DE1464355A1 - Verfahren zur Messung der Ladungstraeger-Lebensdauer von Halbleiter-Material - Google Patents

Verfahren zur Messung der Ladungstraeger-Lebensdauer von Halbleiter-Material

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DE1464355A1
DE1464355A1 DE19631464355 DE1464355A DE1464355A1 DE 1464355 A1 DE1464355 A1 DE 1464355A1 DE 19631464355 DE19631464355 DE 19631464355 DE 1464355 A DE1464355 A DE 1464355A DE 1464355 A1 DE1464355 A1 DE 1464355A1
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resonant circuit
semiconductor material
charge carrier
sample
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DE19631464355
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Krampf Dipl-Ing Carl Heinrich
Gerhard Kramer
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Philips Intellectual Property and Standards GmbH
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Philips Patentverwaltung GmbH
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/26Testing of individual semiconductor devices
    • G01R31/265Contactless testing
    • G01R31/2656Contactless testing using non-ionising electromagnetic radiation, e.g. optical radiation

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
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  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Measurement Of Resistance Or Impedance (AREA)

Description

  • "Verfahren zur Messung der Ladungsträger-Lebensdauer von Halbleiter-Material" Die Erfindung bezieht sich au9 ein Verfahren zur Messung der LadungstrtLger-Lebens dauer von Halbl eiter-Material, dessen spezifische elektrische Leitfähigkeit für Hochfrequenz-Ströme in Abhängigkeit von einer Belichtung in Form einer Abklingkurve gemessen wird. Brhöht man durch Licht die Ladungsträgerkonzentriation in einer Halbleiterprobe über den Gleichgewichtswert, so fällt sie nach Verlöschen des Lichtes exponentiell mit der Trägerlebenedauer als Zeitkonstanten wieder ab. Entsprechend verhElt sich die spezifische elektrische Leitfähigkeit und mit ihr der Leitwert einer vorgegebenen Probe.
  • Die 'Messung der Lebensdauer erfolgte nun bisher derart, daß in bei mit einet zu messenden Halbleiterprobe ein Widerstand liegt Durch diese Serienschaltung fließt ein Gleichstrom, der am Widerstand des Hsibleiters einen Spannungsabfall erzeugt. Auf diesen wird nun eine periodisohe Polge von Rechtecklichtimpulsen gegeben. Mit der dadurch erzeugten Leitfähigkeitsänderung der Probe ändert sich der an ihr liegende Spannungsabfall. Dieser wird verstärkt und einem Oszillographen zugeführt. Bei entsprechender Eichung kann auf dem Bildschirm direkt die Ladungsträger-Lebensdauer abgelesen werden. Sie entspricht nämlich dem Punkt auf der Zeitachse, über dem der Wert des Spannungsabfalls au9 1/e abgesunken ist, SEr eine hohe Empfindlichkeit der Messung muß das Widerstands verhältnis groß gewählt werden Der maximal mögliche Strom durch die Halbleiterprobe ist durch deren Geometrie und spezifischen Widerstand vorgegeben. Erwärmung und zu große Feldstärken verfälschen die Meßergebnisse.
  • Die Gleichstrom-Meßmethode hat ferner den großen Nachteil, daß an dem Halbleiter-Prüfling zwei sperrfreie Kontakte angebracht werden müssen, Dieser zusätzliche Arbeitsaufwand ist sehr störend, ganz abgesehen davon, daß die Herstellung wirklich guter, sperrfreier Kontakte schon ein Problem für sich darstellte Es vrar daher naheliegend, bei der Messung statt Gleichstrom einen hochfrequenten Wechselstrom zu verwenden und die Probe kapazitiv anzukoppeln. Dabei wird die Gleichspannungsquelle durch einen HF-Generator ersetzt0 an den Meßklemmen erscheint eine amplitudenmodulierte Hochfrequenzspannung, die gleichgerichtet werden muß, bevor sie dem Oszillographen zugeführt werden kann0 Für die Größe des Vorwiderstand es gilt dasselbe wie für die Gleichstrommethods.
  • Hat man nur eine bestimmte Iis-Spannung zur Verfügung, wird man einen Kompromiß schließen müssen, um die optimale Zeßspannung zu bekommen. Wenn die Wechselstromwiderstände der Ankopplungskapazitäten als klein gegenüber dem Prüflingswiderstand anzusehen und keine Parallelkapazitäten zu berücksichtigen sind, erhält man die maximale Meßamplitude dann, wenn die Widerstände gleich sind. Hierbei wird vorausgesetzt, daß der sich dabei einstellende Strom für den Prüfling noch zulässig ist0 Die soeben getroffene Voraussetzung, daß die Widerstände der Ankopplungskapazitäten klein gegenüber denen des Priiflings sein sollten, kann oftmals nicht erfüllt werden. Die Ankopplung an die Probe geschieht normalerweise dadurch, daß man unter Zwischenlage geeigneter Isolierfolien zwei Metallelektroden an die Probe preßt. Die Kapazitätswerte, die man auf diese Weise erreicht, hängen stark von der Geometrie der Probe bzw.-des Prüflings, der Isolierfolie und den Elektroden ab.
  • Bei kleinen Proben erhält man nur wenige, bXi großen bis zu einigen hundert Picofarad0 Bei kleinen Kapazitäten und einer Meßfrequenz von z. B. 50 MHz muß man daher mit Werten für 1/#0 in Höhe von einigen hundert Ohm rechnen.
  • Ein weiterer Empfindlichkeitsverlust kann durch die unvermeidlichen parallel liegenden Kapazitäten auftreten. Diese sind durch die räumliche unordnung der Teile, insbesondere der anschlußklemmen und des am ausgang angeschlossenen HF-Gleichrichters bzw. des Verstärkers bedingte Im übrigen muß ein leistungsfähiger HF-Generator zur Verfügung stehen, der einen gewissen Aufwand darstellt.
  • Diese Nachteile beseitigt das Verfahren zur Messung der Ladungsträger-Lebensdauer von Halbleiter-Material gemäß der erfindung dadurch, daß das Halbleiter-Material als Serienwiderstand eines zu einem HF-Schwingkreis kapazitiv parallel geschalteten Bedämpfungsgliedes eingeführt wird und aus der durch die Beliohtung resultierenden Änderung der Dämpfung des Schwingungskreises die Abklingkurve und damit die Lebensdauer gemessen wird.
  • Die untere Grenze des Halbleiterwiderstandes, bis zu der na-ch dem üblichen Verfahren noch Lebensdauermessungen durchgeführt werden können, wird um mehr als eine Zehnerpotenz erweiterte Infolge der äußerst kleinen, für die Messung der Probe erforderlichdn Ankopplungskapazitäten ist es möglich, Kristallplättchen mit einer Fläche von wenigen mm 2 zu messen.
  • Anhand der Zeichnung wird das Verfahren gemäß der erfindung näher erläutert.
  • Es zeigen Zig, 1 einen für das Verfahren verwendeten Oszillatorsohwingkreis, Fig. 2 eine Abwandlung des Schwingkreises, Fig. 9 ein Diagramm und @ @ Fig. 4 ein weiteres Ausführungsbeispiel eines bei dem Verfahren verwendbaren Oszillators. t Na-oh Fig. 1 wird das Steuergitter 1 einer HF-Verstärkerröhre 2 mit einer geeigneten H2-Schwingung angesteuert. Im Anodenkreis der Röhre liegt ein auf Resonanz abgestimmter Schwingungskreis, dem der zu messende und belichtende Halbleiterprüfling 4 über der Ankopplungskapazität 5 parallel liegt.
  • Die Ankopplungskapazität ist praktisch durch die Halterung des Prüflinge 4 bedingt. Durch den Widerstand des Prtiflings @ wird der Schwingungskreis bedämpft. Damit wird die Verstärkung der Röhre und als Polge die HF-Amplitude al Schwingkreis herabgesetzt.
  • Jede Änderung von RHL bewirkt eine Änderung der Dämpfung und damit der Schwingkreisspannung, die gleichgerichtet, verstärkt und auf einen Oszillographen gegeben wird.
  • Die Meßanordnung ist umso empfindlicher, je größr der Resonanzwiderstand, d. h. je höher die Güte des Resenanskreises ist. Übliche Werte liegen bei 10 bis 20 50 MHz.
  • Die Ankopplung des Halbleiter-Prüflings erfolgt vorte weise nicht über die sich durch seine Geometrie ergebende Ankopplungskapazität 5 (Cs) sonden über einen weiteren, sehr kleinen veränderbaren Kondensator 6 (C') mit Kondensator 5 in Serie geschaltet.
  • Die wirksame Ankopplungskapazität ist hierbei direkt proportional dem Produkt aus Cs und C' und indirekt proportional der Summe aue und C'. Mit diesem Wert als Parameter kann man Kurven aufzeichnen, deren Abszisse gleich RHL und deren Ordinate gleich dem Außenwiderstand Ra ist (Fig. 5).
  • Während, bedingt durch die geometrischen Abmessungen der Halbleiter-Probe, die Bedingung 1/#C#RHL oft nicht zu erfüllen ist, kann man die umgekehrte Bedingung 1/#C# RHL stets dadurch erfüllen, daß man in Serie mit C@ einen klein nen, variablen Kondensator 6 (C') schaltet. Man kann so den Arbeitspunkt für die Messung mit Sicherheit auf einen geeigneten Kuvenast legen und braucht nicht zu befürchten, auf irgendeinem flachen Kurventeil oder gar im Minimum arbeiten zu müssen. In den flachen Kurventeilen ist die erzielbare Meßamplitude gering und kann zu Verzerrungen führen, wähend im Bereioh dem Minimums überhaupt keine Messung möglich ist.
  • Der Verlauf der Kurven nach Fig. 3 zeigt, daß die Dämpfung des Schwingkreises für den geforderten Bereich abnimmt, wenn durch Lichtbestrahlung der Probe deren Widerstand verkleinert wird. Widerstandsänderungen der Probe führen also zu Änderungen der Schwingkreisspannung, die einer Änderung des Außenwiderstandes proportional ist.
  • Ohne besonderen Aufwand kann bei dem Meßverfahren nach der Erfindung das Mehrfache der Meßamplitude erhalten werden gegenüber den bekannten Verfahren, Für werden vorgegebenen Probenwiderstand gibt es einen Wert für 1/#C, bei dem man den maximalen Transformationseffekt' erzielt. Wird zur Messung ein Halbleiter-Prüfling an den Schwingkreis geschaltet, so tritt zwar eine Frequenzanderung auf diese Änderung ist jedoch relativ gering und kann durch Nachstimmen ohne weiteres ausgeglichen werden.
  • Bei den bisherigen Betrachtungen wurden die Parallelkapazitäten unberücksichtigt gelassen. Dieses ist aber nur zulässig für die dem Schwingkreis direkt parallel liegenden Kapazitäten, denn diese gehen in den Schwingkreis ein und führen zu der erwähnten Frequenzänderung.
  • Bei jeder Bebensdauermessung treten Parallekapazitäten auf, die die eigentliche Messung nicht stören, weil sie entweder zu klein sind, oder weil sie in die Schwingkreiskapazität eingehen. Sie verursachen aber eine Verstimmung des Schwingungskreises. Benutzt man eine Röhrenschaltung, bei der das Gitter mit einer festen Frequenz angesteuert wird, so wird man mit der Frequenz des Meßkreises danebenliegen. Natßrlich kann man den Meßkreis nachstimmen.'Man kann diesen Schönheitsfehler vermeiden, wenn man einen selbstschwingenden Oszillator benutzte Kommen nun durch die zu messenden Proben zusätzliche Kapazitäten in den Schwingkreis hinein, so ändert sich zwar auch hier die Frequenz, es tritt aber keine Amplitudenänderung auf. Die Frequenzänderung selbst ist uninteressant, da das MeßprinZip keine bestimmte Frequenz vorschreibt. Außerdem ist ein selbstschwingender Oszillator viel weniger aufwendig, als ein Oszillator mit nachgeschaltetem Verstärker. Auch bei einem selbstschwingenden Oszillator kann ausreichende Proportionalitat zwischen der Schwingkreisspannung und dem Außenwiderstand bestehen.
  • In Fig. 4 ist eine solche Schaltung angegeben. Der an sich bekannte Oszillator 7 arbeitet zweckmäßigerweise in einem Frequenzbereich von 30 bis 70 MHz. Patentansprüche:

Claims (3)

  1. Patentansprüche: 1. Verfahren zur Messung der Ladungsträgerlebensdauer von Halbleitermaterial, dessen spezifische elektrische Leitfähigkeit für HF-Ströme in Abhängigkeit von einer Belichtung in Form einer Abklingkurve gemessen wird, dadurch gekeenzeichnet, daß das Halbleitermaterial als Serienwiderstand r eines zu einem HF-Schwingkreis kapazitiv parallel geschalteten Bedämpfungsgliedes eingeführt wird und aus der durch die Belichtung resultierenden Änderung der Dämpfung des Schwingkreises die Abklingkurve und damit die Lebensdauer gemessen wird.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet daß ein mit dem Halbleiter-Prüfling in Serie geschalteter veränderbarer Kondensator verwendet ist0
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als HF-Schwingkreis ein Kreis eines selbstschwingenden Oszillators gewählt wird.
DE19631464355 1963-11-12 1963-11-12 Verfahren zur Messung der Ladungstraeger-Lebensdauer von Halbleiter-Material Pending DE1464355A1 (de)

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DE19631464355 Pending DE1464355A1 (de) 1963-11-12 1963-11-12 Verfahren zur Messung der Ladungstraeger-Lebensdauer von Halbleiter-Material

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DE (1) DE1464355A1 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0002451A1 (de) * 1977-12-12 1979-06-27 International Business Machines Corporation Verfahren und Anordnung zur berührungsfreien Messung von Verunreinigungsstellen in Halbleitern

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0002451A1 (de) * 1977-12-12 1979-06-27 International Business Machines Corporation Verfahren und Anordnung zur berührungsfreien Messung von Verunreinigungsstellen in Halbleitern

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