DE102016007736B4 - Verfahren zur lokalen Modifikation eines Substrats - Google Patents
Verfahren zur lokalen Modifikation eines Substrats Download PDFInfo
- Publication number
- DE102016007736B4 DE102016007736B4 DE102016007736.0A DE102016007736A DE102016007736B4 DE 102016007736 B4 DE102016007736 B4 DE 102016007736B4 DE 102016007736 A DE102016007736 A DE 102016007736A DE 102016007736 B4 DE102016007736 B4 DE 102016007736B4
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- laser beam
- substrate
- wavelength
- excited
- state
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/04—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using optical elements ; using other beam accessed elements, e.g. electron or ion beam
- G11C13/048—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using optical elements ; using other beam accessed elements, e.g. electron or ion beam using other optical storage elements
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y20/00—Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
Landscapes
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Abstract
Verfahren zur lokalen Modifikation eines Substrats (10), umfassend die Schritte:
- Bereitstellen einer Laseranordnung zur Erzeugung eines ersten Laserstrahls einer ersten Wellenlänge, eines zweiten Laserstrahls einer zweiten Wellenlänge und eines dritten Laserstrahls einer von der ersten und der zweiten Wellenlänge verschiedenen, dritten Wellenlänge,
wobei jeder Laserstrahl in einem gemeinsamen Schreibbereich (16) eine Fluenz oberhalb eines vorgegebenen Schwellenwertes aufweist,
- Bereitstellen einer das Substrat (10) umfassenden Substratanordnung (100, 110), die Wirkmoleküle (12) in dem Substrat (10) oder in unmittelbarer Nachbarschaft zu dem Substrat (10) aufweist, welche im Schreibbereich (16) positioniert werden und folgende Eigenschaften haben:
• die Wirkmoleküle (12) sind durch Absorption von Licht der ersten Wellenlänge von einem elektronischen Grundzustand (Z0) photonisch in einen ersten energetisch erhöhten elektronischen Zustand (Z1) anregbar,
• die Wirkmoleküle (12) sind durch Absorption von Licht der zweiten Wellenlänge von ihrem ersten energetisch erhöhten elektronischen Zustand (Z1) photonisch in einen energetisch höheren, also in einen zweiten energetisch erhöhten elektronischen Zustand (Z2) anregbar, wobei von dem zweiten energetisch erhöhten elektronischen Zustand (Z2) ein spontaner, strahlungsloser Abregungspfad existiert, dessen Effizienz größer ist als diejenige jedes entsprechenden photonischen Abregungspfades,
• die Wirkmoleküle (12) sind durch Absorption von Licht der dritten Wellenlänge von ihrem ersten energetisch erhöhten elektronischen Zustand (Z1) unter stimulierter Emission in ihren elektronischen Grundzustand (Z0) abregbar,
- Erzeugen des ersten, des zweiten und des dritten Laserstrahls, wobei das Profil des dritten Laserstrahls einen Teilbereich verschwindender Intensität aufweist und wobei die zeitliche Koordination der Laserstrahlen derart erfolgt, dass Wirkmoleküle (12) im Schreibbereich (16)
• durch Absorption von Licht des ersten Laserstrahls photonisch in ihren ersten energetisch erhöhten elektronischen Zustand (Z1) angeregt werden,
• außerhalb des Teilbereichs verschwindender Intensität des dritten Laserstrahls unter stimulierter Emission wieder in ihren elektronischen Grundzustand (Z0) abgeregt werden und
• innerhalb des Teilbereichs verschwindender Intensität des dritten Laserstrahls photonisch in ihren zweiten energetisch erhöhten elektronischen Zustand (Z2) angeregt und unter Abgabe das Substrat (10) lokal modifizierender, thermischer Energie strahlungslos abgeregt werden.
- Bereitstellen einer Laseranordnung zur Erzeugung eines ersten Laserstrahls einer ersten Wellenlänge, eines zweiten Laserstrahls einer zweiten Wellenlänge und eines dritten Laserstrahls einer von der ersten und der zweiten Wellenlänge verschiedenen, dritten Wellenlänge,
wobei jeder Laserstrahl in einem gemeinsamen Schreibbereich (16) eine Fluenz oberhalb eines vorgegebenen Schwellenwertes aufweist,
- Bereitstellen einer das Substrat (10) umfassenden Substratanordnung (100, 110), die Wirkmoleküle (12) in dem Substrat (10) oder in unmittelbarer Nachbarschaft zu dem Substrat (10) aufweist, welche im Schreibbereich (16) positioniert werden und folgende Eigenschaften haben:
• die Wirkmoleküle (12) sind durch Absorption von Licht der ersten Wellenlänge von einem elektronischen Grundzustand (Z0) photonisch in einen ersten energetisch erhöhten elektronischen Zustand (Z1) anregbar,
• die Wirkmoleküle (12) sind durch Absorption von Licht der zweiten Wellenlänge von ihrem ersten energetisch erhöhten elektronischen Zustand (Z1) photonisch in einen energetisch höheren, also in einen zweiten energetisch erhöhten elektronischen Zustand (Z2) anregbar, wobei von dem zweiten energetisch erhöhten elektronischen Zustand (Z2) ein spontaner, strahlungsloser Abregungspfad existiert, dessen Effizienz größer ist als diejenige jedes entsprechenden photonischen Abregungspfades,
• die Wirkmoleküle (12) sind durch Absorption von Licht der dritten Wellenlänge von ihrem ersten energetisch erhöhten elektronischen Zustand (Z1) unter stimulierter Emission in ihren elektronischen Grundzustand (Z0) abregbar,
- Erzeugen des ersten, des zweiten und des dritten Laserstrahls, wobei das Profil des dritten Laserstrahls einen Teilbereich verschwindender Intensität aufweist und wobei die zeitliche Koordination der Laserstrahlen derart erfolgt, dass Wirkmoleküle (12) im Schreibbereich (16)
• durch Absorption von Licht des ersten Laserstrahls photonisch in ihren ersten energetisch erhöhten elektronischen Zustand (Z1) angeregt werden,
• außerhalb des Teilbereichs verschwindender Intensität des dritten Laserstrahls unter stimulierter Emission wieder in ihren elektronischen Grundzustand (Z0) abgeregt werden und
• innerhalb des Teilbereichs verschwindender Intensität des dritten Laserstrahls photonisch in ihren zweiten energetisch erhöhten elektronischen Zustand (Z2) angeregt und unter Abgabe das Substrat (10) lokal modifizierender, thermischer Energie strahlungslos abgeregt werden.
Description
- Gebiet der Erfindung
- Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur lokalen Modifikation eines Substrats, insbesondere zur Einbringung von Feinstrukturen in das Substrat, insbesondere zum Einbringen nanoskaliger Feinstrukturen, d.h. Feinstrukturen mit Strukturgrößen im Größenordnungsbereich von wenigen nm bis wenigen 10 nm. Derartige Feinstrukturen sind insbesondere im Bereich der Datenspeicherung von Relevanz.
- Stand der Technik
- Aus der
EP 1 616 344 B1 ist ein Verfahren zur Nanostrukturierung eines Substrates bekannt, bei dem Moleküle des Substrates in einem Schreibbereich mittels eines ersten fokussierten Laserstrahls von einem Grundzustand einer ersten photochromen Konfiguration in einen energetisch erhöhten elektronischen Zustand derselben photochromen Konfiguration angeregt werden, von dem aus sie in nicht näher spezifizierter Weise in einen dauerhaft modifizierten Zustand übergehen. Um die Strukturgröße der derart erzeugten Modifikationen unter die Abbe'sche Beugungsgrenze zu drücken, wird ein zweiter Laserstrahl im Schreibbereich fokussiert, dessen Profil einen durch Interferenz erzeugten Teilbereich verschwindender Intensität aufweist. Die Substratmoleküle haben die Eigenschaft, durch Licht der Wellenlänge des zweiten Laserstahls vom Grundzustand der ersten photochromen Konfiguration in einen Grundzustand einer zweiten photochromen Konfiguration des Moleküls überführt zu werden. In der zweiten photochromen Konfiguration des Moleküls ist Licht der Wellenlänge des ersten Laserstrahls nicht geeignet, einen Übergang in einen energetisch erhöhten elektronischen Zustand anzuregen, von dem aus das Molekül, wie in der ersten photochromen Konfiguration, in den dauerhaft modifizierten Zustand übergehen könnte. - Somit erfolgt die Modifikation des Substrates lediglich im Überlappungsbereich von erstem Laserstrahl und dem Gebiet verschwindender Intensität des zweiten Laserstrahls. Auf diese Weise gelingt die Erzeugung sogenannter Subdiffraktions-Strukturen, d.h. Strukturen mit Strukturgrößen unterhalb der Abbe'schen Beugungsgrenze.
- Nachteilig bei dem bekannten Verfahren sind die sehr speziellen Anforderungen an das Substrat, welches im Wesentlichen aus schaltbaren Photochromen bestehen muss, die in ihrer ersten Konfiguration photonisch anregbar und in einen dauerhaft modifizierten Zustand überführbar sind und die in ihrer zweiten Konfiguration eine derartige photonische Anregung - zumindest mit derselben Wellenlänge - nicht zulassen. Dies schränkt die Materialwahl möglicher Substrate, die für praktische Anwendungen auch einer Vielzahl weiterer Nebenbedingungen unterworfen sind, stark ein.
- Aus der
ist ein lithografisches Verfahren bekannt, bei dem die Subdiffraktions-Polymerisierung eines Fotolacks angestrebt wird. Der Photolack enthält einen sogenannten Photoinitialisator, der bei photonischer Anregung durch einen ersten Laserstrahl mit geringem Zeitverzug eine Polymerisierung des ihn umgebenden Prä-Polymers anstößt. Zugleich hat er die Eigenschaft, vom Licht eines zweiten Laserstrahls in einen inaktiven Zustand überführt werden zu können. Auch hier weist der zweite Laserstrahl in seinem Profil ein Gebiet verschwindender Intensität auf, innerhalb dessen die Polymerisierung stattfindet, während im Überlappungsbereich von erstem Laserstrahl und Gebieten nicht-verschwindender Intensität des zweiten Laserstrahls keine Polymerisierung des Photolacks erfolgt.US 2011/0039213 A1 - Aus Klar, T. A.. et al.: „Fluorescence microscopy with diffraction resolution barrier broken by stimulated emission", PNAS, Vol 97, No 15, 8206-8210 (2000) ist die sogenannte STED-Mikroskopie bekannt. Dabei wird ein Fluorophor von seinem elektronischen Grundzustand in einen energetisch erhöhten elektronischen Zustand überführt, von wo es unter Aussendung von Fluoreszenzlicht in den elektronischen Grundzustand zurückkehrt. Zugleich wird allerdings der Beleuchtungsbereich mittels eines zweiten Laserstrahls, des sogenannten STED-Strahls beleuchtet, dessen Profil einen Teilbereich verschwindender Intensität aufweist und dessen Wellenlänge geeignet ist, die im energetisch erhöhten elektronischen Zustand befindlichen Fluorophore zu stimulierter Emission anzuregen. Das Timing der beiden Laserstrahlen hat dabei so zu erfolgen, dass zunächst eine Anregung der Fluorophore von ihrem Grund- in den energetisch erhöhten Zustand erfolgt, wobei allerdings vor einer im Wesentlichen spontanen Fluoreszenzemission, d.h. innerhalb der Fluoreszenz-Lebensdauer des angeregten Zustandes, die stimulierte Abregung durch den STED-Strahl erfolgt, sodass lediglich diejenigen Fluorophore im Überlappungsbereich von erstem Laserstrahl und Teilgebiet verschwindender Intensität des zweiten Laserstrahls ihre Fluoreszenz in erheblichem Maße spontan emittieren. Diese Spontanfluoreszenz kann bei geeignetem Timing eines optischen Detektors isoliert aufgenommen werden, sodass die Erstellung subdiffraktionsaufgelöster Bilder möglich wird.
- Aus Fischer, J. et al.: „The Materials Challenge in Diffraction-Unlimited Direct-Laser Writing Optical Lithography", Adv.Mater. 2010, 22, 3578-3582 ist die Anwendung des STED-Prinzips in der Photolithographie bekannt. Im Photolack befindliche Wirkmoleküle werden durch den ersten Laserstrahl von ihrem elektronischen Grundzustand in einen energetisch erhöhten elektronischen Singulett-Zustand angeregt. Von dort werden sie mittels des STED-Strahls in dessen Randbereich unter stimulierter Emission wieder zurück in den Grundzustand überführt. Im intensitätsschwachen Zentrum des STED-Strahls gehen die Wirkmoleküle jedoch entweder unter spontaner Emission ebenfalls in den Grundzustand oder strahlungslos in einen energetisch zwischen dem Grund- und dem angeregten Singulett-Zustand gelegenen Triplett-Zustand über. Dieser dient als Initiator für die lokal beschränkte Polymerisierung des Photolacks.
- Aus der
ist eine Weiterentwicklung dieses Verfahrens bekannt. Hier dient der Triplett-Zustand nicht direkt zur Polymerisierung des Photolacks, sondern als Initiator für eine nicht näher offenbarte, photochemische Reaktion, mit der im Photolack enthaltenes Silbersalz lokal zu Silber-Nanopartikeln reduziert wird. Mittels eines weiteren Lasers erfolgt in einem nachfolgenden Schritt eine plasmonische Anregung dieser Nanopsrtikel, was eine lokal eng begrenzte Polymerisierung des Photolacks bewirkt.RU 2 510 632 C1 - Die Idee, eine Spur aus Silber-Nanopartikeln zu legen und diese zur Initialisierung einer lokal beschränkten Polymerisierung mittels eines Lasers plasmonisch anzuregen, wird auch in Stamplecoskie, K.G. et al.: „Dual-Stage Lithography from a Light-Driven, Plasmon-Assistes Process: A Hierarchical Approach to Subwavelength Features", Langmuir 2012, 28, 10957-10961 aufgegriffen. Eine Nutzung des STED-Prinzips wird darin allerdings nicht erwähnt.
- Aus der
DE 10 2005 012 739 B4 ist die Überprüfung einer photolithographisch erzeugten Struktur mittels STED-Mikroskopie bekannt. - Die
DE 10 2015 015 497 A1 gibt einen allgemeinen Überblick über die Anwendung von der hochauflösenden Mikroskopie zugrunde liegenden Verfahren in der Photolithographie. - Aufgabenstellung
- Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein alternatives Verfahren zur Feinstrukturierung eines Substrats zur Verfügung zu stellen, bei dem die Anforderungen an die molekularen Eigenschaften des Substrates reduziert werden und daher die Bandbreite der dem Verfahren zugänglichen Substrate erweitert wird.
- Darlegung der Erfindung
- Diese Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren mit den Merkmalen von Anspruch 1, d.h. durch ein Verfahren zur lokalen Modifikation eines Substrats, umfassend die Schritte:
- - Bereitstellen einer Laseranordnung zur Erzeugung eines ersten Laserstrahls einer ersten Wellenlänge, eines zweiten Laserstrahls einer zweiten Wellenlänge und eines dritten Laserstrahls einer von der ersten und der zweiten Wellenlänge verschiedenen, dritten Wellenlänge, wobei jeder Laserstrahl in einem gemeinsamen Schreibbereich eine Fluenz oberhalb eines vorgegebenen Schwellenwertes aufweist,
- - Bereitstellen einer das Substrat umfassenden Substratanordnung, die Wirkmoleküle in dem Substrat oder in unmittelbarer Nachbarschaft zu dem Substrat aufweist, welche im Schreibbereich positioniert werden und folgende Eigenschaften haben:
- • die Wirkmoleküle sind durch Absorption von Licht der ersten Wellenlänge von einem elektronischen Grundzustand photonisch in einen ersten energetisch erhöhten elektronischen Zustand anregbar,
- • die Wirkmoleküle sind durch Absorption von Licht der zweiten Wellenlänge von ihrem ersten energetisch erhöhten elektronischen Zustand photonisch in einen energetisch höheren, zweiten energetisch erhöhten elektronischen Zustand anregbar, wobei von dem zweiten energetisch erhöhten elektronischen Zustand ein spontaner, strahlungsloser Abregungspfad existiert, dessen Effizienz größer ist als diejenige jedes entsprechenden photonischen Abregungspfades,
- • die Wirkmoleküle sind durch Absorption von Licht der dritten Wellenlänge von ihrem ersten energetisch erhöhten elektronischen Zustand unter stimulierter Emission in ihren elektronischen Grundzustand abregbar,
- - Erzeugen des ersten, des zweiten und des dritten Laserstrahls, wobei das Profil des dritten Laserstrahls einen Teilbereich verschwindender Intensität aufweist und wobei die zeitliche Koordination der Laserstrahlen derart erfolgt, dass Wirkmoleküle im Schreibbereich
- • durch Absorption von Licht des ersten Laserstrahls photonisch in ihren ersten energetisch erhöhten elektronischen Zustand angeregt werden,
- • außerhalb des Teilbereichs verschwindender Intensität des dritten Laserstrahls unter stimulierter Emission wieder in ihren elektronischen Grundzustand abgeregt werden und
- • innerhalb des Teilbereichs verschwindender Intensität des dritten Laserstrahls photonisch in ihren zweiten energetisch erhöhten elektronischen Zustand angeregt und unter Abgabe das Substrat lokal modifizierender, thermischer Energie strahlungslos abgeregt werden.
- Bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung sind Gegenstand der abhängigen Patentansprüche.
- Anders als bei den bekannten Verfahren erfolgt beim erfindungsgemäßen Verfahren die Modifikation von Substratmolekülen nicht auf dem Weg der photonischen Anregung der Substratmoleküle selbst, sondern durch photonische Anregung von hier als Wirkmoleküle bezeichneten Hilfsmolekülen, die einen hocheffizienten strahlungslosen Abregungspfad (z.B. durch inter- und/oder intramolekulare Vibrationen, Rotationen, Kollisionen etc.) aus ihrem angeregten Zustand aufweisen, sodass es bei der strahlungslosen Abregung in der engsten Umgebung des Wirkmoleküls zu einer starken, lokalen Temperaturerhöhung kommt, die ihrerseits die gewünschte Modifikation des Substratmoleküls erzeugt. Diese Modifikation kann eine thermisch induzierte Ablation, eine thermisch induzierte Polymerisation oder eine andere mittelbar oder unmittelbar thermisch induzierte Reaktion sein.
- Das Grundprinzip der Erfindung besteht zunächst in einer zweistufigen Anregung der Wirkmoleküle im Schreibbereich.
- Der Schreibbereich kann durch einen gemeinsamen Fokalbereich der eingesetzten Laserstrahlen vorgegeben sein. Es ist jedoch auch möglich, z.B. durch Interferenztechniken, einen für die eingesetzten Laserstrahlen gemeinsamen Bereich erhöhter Fluenz zu schaffen, innerhalb dessen (und außerhalb dessen gerade nicht) die auftretenden Fluenzen hinreichend hoch sind, um die hier erläuterten Reaktionen auszulösen. In diesem breiten Sinn ist der Begriff „Schreibbereich“ zu verstehen.
- Mittels des ersten Laserstrahls, d.h. mittels Licht der ersten Wellenlänge, erfolgt im Schreibbereich eine photonische Anregung eines Wirkmoleküls von einem elektronischen Grundzustand Z0 in einen ersten angeregten, d.h. energetisch erhöhten elektronischen Zustand Z1. Von hier aus erfolgt mittels eines zweiten Laserstrahls, d.h. mittels Licht einer zweiten Wellenlänge, eine weitere Anregung in einen höheren, zweiten elektronischen Zustand Z2.
- Der elektronische Grundzustand Z0 kann (und wird in der Regel, muss jedoch nicht zwingend) mit dem spektroskopischen Grundzustand S0 des Wirkmoleküls zusammenfallen. Der Begriff „Grundzustand“ ist im Kontext der vorliegenden Beschreibung im Sinne eines Ausgangszustandes zu verstehen, von dem die erfindungsgemäß ausgelöste Reaktion ausgeht. Analog können die angeregten, d.h. energetisch erhöhten elektronischen Zustand Z1 und Z2 mit den spektroskopischen Zuständen S1 bzw. Sn, insbesondere S2, zusammenfallen. Dies ist jedoch nicht zwingend erforderlich und bei vielen Ausführungsformen der Erfindung auch tatsächlich nicht der Fall. Insbesondere können bei den erfindungsgemäß ausgelösten An- und Abregungsprozessen ein oder mehrere spektroskopische Zustände S1 übersprungen werden. Wie weiter unten an einem Beispiel noch näher verdeutlicht werden soll, kann der Begriff „angeregter Zustand“ bzw. „energetisch erhöhter elektronischer Zustand“ auch mehrere spektroskopische Zustände umfassen. Zur Unterscheidung wird, wo erforderlich, das Kürzel S1 für spektroskopische Zustände im engeren Sinn und die Bezeichnung Zn für Zustände im oben erläuterten, weiteren Sinn verwendet. In jedem Fall bezeichnet der Begriff „Zustand“ - da sich die Erfindung im molekularen und nicht im idealisierten, atomaren Bereich abspielt - keinesfalls ein scharfes Energieniveau, sondern einen mehr oder weniger breiten Energiebereich, wie er sich beispielsweise in den Breiten von Emissions- und Absorption-Peaks wiederspiegelt.
- Wesentliches Merkmal der Erfindung ist, dass vom zweiten angeregten Zustand Z2 ein hocheffizienter, strahlungsloser Abregungspfad existiert. Das bedeutet, dass die spontane Abregung aus dem angeregten Zustand Z2 überwiegend strahlungslos erfolgt und dabei die gewünschte Modifikation des Substrats thermisch induziert.
- Dies allein würde jedoch zu einer Feinstrukturierung des Substrats mit beugungsbegrenzten Strukturgrößen führen. Der Schreibbereich als solcher ist nämlich dieser Größenbegrenzung durchaus unterworfen. Zur Überwindung der Abbe'schen Beugungsgrenze greift die Erfindung daher das eingangs im Kontext der Fluoreszenzmikroskopie erwähnte STED-Prinzip zurück. Mittels eines sog. STED-Strahls, d.h. mittels des dritten Laserstrahls, wird eine bereichsweise Entvölkerung des ersten angeregten Zustandes Z1 durch stimulierte Emission bewirkt, sodass in diesen Bereichen der weitergehenden Anregung nach Z2 und damit der strahlungslose Abregung aus Z2 die Grundlage entzogen wird. Lediglich in denjenigen Bereichen, in denen sich das Teilgebiet verschwindender Intensität des STED-Strahls und der erste Laserstrahl überlappen, existieren in Z1 angeregte Wirkmoleküle, die durch den zweiten Laserstrahl in den weiter erhöhten energetischen Zustand Z2 überführt werden können.
- Des leichteren Verständnisses halber soll nachfolgend der erste Laserstrahl, der die Wirkmoleküle vom Grundzustand Z0 in den ersten energetisch erhöhten elektronischen Zustand Z1 anregt, als „Vorbereitungsstahl“ und die entsprechende Wellenlänge als „Vorbereitungswellenlänge“ bezeichnet werden. Der zur weiteren Anregung der Wirkmoleküle vom ersten energetisch erhöhten elektronischen Zustand Z1 in den zweiten energetisch erhöhten elektronischen Zustand Z2 verwendete Laserstrahl soll nachfolgend als „Anregungsstrahl“ und die entsprechende Wellenlänge als „Anregungswellenlänge“ bezeichnet werden. Der zur Auslösung der stimulierten Emission der in Z1 angeregten Wirkmoleküle genutzte Strahl soll nachfolgend als „STED-Strahl“ und die entsprechende Wellenlänge als „STED-Wellenlänge“ bezeichnet werden.
- Bei einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung erfolgt die photonische Anregung und strahlungslose Abregung des zweiten energetisch erhöhten Zustandes zyklisch. Dies ist insbesondere dann der Fall, wenn der hocheffiziente, strahlungslose Abregungspfad vom zweiten energetisch erhöhten elektronischen Zustand Z2 zum ersten energetisch erhöhten elektronischen Zustand Z1 führt. Dann nämlich können die aus Z2 nach Z1 zurückkehrenden Moleküle vom Anregungsstrahl unverzüglich erneut nach Z2 angeregt werden. Denkbar ist jedoch auch die Verwendung anderer Materialien, bei denen der hocheffiziente, strahlungslose Abregungspfad beispielsweise unmittelbar nach Z0 führt. Die dabei an das Substrat abgegebene thermische Energie ist bei einzelmolekularer Betrachtung zwar höher; insgesamt kann der Prozess aufgrund des Fehlens der zyklischen An- und Abregung zwischen Z1 und Z2 jedoch weniger effizient ausfallen.
- Die obige Nennung dreier Laserstrahlen und dreier Wellenlängen soll dem leichteren Verständnis der Erfindung dienen und ist rein funktional zu verstehen. In der Praxis ist es hingegen durchaus möglich, dass die erste und die zweite Wellenlänge, d.h. die Vorbereitungswellenlänge und die Anregungswellenlänge, identisch sind. Insbesondere ist es möglich, dass der erste und der zweite Laserstrahl, d.h. der Vorbereitungsstrahl und der Anregungsstrahl, identisch sind, insbesondere als ein und derselbe Strahl mit gleicher Wellenlänge, Intensität, Strahlprofil, Pulsdauer und -zeitpunkt und Strahlengang aus derselben Laserquelle stammen. Dies ist insbesondere dann möglich, wenn die Wirkmoleküle Ihren Zustand Z2 etwa im gleichen energetischen Abstand von Z1 haben, in dem Z1 über Z0 liegt. Dann nämlich kann Licht derselben Wellenlänge sowohl zur Anregung von Z0 nach Z1 als auch von Z1 nach Z2 dienen.
- Aufgrund der oben erläuterten, natürlichen Breite jedes energetischen Zustandes sollte bevorzugt die dritte Wellenlänge, d.h. die STED-Wellenlänge länger sein als die erste Wellenlänge, d.h. die Vorbereitungswellenlänge. Die Anregung von Z0 nach Z1 im Rahmen der Vorbereitung erfolgt typischerweise von einem tieferliegenden vibronischen Sub-Niveau von Z0 zu einem höherliegenden vibronischen Sub-Niveau von Z1. Dort erfolgt quasi instantan eine vibronische Relaxation innerhalb der vibronischen Sub-Niveaus. Die mit der STED-Wellenlänge anzuregende stimulierte Emission hat jedoch von diesem niedrigeren Sub-Niveau von Z1 zu einem innerhalb Z0 höhergelegenen vibronischen Sub-Niveau zu führen. Dem wird mit der erläuterten Rotverschiebung des STED-Strahls im Vergleich zum Vorbereitungs-Strahl Rechnung getragen.
- Bevorzugt ist der Teilbereich verschwindender Intensität ein im Zentrum des Profils des dritten Laserstrahls, d.h. des STED-Strahls liegendes, abgeschlossenes Gebiet. Mit anderen Worten wird bevorzugt ein STED-Strahl mit dem typischen „Donut“-Profil verwendet. Bei einer alternativen Ausführungsform ist hingegen der Teilbereich verschwindender Intensität ein das Profil des dritten Laserstrahls, d.h. des STED-Strahls, zentral teilendes, linienartiges Gebiet. Diese Beschreibungen sind rein zweidimensional auf das Strahlprofil im Sinne der Intensitätsverteilung im Strahl-Querschnitt zu verstehen. Die Ausdehnung des Teilgebietes verschwindender Intensität in Strahlausbreitungsrichtung kann zusätzlich variiert werden. Insgesamt hat das Gebiet natürlich eine dreidimensionale Ausdehnung. Die konkrete Wahl der Teilgebietsform hängt von der Form der gewünschten Substratmodifikation ab und kann vom Fachmann weitgehend frei gewählt werden. Die Techniken zur Erzeugung unterschiedlicher STED-Profile, die typischerweise den Einsatz von Phasenmasken im Laserstrahl einbeziehen, sind dem Fachmann geläufig.
- Der zweite Laserstrahl ist bevorzugt ein Kurzpuls-Laserstrahl. Der erste und vor allem der dritte Laserstrahl, die zwar ebenfalls gepulste, bevorzugt Kurzpuls-Laserstrahlen sein können, können auch als Dauerstrichstrahlen ausgebildet sein. Die gepulste Natur des zweiten Laserstrahls, d.h. des Anregungsstrahls, ist für die vorliegende Erfindung jedoch von ganz besonderem Vorteil. Beim Vorbereitungsstrahl und beim STED-Strahl ist das Timinig weitgehend unkritisch, da sich beide Strahlen in ihrem Überlappungsbereich in ihrer Wirkung im Wesentlichen gegenseitig aufheben. Lediglich im Teilgebiet verschwindender Intensität werden die zur weiteren Anregung vorgesehenen Wirkmoleküle im Z1-Zustand zur Verfügung gestellt. Ein „Sammeln“ und gemeinsames Anregen mittels eines kurzen Pulses führt bei der nachfolgenden, strahlungslosen Abregung zu einer sehr kurzzeitigen, jedoch intensiven, extrem lokalisierten Temperaturerhöhung, die aufgrund der instantanen Wärmedissipation in das umgebende Substrat sehr schnell abgebaut wird - allerdings unter thermischer Modifikation der benachbarten Substrat-Moleküle. Ein ohne den Einsatz eines Kurzpulslasers als Anregungslaser verlängerter Prozess könnte zu einer Wärmeleitung in ein räumlich größeres Gebiet führen, was der Intension einer möglichst kleinräumigen Modifikation des Substrats zuwiderliefe.
- Hinsichtlich der Materialwahl für das Substrat bzw. die Wirkmoleküle steht dem Fachmann eine breite Auswahl offen. Bei einer bevorzugten Anwendungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens umfasst die Substratanordnung als Substrat einen mit Wirkmolekülen dotierten und für Licht der ersten, zweiten und dritten Wellenlänge transparenten Festkörper. Die Wirkmoleküle sind somit als Hilfsstoffe in das SubstratMaterial eingebracht. Dies kann z.B. in Form von Einzelmolekülen, als Copolymer oder in Form multimolekularer Substanzinseln in der Substratmatrix erfolgen. Eine rein beispielhaft genannte Herstellungsmethode ist die Bereitstellung von Substrat- und Wirkmolekülen in einer gemeinsamen Lösung und Evaporation des Lösungsmittels. Auch die Bereitstellung einer Mischung aus einem Prä-Polymers und den Wirkmolekülen mit anschließender Polymerisierung kann zu einem dotierten Substrat im vorliegenden Sinne führen. Da zumindest die thermische Modifikation des Substrates eine schwellenbehaftete Reaktion darstellt, ist eine unerwünschte Modifikation des Substrats außerhalb des Schreibbereichs der Laserstrahlen nicht zu befürchten. Dies gilt auch bei der bevorzugten, koaxialer Einleitung der Laserstrahlen.
- Bei einer alternativen Anwendung der Erfindung ist vorgesehen, dass die Substratanordnung als Substrat einen für Licht der ersten, zweiten und dritten Wellenlänge transparenten Festkörper sowie als Wirkflüssigkeit eine die Wirkmoleküle enthaltende Flüssigkeit in Kontakt zu einer Oberfläche des Substrats umfasst, wobei der Schreibbereich an der Kontaktfläche zwischen dem Substrat und der Wirkflüssigkeit liegt. Bei diesem Ansatz werden also die oben ausführlich erläuterten Prozesse nicht im Substrat selbst, sondern in der benachbarten Flüssigkeit vollzogen. Die thermische Wirkung dieser Prozesse beeinflusst und modifiziert jedoch die benachbarte Oberfläche des Substrats, sodass die gewünschte Feinstruktur-Modifikation des Substrats erreicht wird. Die eigentliche Modifikationsreaktion im Substrat kann dabei unmittelbar thermischer Natur sein oder eine mittelbar durch die lokale Temperatursteigerung in der Wirkflüssigkeit hervorgerufene Reaktion. Beispielsweise kann es durch die kurzfristige und lokal beschränkte Temperatursteigerung in der Wirkflüssigkeit zu erheblichen, lokalen Druckschwankungen kommen, die ihrerseits zu Ablationen an der Substratoberfläche beitragen.
- Bevorzugt ist der Kontakt zwischen Substrat und Wirkflüssigkeit unmittelbar und die Kontaktfläche eine echte Grenzfläche zwischen Substrat und Wirkflüssigkeit. Es ist jedoch auch eine dünne Beschichtung des Substrates, z.B. zum Zwecke des Schutzes gegen eine aggressive Wirkflüssikeit, und damit ein mittelbarer Kontakt zwischen Substrat und Wirkflüssigkeit denkbar. Die Beschichtung hat selbstverständlich so dünn zu sein, dass die gewünschte thermisch induzierte Modifikation des Substrates nicht wesentlich behindert wird.
- Selbstverständlich ist es auch möglich, die Wirkflüssigkeit durch eine Wirksubstanz eines anderen Aggregatzustandes zu ersetzen, beispielsweise ein Wirkfestkörper, ein Wirkgas oder ein Wirkgel, das bzw. der die Wirkmoleküle enthält. Die oben im Kontext einer Wirkflüssigkeit gegebenen Erläuterungen gelten entsprechend. Aufgrund der hohen festgestellten Prozesseffizienz wird derzeit jedoch die Verwendung einer Wirkflüssigkeit bevorzugt.
- Wie oben erläutert, ist es ein Vorzug der Erfindung, dass die Bandbreite der verwendbaren Materialien gegenüber dem Stand der Technik erweitert wird. Als ein besonders vorteilhaftes Material für den Festkörper - sei es als Substratanordnung dotiert mit Wirkmolekülen oder sei es als Substrat selbst in Oberflächenkontakt zu einem Wirkmedium - haben sich Polymere sowie Glas erwiesen. Dies insbesondere aufgrund der niedrigen Modifikationsschwelle im Hinblick auf thermische und ablative Modifikation einerseits und im Hinblick auf seine Transparenz im Wellenlängenbereich wirtschaftlich verfügbarer Laser. Der Begriff der Transparenz ist im Kontext der vorliegenden Beschreibung funktionsorientiert auszulegen. Eine 100%ige Transparent, d.h. eine Transmissivität des Festkörpers von 1 für alle verwendeten Wellenlängen wird praktisch kaum möglich sein und ist insbesondere nicht erforderlich. „Transparent“ im Sinne der vorliegenden Beschreibung ist ein Stoff, wenn die Absorption oder Streuung der konkret verwendeten Wellenlängen hinreichend klein ist, dass keine unerwünschte Materialmodifikation erfolgt und keine derartige Schwächung der verwendeten Laserstrahlen auftritt, dass die oben erläuterten, erwünschten Prozesse im Schreibbereich nicht mehr in praktisch relevantem Maß zustande kommen.
- Als Wirkmoleküle - sei es für die Dotierung eines Festkörpers oder sei es als Wirkmoleküle innerhalb eines Wirkmediums in Oberflächenkontakt zu einem Festkörpersubstrat - haben sich insbesondere organische Farbstoffe bewährt, von denen etliche die erfindungsrelevanten Eigenschaften zeigen. Als Wirkflüssigkeit hat sich eine Lösung der Wirkmoleküle in organischem Lösungsmittel bewährt.
- Besonders bevorzugte Ausführungsformen sehen einen Festkörper aus PMMA (Polymethylmethacrylat) als Substrat in Oberflächenkontakt mit einer Lösung von Rhodamin 6G in Ethanol, einen Festkörper aus Glas als Substrat in Oberflächenkontakt mit einer Lösung von Pyren in Aceton oder einen mit Pyren dotierten Festkörper aus PVA (Polyvinylacetat) vor.
- Die jeweils praktisch zu verwendenden Wellenlängen hat der Fachmann in Ansehung der speziellen spektroskopischen Eigenschaften der verwendeten Substanzen zu wählen. Dies sollte ihm jedoch auf Basis der bekannten bzw. spektroskopisch leicht ermittelbaren Eigenschaften jeglicher infrage kommender Substanzen ohne Schwierigkeiten möglich sein.
- Bevorzugte Ausführungsformen sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche.
- Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden speziellen Beschreibung und den Zeichnungen.
- Figurenliste
- Es zeigen:
-
1 : ein Termschema einer ersten bevorzugten Ausführungsform der Erfindung, -
2 : ein Termschema einer zweiten bevorzugten Ausführungsform der Erfindung, -
3 : ein Termschema einer Variante der Ausführungsform von1 , -
4 : ein Termschema einer Variante der Ausführungsform von2 , -
5 : ein Termschema einer dritten Ausführungsform der Erfindung, -
6 ein prinzipieller Aufbau einer ersten Anwendungsform der Erfindung und -
7 ein prinzipieller Aufbau einer zweiten Anwendungsform der Erfindung. - Ausführliche Beschreibung bevorzugter Ausführungsformen
- Gleiche Bezugszeichen in den Figuren deuten auf gleiche oder analoge Elemente hin.
-
1 zeigt in stark abstrahierter Form ein Termschema der An- und Abregungsprozesse innerhalb der Wirkmoleküle bei einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Die Darstellung zeigt lediglich die für die Erfindung relevanten Übergangsspfade, deren Effizienz ein Kriterium für die sinnvolle Auswahl der zur praktischen Realisierung der Erfindung zu verwendenden Substanzen ist. Der Fachmann wird verstehen, dass weitere Übergangspfade geringerer Effizienz möglich sind und in der Regel auch gegebene sein werden. - Zu Beginn des Verfahrens befinden sich die Wirkmoleküle im Grundzustand Z0. Mittels eines hier als Vorbereitungsstrahl bezeichneten Laserstrahls erfolgt eine Anregung der Wirkmoleküle vom Grundzustand Z0 in den ersten angeregten Zustand Z1, wie durch den Anregungspfeil
1 angedeutet. Typischerweise erfolgt die Anregung dabei auf ein höhergelegenes, vibronisches Sub-Niveau von Z1, von dem aus eine instantane Relaxation auf ein niedrigeres vibronisches Sub-Niveau von Z1 erfolgt. Mittels eines hier als Anregungsstrahl bezeichneten, weiteren Laserstrahls erfolgt eine weitere Anregung der Wirkmoleküle in den zweiten angeregten Zustand Z2, wie durch den weiteren Anregungspfeil2 angedeutet. Auch hier erfolgt die Anregung typischerweise in ein höhergelegenes vibronisches Sub-Niveau, von dem aus eine instantane Relaxation innerhalb Z2 erfolgt. Die unterschiedliche Schraffur beider Anregungspfeile1 ,2 deutet an, dass diese bei der gezeigten Ausführungsform unterschiedliche Wellenlängen und ggf. andere unterschiedliche Strahleigenschaften haben. Die beschriebene Anregung von Z1 nach Z2 mittels des Anregungsstrahls erfolgt jedoch nur in denjenigen Gebieten des Schreibbereichs, in denen die im ersten angeregten Zustand Z1 befindlichen Wirkmoleküle nicht zuvor mittels eines STED-Strahls unter Aussendung stimulierter Emission zurück in den Grundzustand Z0 überführt wurden. Wie durch den Abregungspfeil3 angedeutet, erfolgt der stimulierte Übergang von Z1 nach Z0 von einem tiefergelegenen vibronischen Sub-Niveau von Z1 zu einem höhergelegenen vibronischen Sub-Niveau innerhalb Z0. Daher ist der „energetische Abstand“ zwischen Z1 und Z0 für die stimulierte Abregung kleiner als für die Anregung mittels des Vorbereitungsstrahls, was sich insbesondere in der Wahl einer längeren Wellenlänge für den STED-Strahl im Vergleich zum Vorbereitungsstrahl wiederspiegelt. Lediglich diejenigen Wirkmoleküle, die im Schreibbereich innerhalb eines Teilgebietes verschwindender Intensität des STED-Strahls liegen, erfahren die vorgenannte Anregung von Z1 nach Z2. Dort steht ihnen ein durch den Abregungspfeil4 angedeuteter, strahlungsloser Abregungspfad zurück nach Z1 offen. Dessen Effizienz ist größer als diejenige jedes strahlungsbehafteten Übergangs von Z2 nach Z1 oder nach Z0. Der strahlungslose Übergang wird daher der dominante Abregungsprozess sein. Die dabei freiwerdende Wärme führt zu einem erheblichen Temperatursprung, dessen räumliche Ausdehnung auf das Teilgebiet verschwindender Intensität des STED-Strahls innerhalb des Schreibbereichs beschränkt ist. Überschreiten der Temperatursprung oder die davon abhängigen Sekundäreffekte, wie beispielsweise Drucksprünge, einen für eine dauerhafte Modifikation des Substrats erforderlichen Schwellenwert, erfolgt eine lokal extrem beschränkte Modifikation des Substrats, d.h. die Schaffung einer Feinstruktur mit Strukturgrößen unterhalb der Beugungsgrenze. - Die gestrichelten Linien in
1 (sowie in den2-5 ), deuten an, dass die Zustände Zn, die bei der Ausführungsform von1 spektroskopischen Zuständen S1 entsprechen, nicht zwingend unmittelbar benachbart sein müssen, sondern dass bei den beschriebenen An- und Abregungsprozessen durchaus spektroskopische Zustände übersprungen werden können. -
2 zeigt ein Termschema einer zweiten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens. Wie durch die einheitliche Schraffur der Anregungspfeile1 ,2 von Z0 nach Z1 und von Z1 nach Z2 angedeutet, haben der Vorbereitungs- und der Anregungsstrahl hier dieselbe Wellenlänge. Insbesondere werden bevorzugt beide Übergänge mittels desselben Laserstrahls angeregt. Das molekulare Grundprinzip ist bei dieser Ausführungsform dasselbe wie bei der in1 gezeigten Ausführungsform. In der praktischen Anwendung unterscheidet es sich jedoch im Wesentlichen durch die Einsparung eines Lasers. Im Übrigen kann auf die obigen Erläuterungen verwiesen werden. - Beiden Ausführungsformen ist gemeinsam, dass die strahlungslose Abregung von Z2 zurück nach Z1 erfolgt. Dies ermöglicht eine zyklische An- und Abregung zwischen den Zuständen Z1 und Z2, die eine besondere Effizienz dieser Ausführungsformen des erfindungsgemäßen Verfahrens bewirkt.
- Die Varianten gem. den
3 und4 unterscheiden sich in dieser Hinsicht von den Ausführungsformen der1 und2 . Hier erfolgt die strahlungslose Abregung von Z2 in einen energetisch tiefer als Z1 gelegenen Zustand, bei den dargestellten Ausführungsformen insbesondere zurück in den Grundzustand Z0. Bei dieser Variante ist zwar die mit dem einzelnen strahlungslosen Übergang verbundene Wärmeabgabe größer als bei den Ausführungsformen der1 und2 ; eine zyklische An- und Abregung zwischen den Zuständen Z1 und Z2 erfolgt bei den Varianten der3 und4 jedoch nicht. Im Übrigen kann auf die obigen Erläuterung verwiesen werden. -
5 zeigt das Termschema einer dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Diese verdeutlicht in besonderem Maße das hier zugrunde gelegte weite Verständnis der energetischen Zustände Z1 im Vergleich zu den spektroskopischen Zuständen Sn im engeren Sinne. Insbesondere sind bei dieser Ausführungsform zwei spektroskopische Zustände gemeinsam als der erste angeregte Zustand Z1 zu verstehen. So erfolgt bei dieser Ausführungsform, angeregt durch den Vorbereitungsstrahl, zunächst ein Übergang vom Grundzustand Z0 in einen diesem nicht unmittelbar benachbarten, höheren spektroskopischen Zustand. Von diesem existiert ein (wie auch immer gearteter) Abregungspfad - angedeutete durch den Abregungspfeil 5 - in einen tiefer, jedoch ebenfalls oberhalb von Z0 gelegenen, weiteren spektroskopischen Zustand. Erst von diesem aus erfolgt, je nach Positionierung des konkreten Wirkmoleküls, entweder die Anregung in den zweiten angeregten Zustand Z2 oder die stimulierte Abregung zurück nach Z0. Die beiden genannten spektroskopischen Zustände bilden somit gemeinsam den ersten angeregten Zustand Z1 im Sinne der vorliegenden Beschreibung. Bei der dargestellten Ausführungsform erfolgt die strahlungslose Abregung von Z2 konkret in den unteren der beiden spektroskopischen Zustände von Z1. Dies ist selbstverständlich nicht zwingend. Denkbar ist auch jedes andere Ziel dieses strahlungslosen Übergangs, wobei mutatis mutandum auf die entsprechenden Erläuterungen zum Unterschied zwischen den Varianten der1 und3 einerseits und 2 und 4 andererseits verwiesen werden kann. -
6 zeigt in stark schematisierter Darstellung den experimentellen Aufbau einer ersten Anwendungsform der vorliegenden Erfindung. Hier ist die Matrix eines transparenten Festkörpers10 mit Wirkmolekülen12 dotiert. Diese Substratanordnung100 wird von einem koaxial verlaufenden Bündel14 aus drei Laserstrahlen, nämlich dem Vorbereitungsstahl, dem Anregungsstrahl und dem STED-Strahl durchstrahlt. Das Laserstrahlenbündel14 bildet eine Strahltaille aus, in der aufgrund der Fokussierung die Fluenzen der einzelnen Strahlen so groß sind, dass die für die vorbeschriebenen, erfindungsgemäßen Prozesse erforderlichen Schwellenwerte, zumindest der Schwellenwert für die thermisch induzierte Substratmodifikation, überstiegen werden. Es ergibt sich daher ein Schreibbereich16 , in dem die vorbeschriebenen Prozesse wirksam werden. Außerhalb des Schreibbereichs16 sind die Fluenzen zu niedrig um die erfindungsgemäßen Prozesse, zumindest den Schwellenwert für die thermisch induzierte Substratmodifikation, auszulösen. -
7 zeigt eine alternative Substratanordnung110 . Hier steht ein undotierter, transparenter Festkörper12 in Oberflächenkontakt zu einer die Wirkmoleküle12 enthaltenden Wirkflüssigkeit18 . Das Strahlenbündel14 aus Vorbereitungsstrahl, Anregungsstrahl und STED-Strahl durchstrahlt den transparenten Festkörper10 und hat seine Strahltaille im Bereich der Kontaktfläche zwischen dem Festkörper10 und der Wirkflüssigkeit18 . Die erfindungsgemäßen Prozesse spielen sich daher in der Wirkflüssigkeit18 in enger Nachbarschaft zur flüssigkeitsseitigen Oberfläche des Festkörpers10 ab. Diese Oberfläche wird daher durch die erläuterten, thermisch induzierten Modifikationen strukturiert. - Einen rein beispielhaften Überblick über experimentelle Konstellationen zur Realisierung unterschiedlicher Ausführungsformen des erfindungsgemäßen Verfahrens soll die nachfolgende Tabelle geben.
Substrat / Wirkmolekül Flüssigkeit / Wirkmolek ül Erster Laserstrahl (λ1) Zweiter Laserstrahl (λ2) Dritter Laserstrahl (λ3) Δt(1,3) Δt(1,2) PMMA / - (Polymethylmethacrylat) Ethanol / Rh6G (0,05 mol/l) 530 nm 440 nm 625 nm 300 ps 600 ps 300 ps 300 ps 300 ps 1,5 mJ/cm2 75 mJ/cm2 800 mJ/cm2 PMMA / - (Polymethylmethacrylat) Ethanol / Rh6G (0,08 mol/l) 440 nm 625 nm 0 ps - 50 ps 50 ps 250 mJ/cm2 2000 mJ/cm2 Glas / - Aceton / Pyren (0,4 mol/l) 308 nm 488 nm 0 ps - 1 ns 1 ns 500 mJ/cm2 2000 mJ/cm2 PVA / Pyren (Polyvinylacetat) (0,4 mol/l) - / - 308 nm 488 nm 0 ps - 1 ns 1 ns 190 mJ/cm2 760 mJ/cm2 - Die in den drei ersten Zeilen der Tabelle aufgeführten Anwendungsbeispiele entsprechen einem experimentellen Aufbau gem.
7 . Das in Zeile4 der Tabelle aufgeführten Anwendungsbeispiel entspricht einem experimentellen Aufbau gem.6 - Die Konstellation gem. erster Zeile der Tabelle entspricht weiter der Ausführungsform von
1 . Als zu bearbeitendes Substrat wird ein Festkörper aus PMMA (Polymethylmethacrylat) verwendet. Die Wirkflüssigkeit ist eine 0,05 molare Lösung von Rhodamin 6G in Ethanol. Als Vorbereitungslaser findet ein Laser mit Wellenlänge 530 nm, einer Pulsdauer von 30 ps und einer Fluenz von 1,5 mJ/cm2 im Schreibbereich Anwendung. Als Anregungslaser kommt mit einem Zeitversatz vom 600 ps ein Laser von einer Wellenlänge von 440 nm, einer Pulsdauer von 300 ps und einer Fluenz von 75 mJ/cm2 im Schreibbereich zum Einsatz. Der300 ps lange Puls des STED-Lasers, der eine Wellenlänge von 625 nm und eine Fluenz von 800 mJ/cm2 im Schreibbereich hat, erfolgt 300 ps nach dem Vorbereitungspuls. - Ein ähnliches Substanz-System aus PMMA und einer 0,08 molaren Rhodamin 6G in Ethanol hat sich gem. Zeile
2 der Tabelle auch für die Realisierung der Ausführungsform von2 bewährt. Als (funktionaler) erster und zweiter Laser, d.h. (funktionaler) Vorbereitungs- und (funktionaler) Anregungslaser wird ein Kurzpulslaser mit 50 ps Pulslänge bei einer Wellenlänge von 440 nm und einer Fluenz von 250 mJ/cm2 im Schreibbereich eingesetzt. Als STED-Laser, der gleichzeitig mit dem Vorbereitungs- und Anregungslaser pulst, findet ein Laser von 625 nm Wellenlänge und einer Fluenz von 2.000 mJ/cm2 im Schreibbereich Einsatz. - Ebenfalls in Zwei-Laser-Konfiguration lässt sich gem. Zeile
3 der Tabelle ein Festkörper aus Glas in Oberflächenkontakt zu einer 0,4 molaren Pyren-Lösung in Aceton bearbeiten. Der Vorbereitungs- und Anregungslaser hat hier eine Pulsdauer von 1 ns, eine Wellenlänge von 308 nm und eine Fluenz von 500 mJ/cm2 im Schreibbereich. Der gleichzeitig pulsende STED-Laser hat eine Wellenlänge von 488 nm und eine Fluenz von 2.000 mJ/cm2 im Schreibbereich. - Als Beispiel für einen experimentellen Aufbau gem.
6 weist Zeile4 der Tabelle einen in einer Konzentration von 0,4 mol/l mit Pyren dotierten Festkörper aus PVA (Polyvinylacetat) aus. Bei dem in Zeile4 der Tabelle wiedergegebenen Zwei-Laser-Aufbau hat der Vorbereitungs- und Anregungslaser eine Pulsdauer von 1 ns, eine Wellenlänge von 308 nm und eine Fluenz von 190 mJ/cm2 im Schreibbereich. Der gleichzeitig pulsende STED-Laser hat eine Wellenlänge von 488 nm und eine Fluenz von 760 mJ/cm2 im Schreibbereich. - Natürlich stellen die in der speziellen Beschreibung diskutierten und in den Figuren gezeigten Ausführungsformen nur illustrative Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung dar. Dem Fachmann ist im Lichte der hiesigen Offenbarung ein breites Spektrum von Variationsmöglichkeiten an die Hand gegeben.
- Bezugszeichenliste
-
- 1
- Anregungspfeil (Vorbereitung)
- 2
- Anregungspfeil (Anregung)
- 3
- Abregungspfeil (stimulierte Emission)
- 4
- Abregungspfeil (strahlungsloser Übergang)
- 5
- Abregungspfeil
- 10
- Substrat
- 12
- Wirkmolekül
- 14
- Laserstrahlenbündel
- 16
- Schreibbereich
- 18
- Wirkflüssigkeit
- 100
- Substratanordnung
- 110
- Substratanordnung
Claims (12)
- Verfahren zur lokalen Modifikation eines Substrats (10), umfassend die Schritte: - Bereitstellen einer Laseranordnung zur Erzeugung eines ersten Laserstrahls einer ersten Wellenlänge, eines zweiten Laserstrahls einer zweiten Wellenlänge und eines dritten Laserstrahls einer von der ersten und der zweiten Wellenlänge verschiedenen, dritten Wellenlänge, wobei jeder Laserstrahl in einem gemeinsamen Schreibbereich (16) eine Fluenz oberhalb eines vorgegebenen Schwellenwertes aufweist, - Bereitstellen einer das Substrat (10) umfassenden Substratanordnung (100, 110), die Wirkmoleküle (12) in dem Substrat (10) oder in unmittelbarer Nachbarschaft zu dem Substrat (10) aufweist, welche im Schreibbereich (16) positioniert werden und folgende Eigenschaften haben: • die Wirkmoleküle (12) sind durch Absorption von Licht der ersten Wellenlänge von einem elektronischen Grundzustand (Z0) photonisch in einen ersten energetisch erhöhten elektronischen Zustand (Z1) anregbar, • die Wirkmoleküle (12) sind durch Absorption von Licht der zweiten Wellenlänge von ihrem ersten energetisch erhöhten elektronischen Zustand (Z1) photonisch in einen energetisch höheren, also in einen zweiten energetisch erhöhten elektronischen Zustand (Z2) anregbar, wobei von dem zweiten energetisch erhöhten elektronischen Zustand (Z2) ein spontaner, strahlungsloser Abregungspfad existiert, dessen Effizienz größer ist als diejenige jedes entsprechenden photonischen Abregungspfades, • die Wirkmoleküle (12) sind durch Absorption von Licht der dritten Wellenlänge von ihrem ersten energetisch erhöhten elektronischen Zustand (Z1) unter stimulierter Emission in ihren elektronischen Grundzustand (Z0) abregbar, - Erzeugen des ersten, des zweiten und des dritten Laserstrahls, wobei das Profil des dritten Laserstrahls einen Teilbereich verschwindender Intensität aufweist und wobei die zeitliche Koordination der Laserstrahlen derart erfolgt, dass Wirkmoleküle (12) im Schreibbereich (16) • durch Absorption von Licht des ersten Laserstrahls photonisch in ihren ersten energetisch erhöhten elektronischen Zustand (Z1) angeregt werden, • außerhalb des Teilbereichs verschwindender Intensität des dritten Laserstrahls unter stimulierter Emission wieder in ihren elektronischen Grundzustand (Z0) abgeregt werden und • innerhalb des Teilbereichs verschwindender Intensität des dritten Laserstrahls photonisch in ihren zweiten energetisch erhöhten elektronischen Zustand (Z2) angeregt und unter Abgabe das Substrat (10) lokal modifizierender, thermischer Energie strahlungslos abgeregt werden.
- Verfahren nach
Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass die photonische Anregung und strahlungslose Abregung des zweiten energetisch erhöhten elektronischen Zustandes (Z2) zyklisch erfolgt. - Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die dritte Wellenlänge länger ist als die erste Wellenlänge.
- Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die erste und die zweite Wellenlänge identisch sind.
- Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Teilbereich verschwindender Intensität ein im Zentrum des Profils des dritten Laserstrahls liegendes, abgeschlossenes Gebiet ist.
- Verfahren nach einem der
Ansprüche 1 bis4 , dadurch gekennzeichnet, dass der Teilbereich verschwindender Intensität ein das Profil des dritten Laserstrahls zentral teilendes, linienartiges Gebiet ist. - Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der zweite Laserstrahl ein Kurzpuls-Laserstrahl ist.
- Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Substratanordnung (100) als Substrat einen mit Wirkmolekülen (12) dotierten und für Licht der ersten, zweiten und dritten Wellenlänge transparenten Festkörper (10) umfasst.
- Verfahren nach einem der
Ansprüche 1 bis7 , dadurch gekennzeichnet, dass die Substratanordnung als Substrat einen für Licht der ersten, zweiten und dritten Wellenlänge transparenten Festkörper (10) sowie als Wirkflüssigkeit eine die Wirkmoleküle (12) enthaltende Flüssigkeit (18) in Kontakt zu einer Oberfläche des Substrats (10) umfasst, wobei der Schreibbereich an der Kontaktfläche zwischen dem Substrat (10) und der Wirkflüssigkeit (18) liegt. - Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Festkörper (10) aus einem Polymer oder Glas besteht.
- Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Wirkmoleküle (12) organische Farbstoffmoleküle sind.
- Verfahren nach einem der
Ansprüche 9 oder10 bis11 , soweit rückbezogen aufAnspruch 9 , dadurch gekennzeichnet, dass die Wirkflüssigkeit (18) eine Lösung der Wirkmoleküle (12) in einem organischen Lösungsmittel ist.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102016007736.0A DE102016007736B4 (de) | 2016-06-27 | 2016-06-27 | Verfahren zur lokalen Modifikation eines Substrats |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102016007736.0A DE102016007736B4 (de) | 2016-06-27 | 2016-06-27 | Verfahren zur lokalen Modifikation eines Substrats |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE102016007736A1 DE102016007736A1 (de) | 2017-12-28 |
| DE102016007736B4 true DE102016007736B4 (de) | 2020-07-02 |
Family
ID=60579938
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE102016007736.0A Active DE102016007736B4 (de) | 2016-06-27 | 2016-06-27 | Verfahren zur lokalen Modifikation eines Substrats |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE102016007736B4 (de) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102018003312A1 (de) * | 2018-04-20 | 2019-11-07 | Friedrich-Schiller-Universität Jena | Verfahren zur Einbringung von Strukturen oder Materialmodifikationen mittels der Top-Down-Methode |
| DE102021101164B4 (de) | 2021-01-20 | 2024-06-27 | Xolo Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines dreidimensionalen Objekts in einem optisch reaktiven Ausgangsmaterial |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1616344B1 (de) | 2003-04-13 | 2008-08-13 | Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. | Räumlich hochaufgelöstes erzeugen einer dauerhaften struktur |
| DE102005012739B4 (de) | 2005-03-19 | 2010-09-16 | MAX-PLANCK-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. | Verfahren zur Herstellung räumlicher Feinstrukturen |
| US20110039213A1 (en) | 2009-01-05 | 2011-02-17 | University Of Maryland | Method and system for photolithographic fabrication with resolution far below the diffraction limit |
| RU2510632C1 (ru) | 2012-11-20 | 2014-04-10 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Физический институт им. П.Н. Лебедева Российской академии наук (ФИАН) | Способ изготовления резистивных масок для нанолитографии |
| DE102015015497A1 (de) | 2015-11-30 | 2017-06-14 | Horst Wochnowski | Verschiedene Anwendungen von auf hochauflösenden fluoreszenz-basierten Mikroskopiemethoden (RESOLFT/STED u.a.) basierende Verfahren, wie beispielsweise fluoreszenz-basierte Nanostrukturierung |
-
2016
- 2016-06-27 DE DE102016007736.0A patent/DE102016007736B4/de active Active
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1616344B1 (de) | 2003-04-13 | 2008-08-13 | Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. | Räumlich hochaufgelöstes erzeugen einer dauerhaften struktur |
| DE102005012739B4 (de) | 2005-03-19 | 2010-09-16 | MAX-PLANCK-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. | Verfahren zur Herstellung räumlicher Feinstrukturen |
| US20110039213A1 (en) | 2009-01-05 | 2011-02-17 | University Of Maryland | Method and system for photolithographic fabrication with resolution far below the diffraction limit |
| RU2510632C1 (ru) | 2012-11-20 | 2014-04-10 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Физический институт им. П.Н. Лебедева Российской академии наук (ФИАН) | Способ изготовления резистивных масок для нанолитографии |
| DE102015015497A1 (de) | 2015-11-30 | 2017-06-14 | Horst Wochnowski | Verschiedene Anwendungen von auf hochauflösenden fluoreszenz-basierten Mikroskopiemethoden (RESOLFT/STED u.a.) basierende Verfahren, wie beispielsweise fluoreszenz-basierte Nanostrukturierung |
Non-Patent Citations (8)
| Title |
|---|
| Fischer, J. et al.: „The Materials Challenge in Diffraction-Unlimited Direct-Laser Writing Optical Lithography", Adv.Mater. 2010, 22, 3578-3582 |
| Fischer, J. et al.: The Materials Challenge in Diffraction-Unlimited Direct-Laser-Writing Optical Lithography. In: Advanced Materials, Vol. 22, No. 32, 2010, Seiten 3578 - 3582 * |
| Im Internet: <URL: http://physics.conferenceseries.com/abstract/2016/principles-and-applications-of-optical-switching-assisted-imaging-and-structuring-schemes>, recherchiert am 22.03.2017 * |
| Im Internet: <URL: http://physics.conferenceseries.com/abstract/2016/principles-and-applications-of-optical-switching-assisted-imaging-and-structuring-schemes>, recherchiert am 28.04.2017 * |
| K.G. et al.: „Dual-Stage Lithography from a Light-Driven, Plasmon-Assistes Process: A Hierarchical Approach to Subwavelength Features", Langmuir 2012, 28, 10957-10961 |
| Klar, T. A.. et al.: „Fluorescence microscopy with diffraction resolution barrier broken by stimulated emission", PNAS, Vol 97, No 15, 8206-8210 (2000) |
| KLAR, Thomas A. [u.a.]: Fluorescence microscopy with diffraction resolution barrier broken by stimulated emission. In: Proceedings of the National Academy of Sciences of the United States of America (PNAS). 2000, Bd. 97, H. 15, S. 8206–8210. ISSN 1091-6490 (E); 0027-8424 (P). DOI: 10.1073/pnas.97.15.8206. URL: http://www.pnas.org/content/97/15/8206.full.pdf [abgerufen am 29.11.2016]. Bibliographieinformationen ermittelt über: http://www.pnas.org/content/97/15/8206.abstract [abgerufen am 29.11.2016]. * |
| Stamplecoskie, K. G. et al.: Dual-Stage Lithography from a Light-Driven, Plasmon-Assisted Process: A Hierarchical Approach to Subwavelength Features. In: Langmuir, Vol. 28, No. 30, 2012, Seiten 10957 – 10961 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE102016007736A1 (de) | 2017-12-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP4032688B1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum herstellen eines dreidimensionalen objekts in einem optisch reaktiven ausgangsmaterial | |
| DE102014116958B9 (de) | Optisches System zur Strahlformung eines Laserstrahls, Laserbearbeitungsanlage, Verfahren zur Materialbearbeitung und Verwenden einer gemeinsamen langgezogenen Fokuszone zur Lasermaterialbearbeitung | |
| EP2152462B1 (de) | Verfahren zur laserbearbeitung transparenter materialien | |
| EP3427036B1 (de) | Verfahren zum hochaufgelösten lokalen abbilden einer struktur in einer probe, um reaktionen eines interessierenden objekts auf veränderte umgebungsbedingungen zu erfassen | |
| EP3898181B1 (de) | Parallelisierte 3d-lithographie mittels mehrstrahliger, mehrfarbiger lichtinduzierter polymerisation | |
| WO2016079275A1 (de) | System zur asymmetrischen optischen strahlformung | |
| DE102004024643A1 (de) | Werkstückteilungsverfahren unter Verwendung eines Laserstrahls | |
| WO2015075059A1 (de) | VERFAHREN ZUM BEHANDELN EINES LASERTRANSPARENTEN SUBSTRATS ZUM ANSCHLIEßENDEN TRENNEN DES SUBSTRATS | |
| DE69527108T2 (de) | Mikrofeine Lichtquelle | |
| DE102016117096A1 (de) | Verfahren zum hochaufgelösten lokalen Abbilden einer Struktur in einer Probe | |
| DE102020108247A1 (de) | Grossvolumiges entfernen von material durch laser-unterstütztes ätzen | |
| DE102019135283A1 (de) | Verfahren zur Lasermaterialbearbeitung und Laserbearbeitungsanlage | |
| WO2000032531A1 (de) | Verfahren zur erzeugung einer markierung in einem glaskörper | |
| DE102016007736B4 (de) | Verfahren zur lokalen Modifikation eines Substrats | |
| EP3538813B1 (de) | Wellenleiter, verfahren zur auskopplung von licht aus einem wellenleiter und display | |
| WO2022233711A1 (de) | Verfahren zum einschreiben polarisationsbeeinflussender nanostrukturen in ein transparentes material | |
| DE102006023940B4 (de) | Verfahren zur Nanostrukturierung eines Substrats | |
| DE102017116943A1 (de) | Verfahren zum Laserbohren oder Laserschneiden eines Werkstückes | |
| DE102015106728A1 (de) | Verfahren und System zur Erzeugung gepulster Laserstrahlung | |
| EP3872041B1 (de) | Verfahren zum trennen eines glaselements und glasteilelement | |
| EP2287257A2 (de) | Substanz zur Markierung der Echtheit von Geldscheinen, Wertpapieren und Unterlagen und Verfahren zur Herstellung derselben | |
| DE102008057485A1 (de) | Verfahren zum Herstellen eines Mehrfarben-Volumenhologramms und holographischer Photopolymerfilm | |
| DE102011053612B3 (de) | Körper aus einem Matrixmaterial sowie Verfahren zur Herstellung und Verwendung eines solchen Körpers | |
| DE69325192T2 (de) | Verfahren zur Formung und Denaturierung von Partikeln | |
| WO2004005982A2 (de) | Mikrostrukturierung von lichtwellenleitern zur erzeugung von optischen funktionselementen |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R012 | Request for examination validly filed | ||
| R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: LASER-LABORATORIUM GOETTINGEN E.V., DE Free format text: FORMER OWNER: EGNER, ALEXANDER, 37574 EINBECK, DE |
|
| R082 | Change of representative |
Representative=s name: FIEDLER, OSTERMANN & SCHNEIDER - PATENTANWAELT, DE |
|
| R016 | Response to examination communication | ||
| R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
| R020 | Patent grant now final |