlagene fixierte magnetische Schicht 2 in einem ersten Schritt
magnetisiert, indem in einem Magnetfeld bei Zimmertemperatur geglüht
wird. Anschließend wird die Magnetisierungsrichtung, die durch die
antiferromagnetischen Schichten 46 über die ferromagnetischen Schich
ten 47 auf die freie Magnetschicht 4 aufgebracht wird, durch Glühen in
Beisein eines Magnetfelds bei einer zweiten Temperatur im Rahmen des
zweiten Schritts aufgebracht. Die Stärke des Magnetfelds beim Glühen
im Magnetfeld im Rahmen des zweiten Schritts ist geringer als die des
Magnetfelds, welches zum Magnetisieren der fixierten magnetischen
Schicht 2 in dem ersten Schritt dient. Folglich läßt sich die Wärmebe
handlung im Magnetfeld im Rahmen des zweiten Schritts realisieren,
ohne dabei die Magnetisierungsrichtung der fixierten magnetischen
Schicht 2 zu stören, die in dem ersten Schritt magnetisiert wurde. Zur
Wärmebehandlung im Magnetfeld im Rahmen des ersten Schritts liegt
die Temperatur vorzugsweise im Bereich von 150°C bis 250°C, die
Stärke des Magnetfelds reicht vorzugsweise von 3 k bis 15 k Oe, wenn a-
Fe2O3 für die Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht verwendet wird, wobei
Co oder eine Co-Fe-Legierung für die fixierten magnetischen Schichten
11 und 12 verwendet wird. Zum Glühen im Magnetfeld im Rahmen des
zweiten Schritts liegt die Temperatur vorzugsweise im Bereich von
200°C bis 270°C, die Stärke des Magnetfelds reicht vorzugsweise von
30 bis 500 Oe.
Auf diese Weise läßt sich das Magnetowiderstandselement mit dem in
Fig. 11 dargestellten Aufbau erhalten, bei dem die Magnetisierungsrich
tung der fixierten magnetischen Schicht 2 und diejenige der freien Ma
gnetschicht 4 rechtwinklig aufeinanderstehen oder sich unter einem Win
kel von 90° schneiden.
Im Folgenden wird ein Arbeitsbeispiel beschrieben.
Mit Hilfe einer Hochfrequenz-Magnetron-Zerstäubungsapparatur wurde
ein Laminat mit dem in Fig. 11 gezeigten Aufbau auf einem Si-Substrat
oder einem Saphir-Substrat, das mit einem Al2O3-Film überzogen war,
aufgebracht durch Zerstäuben einer Mehrzahl von Targets, so daß die
folgende Struktur erhalten wurde.
Bei diesem Beispiel war eine Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht aus a-
Fe2O3 auf dem Si-Substrat ein 66 nm dicker polykristalliner Film. Die
Dicke einer ersten fixierten magnetischen Teilschicht aus Co wurde auf 2
nm eingestellt, eine Dicke einer nichtmagnetischen Zwischenschicht aus
Ru wurde auf 0,7 nm eingestellt, eine Dicke einer zweiten fixierten
magnetischen Teilschicht aus Co wurde auf 2,5 nm eingestellt, die Dicke
einer nichtmagnetischen leitenden Schicht aus Cu wurde auf 2,2 nm
eingestellt, eine Dicke der freien magnetischen Schicht aus Co wurde auf
1,1 nm eingestellt, die Dicke einer freien magnetischen Schicht aus einer
Ni80Fe20-Legierung wurde auf 7,7 nm eingestellt, und die Dicke einer
Schutzschicht aus Ta wurde auf 3 nm eingestellt. Der Laminataufbau
nach diesem Beispiel läßt sich folgendermaßen ausdrücken: Si-Substrat/
Al2O3-Film/α-Fe2O3-Film/Co-Film/Ru-Film/Co-Film/
Cu-Film/ Co-Film/ NiFe-Film/Ta-Film.
Das so angefertigte Laminat wurde mittels Photolithographie und Ionen-
Abtragen bearbeitet, um Bereiche an den beiden Enden des Laminats zu
entfernen und einen Bereich mit einer Spurbreite von 2 µm stehenzulas
sen, d. h. mit einer Breite eines magnetisch empfindlichen Abschnitts.
Eine zweite antiferromagnetische Schicht (Pt50Mn50) mit einer Dicke von
30 nm, eine amorphe ferromagnetische Schicht (Co88Mb8Zr4) mit einer
Dicke von 20 nm und eine Elektrodenleiterschicht (Cu) mit einer Dicke
von 70 nm wurden auf beiden Seiten in Richtung der Laminat-Spur
breite des stehengebliebenen magnetisch empfindlichen Bereichs ausgbil
det.
Anschließend wurde ein Magnetfeld von 10 kOe in Richtung Y oder in
Höhenrichtung gemäß Fig. 11 angelegt, um die Koerzitivkraft-Verstär
kungsschicht zu magnetisieren. Im Anschluß daran erfolgte das Glühen
bei 250°C während 4 Stunden, während ein Magnetfeld von 100 Oe in
Richtung X1 oder in Richtung der Spurbereite gemäß Fig. 2 aufgeprägt
wurde, um der auf die antiferromagnetischen Schicht niedergeschlagenen
ferromagnetischen Schicht eine unidirektionale Anisotropie aufzuprägen
und dadurch das Spinventil-Magnetowiderstandselement mit dem in Fig.
11 dargestellten Aufbau zu erhalten.
Fig. 12 zeigt Meßergebnisse in Form einer Kurve von Widerstands
änderungen des Spinventil-Magnetowiderstandselements dieses Beispiels.
Wie in Fig. 12 gezeigt ist, weist das Magnetowiderstandselement des
Beispiels einen hervorragenden Wert Hcp = 2410 Oe auf, außerdem eine
hervorragende Widerstands-Änderungsrate von 14,9%.
"Hcp" bezeichnet eine Koerzitivkraft der fixierten magnetischen Schicht,
die durch die magnetische Austauschkopplung seitens der Koerzitiv
kraft-Verstärkungsschicht verbessert wurde. Ein größerer Wert von Hcp
bedeutet eine stärkere Kraft für die Fixier-Magnetisierung. Da der Wert
von Hcp bei diesem Beispiel 2410 Oe beträgt, ist ersichtlich, daß die
Koerzitivkraft der fixierten magnetischen Schicht größer ist als die 1400
Oe betragende Koerzitivkraft des hartmagnetischen Materials der harten
Vormagnetisierungsschicht zum Anlegen der Längs-Vormagnetisierung
gemäß Fig. 2. Deshalb kann als Fertigungsverfahren für dieses Arbeits
beispiel von einem Verfahren Gebrauch gemacht werden, bei dem die
Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht magnetisiert wird, indem ein Magne
tisierungsprozeß in einem ersten Schritt durchgeführt wird, während die
harte Vormagnetisierungsschicht magnetisiert wird, indem der Magneti
sierungsprozeß in einem zweiten Schritt ausgeführt wird.
Anschließend wurden die folgenden Schichten auf dem Saphir-Substrat
mit einem Oberflächenindex gemäß Fig. 13 zur Fertigung eines Laminats
niedergeschlagen: Eine Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht aus einem
Einkristall aus α-Fe2O3 mit einer Dicke von 60 nm, eine erste fixierte
magnetische Teilschicht aus Co mit einer Dicke von 1,5 nm, eine nicht
magnetische Zwischenschicht aus Ru mit einer Dicke von 0,7 nm, eine 2
nm dicke zweite fixierte magnetische Teilschicht aus Co, eine 2,2 nm
dicke nichtmagnetische leitende Schicht aus Cu und eine 8,7 nm dicke
freie magnetische Schicht aus einer Ni80Fe20-Legierung. Der Laminatauf
bau nach diesem Beispiel läßt sich folgendermaßen ausdrücken: Saphir-
Substrat/α-Fe2O3-Film/Co-Film/
Ru-Film/Co-Film/Cu-Film/NiFe-Film/Ta-Film. Dann wurden wie bei
den vorausgehenden Ausführungsbeispielen zweite antiferromagnetischen
Schichten, ferromagnetische Schichten und Stromleitschichten auf beiden
Seiten des Laminats ausgebildet, und es wurde der gleiche Zweischritt-
Magnetisierungsprozeß ausgeführt, um das Spinventil-Magnetowider
standselement fertigzustellen.
Fig. 13 zeigt Meßergebnisse in Form einer Kurve von Widerstands-
Änderungen des Magnetowiderstandselements nach diesem Beispiel. Wie
in Fig. 13 gezeigt ist, besitzt das Magnetowiderstandselement dieses
Beispiels einen hervorragenden Wert Hcp = 4650 Oe, außerdem ein her
vorragende Widerstands-Änderungsrate von 7,7%.
Als erstes Vergleichsbeispiel wurde ein Spinventil-Magnetowiderstands
element mit Hilfe einer Einzelschichtstruktur der fixierten magnetischen
Schicht in der Struktur gemäß dem oben erläuterten Arbeitsbeispiel
hergestellt, wobei ein anderer Zweischritt-Magnetisierungsprozeß einge
setzt wurde.
Eine Struktur eines Laminats gemäß diesem Vergleichsbeispiel lautet:
Si-Substrat/Al2O3-Film/α-Fe2O3-Film mit einer Dicke von 66 nm/ein 3
nm dicker Cu-Film/2,2 nm dicker Cu-Filmlein 1,1 nm dicker
Co-Film/ein 7,7 nm dicker NiFe-Film/ein 3 nm dicker Ta-Film. Es
wurden die gleiche Vormagnetisierungsschicht und Stromleitschicht wie
beim Arbeitsbeispiel verwendet.
Die Erfinder wußten bereits, daß der Wert von Hcp bei der Struktur des
Vergleichsbeispiels niedriger sein würde, wie dies z. B. in der japani
schen ungeprüften Patentveröffentlichung 10-112562 offenbart ist. Des
halb wurde bei der Struktur des Vergleichsbeispiels eine Wärmebehand
lung bei 250°C vier Stunden lang ausgeführt, während ein Magnetfeld
von 100 Oe in Richtung der Spurbreite im Rahmen eines ersten Schritts
angelegt wurde, woraufhin die fixierte magnetische Schicht, die auf eine
Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht niedergeschlagen war, magnetisiert
wurde, während ein Magnetfeld von 1 kOe in Richtung Y oder in Hö
henrichtung angelegt wurde, um das Spinventil-Magnetowiderstandsele
ment herzustellen.
Fig. 14 zeigt Meßergebnisse in Form einer Kurve des magnetischen
Widerstands bei dem so erhaltenen Magnetowiderstandselement. Wie in
Fig. 14 zu sehen ist, zeigt das Magnetowiderstandselement nach diesem
Beispiel einen Wert Hcp = 804 Oe und eine Widerstands-Änderungsrate
von 14,6%. Das Vergleichsbeispiel zeigte einen geringeren Hcp-Wert als
das Arbeitsbeispiel, wenngleich es eine höhere Widerstands-Änderungs
rate zeigte.
Als zweites Vergleichsbeispiel wurde ein Magnetowiderstandselement
hergestellt, indem durch Niederschlagen folgender Schichten auf einem
Saphir-Substrat mit einem Oberflächenindex gemäß Fig. 15 ein Laminat
gebildet wurde: ein 66 nm dicker α-Fe2O3-Film, ein 5,8 nm dicker
NiFe-Film, ein 2,2 nm dicker Cu-Film und ein 8,7 nm dicker NiFe-
Film. Es wurden genauso wie bei obigem Arbeitsbeispiel die gleiche
Vormagnetisierungsschicht und die gleichen Stromführungsschichten
verwendet.
Fig. 15 zeigt Meßergebnisse in Form einer Kurve von Widerstands-
Änderungen bei dem so erhaltenen Magnetowiderstandselement. Wie in
Fig. 15 gezeigt ist, zeigt dieses Magnetowiderstandselement einen Wert
von Hcp = 871 Oe und ferner eine Widerstands-Änderungsrate von 5,0%.
Bei diesem Beispiel war der Wert von Hcp niedriger als bei dem Ar
beitsbeispiel.
Ein Vergleich der Kennwerte der Magnetowiderstandselemente nach dem
Arbeitsbeispiel und nach den Vergleichsbeispielen zeigte, daß das Ma
gnetowiderstandselement mit dem polykristallinem α-Fe2O3-Film auf dem
Si-Substrat in der Lage ist, eine höhere Widertands-Änderungsrate zu
liefern, außerdem eine extrem hohe Koerzitivkraft von mehr als 2000
Oe, die im Stand der Technik nicht erzielbar ist. Außerdem wurde
herausgefunden, daß das Magnetowiderstandselement unter Verwendung
des Einkristall-α-Fe2O3-Films auf dem Saphir-Substrat eine geringere
Widerstands-Änderungsrate aufweist, als sie bei dem Spinventil-Magne
towiderstandselement erreicht wurde, welches von dem polykristallinem
a-Fe2O3-Film Gebrauch machte, da es für die freie magnetische Schicht
nicht Ce verwendet; allerdings ist die Widerstands-Änderungsrate annä
hernd die gleiche wie bei einem herkömmlichen Spinventil-Magnetowi
derstandselement, welches FeMn verwendet und weit verbreitet ist. Die
Koerzitivkraft Hcp der fixierten magnetischen Schicht zeigte allerdings
einen erfreulich großen Wert, der 5000 Oe überschritt.
Diese oben erwähnten Werte der Koerzitivkraft sind viel größer als die
Werte der Austausch-Koppelmagnetfelder (Hex), die bei anderen Typen
von Fixiereinrichtungen erhalten werden (z. B. 330 Oe im Fall von
FeMn, 330 Oe bei NiO, 270 Oe im Fall von IrMn, 700 Oe im Fall von
PtMn und 480 Oe bei PdPtMn), verglichen mit einem erfindungsgemä
ßen Beispiel, bei dem ein unidirektionales Austausch-Koppelmagnetfeld
dazu dient, eine fixierte magnetische Schicht festzulegen.
Folglich ist das erfindungsgemäße Magnetowiderstandselement mit einer
fixierten magnetischen Schicht ausgestattet, die einem Austausch-Koppel
magnetfeld ausgesetzt ist, welches seitens einer Koerzitivkraft-Verstär
kungsschicht aufgeprägt wird, um die Koerzitivkraft zu steigern und so
die Magnetisierung der Schicht zu fixieren, wobei eine freie magne
tische Schicht mit einer Magnetisierung orthogonal zur Magnetisierungs
richtung der fixierten magnetischen Schicht vorhanden ist, deren Magne
tisierung sich ohne weiteres durch ein äußeres Magnetfeld ändert. Dar
überhinaus ist die fixierte magnetische Schicht derart strukturiert, daß sie
in zwei Schichten aufgetrennt ist, nämlich eine erste fixierte magnetische
Teilschicht und eine zweite fixierte magnetische Teilschicht, die durch
eine nichtmagnetische Zwischenschicht voneinander getrennt sind. Bei
dieser Anordnung übt die Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht die Wir
kung eines Austausch-Koppelmagnetfelds aus, um die Magnetisierungs
richtung der fixierten magnetischen Schicht festzulegen, entgegen einem
resultierenden magnetischen Moment der ersten fixierten magnetischen
Teilschicht und der zweiten fixierten magnetischen Teilschicht. Folglich
läßt sich die Magnetisierungsrichtung der fixierten magnetischen Schicht
weitaus sicherer fixieren als bei einer fixierten magnetischen Schicht mit
Einzelschichtaufbau. Im Ergebnis erhält man ein Magnetowiderstands
element mit erhöhter Fixierkraft der fixierten magnetischen Schicht.
In der fixierten magnetischen Schicht, die durch eine erste und eine
zweite fixierte magnetische Teilschicht gebildet wird, kann, wenn die
beiden Teilschichten in einem antiparallelen ferromagnetischen Zustand
gehalten werden, in welchem die Magnetisierungsrichtungen der beiden
Schichten um 180° gegeneinander versetzt sind, die Magnetisierung
fixiert werden, während der ferromagnetische Zustand beibehalten wird,
so daß ein einfaches Fixieren der Magnetisierung möglich ist. Wenn
darüberhinaus ein integrierter Wert der Sättigungsmagnetisierung und der
Dicke der ersten fixierten magnetischen Teilschicht sich unterscheidet
von dem der zweiten fixierten magnetischen Teilschicht, so liefert die
Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht eine Fixierkraft in umgekehrtem
Verhältnis zu dem Differenzwert. Dies gestattet die Realisierung einer
weit höheren Fixierkraft als bei der fixierten magnetischen Schicht in
Form einer Einzelschichtstruktur.
Um die Längs-Vormagnetisierung zum Ausrichten der freien magneti
schen Schicht in einen Einzeldomänenzustand zu bringen, kann man ein
Magnetowiderstandselements des obigen Aufbaus mit einer der folgen
den drei Strukturen ausstatten: eine Struktur, die die harte Vormagneti
sierungsschicht verwendet, eine Struktur, bei der eine antiferromagne
tische Schicht benachbart zu der freien magnetischen Schicht vorgesehen
ist, bestehend aus einem zweiten antiferromagnetischen Material als
Längs-Vormagnetisierungsschicht, oder eine Struktur, bei der eine
ferromagnetische Schicht der freien mägnetischen Schicht benachbart ist
und eine antiferromagnetische Schicht aus einem zweiten antiferroma
gnetischen Material als Längs-Vormagnetisierungsschicht eingesetzt
wird.
Das Ausrichten der freien magnetischen Schicht in einen Einzeldomänen
zustand durch Anlegen der Längs-Vormagnetisierung an die freie magne
tische Schicht seitens der Längs-Vormagnetisierungsschicht ermöglicht
die Schaffung eines Magnetowiderstandselements, welches glatte Wider
stands-Änderungen aufweist, frei von Barkhausen-Rauschen und in der
Lage, magnetische Information zu lesen.
Im Fall der Struktur, in der die Längs-Vormagnetisierung an die freie
magnetische Schicht gelegt wird, um diese in einen Einzeldomänenzu
stand auszurichten, was mit Hilfe der Längs-Vormagnetisierungsschicht
aus dem zweiten antiferromagnetischen Material geschieht, oder mit
Hilfe der Längs-Vormagnetisierungsschicht aus einer ferromagnetischen
Schicht und dem zweiten antiferromagnetischen Material anstelle der
harten Vormagnetisierungsschicht, wird die Möglichkeit der Erzeugung
eines Bereichs minimiert, in welchem es schwierig ist, die Magnetisie
rung der freien magnetischen Schicht zu orientieren, d. h. die Erzeugung
einer Totzone, wenn ein äußeres Magnetfeld an die freie magnetische
Schicht angelegt wird. Diese Anordnung macht es möglich, ein Magneto
widerstandselement zu schaffen, welches in der Lage ist, Änderungen in
einer Magnetisierung über den gesamten Bereich exakt nachzuweisen,
welcher einer vorbestimmten Spurbereite entspricht.
Im Fall der Struktur mit einer Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht aus
α-Fe2O3 beträgt die Sperrtemperatur des α-Fe2O3 320°C, was höher ist
als die Sperrtemperaturen von FeMn sowie anderen konventionellen
Materialien. Damit zeigt die Struktur hohe Hitzebeständigkeit und er
möglicht die Erzielung einer stabilen Fixierkraft sowie stabiler Wider
stands-Änderungen auch dann, wenn das Magnetowiderstandselement mit
dieser Struktur in einer Magnetkopfanordnung oder dergleichen einge
setzt wird, wo es auf eine Temperatur von über 200°C erwärmt wird,
bedingt durch die von dem Gerät erzeugte Wärme.
Ein weiterer Vorteil besteht darin, daß ein Nebenschlußverlust des Lese
stroms reduziert werden kann, da das α-Fe2O3 von Hause aus ein Isolator
ist und einen hohen elektrischen Widertand aufweist.
Magnetköpfe, die mit Spinventil-Magnetowiderstandselementen ausgestat
tet sind, die die oben erläuterten Strukturen besitzen, können Änderun
gen des Widerstands bei linearem Ansprechverhalten auf geringfügige
Magnetfelder seitens eines magnetischen Aufzeichnungsträgers veranlas
sen, um dadurch bei hoher Empfindlichkeit magnetische Information
ohne Barkhausen-Rauschen zu lesen. Darüberhinaus zeigen die Magnet
köpfe hohe Wärmebeständigkeit, was bedeutet, daß stabile Widerstands-
Änderungen auch dann erreichbar sind, wenn das Element auf 200°C
oder darüber erhitzt wird aufgrund der Erwärmung des das Elemente
beinhaltenden Bauelements.
Wenn bei einem Magnetkopf eine Isolierschicht um das Magnetowider
standselement herum angeordnet ist, so sollte das Magnetowider
standselement möglichst dünn sein. In der Vergangenheit wurde eine
gewisse Dicke für die Isolierschicht benötigt, um die Isolierung beim
Entwurf der Magnetköpfe zu garantieren. Die Isoliereigenschaften lassen
sich verbessern durch Ausbilden der Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht,
die einen Hauptanteil der Dicke des Magnetowiderstandselements aus
macht, indem als Isolator α-Fe2O3 eingesetzt wird. Indem man die Iso
lierschicht und die Spaltschicht um das Magnetowiderstandselement
herum dünner als beim Stand der Technik macht, erzielt man den Vor
teil einer verbesserten Isolierung durch Ausbildung der Koerzitivkraft-
Verstärkungsschicht mit dem Isolator α-Fe2O3, was den vorteilhaften
Effekt höherer Auflösungen beim Lesen mit Hilfe des dieses Element
beinhaltenden magnetischen Kopfs hat, so daß dieser Magnetkopf sich
zum Lesen einer Spur mit höherer Aufzeichnungsdichte eignet.
Das erfindungsgemäße Fertigungsverfahren zum Herstellen eines Spin
ventil-Magnetowiderstandselements mit einer Koerzitivkraft-Verstär
kungsschicht, einer fixierten magnetischen Schicht in Form von zwei
aufgetrennten Schichten, einer nichtmagnetischen leitenden Schicht, einer
freien magnetischen Schicht und einer Längs-Vormagnetisierungsschicht
weist folgende Schritte auf: Ausbilden der vorerwähnten Schichten auf
einem Substrat, anschließendes Erhöhen einer Koerzitivkraft der fixierten
magnetischen Schicht durch Magnetisieren der Schicht bei Zimmertempe
ratur oder durch Wärmebehandlung bei einer erten Temperatur in einem
Magnetfeld in einer Richtung senkrecht zu einer Spurbereite, um da
durch die Magnetisierung der fixierten magnetischen Schicht festzulegen;
und Aufprägen eines Magnetfelds, welches schwächer ist als die Koerzi
tivkraft der fixierten magnetischen Schicht, auf die Vormagnetisierungs
schicht in einer Richtung der Spurbreite, um ein Vormagnetisierungsfeld
zu erzeugen. Somit kann die Vormagnetisierungsschicht in einem nach
folgenden Schritt magnetisiert werden, ohne dabei die Magnetisierung
der bereits magnetisierten fixierten magnetischen Schicht zu stören.
Selbst bei einem Aufbau, bei dem die Magnetisierungsrichtung der freien
magnetischen Schicht sowie die Magnetisierungsrichtung der fixierten
magnetischen Schicht gegeneinander um 90° versetzt sind, läßt sich das
Längs-Vormagnetisierungsfeld an die freie magnetische Schicht anlegen,
ohne dabei die Magnetisierung der fixierten magnetischen Schicht zu
stören, welche bereits magnetisiert wurde. Bei dieser Ausgestaltung
erhält man ein Magnetowiderstandselement mit hoher Fixierkraft für die
fixierte magnetische Schicht.
Die gleichen Vorteile lassen sich erzielen, wenn man von einem erfin
dungsgemäßen Fertigungsverfahren Gebrauch macht, welches folgende
Merkmale besitzt: Eine Struktur, die die harte Vormagnetisierungsschicht
als Mittel zum Anlegen der Längs-Vormagnetisierung verwendet, eine
Struktur unter Verwendung einer Vormagnetisierungsschicht, die gebildet
wird aus einem zweiten antiferromagnetischen Material und einer ferro
magnetischen Schicht, und eine Struktur, bei der die Längs-Vormagneti
sierungsschichten aus dem zweiten antiferromagnetischen Material auf
beiden Seiten der freien magnetischen Schicht in Richtung der Spurbreite
angeordnet sind. Genauer: die Vormagnetisierungsschicht läßt sich in
einem späteren Schritt magnetisieren, ohne die Magnetisierung der fixier
ten magnetischen Schicht zu stören, welche bereits magnetisiert wurde,
indem der Prozeß implementiert wird, bei welchem die Koerzitivkraft
der fixierten magnetischen Schicht erhöht wird durch Magnetisieren
dieser fixierten magnetischen Schicht bei Zimmertemperatur oder durch
Wärmebehandlung bei der ersten Temperatur in einem Magnetfeld in
einer Richtung senkrecht zur Spurbreite, um damit die Magnetisierung
der fixierten magnetischen Schicht festzulegen, und durch Aufprägen
eines Magnetfelds, welches kleiner ist als die Koerzitivkraft der fixierten
magnetischen Schicht, auf die Vormagnetisierungsschicht, und zwar in
einer Richtung der Spurbreite, um ein Vormagnetisierungsfeld zu erzeu
gen.
Claims (14)
1. Magnetowiderstandselement vom Spinventiltyp umfassend:
eine Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht aus einem ersten antiferro magnetischen Material;
eine fixierte magnetische Schicht, deren Koerzitivkraft erhöht wird durch ein Austausch-Koppelmagnetfeld, welches seitens der Koerzi tivkraft-Verstärkungsschicht aufgebracht wird, um eine Magnetisie rungsrichtung der fixierten magnetischen Schicht festzulegen; und
eine nichtmagnetische leitende Schicht, ausgebildet zwischen der fixierten magnetischen Schicht und der freien magnetischen Schicht, deren Magnetisierung in einer Richtung orientiert ist, die die Ma gnetisierungsrichtung der fixierten magnetischen Schicht schneidet; wobei ein Lesestrom in einer Richtung geführt wird, die die fixierte Magnetisierungsrichtung der fixierten magnetischen Schicht schnei det, und eine Änderung des elektrischen Widerstands erfaßt wird aus einem Winkel, der durch die Magnetisierung der fixierten magneti schen Schicht und die Magnetisierung der freien magnetischen Schicht gebildet wird; und
wobei die fixierte magnetische Schicht aufgetrennt ist in zwei Teil schichten, nämlich eine erste fixierte magnetische Teilschicht be nachbart zu der Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht, und eine zweite fixierte magnetische Teilschicht benachbart zu der nichtmagnetischen leitenden Schicht, wobei dazwischen eine nichtmagnetische Zwi schenschicht liegt.
eine Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht aus einem ersten antiferro magnetischen Material;
eine fixierte magnetische Schicht, deren Koerzitivkraft erhöht wird durch ein Austausch-Koppelmagnetfeld, welches seitens der Koerzi tivkraft-Verstärkungsschicht aufgebracht wird, um eine Magnetisie rungsrichtung der fixierten magnetischen Schicht festzulegen; und
eine nichtmagnetische leitende Schicht, ausgebildet zwischen der fixierten magnetischen Schicht und der freien magnetischen Schicht, deren Magnetisierung in einer Richtung orientiert ist, die die Ma gnetisierungsrichtung der fixierten magnetischen Schicht schneidet; wobei ein Lesestrom in einer Richtung geführt wird, die die fixierte Magnetisierungsrichtung der fixierten magnetischen Schicht schnei det, und eine Änderung des elektrischen Widerstands erfaßt wird aus einem Winkel, der durch die Magnetisierung der fixierten magneti schen Schicht und die Magnetisierung der freien magnetischen Schicht gebildet wird; und
wobei die fixierte magnetische Schicht aufgetrennt ist in zwei Teil schichten, nämlich eine erste fixierte magnetische Teilschicht be nachbart zu der Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht, und eine zweite fixierte magnetische Teilschicht benachbart zu der nichtmagnetischen leitenden Schicht, wobei dazwischen eine nichtmagnetische Zwi schenschicht liegt.
2. Element nach Anspruch 1, bei dem ein ferromagnetischer Zustand
erzeugt wird, bei dem eine Magnetisierungsrichtung der ersten
fixierten magnetischen Teilschicht und eine Magnetisierungsrichtung
der zweiten fixierten magnetischen Teilschicht um 180° gegenein
ander verschoben sind, um eine antiparallele Beziehung zu bilden.
3. Element nach Anspruch 1 oder 2, bei dem ein Wert eines magneti
schen Moments, gebildet durch einen integrierten Wert einer Sätti
gungsmagnetisierung und einer Dicke der ersten fixierten magneti
schen Teilschicht, unterschiedlich ist von einem Wert eines magneti
schen Moments, der repräsentiert wird durch einen integrierten Wert
einer Sättigungsmagnetisierung und einer Dicke der zweiten fixierten
magnetischen Teilschicht; und
wobei die Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht eine magnetische Austauschkopplung auf die fixierte magnetische Schicht ausübt, die durch die erste und die zweite fixierte magnetische Teilschicht gebil det wird, während die Werte der magnetischen Momente unter schiedlich sind, um dadurch ein Austausch-Kopplungsmagnetfeld zu steigern.
wobei die Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht eine magnetische Austauschkopplung auf die fixierte magnetische Schicht ausübt, die durch die erste und die zweite fixierte magnetische Teilschicht gebil det wird, während die Werte der magnetischen Momente unter schiedlich sind, um dadurch ein Austausch-Kopplungsmagnetfeld zu steigern.
4. Element nach einem der Ansprüche 1 bis 3, bei dem eine Einrich
tung zum Anlegen einer Längs-Vormagnetisierung zum Orientieren
der Magnetisierung der freien magnetischen Schicht gebildet wird
durch hartmagnetische Vormagnetisierungsschicht aus einem hartma
gnetischen Material auf beiden Seiten in einer Richtung orthogonal
zu der Dickenrichtung der freien magnetischen Schicht.
5. Element nach einem der Ansprüche 1 bis 4, bei dem
eine Einrichtung zum Anlegen einer Längs-Vormagnetisierung zur
Orientierung der Magnetisierung der freien magnetischen Schicht
eine antiferromagnetische Schicht ist, die aus einem zweiten antifer
romagnetischen Material benachbart zu der freien magnetischen
Schicht angeordnet ist; und
ein unidirektionales Austausch-Vormagnetisierungsfeld an die freie magnetische Schicht durch die antiferromagnetische Schicht angelegt wird, um magnetische Anisotropie zu induzieren und damit eine ma gnetische Domäne in der freien magnetischen Schicht zu stabilisie ren.
ein unidirektionales Austausch-Vormagnetisierungsfeld an die freie magnetische Schicht durch die antiferromagnetische Schicht angelegt wird, um magnetische Anisotropie zu induzieren und damit eine ma gnetische Domäne in der freien magnetischen Schicht zu stabilisie ren.
6. Element nach einem der der Ansprüche 1 bis 5, bei dem
eine Einrichtung zum Anlegen einer Längs-Vormagnetisierung zum
Orientieren der Magnetisierung der freien magnetischen Schicht eine
antiferromagnetische Schicht ist, gebildet durch eine ferromagne
tische Schicht benachbart zu der freien magnetischen Schicht, und
eine antiferromagnetische Schicht aus einem zweiten antiferroma
gnetischen Material auf der ferromagnetischen Schicht; und
ein unidirektionales Austausch-Vormagnetisierungsfeld auf die ferro magnetische Schicht seitens der antiferromagnetischen Schicht ausge übt wird, um magnetische Anisotropie zu induzieren und damit eine magnetische Domäne in der freien magnetischen Schicht durch ferromagnetische Kopplung zwischen der freien magnetischen Schicht und der ferromagnetischen Schicht zu stabilisieren
ein unidirektionales Austausch-Vormagnetisierungsfeld auf die ferro magnetische Schicht seitens der antiferromagnetischen Schicht ausge übt wird, um magnetische Anisotropie zu induzieren und damit eine magnetische Domäne in der freien magnetischen Schicht durch ferromagnetische Kopplung zwischen der freien magnetischen Schicht und der ferromagnetischen Schicht zu stabilisieren
7. Element nach einem der Ansprüche 1 bis 6, bei dem
die Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht aus einem antiferromagneti
schen Oxidmaterial gebildet ist; und
eine Koerzitivkraft der fixierten magnetischen Schicht mit deren durch die Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht fixierte Magnetisierung größer ist als ein unidirektionales Austausch-Vormagnetisierungs feld, welches seitens der antiferromagnetischen Schicht in der fi xierten magnetischen Schicht induziert wird.
eine Koerzitivkraft der fixierten magnetischen Schicht mit deren durch die Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht fixierte Magnetisierung größer ist als ein unidirektionales Austausch-Vormagnetisierungs feld, welches seitens der antiferromagnetischen Schicht in der fi xierten magnetischen Schicht induziert wird.
8. Element nach einem der Ansprüche 1 bis 7, bei dem die Koerzitiv
kraft-Verstärkungsschicht aus α-Fe2O3 gebildet ist.
9. Fertigungsverfahren für ein Magnetowiderstandselement vom Spin
ventil-Typ, gebildet aus einer Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht,
einer dieser benachbarten fixierten magnetischen Schicht, einer
nichtmagnetischen leitenden Schicht, einer freien magnetischen
Schicht, einer Vormagnetisierungssschicht zum Anlegen einer
Längs-Vormagnetisierung an die freie magnetische Schicht, und
einer Stromleitschicht, wobei diese Schichten auf ein Substrat nie
dergeschlagen sind und die fixierte magnetische Schicht in zwei
Schichten aufgetrennt ist, zwischen denen sich eine nichtmagne
tische Zwischenschicht befindet, umfassend folgende Schritte:
ein Schritt des Ausbildens der Schichten auf dem Substrat, um an schließend eine Koerzitivkraft der fixierten magnetischen Schicht zu erhöhen durch Magnetisieren dieser fixierten magnetischen Schicht in einem Magnetfeld in eine Richtung senkrecht zu einer Spurbreite, oder durch Wärmebehandlung in einem Magnetfeld bei einer ersten Temperatur, um die Magnetisierung in der fixierten magnetischen Schicht festzulegen; und
einen Schritt des Wärmebehandelns unter gleichzeitiger Einwirkung eines Magnetfelds, welches schwächer ist als die Koerzitivkraft der fixierten magnetischen Schicht in Richtung der Spurbreite, um da durch ein Vormagnetisierungsfeld zu erzeugen.
ein Schritt des Ausbildens der Schichten auf dem Substrat, um an schließend eine Koerzitivkraft der fixierten magnetischen Schicht zu erhöhen durch Magnetisieren dieser fixierten magnetischen Schicht in einem Magnetfeld in eine Richtung senkrecht zu einer Spurbreite, oder durch Wärmebehandlung in einem Magnetfeld bei einer ersten Temperatur, um die Magnetisierung in der fixierten magnetischen Schicht festzulegen; und
einen Schritt des Wärmebehandelns unter gleichzeitiger Einwirkung eines Magnetfelds, welches schwächer ist als die Koerzitivkraft der fixierten magnetischen Schicht in Richtung der Spurbreite, um da durch ein Vormagnetisierungsfeld zu erzeugen.
10. Fertigungsverfahren für ein Magnetowiderstandselement vom Spin
ventil-Typ, umfassend die Schritte:
auf einem Substrat wird ein Laminat gebildet, das eine Koerzitiv kraft-Verstärkungsschicht, eine fixierte magnetische Schicht, eine nichtmagnetische leitende Schicht und eine freie magnetische Schicht mit einer Breite entsprechend einer Spurbreite aufweist, von denen die fixierte magnetische Schicht in zwei Schichten mit einer dazwi schenliegenden nichtmagnetischen Zwischenschicht aufgetrennt ist;
Ausbilden von aus hartmagnetischem Material bestehenden Vor magnetisierungsschichten auf beiden Seiten des Laminats in Rich tung der Spurbreite;
Erhöhen einer Koerzitivkraft der fixierten magnetischen Schicht durch ein Austausch-Koppelmagnetfeld der Koerzitivkraft-Verstär kungsschicht, indem auf die fixierte magnetische Schicht, die der Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht benachbart ist, ein Magnetfeld in einer Richtung senkrecht zur Spurbreitenrichtung bei Zimmertempe ratur aufgebracht wird, oder, indem eine Wärmebehandlung durch geführt wird, um dadurch eine Magnetisierungsrichtung der fixier ten magnetischen Schicht festzulegen; und
Anlegen eines Magnetfelds, welches schwächer ist als die Koerzitiv kraft der Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht, in die Richtung der Spurbreite, um die harte Vormagnetisierungsschicht zu magnetisie ren und zu veranlassen, daß auf die freie magnetische Schicht ein Längs-Vormagnetisierungsfeld einwirkt.
auf einem Substrat wird ein Laminat gebildet, das eine Koerzitiv kraft-Verstärkungsschicht, eine fixierte magnetische Schicht, eine nichtmagnetische leitende Schicht und eine freie magnetische Schicht mit einer Breite entsprechend einer Spurbreite aufweist, von denen die fixierte magnetische Schicht in zwei Schichten mit einer dazwi schenliegenden nichtmagnetischen Zwischenschicht aufgetrennt ist;
Ausbilden von aus hartmagnetischem Material bestehenden Vor magnetisierungsschichten auf beiden Seiten des Laminats in Rich tung der Spurbreite;
Erhöhen einer Koerzitivkraft der fixierten magnetischen Schicht durch ein Austausch-Koppelmagnetfeld der Koerzitivkraft-Verstär kungsschicht, indem auf die fixierte magnetische Schicht, die der Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht benachbart ist, ein Magnetfeld in einer Richtung senkrecht zur Spurbreitenrichtung bei Zimmertempe ratur aufgebracht wird, oder, indem eine Wärmebehandlung durch geführt wird, um dadurch eine Magnetisierungsrichtung der fixier ten magnetischen Schicht festzulegen; und
Anlegen eines Magnetfelds, welches schwächer ist als die Koerzitiv kraft der Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht, in die Richtung der Spurbreite, um die harte Vormagnetisierungsschicht zu magnetisie ren und zu veranlassen, daß auf die freie magnetische Schicht ein Längs-Vormagnetisierungsfeld einwirkt.
11. Fertigungsverfahren für ein Magnetowiderstandselement vom Spin
ventil-Typ, umfassend die Schritte:
auf einem Substrat werden eine Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht, eine fixierte magnetische Schicht, die sich auf der Koerzitivkraft- Verstärkungsschicht befindet und aufgetrennt ist in zwei Schichten mit einer dazwischenliegenden nichtmagnetischen Zwischenschicht, eine nichtmagnetische leitende Schicht, eine freie magnetische Schicht und eine Längs-Vormagnetisierungsschicht, die durch eine zweite antiferromagnetische Schicht gebildet wird, niedergeschlagen;
Magnetisieren der fixierten magnetischen Schicht bei Zimmertempe ratur oder durch Wärmebehandlung bei einer ersten Wärmebehand lungstemperatur unter Einwirkung eines Magnetfelds auf die fixierte magnetische Schicht, die der Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht benachbart ist, in einer Richtung rechtwinklig zur Richtung einer Spurbreite, um dadurch die Koerzitivkraft der fixierten magnetischen Schicht zu steigern durch ein Austausch-Koppelmagnetfeld, um so die Magnetisierungsrichtung der Schicht festzulegen;
Wärmebehandeln der Längs-Vormagnetisierungsschicht unter gleich zeitiger Einwirkung eines Magnetfelds, das schwächer ist als die Koerzitivkraft der fixierten magnetischen Schicht, in der Richtung der Spurbreite, um ein Längs-Vormagnetisierungsfeld durch ein unidirektionales Austausch-Koppelmagnetfeld zu bilden; und
Entfernen der antiferromagnetischen Schicht in einer der Spurbreite entsprechenden Breite.
auf einem Substrat werden eine Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht, eine fixierte magnetische Schicht, die sich auf der Koerzitivkraft- Verstärkungsschicht befindet und aufgetrennt ist in zwei Schichten mit einer dazwischenliegenden nichtmagnetischen Zwischenschicht, eine nichtmagnetische leitende Schicht, eine freie magnetische Schicht und eine Längs-Vormagnetisierungsschicht, die durch eine zweite antiferromagnetische Schicht gebildet wird, niedergeschlagen;
Magnetisieren der fixierten magnetischen Schicht bei Zimmertempe ratur oder durch Wärmebehandlung bei einer ersten Wärmebehand lungstemperatur unter Einwirkung eines Magnetfelds auf die fixierte magnetische Schicht, die der Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht benachbart ist, in einer Richtung rechtwinklig zur Richtung einer Spurbreite, um dadurch die Koerzitivkraft der fixierten magnetischen Schicht zu steigern durch ein Austausch-Koppelmagnetfeld, um so die Magnetisierungsrichtung der Schicht festzulegen;
Wärmebehandeln der Längs-Vormagnetisierungsschicht unter gleich zeitiger Einwirkung eines Magnetfelds, das schwächer ist als die Koerzitivkraft der fixierten magnetischen Schicht, in der Richtung der Spurbreite, um ein Längs-Vormagnetisierungsfeld durch ein unidirektionales Austausch-Koppelmagnetfeld zu bilden; und
Entfernen der antiferromagnetischen Schicht in einer der Spurbreite entsprechenden Breite.
12. Fertigungsverfahren für ein Magnetowiderstandselement vom Spin
ventil-Typ, umfassend:
Ausbilden einer Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht, einer auf dieser niedergeschlagenen fixierten magnetischen Schicht, die durch eine nichtmagnetische Zwischenschicht in zwei Schichten aufgetrennt ist, einer nichtmagnetischen leitenden Schicht und einer freien magneti schen Schicht in kontinuierlicher Weise auf einem Substrat;
Ausbilden einer ferromagnetischen Schicht auf der freien magneti schen Schicht mit einer vorbestimmten Spurbreite dazwischen, au ßerdem Ausbilden einer antiferromagnetischen Schicht aus einem zweiten antiferromagnetischen Material auf der ferromagnetischen Schicht;
Durchführen einer Magnetisierung bei Zimmertemperatur oder einer Wärmebehandlung bei einer ersten Temperatur unter Einwirkung eines magnetischen Feldes auf die fixierte magnetische Schicht, die der Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht benachbart ist, in einer Rich tung rechtwinklig zur Spurbreite, um eine Koerzitivkraft der fixier ten magnetischen Schicht zu steigern durch ein Austausch-Koppel magnetfeld, um dadurch die Richtung der fixierten magnetischen Schicht festzulegen; und
Wärmebehandeln der antiferromagnetischen Schicht unter Einwir kung eines Magnetfelds, das schwächer ist als die Koerzitivkraft der fixierten magnetischen Schicht, auf die antiferromagnetische Schicht in Spurbreiten-Richtung, um durch ein unidirektionales Austausch- Koppelmagnetfeld ein Längs-Vormagnetisierungsfeld zu erzeugen.
Ausbilden einer Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht, einer auf dieser niedergeschlagenen fixierten magnetischen Schicht, die durch eine nichtmagnetische Zwischenschicht in zwei Schichten aufgetrennt ist, einer nichtmagnetischen leitenden Schicht und einer freien magneti schen Schicht in kontinuierlicher Weise auf einem Substrat;
Ausbilden einer ferromagnetischen Schicht auf der freien magneti schen Schicht mit einer vorbestimmten Spurbreite dazwischen, au ßerdem Ausbilden einer antiferromagnetischen Schicht aus einem zweiten antiferromagnetischen Material auf der ferromagnetischen Schicht;
Durchführen einer Magnetisierung bei Zimmertemperatur oder einer Wärmebehandlung bei einer ersten Temperatur unter Einwirkung eines magnetischen Feldes auf die fixierte magnetische Schicht, die der Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht benachbart ist, in einer Rich tung rechtwinklig zur Spurbreite, um eine Koerzitivkraft der fixier ten magnetischen Schicht zu steigern durch ein Austausch-Koppel magnetfeld, um dadurch die Richtung der fixierten magnetischen Schicht festzulegen; und
Wärmebehandeln der antiferromagnetischen Schicht unter Einwir kung eines Magnetfelds, das schwächer ist als die Koerzitivkraft der fixierten magnetischen Schicht, auf die antiferromagnetische Schicht in Spurbreiten-Richtung, um durch ein unidirektionales Austausch- Koppelmagnetfeld ein Längs-Vormagnetisierungsfeld zu erzeugen.
13. Fertigungsverfahren für ein Magnetowiderstandselement vom Spin
ventil-Typ, umfassend die folgenden Schritte:
auf einem Substrat wird ein Laminat gebildet, bestehend aus einer Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht, einer fixierten magnetischen Schicht, die auf die Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht niederge schlagen und durch eine nichtmagnetische Zwischenschicht in zwei Teilschichten aufgetrennt ist, einer nichtmagnetischen leitenden Schicht und einer freien magnetischen Schicht, wobei die Schicht anordnung eine Breite entsprechend einer Spurbreite aufweist;
Ausbilden ferromagnetischer Schichten auf beiden Seiten des Lami nats in Richtung der Spurbreite, außerdem Ausbilden einer antifer romagnetischen Schicht aus einem zweiten antiferromagnetischen Material auf der ferromagnetischen Schicht;
Durchführen einer Magnetisierung bei Zimmertemperatur oder einer Wärmebehandlung bei einer ersten Temperatur unter gleichzeitiger Einwirkung eines Magnetfelds auf die fixierte magnetische Schicht, die der Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht benachbart ist, und zwar in einer Richtung rechtwinklig zu einer Spurbreite, um die Koerzi tivkraft der fixierten magnetischen Schicht zu steigern durch ein Austausch-Koppelmagnetfeld und so eine Magnetisierungsrichtung der fixierten magnetischen Schicht festzulegen; und
Wärmebehandeln der antiferromagnetischen Schicht und der ferro magnetischen Schicht während des Anlegens eines Magnetfelds, welches schwächer ist als die Koerzitivkraft der Koerzitivkraft-Ver stärkungsschicht, um dadurch ein Längs-Vormagnetisierungsfeld durch ein unidirektionales Austausch-Koppelmagnetfeld zu erzeugen.
auf einem Substrat wird ein Laminat gebildet, bestehend aus einer Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht, einer fixierten magnetischen Schicht, die auf die Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht niederge schlagen und durch eine nichtmagnetische Zwischenschicht in zwei Teilschichten aufgetrennt ist, einer nichtmagnetischen leitenden Schicht und einer freien magnetischen Schicht, wobei die Schicht anordnung eine Breite entsprechend einer Spurbreite aufweist;
Ausbilden ferromagnetischer Schichten auf beiden Seiten des Lami nats in Richtung der Spurbreite, außerdem Ausbilden einer antifer romagnetischen Schicht aus einem zweiten antiferromagnetischen Material auf der ferromagnetischen Schicht;
Durchführen einer Magnetisierung bei Zimmertemperatur oder einer Wärmebehandlung bei einer ersten Temperatur unter gleichzeitiger Einwirkung eines Magnetfelds auf die fixierte magnetische Schicht, die der Koerzitivkraft-Verstärkungsschicht benachbart ist, und zwar in einer Richtung rechtwinklig zu einer Spurbreite, um die Koerzi tivkraft der fixierten magnetischen Schicht zu steigern durch ein Austausch-Koppelmagnetfeld und so eine Magnetisierungsrichtung der fixierten magnetischen Schicht festzulegen; und
Wärmebehandeln der antiferromagnetischen Schicht und der ferro magnetischen Schicht während des Anlegens eines Magnetfelds, welches schwächer ist als die Koerzitivkraft der Koerzitivkraft-Ver stärkungsschicht, um dadurch ein Längs-Vormagnetisierungsfeld durch ein unidirektionales Austausch-Koppelmagnetfeld zu erzeugen.
14. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 13, bei dem das Wär
mebehandeln in Richtung der Spurbreite bei einer zweiten Wärmebe
handlungstemperatur erfolgt, die höher ist als die erste Wärmebe
handlungstemperatur.
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| SG136800A1 (en) * | 2003-03-27 | 2007-11-29 | Hitachi Global Storage Tech | Magnetoresistive head and manufacturing method thereof |
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