DE1621802A1 - Verfahren zur Herstellung elektrisch isolierender Schichten durch Elektrophorese - Google Patents
Verfahren zur Herstellung elektrisch isolierender Schichten durch ElektrophoreseInfo
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Description
W Mannheim,2Q. 5β1966
Mp ο -Nr. 573/66
Verfahren zur Herstellung elektrisch isolierender Schichten
durch Elektrophorese -
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung elektrisch
isolierender Schichten durch Elektrophorese, insbesondere auf metallischen Teilen.
Eine elektrisch isolierende Schicht muß eine Anzahl von Bedingungen
erfüllen, um technisch verwendbar zu sein. Sie muß gut an dem zu isolierenden Material haften, muß einen guten
Zusammenhalt- haben, damit sie nicht durch Abreiben oder -kratzen beschädigt wirdo Und zumindest für maneche Anwendungszwecke ist es erforderlich, daß die elektrisch isolierende
Schicht flexibel ist und bleibt, damit mechanische Beanspruchungarwie
Vibrationen oder dergleichen nicht zu einer Zerstörung führen« Darüber hinaus ist es selbstverständlich erwünscht-,
daß die elektrisch isolierende1.Schicht aus möglichst billigen Ausgangsstoffen herzustellen ist0
Es sind bereits Verfahren zur Herstellung elektrisch isolierender
Schichten durch Elektrophorese bekannt geworden. Ein bekanntes Verfahren geht von gemahlenem Glimmer aus. Dieses Ausgangsprodukt
ist zwar verhältnismäßig billig, doch haftet eine aus "
gemahlenem Glimmer hergestellte elektrisch isolierende Schicht weder gut auf dem zu isolierenden Material, insbesondere dann
nicht, wenn dies ein kompaktes metallisches Teil ist, noch ist der Zusammenhalt der Schicht gut; sie kann leicht abgewischt
werden. (DPS 1 o72 o49, Spalte 1, Zeile 3 bis 9)
Andere bekannte Verfahren gehen von kalziniertem Glimmer aus. Elektrisch isolierende Schichten, die unter Verwendung von
kalziniertem Glimmer hergestellt wurden, zeigen zwar einen guten Zusammenhalt· und haften auch gut auf dem zu isolierenden
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573/66 1J21802
Material (die'genannte DPS Spalte 1, Zeile Io bis 24),
doch haften solche Schichten nach Nachteil, daß sie starr
und unelastisch sind. Auch durch Zusätze von härtbarem
Silikonharz können solche aus kalziniertem Glimmer bestehenden
Schichten nur zeitweise elastisch gehalten werden (DAS 1 2o2 364,.Spalte 1, Zeile 12 bis 16 und Zeile 3o bis 49). .
Außerdem stellt kalzinierter Glimmer einen verhältnismäßig
teueren Ausgangsstoff dar»
Der Erfindung lag die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zu entwickeln,
das es gestattet, unter Verwendung möglichst billiger Ausgangsstoffe eine elektrisch isolierende Schicht herzustellen,
die alle eingangs geschilderten Bedingungen erfüllt.
Das erfindungsgemäße. Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, daß
die Abscheidung in zwei Verfahrensschritten aus zwei verschiedenen Suspensionen erfolgt, "die Silikate und organische
Polymere enthalten» Als Silikate werden erfindungsgemäß gemahlene
Natursilikate, wie Kaolin, Glimmer, Talkum oder, deren Mischungen
verwendet mit einem Teilchendurchmesser von o,l bis
Gemäß einer vorteilhaften Ausbildung des Verfahrens gemäß der
Erfindung enthält, die im ersten Verfahrensschritt angewendete Suspension neben Silikaten grobdisperse organische Polymere,
wie Polytetrafluoräthylen, Kunst- oder Naturharze. Erfindungsgemäß ist der Teilchendurchmesser der grobdispersen Organischen
Polymere größer als 0,5i*. Die im zweiten Verfahrensschritt verwendete Suspension enthält neben Silikaten feindisperse organische
Polymere wie Polytetrafluoräthylen, Kunst- öder Naturharze bzw.
deren wässrige Lösungen* Der Teilchendurchmesser der feindispersen
organischen Polymere ist erfindungsgemäß, kleiner als
Aus der im ersten Verfahrensschritt verwendeten Suspension können
Schichten bis zu: einigen Millimetern Stärke abgeschieden werden.
Durch definiert vorgegebene Spannung-Stromstärke-Zeit-Bedingungen
sind gewünschte Sohichtdicken herstellbar. Im zweiten Verfahrensschritt können wegen des Gehaltes der verwendeten Suspension
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> Ί621802
an feindispersen organischen Stoffen nur Schichtdicken von
2o "bis looK hergestellt werden. Ie Abscheidung kommt bei .
vorgegebenen Strom/Spannungswerten infolge des hohen■Isolierwiderstandes
der zweiten Schicht" von sich aus zum Erliegen. Die erhaltene Isolationsschicht wird stufenweise getrocknet
und je nach dem verwendeten organischen Polymeren bei höherer Temperatur ausgehärtet. ■ " .'".-"'
Nachfolgend wird ein Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen
Verfahrens beschrieben:
Ein Kupfer teil wird entfettet und gebeizt. Bei einer Gleichspannung
von Ho Volt erfolgt die Beschichtung in eirier Suspension mit Io $ Pe st körper ge halt. Die Festkörper bestehen aus
Kaolin mit einem Teilchendurchmesser von 0,1 bis 5oj* und einem
Acrylatharz, dessen Teilchendurchmesser ο,5 bis 15jh* beträgt.
.Nach 3o Sekunden hat die Isolierschicht auf dem Kupferteil eine
Dicke von etwa "50OWfZDaS Teil wird in einem warmen Luftstrom
oberflächlich getrocknet und im zweiten Verfahrensschritt aus ,
einer Suspension von Kaolin und Pheno!harz beschichtet. Auch
die Suspension, die im zweiten Verfahrensschritt angewendet
wird, hat einen Pestkörpergehalt yon Io fo. Der Teilchendurchmesser
des Kaolins ist o,l bis 5ouf der des Phenolharzes kleiner
als 0,5^» Bei einer Gleichspannung von loo Volt, wird die zweite
Schicht abgeschieden. Innerhalb von etwa einer Minute sinkt die Stromstärke gegen Null ab. Die Dicke der'zweiten Schicht
beträgt etwa 4o - . Das mit der Isolierschicht versehene Kupferteil wird stufenweise vorgetrocknet und dann 3o Minuten bei
19o°C ausgehärtet. Die erhaltene Isolierschicht ist flexibel.
Ihre Dürchschlagsspannung beträgt 18 kV.
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Claims (7)
1. Verfahren zur Herstellung elektrisch isolierender ,Schichten
durch Elektrophorese, insbesondere auf metallischen Teilen, dadurch-gekennzeichnet, daß die Abscheidung in zwei Verfahrensschritten
aus zwei verschiedenen Suspensionen erfolgt, die Silikate und organische Polymere enthalten.
2. Verfahren nach .Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß gemahlene
Na tür Silikate, wie Kaolin, Glimmer, Talkum oder
deren Llischungen verwendet werden.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
■ gemahlene Natursilikate mit einem Teilchendurchmesser von
o,l bis 5o it verwendet werden.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet,
daß die im ersten Verfahrensschritt verwendete Suspension neben Silikaten grobdisperse organische
Polymere wie Polytetrafluoräthylen, Kunst- oder Naturharze
enthält. : -
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der
Teilchendurchiiiesiser oer grobdispersen organischen Polymere -größer
als ο,.5/*·-"ist, "
6. Verfahren nach einem'der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet,
daß die im zweiten Verfahrensschritt Verwendete
Suspension neben Silikaten feindispersB organische Polymere,
wiePolytetrafluoräthylen, Kunst- oder Naturharze bzw. deren
, wässrige Lösungen enthält.
7. Verfahren Jiach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß der
mittlere Teilchendurchmesser der feindispersen organischen
Polymere kleiner als O15μ>
ist.
BAD 109B23/1387
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