DE1908571A1 - Verfahren und Vorrichtung zum galvanischen Plattieren - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zum galvanischen PlattierenInfo
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Description
8 MÜNCHEN 32
aTE. 3 · tiluox »«aa«o. ii
A 2169 20. Februar 1969
EM/Ml/My
Firma 1!OVA-CHROME, IHC, 3432 Uorth Avondale Avenue,
Chicago, Illinois 60618/USA
Verfahren und Vorrichtung zum galvanischen Plattieren
Die Erfindung betrifft Verfahren und Vorrichtungen zum galvanischen Plattieren, in denen einem G-rundgleichstrom
ein 7/echselstrom überlagert wird.
Die US-Patentschrift 2 824 830 beschreibt ein galvanisches Plattieren, bei welchem im galvanischen Bad einem
elektrischen Gleichfeld wenigstens zwei Hochfrequenz-Wechselfelder von relativ hoher Frequenz überlagert werden.
Die Erfindung strebt eine weitere Verbesserung dieses Verfahrens an. Diese wird dadurch erzielt, daß mit Hilfe
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einer Halbleiterelemente enthaltenden Schaltung ein GaI-vanisier-Gleichstrom
erzeugt wird, dem »Vechselstromimpulse mit variierender Pulshöhe überlagert werden, die außerdem
naon ihrer Frequenz und ihrer Impulsdauer variiert werden, um die Form der Wechselstromimpulse zu steuern und damit
wesentlich bessere Plattierung zu erzielen. Es ist ein Verstärker in der Schaltung vorgesehen, durch den eine
Rückkopplung verhindert wird.
Anhand des nachfolgend beschriebenen, in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiels der Erfindung wird
diese in ihren Vorteilen und Eigenschaften sowie weiteren Merkmalen offenbar. Es zeigen:
Fig. 1 ein Schaltbild der Galvanisiervorrichtung gemäß der Erfindung}
Fig. 2 eine graphische Darstellung des mit der Galvanisierung erzielten Ergebnisses bei
einer Wechselspannungsfrequenz von 450 Hz;
Fig. 3 eine Fig. 2 vergleichbare Darstellung bei 550 Hz;
Fig. 4 eine Darstellung wie Fig. 2 mit einer Wechselspannung von 700 Hz}
Fig. 5 eine Darstellung wie Fig. 2 bei 600 Hz Wechselspannung; und
Fig. 6 eine Darstellung wie Fig. 2 mit einer Wech.-selspannungsfrequenz
von 1800 Hz.
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In der Pig. 1 ist mit 10 ein galvanisches Plattierungsbad
angedeutet, dessen Kathode 11 und Anode 12 mit Anschlußleitungen 15 und 14 versehen sind. Zwischen die
Leitungen 13 und 14 ist ein Kathodenstrahloszillograph
16 geschaltet, der es einem Bedienungsmann ermöglicht,
die Impulsform zu "beobachten, die dem Plattierungsbad zugeführt
wird.
Die Plattierung kann z.B. in einem wässerigen Jilektrolysebad
für Chromplattierung vorgenommen werden, in dem 250 g je Liter CrO-. (als Chromsäure), 1,8?ό Schwefelsäure
(H2SO.), 3$ .Borsäure. (EUBO,) und 1$ Oxalsäure enthalten
sind. In diesem Bad wird die pH-Wert-Steuerung durch die Schwefelsäure vorgenommen, jedoch v/erden die Ergebnisse
verbessert, wenn etwa 0,5 bis 5»Oft Borsäure und 0,1 bis
3,0$ Oxalsäure enthalten sind. (Wenn keine anderen Angaben
gemacht sind, so sind die Ausdrücke "Teile" und "Prozent" auf das Gewicht bezogen) Das plattierungsbad wird auf einer
Temperatur von 57°C gehalten, und die Stromdichte der Kathode ist etwa 0,3 bis 0,45 A/cm . Die Anode kann aus
Blei oder einem sonst üblichen Werkstoff bestehen. Die spezifische Stromdichte der Kathode (Gleichstrom) wird gemessen,
wenn die in den Fig. 2 bis 6 aufgeführten Bedingungen mit dem überlagerten, pulsierenden Strom vorhanden
sind.
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BAD
Ein Widerstand R1 verbindet die beiden Zuleitungen
13 und H miteinanderο Ein Amperemeter 17 liegt in der Zuleitung
13 zusammen mit einem geeigneten Shunt Rp · In Reihe
mit dem Shunt R2 liegt eine Diode D1, und ein Kondensator
C1 verbindet den Diodeneingang mit der zweiten Zuleitung
14· Parallel zum Kondensator C- liegt ein Voltmeter 18. An die Eingangsklemmen 19» 20 und 21 der Schaltung ist
eine Drehstromciuelle von beispielsweise 220 V Spannung angeschlossen; der Strom wird über einen ersten Schalter
22 einer in Stern geschalteten Wicklung 23 eines Transformators zugeleitet. Zwischen zwei Zuleitungen zum Transformator
ist eine Kontrollampe 24 geschaltet, die zwischen den beiden Anschlüssen 19 und 20 mit einem Widerstand R,
in Reihe liegt und anzeigt, daß die Anordnung eingeschaltet ist. Die Primärwicklung des Transformators besteht aus
einem in Dreieck geschalteten Wicklungsteil 24 mit unveränderbarer
Windungszahl, dessen Dreieckspunkte an verschiebliche Abgriffe 26, 27, 28 geführt sind, die auf dem
bereits vorstehend genannten, in Stern geschalteten Wicklungsteil 23 der Transformatorprimärwicklung gleiten, um
dem Wicklungsteil 24 eine veränderbare Spannung zuführen zu können. Die Sekundärwicklung 29 des Transformators ist
mit der Primärwicklung magnetisch gekoppelt und in Stern geschaltet; ihre Anschlüsse sind an die Anschlußpunkte
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einer Drehstrom-Vollwellengleichrichterachaltung 31 gelegt, die die Dioden D2 bis Dr, enthält. Zwischen den gemeinsamen
Ausgang der Dioden Dp» D, und D, und den Eingang der Diode D1 ist eine Glättungsdrossel L1 gelegt.
Die Gleichrichteranordnung 31 liefert also einen gleichgerichteten Strom an daa galvanische Plattierungsbad.
Die Glättungsdrosseln L1 und der Kondensator C1 dienen
als Glatteinrichtungen. An die Zuleitung 14 ist eine Leitung
32 geführt, die als Zuleitung für ein überlagertes Wechselspannungsimpulssignal dient, das dem Gleichstrom
überlagert wird. Eine zweite Zuleitung 33 bildet die zweite Zuführung für das Wechselspannungsimpulssignal. Sie
ist an die Zuleitung 13 geführt.
Ein Paar Eingangsleitungen 34 und 36 ist mit einer
geeigneten Wechselspannungsquelle von z.B. 120 V Einphasenwechselspannung
verbunden. Zuleitungen 34 und 36 sind an einen Schalter 37 geführt. Ein Widerstand R. und eine
Kontrollampe 38 liegen quer zu den Eingangsleitungen 34 und 36. Die Eingangsleitungen 34 und 36 führen dann an
die Primärwicklung 39 eines Spartransformators, an dessen
Sekundärseite eine Primärwicklung 41 eines weiteren Transformators in der Weise angeschlossen ist, daß der eine Anschluß
der Wicklung 41 mit einem über einen Stellknopf
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verstellbaren Abgriff des Spartransformators verbunden ist. Die Sekundärseite 43 des zweiten Transformators ist magnetisch
Jiit der Primärseite 41 gekoppelt und speist auf eine
Gleichrichtergraetzschaltung, bestehend aus den Dioden Dß
bis D^1. Die beiden Ausgangsklemmen der Gleichrichterschaltung
44 werden durch einen Glättungskondensator Cp miteinander
verbunden. An die Ausgangsklemme B der Gleichrichterschalmng ist ein Stellwiderstand 46 angeschlossen, mit
dem die stromlose Zeit der Wechselspannung am Ausgang der Schaltung gesteuert wird. Der zweite Anschluß des Stellwiderstands
46 ist mit der Basis eines Transistors T-. verbunden,
dessen Kollektor mit der Basis eines weiteren Tranaistors Tp Verbindung iiat. Der Kollektor des Transistors
T2 ist an eine Tunneldiode D-,ρ angeschlossen. Ein
Stellwiderstand 471 der die Einschaltzeit steuert, ist mit
dem Emitter des Transistors T- verbunden. Zwischen die
beiden Emitteranschlüsse der Transistoren T- und Tp ist
ein Paar Dioden D,Q und D1, geschaltet. Ein Widerstand E,-ist
in die Verbindung zwischen dem zweiten Abgang der Tunneldiode D^2 und der Basis eines weiteren Transistors
T* eingeschaltet. Der Emitteranschluß des Transistors T,
ist mit der Basis eines Transistors T. verbunden. Der
Kollektor des Transistors T. führt an die Basis der Transistoren Τ- bis Tq. Eine Leitung 48 verbindet den Stell-
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widerstand 46 mit den Widerständen Rg bis R1^, während der
zweite Anschluß des Widerstands Rc an die Basis des Transistors
Tr- und die zweiten Anschlüsse der Widerstände Rr7 bis
R11 an die Emitter der Transistoren Tc bis Tg geführt
sind. An.die Leitung 48 ist eine Eingangsklemme 49 angeschlossen,
über die eine entgegengesetzte Vorspannung zugeführt werden kann, und eine Anschlußklemme 51 ist über
einen vYiderstand R12 mit den Basisanschlüssen der Transistoren
Tr- bis Tq verbunden. Die mit den Kollektoranschlüssen
der Transistoren Tr bis Tq verbundene Leitung 33 weist
in ihrem Leitungszug einen Schalter 52 auf. Der Schalter 52 wird durch eine Magnetspule 53 geschlossen, wenn diese
von Strom durchflossen wird. Über die Gleichrichteranordnungen 54 und 56, die die Gleichrichter D1 ■* bis D1{- und
D17 bis Dp0 enthalten, wird eine Vorspannung zugeführt.
Die Gleichrichteranordnung 54 liegt an der Sekundärwicklung 57 eines Transformators, dessen Primärwicklung 58
an die Eingangsklemmen 34 und 36 gelegt ist. Die Primärwicklung
59 eines weiteren Transformators ist ebenfalls an die Anschlußklemmen 34 und 36 geführt, wobei die Sekundärwicklung
61 die Gleichrichteranordnung 56 speist. Eine Ausgangsklemme der Gleichrichteranordnung 54 führt
zu einem Widerstand H^, und zwischen dem zweiten Anschluß
des Widerstands R1, und der zweiten Ausgangsleitung
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BAD ORIGINAL
der Gleichrichteranordnung 54 liegen Kondensatoren C5, Cg
und C7. Zwischen dem einen Anschluß des Widerstands R1,
und dem Anschlußpunkt B des Gleichrichtersatzes 44 besteht eine Leitungsverbindung 62. Der für den Einschaltpunkt
maßgebende Stellwiderstand 47 ist ebenfalls mit den Kondensatoren C5, Cg und C7 verbunden. Die Ausgangsleitungen
der Gleichrichtersätze 54 und 56 sind an eine Leitung 63 angeschlossen, und ein Widerstand R1 . verbindet
den Kollektoranschluß des Transistors T? mit dieser Leitung
63. Die Leitung 63 ist außerdem an den Emitteranschluß des Transistors T. geführt. Eine Kontrollampe 64
liegt zwischen den .ausgangsklemmen der Gleichrichteranordnung 56. Mit einer Diode D21 liegt in Reihe ein Widerstand
R1C und im Leitungszug der Ausgangsleitung des
Gleichrichtersatzes 56, und ein Paar Kondensatoren Cg und
Cq verbinden die Leitungen 66 und 67 miteinander. Ein
Widerstand R1gι ein stellbarer Widerstand R17 und ein
weiterer Widerstand R.. Q sowie ein Kondensator 0ΛΓί sind in
Reihe zwischen die Leitung 16 am einen Ausgang der Gleichrichter anordnung 56 und den Kollektoranschluß des Transistors
T1 geschaltet. Ein Widerstand R1Q führt vom Widerstand
E^g an einen Doppelbasistransistors UT1, und zwar
zu dessen ersten Basisanschluß. Der Emitteranschluß des
Doppelbasistransistors UT1 führt an den Verbindungspunkt
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zwischen dem Widerstand R1Q und dem Kondensator C1Q. Die
zweite Basiselektrode des Doppelbasistransistors UT1 ist
mit Widerständen R20 und R21 verbunden, die mit ihren
zweiten Anschlüssen an die Leitung 66 geführt sind. Eine Diode 22 liegt zwischen dem Anschluß der zweiten Basis
des Doppelbasistransistors UT1 und einem Widerstand R22»
der mit seinem zweiten Anschluß an den ?/iderstand R1 q und
einen weiteren Widerstand R2, geführt ist, dessen zweiter
Anschluß mit der Leitung 67 Verbindung hat. Ein Kondensator C1, liegt zwischen den Anschlußenden der Widerstände
Rp, und R2^ auf der der Anschlußleitung 67 gegenüberliegenden
Seite der Widerstände. Ein Thyristor SCR1 ist zwischen den Kondensator C1, und die Leitung 66 geschaltet, und
seine Steuerelektrode ist an die zweite Basis des Doppelbasistransistors UT1 geführt. Ein zweiter Thyristor SCR2
ist zwischen den Widerstand Rp. und die Leitung 66 gelegt,
wobei seine Steuerelektrode an die zweite Basis eines zweiten Doppelbasistransistors UT2 gelegt ist. Zwischen
die Steuerelektrode des Thyristors SCR2 und die Leitung
ist ein Widerstand R2,- eingefügt. Ein Widerstand R2g verbindet
den Widerstand R2, mit der ersten Basis des zweiten
Doppelbasistransiators UT2. Ein stellbarer Widerstand
Έ.Οη liegt mit einem Widerstand ROq in Reihe zwischen dem
einen Anschlußpunkt des Widerstands R9i- und dem Emitter-
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anschluß des Doppelbasistransistors UT2. Ein Kondensator
C11 ist zwischen die Leitung 66 und den Widerstand R2Q
eingeschaltet. Die Magnetspule 53 liegt an den Ausgangsklemmen
des Gleichrichtersatzes 56.
Im Betrieb liegt an den Eingangsklemmen 19, 20, und 34 und 36 Spannung, und die Stellwiderstände 46 und
und der Stellknopf 42 sowie die Abgriffe 26, 27 und 28 sind so eingestellt, daß den Elektroden 11 und 12 im galvanischen
Plattierungsbad in der Weise Strom zugeführt wird, daß die günstigsten Bedingungen vorliegen. Die von
den Leitungen 32 und 33 zugeführten Wechselspannungsimpulse
werden dem dem Bad aus dem Vollweggleichrichtersatz
31 zugeführten Gleichstrom überlagert, und die Frequenz
der Impulse und deren Impulsdauer kann mittels der Stellwiderstände 46 und 47 eingestellt werden. Die Transistoren
T1 bis Tq wirken dabei als Impulsgenerator, und
ein Meßinstrument 70, das zwischen die Leitungen 48 und
32 gelegt ist, zeigt die Amplitude der Impulse an. Die Doppelbasistransistoren UT1 und UT3 und die Thyristoren
SCR1 und SCR sorgen dafür, daß keine Rückkopplung auftritt
und die Abgabe des Impulsgenerators einwandfrei ist«,
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In den Pig. 2 bis 6 sind charakteristische Darstellungen wiedergegeben, die die Plattierung bei verschiedenen
Einstellungen des Schaltkreises nach Fig. 1 zeigen. Pig. 2 z.B. zeigt aie Plattierungscharakteristik bei einer
Wechselstromausgangspulsfolge von 450 Hz, deren Amplitude 7 V ist, wobei die am Instrument 18 abgelesene Gleichspannung
5 V» der am Instrument 17 abgelesene Strom 3 A und der Impulsstrom 1,5 A betragen. Es zeigte sich dann, daß
die Plattierung eine Rockwell-Härte von 068 hatte, daß die Güte der Plattierung gering war, daß die Niederschlagskraft
gering war und daß eine starke Schichtung auftrat, daß Blasen jedoch nicht vorhanden waren. Wie aus der Pig.2
erkennbar, erfolgte der Schichtaufbau relativ langsam.,
Pig. 3 gibt die Plattierungscharakteristik bei Verwendung einer Frequenz des Pulsgenerators von 550 Hz wieder,
wobei das Instrument 70 7 V Spannung anzeigt, das Instrument 80 5 V, der Strom am Amperemeter 17 zu 3 A gemessen
wurde und die Stromstärke der Impulse 1,5 A betrug. Die Rockwell-Härte war dabei 072j die Plattierungsgüte war
ausgezeichnet, die Niederschlagskraft war sehr gut und es
trat keine Blasenbildung oder Schichtung auf. Besonders ist noch festzustellen, daß die Schicht-Wachstumgeschwindigkeit
mehr als zweimal so groß war wie unter den in Fig.2
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wiedergegebenen Bedingungen. V/ährend die Schicht in 4 Stunden
bei den Bedingungen nach Fig. 2 auf 0,15 mm angewachsen
war, hatte die Schicht bei den Bedingungen nach Fig. 3 eine Dicke von 0,35 mm erreicht.
In Fig. 4 ist das Ergebnis wiedergegeben, wenn eine
Pulsfrequenz von 700 Hz mit einer Amplitude von 6 V bei einer Gleichspannung von 5 V" und einem Gleichstrom von 3 A
sowie einem Impulsstrom von 1,5 A angewendet wird. Die erzielte Rockwell-Härte betrug C70j die Qualität war gut;
die Niederschlagskraft war ebenfalls gut} es waren keine Blasen und nur eine ganz geringe Schichtung feststellbar.
Das Ergebnis, das die Fig. 5 wiedergibt, wurde mit einer Pulsfrequenz von 600 Hz bei einer Amplitude von 5 V,
einer Gleichspannung von 6 V, einem Gleichstrom von 3 A und einem Impulsstrom von 1,5 A erzielt. Die dabei erzielte
Rockwell-Härte war C72j Güte und ülederschlagskraft
waren ausgezeichnet und Blasen und Schichtbildung waren nicht vorhanden. .
Das in Fig. 6 wiedergegebene Ergebnis wurde mit einer Pulsfrequenz von 1800 Hz bei einer Amplitude, die 5 V
entspricht. Die Gleichspannung betrug 5 V,. die Impulsspannung 3,5 V; der Gleichstrom betrug 2 A und der Impuls-
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strom 1,5 A. Die erzielte Rockwell-Härte war 070; die erzielte Güte und die Niederschlagskraft waren in Ordnung;
es traten keine Blasen auf und auch die Schichtbildung
nur sehr gering.
Bs läßt sich daraus erkennen, daß das in der Fig.3 wiedergegebene Ergebnis dem Ergebnis aus den Pig. 2, 4f
5 und 6 weit überlegen ist. Es können also bei entsprechender Wahl der Amplitude und der Frequenz der Impulse
erheblich verbesserte Ergebnisse erzielt werden. Die Ein und Ausschaltzeiten der Impulse steuern den Impulsstrom,
und die Bedingungen, die zu dem Ergebnis nach Fig. 3 geführt haben, ergeben eine besonders gute Plattierung.
Es ist interessant, die Veränderung der Plattierungsgeschwindigkeit
in Abhängigkeit von der Frequenz zu betrachten. Bei Pulsfrequenzen von 450 und 1800 Hz wurde
nach 4 Stunden eine Schichtdicke von 0,15 mm erreicht, wogegen bei einer Pulsfrequenz von 550 Hz die Schichtdicke
in 4 Stunden 0,35 mm erreichte.
- 14 -
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Claims (14)
1. ) Vorrichtung zum galvanischen Plattieren mit Elektroden
in einem Galvanisierungsbad, an die eine Gleichstromquelle angeschlossen ist, dadurch gekennzeichnet, daß ein
Wechselstromimpulsgenerator (T, bis Tq) ausgangsseitig der
Gleichstromquelle (j51) aufgeschaltet ist und Steuermittel
(46, 42, 47) zur Einstellung der Frequenz, der Amplitude und der Einschaltzeit des Wechselspannungsimpulsgenerators vorgesehen
sind.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Wechselspannungsimpulsgenerator im wesentlichen Rechteckimpulse
abgibt.»
35. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die Impulsfrequenz zwischen 450 und 800 Hz liegt.
4. Vorrichtung nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet,
daß die relative Impulsdauer zwischen 10 und liegt.
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5· Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die Impulsfrequenz zwischen 500 und 700 Hz liegt.
6. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Frequenz des Impulsgenerators in der
Nähe von 550 Hz liegt.
7. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß Hilfsmittel (UT15 UT2, SCR1,
SCRp) zur Vermeidung einer Rückkopplung im Impulsgenerator
vorgesehen sind.
8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch
gekennzeichnet, daß der Impulsgenerator aus Halbleiterelementen aufgebaut ist.
9. Vorrichtung nach Anspruch 7$ dadurch gekennzeichnet,
daß die Hilfsmittel zur Unterdrückung der Rückkopplung aus Halbleiterbauelementen (UT1, UTp, SCR1, SCR2) bestehen.
10. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Gleichstrom-Stromversorgung aus einer Drehstromquelle
(19, 20, 21) gespeist ist und eine an die Drehstrom-
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Quelle angeschlossene Gleichrichteranordnung (j51) sowie ein
nachgeschaltetes Glättungsfilter (L-, C-) aufweist.
11. Vorrichtung nach Anspruch 10, gekennzeichnet durch
eine Transformatoreinrichtung (2j5, 24, 29) zwischen der Drehstromquelle (19, 20, 21) und der Gleichrichteranordnung
(31) zur Steuerung der Größe des Ausgangs-Gleichstroms.
12. Vorrichtung nach Anspruch 11, gekennzeichnet durch Stellmittel (26, 27, 28) zum Verändern der Ausgangsspannung
der Transformatoreinrichtung.
IJ. Verfahren zur Erzeugung eines Galvanisierungsstroms,
dadurch gekennzeichnet, daß einem Gleichstrom ein Wechselstrom von der Frequenz* 450 bis 800 Hz überlagert wird.
14. Verfahren nach Anspruch IJ, dadurch gekennzeichnet,
daß die Frequenz des Wechselstroms zwischen 500 und 700 Hz liegt.
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Leerseite
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1968
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-
1969
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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