DE194586C - - Google Patents
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- etched
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- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/02—Engraving; Heads therefor
- B41C1/025—Engraving; Heads therefor characterised by means for the liquid etching of substrates for the manufacturing of relief or intaglio printing forms, already provided with resist pattern
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
KAISERLICHES
PATENTAMT.
PATENTSCHRIFT
■- M 194586 KLASSE 57d. GRUPPE
EMANUEL SPITZER in MÜNCHEN.
geändert wird.
Wie bekannt, erfolgen bisher photomechanische Ätzungen in einem Bade von bestimmter
Konzentration oder in mehreren getrennten Bädern, von denen jedes einen anderen bestimmten
Konzentrationsgrad hat oder "end-■ lieh auch derart, daß der Konzentrationsgrad
während der Ätzung sprungweise geändert wird.
Durch Versuche ist festgestellt worden, ίο daß die reichen, sanft ineinander verschmelzenden
Tonabstufungen von Naturaufnahmen, Ölgemälden, Zeichnungen usw. .zur besten
Wiedergabe in der Ätzung gelangen, wenn die zu ätzende Platte Ätzbädern ausgesetzt
wird, deren Konzentrationsgrad allmählich erhöht bzw. vermindert wird.
Die zu ätzende Platte wird auf diese Weise der ganzen Skala der allen Tönen des nachzubildenden
Originals entsprechenden Konzentrationen des Ätzmittels ausgesetzt.
Wenn auf diese Weise durch die ineinander übergehenden Konzentrationen des Ätzbades
all der Reichtum an Halbtönen des Originals wiedergegeben wird, so kann andererseits
durch eine gleichzeitig erfolgende mechanische Wirkung der Strömung die Energie der Ätzung erhöht werden.
Die Neuheit der Erfindung besteht nun darin, daß zu einem Ätzbade von bestimmter
Konzentration Ätzflüssigkeit höheren oder niedrigeren Konzentrationsgrades fortschreitend
zugeführt wird, wobei durch entsprechende Einrichtung des Ätzbades eine nach Bedarf zu regelnde über die zu ätzende Platte
hinwegstreichende Strömung erzeugt wird.
Eine Ausführungsform dieses Ätzverfahrens ist beispielsweise folgende:
Die zu ätzende Platte wird in eine mit einem Ätzmittel gefüllte Schale gelegt. Nehmen
wir z. B. Eisenchlorid von 420 Be.
Während des Ätzvorganges läßt man nun in die Schale Eisenchlorid von beispielsweise
300 Be. mehr oder weniger rasch stetig zufließen oder führt diese neue Flüssigkeit
tropfenweise oder sonstwie intermittierend geregelt stetig zu.
Das zugeführte Ätzmittel vermengt sich ganz allmählich in der Ätzschale mit dem
bereits in dieser befindlichen, und der Konzentrationsgrad des Ätzmittels wird dadurch
allmählich niedriger.
Richtet man das Ätzbad derart ein, daß
der Zufuhr des Ätzmittels sofort oder nach einer gewissen Zeit,' in welcher die Ätzschale
sich anfüllt, ein Abfließen des Ätzmittels entspricht, so entsteht eine über die zu ätzende
Platte hinwegstreichende Strömung, deren Stärke man beliebig regeln kann.
Eine dem Ausführungsbeispiel entsprechende Vorrichtung (auch als Beispiel gedacht) ist
auf der beiliegenden Zeichnung in zwei Figuren dargestellt worden.
Die Schale a, welche bei b einen niedrigeren
Rand hat, enthält die Heizschlange bzw.
Kühlschlange c, c, c, welche zur Erwärmung bzw. Abkühlung dient, ferner das Zufuhrrohr
d, welches mit feinen Löchern versehen ist und eine auf die rechte Schmalseite, der
Schale gleichmäßig verteilte Zuführung von Ätzmittel bewirkt; alsdann den Isolierklotz e
(schraffiert). Auf dem Isolierklotz liegt die zu ätzende Platte /. j ist der Behälter für
die Ätzflüssigkeit, deren Menge ablesbar ist.
ίο Die Geschwindigkeit der Zufuhr wird durch
Hahn h geregelt. Der Abfluß verteilt sich gleichmäßig auf die ganze linke Schmalseite,
was eine gleichmäßige Strömung des Ätzmittels über die Platte f hinweg zur Folge
hat.
Die Anwendung des vorstehend beschriebenen Verfahrens ist auch für Nachätzungen
photomechanisch geätzter Platten jeglicher Art von Vorteil.
Claims (3)
1. Photomechanisches Ätzverfahren, bei welchem während des Ätzvorganges
der Konzentrationsgrad der Ätzflüssigkeit durch Zufuhr neuer Flüssigkeit geändert
wird, dadurch gekennzeichnet, daß die Zufuhr stetig erfolgt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Ätzmittel
in geregelter Stärke über die zu ätzende Platte hinwegstreicht.
3. Vorrichtung zur Ausführung des Verfahrens nach Anspruch 1 und 2, gekennzeichnet
durch eine Schale (a) mit Überlaufrand (b), der an der entgegengesetzten
Seite durch ein mit Löchern versehenes Rohr (d) die durch einen Hahn
(h) geregelte Ätzflüssigkeit zugeführt wird.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| AT36163D AT36163B (de) | 1905-02-02 | 1908-03-31 | Photomechanisches Ätzverfahren, bei welchem während des Ätzvorganges der Konzentrationsgrad der Ätzflüssigkeit durch Zufuhr neuer Flüssigkeit geändert wird. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE194586T |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE194586C true DE194586C (de) |
Family
ID=5745116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE1905194586D Expired - Lifetime DE194586C (de) | 1905-02-02 | 1905-02-02 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE194586C (de) |
-
1905
- 1905-02-02 DE DE1905194586D patent/DE194586C/de not_active Expired - Lifetime
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