DE1447902A1 - Verfahren zur Herstellung von Tiefdruckklischees - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von TiefdruckklischeesInfo
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Description
-mg·
«Juni
- AO Τ A N.V.
von
%irn%-e Ti^druckicIlachtes v.rw«nd*t »ah öfter·
ittl %i-rtVz teV^ll^^rf liehe gebildete Xtireser^e, di* bild*
Wk 5rt«i:l!üa*igiceit durchdringen und die unterliegehd·
Htzr^serve wird sehr oft die Photo*
graphi:« ϊί^τΐοϊ^*2έϊαί#βη· Es k8hnen dc^ei Xtareserven Iiergestelit
werden, indem man ein härtbares hydrophiles Kolloid enthaltend* und mit :ßichrömat lichtempfindlich gemachte Schicht oder ein
-hibrt&äri**, hydrophiles Kolloid -enthaltende, lichtempfindliche
Halogen-sil-beremulsionsschicht bildmassig belidhtet und härtet,
worauf man die erhaltene und bildmassig gehartete Schicht auf die zu atzende "Metalloberfläche überträgt, und anscHiessend die
nicht gehärteten Bildteile entfernt.
Im allgemeinen ist ein langsamer Ätzvorgang einem schnelleren
vorzuziehen, weil er in der Regel au besseren T-iefdruckr-
klischees führt. Wenn aber das Ätzen zu langsam verläuft, be-
° steht die Gefahr, dass die Ätzflüssigkeit auch an jenen Stellen
ο durch die Ät^reserve dringt, und die au ätzende Oberfläche anoo
greift, wo sie nicht ätzen sollte. Infolgedessen war es bisher
notwendig, die Ätzreserve ziemlich dick zu wählen. So mussten
BAD ORIGINAL.
Unterlagen (Art. ? § 1 Ab». 2 Nr. I Setz 3 des Änderungsges. v. 4. 9. »
die aus einer durch Bichrom*t itnaibilisierten fchicht erhaltenen
Xt2reiervan mindestens 15 ρ und die aus einer lichtempfindlichen
KalofftnsiXbeireisulsiontichicht erhilt§n«n mind··Un· 13 ψ diele
sein. Dieser Dichmtnttrschied ist durch die jeweilige Art der
HIrtung bedingt, der di« liehte«pfindliche Schicht unterzogen
An sich i*t eine dickere Xtiret*rve nicht al· »*cht«il hinxu- -nehiten. FaIIs aJaer. solch eine dicker« Itireierve nach einen - -der »wei vorgenannten photögraphisehen Verfahren hergesteilt
wird, muss man von noch stärkeren lichtempfindlichen Schichten ä&ren. Diöit* wifiifit*fi* 40 ^a für
mm
von wenigaktesfts %S ψ mi exireic^eöi, «iaä jwöaSifStexiS 25 ja iilr
beifcirlgt;, «im
vtm 23 ψ zu
Die Ve-rwerKäiirig solcher dicJcen ldicix*ein|j^n<ilicaten .biian^essiig :zu
h'artenden Schichten ist mit "verschiedenen 'Nacht&ilen "
wie Verlängerung ^er BeÜchturigstfaueri, "Vexxttfst sn
fceit und stärfcer Äufrollneigting d'&s -üchfteinpfinälichen '
da- dicfce »Schichten grössere Zuglcr'äf te auf tten träger ausüben
als dünnere-.
Die Aufgabe der Erfindung -ist ;d:ai?in~-zu ÄEblictoen, die'Herstellung und Verwendung licftfeempfindlieher -Materialien anit
dünneren lichtempf-indliGheri, blldrriässig :2U . härteraden ^Schichten
zu ermÖgliGhen. '
8 098 0 3/-0 78S \""-..,
Es wurde gefunden, dass aus einer mit Dichromat lichtempfindlich gemachten und ein härtbares, hydrophiles Kolloid enthaltenden
Schicht mit einer Maximaldicke von 30 ti oder aus
einer ein härtbares hydrophiles Kolloid enthaltenden Halogensilberemulsionsschicht
mit einer Maximaldicke von 20 ii, eine
Ätzreserve erhalten werden kann, die bei einem langsamen Ätzvorgang die Eisen-(III)-chlorid-Ätzflüssigkeit nicht an
Stellen bis auf die Metalloberfläche dringen lässt, wo keine Ätzflüssigkeit vordringen darf, wenn sie eine hochmolekulare
Substanz mit einem Molekulargewicht zwischen etwa 3.000 und 2O.000 enthält, die in'saurem Medium entweder unlöslich ist
oder in saurem Medium mit dem hydrophilen Kolloid einen unlöslichen Komplex bildet. Solche hochmolekularen Substanzen
werden in der weiteren Beschreibung "als in saurem Medium
unlösliche Polymerisate" bezeichnet werden. " '
Die aus den genannten Schichten mit Maximaldicken von 30 u bzw. 20 ü erhaltenen Ätzreserven besitzen nur eine Dicke von
höchstens etwa 10 u bzw. etwa 18 u. Vermutlich hemmt die
in saurem Medium unlösliche hochmolekulare Substanz das Durchdringen
der sauren Ätzflüssigkeit. Infolgedessen kan durch erfindungsgömässe Ätzreserven von einer gegebenen Dicke längere
Zeit und also auch tiefer in die Metalloberfläche hinein geätzt
<o werden, als wenn keine in saurem Medium unlöslichen PoIy-
^ merisate in der Ätzreserve vorliegen.
In saurem Medium unlösliche hochmolekulare Substanzen, die
'co besonders geeignet sind, in das erfindungsgemäss zu verwendende
lichtempfindliche Material eingearbeitet zu werden, sind u.a.
Poly(vinylmaleinat), Mischpolymerisate aus Styrol : und- Mal ein-; :
säureanhydrid, einige saure Gruppen enthaltende . Gelatineab-, ,
kömmlinge., wie das -Reaktionsprodukt aus- Gelatine .und Phthal- . säureanhydrid, und .ivas seriös liehe Äthy Ice 1 lulo s.ephthal ate. .- .
Besonders geeignete Mischungen einer hochmolekularen .Substanz
und eines hydrophilen.Kolloids, die in saurem Medium einen .-;.-.-,-. unlöslichen Komplex bilden, sind u.a. eine Mischung eines , ;■,..-.■ wasserlöslichen Salzes von Äthylcellulosesulfobenzoesäure und,;. Poly (vinylalkohol) ,.· und eine Mischung yon Gelatine, und Poly -, · (styrolsulfonsäure),. wobei letztere meistens in, der Form eine^s wasserlöslichen Salzes verwendet wird. .;
kömmlinge., wie das -Reaktionsprodukt aus- Gelatine .und Phthal- . säureanhydrid, und .ivas seriös liehe Äthy Ice 1 lulo s.ephthal ate. .- .
Besonders geeignete Mischungen einer hochmolekularen .Substanz
und eines hydrophilen.Kolloids, die in saurem Medium einen .-;.-.-,-. unlöslichen Komplex bilden, sind u.a. eine Mischung eines , ;■,..-.■ wasserlöslichen Salzes von Äthylcellulosesulfobenzoesäure und,;. Poly (vinylalkohol) ,.· und eine Mischung yon Gelatine, und Poly -, · (styrolsulfonsäure),. wobei letztere meistens in, der Form eine^s wasserlöslichen Salzes verwendet wird. .;
Die Herstellung dieser in saurem Medium unlösliche Polymerisate ist allgemein'bekannt. Selbstverständlich müssen diese
Polymerisate mit dem verwendeten, härtbaren, hydrophilen Kolloid mischbar sein.
Polymerisate mit dem verwendeten, härtbaren, hydrophilen Kolloid mischbar sein.
Das Verhältnis des in saurem Medium unlöslichem Polymerisats
zum härtbaren hydrophilen Kolloid in der lichtempfindlichen.
Schicht ist hauptsächlich von der Natur dieser Produkte abhängig. Im allgemeinen belauft sich'die Menge des in saurem Medium
unlöslichen Polymerisats auf 2 bis 20 Gew. % der Gesamtmenge
Bindemittel der lichtempfindlichen Schicht.
zum härtbaren hydrophilen Kolloid in der lichtempfindlichen.
Schicht ist hauptsächlich von der Natur dieser Produkte abhängig. Im allgemeinen belauft sich'die Menge des in saurem Medium
unlöslichen Polymerisats auf 2 bis 20 Gew. % der Gesamtmenge
Bindemittel der lichtempfindlichen Schicht.
Falls für die Durchführung der Erfindung eine mit Dichromat
lichtempfindlich gemachte Schicht verwendet wird, geschieht
das meistens in der Form von Pigmentpapier. Letzteres kann
hergestellt werden, indem· man eine wässrige Dispersion eines
härtbaren, hydrophilen Kolloids, beispielsweise Fischleim,-, ;
lichtempfindlich gemachte Schicht verwendet wird, geschieht
das meistens in der Form von Pigmentpapier. Letzteres kann
hergestellt werden, indem· man eine wässrige Dispersion eines
härtbaren, hydrophilen Kolloids, beispielsweise Fischleim,-, ;
8 0 9 8 09/ 0 782
Polyvinylalkohol, Gelatine oder ein anderes Protein, und eines
Pigments wie Eisen(III)-oxyd derart auf einen geeigneten Träger*
z.B. einen Papiertrag β; vergiesst, dass nach der Trocknung auf
diesen Träger eine Schicht mit einer Maximaldicke von 30 μ vör-Xiegtp
dieses Material mit einer Dichromatlösung tränkt und es nachher gegebenenfalls hochglänzt. Es soll die Pigmentkonzentration
derart gewählt werden, dass späterhin bei der Belichtung dieses lichtempfindlichen Materials die Lichtstrahlen
nicht am tief eindringen und somit auch die Härtung des
hydrophilen Kolloids nicht zu tief stattfinden kann, wodurch
das Entfernen des Trägers schwierig oder sogar unmöglich
werden würde. Dieses lichtempfindliche Material wird dann in
der bei Pigmentpapier üblichen Weise, meistens sogar einige Minuten kurzer, durch einen Raster und nach einer Halbtonvorlage
Cdie Reihenfolge dieser Belichtungen spielt keine Rolle) belichtet· Dadurch wird die lichtempfindliche Schicht an den
belichteten Stellen so tief, wie die Lichtstrahlen in der lichtempfindlichen Schicht vordringen, gehärtet und unlöslich
in Wasser· Die Tiefe, bis zu der die Härtung vordringt, darf höchstens etwa 10 u betragen. I\ach der "Übertragung der bildgemäss
gehärteten Schicht auf die zu ätzende Metalloberfläche
(meistens ein Kupferaylinder oder eine Kupferplatte), und nach
der Entfernung des Trägers und der nichtgehärteten liildteile
ο der lichtempfindlichen Schicht, die meistens durch Auswaschen
0^ geschieht, ist die Ät^reserve fertig, und es kann mit dem ÄL&en
cn mittels der üDlichen Eisen(HT)-chlor.Lci-Lösungen begonnen werden«
Soll die Erfindung mit einer Ätzreserve aus einer lichtempfindlichen
Halogensilberemulsionsschicht durchgeführt werden, wird .''V «AD-ORIGINAL ~^~
meistens ein sogenannter TiefdruckfiIm* verwendet, der in der
folgenden Reihenfolge u.a. enthält : einen hydrophoben biegsamen
Träger, eine Abziehschicht» *>ine hydrophobe biegsame Membran und
eine lichtempfindliche Halogehsilberemülsionsschicht mit einer
Maximaldicke Von 20 ti, die ein härtbares hydrophiles Kolloid wie
Gelatine oder ein anderes Protein und mindestens ein in saurem
Medium unlösliches Polymerisat enthält» Gegebenenfalls kann
dieser Tiefdruckfilm ausätaliche Schichten enthalten, z.B. ein«
Lichthofschutzschicht öder sonstige Schichten für das Aufbauen
eines Tiefdruckfilms, wie ausführlich in den deutschen Patentanmeldungen G 30 840, G 36 824 und G 38 351 beschrieben wurde.
Dieses lichtempfindliche Material wird dann erst durch einen
Raster und anschliessend nach einer Halbtonvorlage oder umgekehrt
belichtet, und dann gerbend entwickelt. Der Tiefdruckfilm wird
dann gegen die zu ätzende Metalloberfläche (z.B. eine Kupferwalze
oder Kupferplatte) gepresst. Darauf werden die zeitweiligen und
endgültigen Träger entfernt, der erstere meistens durch blosses
Abziehen, der letztere durch Auflosen oder gernäss einem in der
deutschen Patentanmeldung G 30 ö40 beschriebenen Verfahren= Die
nicht gehärteten Bildteile der lichtempfindlichen Emulsionsschicht
werden dann entfernt, was meistens durch- Auswaschen mit Wasser
geschieht. Für die Herstellung des Tiefdruckklischees verfährt
man uanri weiter, wie oben für Pigmentpapier beschrieben wurde.
Die Dicke der Ätzreserve betragt höchstens ungefähr 16-u.
Die obige Beschreibung von Pigmentpapier und Tiefdruckfilm sowie
auch der Herstellung von Tiefdruckklischees aus solchem lichtempfindlichem
Material wurde sehr elementar gehalten. Näheres
80980 9/078 2 BADORIGlNAt
darüber findet man in der sehr ausgedehnten einschlägigen
Fachliteratur,, beispielsweise Lexikon für das Graphische Gewerbe VQ.Ei.;E.rnst Born (1958),, S, 381, 3b2, 417 und 474 bis 480),
Practical Printing and Binding, herausgegeben von Harry Whetton (1946), So298 bis 307, und besonders Photogravure von HoM.
Cartv/right und Robert HackKay (1956) S. 120 bis 264.
Es folgen jetzt einige Vergleichsversuche, die klar zeigen, dass mit den merklich dünneren lichtempfindlichen Schichten nach
der Erfindung einwandfreie Ätzvorgängebei gleicher Ätzdauer möglich sind wie mit den bis anhiri üblichen dickeren lichtempfindlichen
Schichten«
Versuch. 1
Vier. Tiefdruckfilme 1, 2, 3 und 4 tragen je eine lichtempfindliche
Schicht, die aus folgenden Suspensionen 1, 2, 3 bzw. aufgetragen wird : :
Suspension 1 ~
nicht-spektral sensibilisierte wässrige
Gelatine-Chlorbromsilberemulsion
(25 Mol % Chlorid) 25 %
grünsensibilisierte wässrige Gelatine-Chlorsilberemulsion 75 %
Diese Suspension wird derart vergossen, daas nach dem Jj0 1 Trocknen 28 g trockner Stoff je Quadratmeter vorliegt, was
einer etwa 26 u dicken lichtempfindlichen Schicht entspricht.
cn -
O0 Suspension 2
cn
cn
oo Suspension 1 ., . ._ - ,55^.55 %
20 %-ige wässrige Lösung des' Uatriumsälzes" ■--
- von Poly(styrQlsulf.on$äure).... . 1,67 %
Wasser 31,67 %
Diese Suspension wird derart vergossen, dass nach dem Trocknen
18,2 g trockner Stoff je Quadratmeter vorliegt, was einer ungefähr
17 u dicken lichtempfindlichen Schicht entspricht.
Suspension 3
Suspension 1 55,55 %
20 %ige wässrige Lösung des Natriumsalzes
von Poly(styrolsulfonsäure) 2,78 %
Wasser . 41,67 %
Diese Suspension wird derart vergossen, dass nach dem Trocknen
14,5 g trockner Stoff je Quadratmeter vorliegt, was einer ungefähr 13,5 ρ dicken lichtempfindlichen Schicht entspricht.
Suspension 4
Suspension 1 44,44 %
20 %ige wässrige Lösung des Natriumsalzes
von"Poly(styrolsulfonsäure) 4,44 %
Wasser 51,12 %
Diese Suspension wird derart vergossen, dass nach dem Trocknen 11,4 g trockner Stoff je Quadratmeter vorliegt, was einer ungefähr
10,5 Ii dicken lichtempfindlichen Schicht entspricht.
Die verwendete Polystyrolsulfonsäure wird durch Sulfonieren von
Polystyrol (Molekulargewicht : + 5000) in konzentrierter
Schwefelsäure hergestellt. Die erhaltene Poly(styrolsulfonsäure) enthält eine Sulfonsäuregruppe pro Benzolkern.
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H47902
Aiif jedem dieser Tiefdruckfilme werden nacheinander ein Raster
und ein Graukeil kopiert. Die belichteten lichtempfindlichen Materialien werden dann gerbend entwickelt und auf eine kupferne
Platte übertragen· Nach dem Auswaschen der nicht gehärteten
Teile erhält man Atzreserven,deren Dicken sich auf ungefähr 24,
16, 13 bzw. 10 u belaufen. Darauf wird mit einer Ei sen (IH)-chloridlösung von 41,5* Be geätzt» Die für die vollständige
Atzung erforderlichen Zeiten sind 24 MIn1 18 h Min, 20 H Min,
bzw, 22 Min.
Versuch 2
folgenden Zusammensetzungen vergossen i
|
auf den ersten
Träger |
cm3 |
auf den zweiten
Träger |
cm3 |
| 67 | g | 77 | g |
| 4,5 | g | 5 | g |
| 10 | cm3 | 11,4 | |
| 25 | g - | — | g |
| 9 | cm3 | 5 | cm 3 |
| 3 | 3 |
Wasser
Gelatine
2 %ige wässrige Lösung von
Natriumäthylcellulose-m-
sulfobenzoat
Eii·: -'lliy-oxyd
sul- .-: ces Rizinusöl
Das verwendete Natrium'athylcellulose-m-suliobenzoat hat einen
Substitutionsgrad von 2,45 Äthoxylgruppen und von 0,3 m-SuIf
obenzoy !gruppen» Die Viskos! bat einer 5 %icjen Losung in
Toluol/äthanol (80:20) der Äthylcellulose, aus der das Äthylcellulose—m-bulfobenzoat
hergestellt wird, beträgt 6~b cP bei
Die Zusammensetzungen werden derart vergossen, dass nach dem Trocknen die Dicke der ersten Pigmentgelatineschicht 30 tx und
der zweiten Gelatineschicht 50 u ist« Die erhaltenen Materialien
werden im nachstehenden einfachheitshalber erstes und zweites
Material genannt*
Beide Materialien werden in eine 3,5 %ige wässrige Kaliumdichromatlösung getaucht und darauf hochgeglänzt. Mit einer
offenen Bogenlampe werden auf jeden» dieser Materialien nacheinander ein Raster und ein Halbtondiapositiv (mit Dichten
von 0,3 bis 1,65) kopiert· Dann werden diese Materialien in üblicher Weise auf eine kupferne Plätte übertragen, in Wasser
von 45° ausgewaschen und getrocknet, worauf mit einer Eisen(III)-
chloridlösung von 41,5* Be geätzt wird. Die aus dem ersten
Material erhaltene Ätzreserve hat eine Dicke von 10 u, die aus
dem zweiten Material erhaltene ist 21 ρ dick.
Bei der ersten Ätzreserve braucht die Ätzflüssigkeit 22 Min., um
in die den hellsten Halbtönen des Diapositivs entsprechenden Teile bis auf das Kupfer durchzudringen. Bei der zweiten Ätzreserve
braucht sie dazu 24 Min.
BADORIQINAL
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Claims (4)
1.^Verfahren zur Herstellung von Tiefdruckklischees durch Be-"—lichtung
einer lichtempfindlichen, mit Dichromat sensibilisierten härtbaren Kolloidschicht nach einer Halbtonvorlage
und durch einen Raster, wodurch eine Härtung an den belichteten Stellen stattfindet, Übertragung der lichtempfindlichen
Schicht auf die zu ätzende Metalloberfläche, Entfernung der
ungehärteten Stellen und,Ätzung der Metalloberfläche durch
die endgültige Ätzreserve hindurch mit einer Eisen(III)-chloridlösung, dadurch gekennzeichnet, dass eine höchstens
30 u dicke lichtempfindliche Schicht verwendet wird, die 2-20 Gew.%, berechnet von der Gesamtmenge Bindemittel der
lichtempfindlichen Schicht, einer hochmolekularen Substanz mit einem Molekulargewicht zwischen etwa 3.000 und 20.000
enthält, die in saurem Medium entweder unlöslich ist oder in saurem Medium mit dem hydrophilen Kolloid einen unlöslichen
Komplex bildet.
2. Verfahren zur Herstellung von Tiefdruckklischees durch Belichtung einer lichtempfindlichen härtbaren Halogensilberemulsions-Kolloidschicht
nach einer Halbtonvorlage und durch einen Raster, Härtung an den belichteten Stellen durch ger-
^ bende Entwicklung, Übertragung der gerbend entwickelten
"*«*>» Halogensilberemulsionsschicht auf die zu ätzende Metallober-
^ fläche, Entfernung der ungehärteten Stellen und Ätzung der
ο Metalloberfläche durch die endgültige Ätzreserve hindurch
oo
Heue Unterlegen
a«? 5 de'· fadenmgsaes, *- * 9-
mit einer Eisen(III)-chloridlösung, dadurch gekennzeichnet,
dass eine höchstens 20 u dicke Halogensilberemulsionsschicht
verwendet wird, die 2-20 Gew.56, berechnet von der Gesamtmenge Bindemittel der lichtempfindlichen Schicht, einer
hochmolekularen Substanz mit einem Molekulargewicht zwischen etwa 3ο000 und 20.000 enthält, die in saurem Medium entweder
unlöslich ist oder in saurem Medium mit dem hydrophilen Kolloid einen unlöslichen Komplex bildet.
3. /erfahren nach einem der Ansprüche l.oder 2, ,dadurgh gekennzeichnet,
dass das härtbare hydrophile .Kolloid Gelatine und die hochmolekulare Substanz Polystyrolsulfonsäure oder ein
wasserlösliches Salz von Polystyrolsulfonsäure ist.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, dass; das härtbare hydrophile Kolloid PoIy-
" vinylalkohol und die hochmolekulare Substanz eixi wasserlösliches
Salz von Äthylcellulosesulfobenzoesäure ist. ·
5ο Pigmentpapier für ein Verfahren nach Anspruch 1, 3 oder 4,
das aus einem Panierträger und einer mit üichromat sen- ^
sibilisierten Schicht besteht, dadurch gekennzeichnet, dass
diese Schicht höchstens 30 u dick ist und ein härtbares hydrophiles Kolloid sowie eine hochmolekulare Substanz mit
einem Molekulargewicht zwischen etwa 3.000 und 20.000 enthält,
die in saurem Medium entweder unlöslich ist oder in saurem Medium mit dem hydrophilen Kiloid einen unlöslichen
Komplex bildet. -, .-.,·,-
BAD
0 98 0 9/0 782
/1 ? —
«If* V'«*-lhr»ft n*ch Anspruch 2, 1 «far
mm ^tmm kydropiioti^n t>i-*gsd»«n Träger,
«1% 41%»·* frag·* V*rbund»n*n
dadurch g*)c«nnz«ichn*t.,
-20 ρ Ülcfc
mmm V&ffim
BAD
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL292176 | 1963-05-01 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1447902A1 true DE1447902A1 (de) | 1968-11-21 |
Family
ID=19754658
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19641447902 Pending DE1447902A1 (de) | 1963-05-01 | 1964-05-02 | Verfahren zur Herstellung von Tiefdruckklischees |
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| CH (1) | CH427503A (de) |
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| NL (1) | NL292176A (de) |
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|---|---|---|---|---|
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| EP0095235A3 (de) * | 1982-05-26 | 1984-09-05 | Autotype International Limited | Ätzschutzlack |
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- NL NL292176D patent/NL292176A/xx unknown
-
1964
- 1964-04-30 CH CH567264A patent/CH427503A/fr unknown
- 1964-04-30 GB GB18071/64A patent/GB1070795A/en not_active Expired
- 1964-05-01 US US364321A patent/US3362824A/en not_active Expired - Lifetime
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- 1964-05-04 BE BE647441A patent/BE647441A/xx unknown
Also Published As
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|---|---|
| BE647441A (de) | 1964-08-31 |
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| CH427503A (fr) | 1966-12-31 |
| NL292176A (de) | 1900-01-01 |
| GB1070795A (en) | 1967-06-01 |
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