DE19604272A1 - Laserbestrahlungs-Elektronenkanone - Google Patents
Laserbestrahlungs-ElektronenkanoneInfo
- Publication number
- DE19604272A1 DE19604272A1 DE1996104272 DE19604272A DE19604272A1 DE 19604272 A1 DE19604272 A1 DE 19604272A1 DE 1996104272 DE1996104272 DE 1996104272 DE 19604272 A DE19604272 A DE 19604272A DE 19604272 A1 DE19604272 A1 DE 19604272A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- electron gun
- thread
- laser
- electron
- gun according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 238000001093 holography Methods 0.000 title description 6
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 title 1
- 238000004627 transmission electron microscopy Methods 0.000 title 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 15
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000003574 free electron Substances 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 description 2
- 241001663154 Electron Species 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000005485 electric heating Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002068 genetic effect Effects 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 239000002887 superconductor Substances 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J1/00—Details of electrodes, of magnetic control means, of screens, or of the mounting or spacing thereof, common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J1/02—Main electrodes
- H01J1/34—Photo-emissive cathodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/06—Electron sources; Electron guns
- H01J37/073—Electron guns using field emission, photo emission, or secondary emission electron sources
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/06—Sources
- H01J2237/063—Electron sources
- H01J2237/06325—Cold-cathode sources
- H01J2237/06333—Photo emission
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Laserbestrahlungs-
Elektronenkanone. Insbesondere bezieht sich die Erfindung
auf eine neue Bauart einer Elektronenkanone, die Elektro
nenstrahlen sehr hoher Intensität erzeugen kann und die
vorzugsweise auf einem technologischen Gebiet Anwendung
findet, wo solche Elektronenstrahlen erforderlich sind,
wie beispielsweise bei Elektronenmikroskopen der Trans
missions- oder Übertragungsbauart, die Elektronenmikro
skope mit hoher Auflösung für ein kryogenes System auf
weisen, ferner findet die Erfindung Anwendung bei Elek
tronenmikroskopen der Abtastbauart und bei der Elektro
nenstrahlholografie.
Eine Elektronenkanone der thermionischen Emissionsbauart
oder Feldemissionsbauart ist in herkömmlicher Weise be
kannt für ein eine Elektronenkanone verwendendes Elektro
nenmikroskop. Ein Merkmal einer Elektronenkanone der
thermionischen Emissionsbauart besteht darin, daß Ther
moelektronen von der Oberfläche eines einen hohen
Schmelzpunkt besitzenden Metalls abgeleitet werden und
zwar durch Erhitzen desselben auf hohe Temperaturen und
durch Beschleunigung dieser Thermoelektronen. Anderer
seits erzeugt die Elektronenkanone der Feldemissionsbau
art Elektronenstrahlen und beschleunigt diese in einem
starken elektrischen Feld, welches durch einen scharfen,
spitzen Teil des Fadens mit einem kleinen Krümmungsradius
erzeugt wird. Diese Elektronenkanone gibt es in zwei Bau
arten. Die eine ist die thermische Feldemissionsbauart,
bei der ein derartiger Faden erhitzt wird, die andere
Bauart ist die Kaltfeldemissionsbauart, bei der der Faden
nicht erhitzt wird. Die Elektronenkanone der Feldemissi
onsbauart hat einige Vorteile, insofern, als Fokussie
rungselektronenstrahlen mit hoher Stromdichte, d. h. mit
hoher Intensität die ungefähr zwei Größenordnungen größer
ist als bei der Bauart mit thermionischer Emission er
zeugt werden und zwar infolge eines quantenmechanischen
Tunneleffektes. Die höhere Intensität und auch die höhere
Kohärenz der Fokussierelektronenstrahlen verbessert die
Positionspräzision der Elementaranalyse durch Elektronen
mikroskope in den Submikronbereichen, was eine Verbesse
rung der Qualitäten des Bildes und der Auflösungsleistung
bei der Kurzzeitfotografie zur Folge hat und eine Verbes
serung der Elektronenstrahlholografie ermöglicht.
Tatsächlich haben jedoch diese konventionellen Elektro
nenkanonen eine Grenze hinsichtlich der erzeugten Elek
tronenstrahlen.
Die vorliegende Erfindung sieht eine Laserbestrahlungs-
Elektronenkanone vor, die eine Elektronenkanone der ther
mischen Feldemissionsbauart oder der thermionischen Emis
sionsbauart aufweist und ferner Mittel zur Laserbestrah
lung eines spitzen oder Endteils eines Fadens der Elek
tronenkanone.
Im folgenden werden nunmehr einige Ausführungsbeispiele
der Erfindung unter Bezugnahme auf die Zeichnung be
schrieben; in der Zeichnung zeigt:
Fig. 1 eine schematische Ansicht eines spitzen Teils
eines Fadens einer Laserbestrahlungs-Elektro
nenkanone;
Fig. 2 einen Schnitt eines Ausführungsbeispiels einer
Laserbestrahlungskanone;
Bei der erfindungsgemäßen Laserbestrahlungs-Elektronenka none wird durch einen Laser ein Spitzen- oder Endteil ei nes Fadens wie oben erwähnt bestrahlt. Wenn, wie in Fig. 1 gezeigt, Photonen (3) mit einer Frequenz ϑ auf die Oberfläche eines spitzen Teils (1) des Fadens gestrahlt werden, so erhalten die freien Elektronen (2) in der Nähe der Oberfläche des Fadens Energie hϑ (das Symbol h bedeu tet die Planksche Konstante) und zwar infolge des pho toelektrischen Effektes. Wenn eine Summe dieser Energie und der diesen freien Elektronen (2) erteilten thermi schen Energie durch sowohl Laserbestrahlungserwärmung als auch elektrische Erhitzung die Austrittsarbeit oder Ar beitsfunktion W übersteigt, wobei es sich hier um die mi nimale Energie freier Elektronen (2) zum Austritt aus der Oberfläche handelt, so werden Elektronen (4) von Gebieten in der Nähe der Fadenoberfläche emittiert. Anders ausge drückt hat die kinetische Energie der Elektronen eine Be ziehung wie folgt:
(½)mV² = hϑ + ckT - W < 0
Bei der erfindungsgemäßen Laserbestrahlungs-Elektronenka none wird durch einen Laser ein Spitzen- oder Endteil ei nes Fadens wie oben erwähnt bestrahlt. Wenn, wie in Fig. 1 gezeigt, Photonen (3) mit einer Frequenz ϑ auf die Oberfläche eines spitzen Teils (1) des Fadens gestrahlt werden, so erhalten die freien Elektronen (2) in der Nähe der Oberfläche des Fadens Energie hϑ (das Symbol h bedeu tet die Planksche Konstante) und zwar infolge des pho toelektrischen Effektes. Wenn eine Summe dieser Energie und der diesen freien Elektronen (2) erteilten thermi schen Energie durch sowohl Laserbestrahlungserwärmung als auch elektrische Erhitzung die Austrittsarbeit oder Ar beitsfunktion W übersteigt, wobei es sich hier um die mi nimale Energie freier Elektronen (2) zum Austritt aus der Oberfläche handelt, so werden Elektronen (4) von Gebieten in der Nähe der Fadenoberfläche emittiert. Anders ausge drückt hat die kinetische Energie der Elektronen eine Be ziehung wie folgt:
(½)mV² = hϑ + ckT - W < 0
hϑ: Energie des Laserphotons (gegeben durch den pho
toelektrischen Effekt)
ckT: thermische Energie
c = 0 - 1
k = Boltzmannsche Konstante
T = absolute Temperatur eines Spitzenteils des Fa dens
W: Arbeitsfunktion.
ckT: thermische Energie
c = 0 - 1
k = Boltzmannsche Konstante
T = absolute Temperatur eines Spitzenteils des Fa dens
W: Arbeitsfunktion.
Diese Beziehung gibt die Bedingung für vom Faden zu emi
ttierende Elektronen an. Die Laserbestrahlung, die elek
trische Erwärmung oder Erhitzung des Fadens und des Krüm
mungsradius R würden vorzugsweise eingestellt, um die
oben erwähnte Bedingung zu erfüllen. Die Austrittsarbeit
(Arbeitsfunktion) W wird als eine Funktion des Radius (R)
des spitzen Teils ausgedrückt. Wenn der Radius (R) ab
nimmt, so wird die Arbeitsfunktion W kleiner, da die
elektrische Feldstärke um den spitzen Teil (1) abnimmt
und zwar hervorgerufen durch die Potentialdifferenz zwi
schen dem Faden und der Ableitungselektrode zum Ableiten
von Elektronen emittiert von der Fadenoberfläche. Dies
hat die Emission von viel mehr Elektronen (4) zur Folge.
Im Falle der Elektronenkanone der Feldemissionsbauart ist
der Radius (R) so klein (ungefähr eine Größenordnung von
100 nm), daß viel mehr Elektronen (4) infolge des Tunnel
effektes emittiert werden.
Infolgedessen können Elektronenstrahlen in sehr hoher In
tensität durch einen Synergieeffekt erzeugt werden und
zwar des photoelektrischen Effekts, des thermischen
Effekts, der Erhitzung und des quantenmechanischen Tun
neleffekts infolge des Submikronradius der Krümmung.
Wenn die Wellenlänge des Lasers abnimmt, so steigt wegen
des Photoemissionseffektes die den Elektronen erteilte
Energie an. Im allgemeinen wird folgendes in Betracht ge
zogen: die Wellenlängenabhängigkeit der Quanteneffizienz,
die das Verhältnis (%) ist, der Anzahl erzeugter Elektro
nen zu der bestrahlter Photonen. Es wäre erwünscht, die
Wellenlänge derart auszuwählen, daß es sie dem besten Zu
stand oder der besten Bedingung entspricht: viele Elek
tronen werden entsprechend der Austrittsarbeit oder Ar
beitsfunktion emittiert, die Form und die elektrische
Spannung angelegt an den Faden werden berücksichtigt. Im
Falle eines Wolframfadens mit einer Arbeitsfunktion von
4,45 eV, der bei einer Elektronenkanone der thermioni
schen Emissionsbauart und auch bei einer der Feldemissi
onsbauart verwendet wurde, wird die Elektronenemission
nur durch den Photoemissionseffekt erreicht und zwar
durch Bestrahlung der Photonen deren Wellenlänge kleiner
als 273 nm ist. Im Falle eines Fadens hergestellt aus dem
Material mit niedrigerer Austrittsarbeit oder Arbeits
funktion, wie beispielsweise LaB₆, dessen Arbeitsfunktion
2,66 eV ist, ist es nicht notwendig, Photonen zu wählen,
deren Wellenlänge kleiner ist als die von sichtbaren
Strahlen. Es wird jedoch in Betracht gezogen, daß eine
kürzere Wellenlänge zu bevorzugen ist, solange die Wel
lenlänge einer höheren Quanteneffizienz entspricht.
Die Anzahl der von dem spitzen Teil emittierten Elektro
nen steigt mit dem Anstieg der den Faden bestrahlenden
Laserintensität an. Impulswellen sind für die kurzzeitbe
lichtete Abbildung nicht geeignet, da die Anzahl der von
dem Faden emittierten Elektronen sich wie ein Impuls än
dert und insofern als die Temperatur einer durch Elektro
nenstrahlen bestrahlten Probe sich ebenfalls wie ein Im
puls bei der Änderung der Strahlen ändert. In diesem Zu
sammenhang kann man sagen, daß eine kontinuierliche La
serbestrahlung gegenüber einer impulsartigen Laserbe
strahlung zu bevorzugen ist. Solche Probleme aber wären
nicht kritisch im Falle, daß die Belichtungszeit für die
Abbildung wesentlich länger ist als die Impulsdauer.
In jedem Falle würde die geeignetste Wellenlänge, die ei
ne große Anzahl von emittierten Elektronen zur Folge hat,
derart ausgewählt werden, daß man auch solche Parameter
in Betracht zieht wie das Fadenmaterial (Arbeitsfunktion
und Schmelzpunkt), die Form, die angelegte elektrische
Spannung, die Temperatur und die Quanteneffizienz.
Was die Materialien für einen Faden anlangt, so sind
Wolfram (W) und hexagonales Lanthanborid (LaB₆) die popu
lärsten Materialien und wurden konventioneller Weise ver
wendet. Kürzlich wurde auch ZrO/W als ein wahlweiser Fa
den für die Elektronenkanone der Feldemissionsbauart an
gewandt.
Diese Materialien sind exellent insofern, als ihre
Schmelzpunkte hoch liegen, die Austrittsarbeit
(Arbeitsfunktion) niedrig ist, die Bearbeitung zur Aus
bildung einer scharfen Spitze verfügbar ist und daß diese
Materialien ferner im Vakuum und bei hohen Temperaturen
über eine lange Zeit (lange Lebensdauer) stabil sind. Bei
der Auswahl der geeignetsten Wellenlänge werden diese Ma
terialien für den Faden wie auch mehrere Eigenschaften
des Lasers in Betracht gezogen.
Die erfindungsgemäße Laserbestrahlungs-Elektronenkanone
kann Elektronenstrahlen mit ultrahoher Intensität erzeu
gen, und zwar entsprechend einem synergistischen Effekt
aus dem photoelektrischen Effekt bewirkt durch die Laser
bestrahlung des spitzen Teils des Fadens der Elektronen
kanone der thermischen Feldemissonsbauart oder der ther
mionischen Emissionsbauart, des quantenmechanischen Tun
neleffektes und des thermischen Effektes der Erhitzung.
Im Falle, daß die Elektronenkanone der thermionischen
Emissionsbauart verwendet wird, kann die Erzeugung von
Elektronenstrahlen mit ultrahoher Intensität mit geringen
Kosten erreicht werden.
Die Elektronenstrahlen mit höherer Intensität sind für
Elektronenmikroskope aus folgenden Gründen vorteilhaft:
- a) die Bildqualität, nämlich das Signal zu Rauschverhält nis wird bei kurzzeitig belichteter Abbildung verbessert. Die Kurzzeitbelichtungsabbildung überwindet beispielswei se die Verschlechterung der Auflösungsleistung, die durch geringe Drifts oder Schwingungen der Probe in der kryon genischen Observation hervorgerufen wird. Eine Kombina tion der Kurzzeitfotografie und der Elektronenstrahlen mit hoher Intensität verbessert die Auflösungsleistung in der kryogenen Observation.
- b) die Kohärenz der Elektronenwelle wird natürlich mit hoher Intensität verbessert und daher ist die Elektronen strahlholografie verfügbar. Die Elektronenstrahlhologra fie ist anwendbar auf eine direkte Observation des Ma gnetfeldes in dem Material. Dies sei als Beispiel ge nannt. Eine Observation des Fluxoidquantums in Oxidsuper leitern ist während ihres superleitenden Zustandes ver fügbar. Die Elektronenstrahlholografie selbst verbessert auch die Auflöseleistung der Elektronenmikroskope. Ausge zeichnete Funktionen der Elektronenstrahlholografie wer den mit hoher Intensität erwartet.
- c) die Auflösungsleistung der Elektronenmikroskope wird durch die Kohärenzverbesserung verbessert. Eine solche Verbesserung ist unter bestimmten Bedingungen der soge nannten Informationsgrenze gegeben.
- d) die Analysezeit der analytischen Elektronenmikroskope kann verkürzt werden. Die Quantität oder Größe der Pro bendrift während der Analyse der Elemente wird klein und die Präzision der Analysepositionen wird verbessert. Im allgemeinen wird mehr als die kritische Zahl der Röntgen strahlphotonen, erzeugt durch die Elektronenbestrahlung notwendig, um eine präzise Analyse auszuführen.
Die Elektronenstrahlen, erzeugt durch die Laserbestrah
lungs-Elektronenkanone haben mehrere der im folgenden
aufgezählten Merkmale:
- i) Die Energieverteilung der Elektronen ist schmal.
- ii) Die kinetische Energie ist kontinuierlich stabil.
- iii) Die Intensität ist kontinuierlich stabil mindestens in einem Intervall von mehr als einer Sekunde.
- iv) Die Fokussierung ist ausgezeichnet.
Es sei nunmehr ein Beispiel erläutert, um die Erfindung
im einzelnen darzulegen. Die Erfindung ist freilich nicht
auf das folgendes Ausführungsbeispiel beschränkt.
Wie in Fig. 1 bzw. 2 gezeigt, wird ein von einem Laseros
zillator (6) emittierter Laser oder Laserstrahl durch ei
ne Linse (7a und 7b) eingestellt und seine Richtung wird
durch Reflektionsspiegel (8a, 8b) ausgerichtet. Der Laser
oder Laserstrahl wird in die Innenseite oder das Innere
einer Elektronenkanone (18) durch ein Fenster (9) einge
führt, wobei diese aus einer Linse (10) und einem trans
parenten Glas (11) besteht. Sodann wird der Laser durch
einen weiteren Reflektionsspiegel (16) oder einen konka
ven Spiegel fokussiert und gelangt zu einem spitzen
(einem einen geringen Krümmungsradius) Teil eines Fadens
(12). Die Fokussierung und Ausrichtung der Laserstrahlung
kann dadurch durchgeführt werden, daß man den spitzen
Teil des Fadens (12) beobachtet, wobei das Bild des spit
zen Teils durch eine Kamera (15) durch ein Beobachtungs-
oder Observationsfenster (14) vergrößert werden kann.
Diese Fokussierung und Ausrichtung wird durch Steuerung
der Linse (7a, 7b und 10) erreicht und ferner durch die
Reflektionsspiegel (8a, 8b und 16). Der Faden (12) wird
durch die Laserstrahlung erhitzt und seine Temperatur
wird durch elektrische Erhitzung gesteuert. Bei dieser
Temperatursteuerung wird die Fadentemperatur detektiert
und durch ein Pyroskop durch Fenster (14) reguliert. Eine
große Anzahl von Elektronen wird von der Oberfläche des
Fadenspitzenteils, der durch den Laser bestrahlt wird,
emittiert und durch eine Ableitungselektrode (13), die
auf eine Plusspannung eingestellt ist, abgeleitet. Diese
Elektronen werden durch einen Fokussierelektromagneten
(17) fokussiert und sodann werden sie zur einer Proben
kammer eines Mikroskops durch ein Beschleunigungsrohr ge
leitet. Die Laserbestrahlungs-Elektronenkanone kann auch
bei Vorrichtungen und Technologien Einsatz finden, bei
denen eine Elektronenkanonen mit hoher Intensität und ho
her Qualität erforderlich ist.
Zusammenfassend sieht die Erfindung Mittel vor zur Laser
bestrahlung eines spitzen Teils oder eines einen kleinen
Krümmungsradius aufweisenden Teils eines Fadens und zwar
für eine Elektronenkanone der thermischen Feldemissions
bauart oder der thermionischen Emissionsbauart.
Claims (9)
1. Eine Laserbestrahlungs-Elektronenkanone, die folgen
des aufweist: eine Elektronenkanone der thermischen
Feldemissionsbauart oder der thermionischen Emissi
onsbauart und Mittel zur Laserbestrahlung eines
spitzen Teils eines Fadens der Elektronenkanone.
2. Elektronenkanone nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß ein Laseroszillator (6) vorgesehen
ist.
3. Elektronenkanone nach einem oder mehreren der vor
hergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
der Laseroszillator (6) durch Linsenmittel (7a, 7b)
eingestellt wird und daß seine Richtung vorzugsweise
durch Reflektionsspiegelmittel (8a, 8b) ausgerichtet
wird.
4. Elektronenkanone nach einem oder mehreren der vor
hergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
Laserstrahlung in die Elektronenkanone (18) durch
Fenstermittel (9) eingeleitet wird.
5. Elektronenkanone nach Anspruch 4, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Fenstermittel Linsenmittel (10)
und ein transparentes Glas (11) aufweisen.
6. Elektronenkanone nach einem oder mehreren der vor
hergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
der Laser durch einen weiteren Reflektionsspiegel
(16) oder einen konkaven Spiegel fokussiert wird.
7. Elektronenkanone nach einem oder mehreren der vor
hergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
die Fokussierung und die Ausrichtung durch Steuerung
der Linsenmittel (7a, 7b, 10) und/oder Reflektions
spiegel (8a, 8b, 16) erreicht wird.
8. Elektronenkanone nach einem oder mehreren der vor
hergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
der Faden (12) durch Laserbestrahlung erhitzt und
die Temperatur durch elektrische Erhitzung gesteuert
wird.
9. Elektronenkanone nach einem oder mehreren der vor
hergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
die Temperatursteuerung auf der Detektion der Faden
temperatur beruht und ein Pyroskop die Regulierung
vornimmt.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7018258A JPH08212952A (ja) | 1995-02-06 | 1995-02-06 | レーザー照射型電子銃 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE19604272A1 true DE19604272A1 (de) | 1996-08-08 |
Family
ID=11966663
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE1996104272 Ceased DE19604272A1 (de) | 1995-02-06 | 1996-02-06 | Laserbestrahlungs-Elektronenkanone |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08212952A (de) |
| DE (1) | DE19604272A1 (de) |
| NL (1) | NL1002246C2 (de) |
Cited By (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002076156A1 (de) * | 2001-03-15 | 2002-09-26 | Lzh Laserzentrum Hannover E.V. | Verfahren und worrichtung zur erzeugung von euv-strahlung |
| DE10255767A1 (de) * | 2002-11-28 | 2004-06-17 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Verfahren zum Erzeugen eines Elektronenstrahls und Elektronenstrahlerzeuger |
| US6828565B2 (en) | 2002-09-26 | 2004-12-07 | Leo Elektronenmikroskopie Gmbh | Electron beam source, electron optical apparatus using such beam source and method of operating and electron beam source |
| US7554097B2 (en) | 2003-10-16 | 2009-06-30 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
| US7554096B2 (en) | 2003-10-16 | 2009-06-30 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
| US7557358B2 (en) | 2003-10-16 | 2009-07-07 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
| US7557359B2 (en) | 2003-10-16 | 2009-07-07 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
| US7557361B2 (en) | 2003-10-16 | 2009-07-07 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
| US7557360B2 (en) | 2003-10-16 | 2009-07-07 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
| EP1735811A4 (de) * | 2004-04-02 | 2009-08-19 | California Inst Of Techn | Verfahren und system für ein ultraschnelles fotoelektronen-mikroskop |
| WO2009151458A1 (en) * | 2008-06-13 | 2009-12-17 | Carl Zeiss Smt, Inc. | Ion sources, systems and methods |
| US7786452B2 (en) | 2003-10-16 | 2010-08-31 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
| US7786451B2 (en) | 2003-10-16 | 2010-08-31 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
| US7804068B2 (en) | 2006-11-15 | 2010-09-28 | Alis Corporation | Determining dopant information |
| US8110814B2 (en) | 2003-10-16 | 2012-02-07 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
| WO2013121021A1 (fr) | 2012-02-16 | 2013-08-22 | Centre National De La Recherche Scientifique (Cnrs) | Dispositif et procédé d'émission d'électrons et dispositif comportant un tel système d'émission d'électrons |
| DE102013108603A1 (de) * | 2013-08-08 | 2015-02-12 | Von Ardenne Gmbh | Strahlungsquelle, Vorrichtung und Verfahren zur schnellen Wärmebehandlung von Beschichtungen |
| CN104766776A (zh) * | 2014-01-07 | 2015-07-08 | 中国科学院物理研究所 | 多功能超快透射电子显微镜电子枪 |
| US9159527B2 (en) | 2003-10-16 | 2015-10-13 | Carl Zeiss Microscopy, Llc | Systems and methods for a gas field ionization source |
| EP3561850A1 (de) * | 2018-04-27 | 2019-10-30 | Friedrich-Alexander-Universität Erlangen-Nürnberg | Elektronenemittierende vorrichtung und verfahren zur emission von elektronen |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5071699B2 (ja) * | 2004-11-04 | 2012-11-14 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | フォトカソード型電子線源の陰極先端部への高量子効率物質の局所被覆装置 |
| EP2680294B1 (de) | 2011-02-25 | 2015-09-09 | Param Corporation | Elektronenkanone und elektronenstrahlvorrichtung |
| JP5709922B2 (ja) * | 2013-03-29 | 2015-04-30 | 株式会社Param | 電子銃および電子ビーム装置 |
| CN115410887B (zh) * | 2021-12-21 | 2026-04-07 | 中国科学院物理研究所 | 用于电子枪的激光引入装置及包括其的超快扫描电镜 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS557656B2 (de) * | 1972-07-17 | 1980-02-27 | ||
| JPS4961595A (de) * | 1972-10-11 | 1974-06-14 | ||
| NL7605820A (nl) * | 1976-05-31 | 1977-12-02 | Philips Nv | Elektronenstraalbuis met veldemissieelektronen- bron, veldemissieelektronenbron voor een der- gelijke elektronenstraalbuis en werkwijze voor de vervaardiging van een dergelijke veldemis- sieelektronenbron. |
| KR970005769B1 (ko) * | 1992-08-27 | 1997-04-19 | 가부시끼가이샤 도시바 | 자계 계침형 전자총 |
| JPH06333525A (ja) * | 1993-05-21 | 1994-12-02 | Beam Tec:Kk | 荷電粒子線照射装置 |
| JPH0714503A (ja) * | 1993-06-25 | 1995-01-17 | Laser Gijutsu Sogo Kenkyusho | レーザー熱陰極構造体 |
-
1995
- 1995-02-06 JP JP7018258A patent/JPH08212952A/ja active Pending
-
1996
- 1996-02-05 NL NL1002246A patent/NL1002246C2/nl not_active IP Right Cessation
- 1996-02-06 DE DE1996104272 patent/DE19604272A1/de not_active Ceased
Cited By (30)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002076156A1 (de) * | 2001-03-15 | 2002-09-26 | Lzh Laserzentrum Hannover E.V. | Verfahren und worrichtung zur erzeugung von euv-strahlung |
| US6828565B2 (en) | 2002-09-26 | 2004-12-07 | Leo Elektronenmikroskopie Gmbh | Electron beam source, electron optical apparatus using such beam source and method of operating and electron beam source |
| EP1403898A3 (de) * | 2002-09-26 | 2008-09-17 | Carl Zeiss NTS GmbH | Elektronenstrahlquelle und elektronenoptischer Apparat mit einer Elektronenstrahlquelle und Verfahren zum Betrieb einer Elektronenstrahlquelle |
| DE10255767A1 (de) * | 2002-11-28 | 2004-06-17 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Verfahren zum Erzeugen eines Elektronenstrahls und Elektronenstrahlerzeuger |
| US7557361B2 (en) | 2003-10-16 | 2009-07-07 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
| US9236225B2 (en) | 2003-10-16 | 2016-01-12 | Carl Zeiss Microscopy, Llc | Ion sources, systems and methods |
| US7557358B2 (en) | 2003-10-16 | 2009-07-07 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
| US7557359B2 (en) | 2003-10-16 | 2009-07-07 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
| US8748845B2 (en) | 2003-10-16 | 2014-06-10 | Carl Zeiss Microscopy, Llc | Ion sources, systems and methods |
| US7557360B2 (en) | 2003-10-16 | 2009-07-07 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
| US9012867B2 (en) | 2003-10-16 | 2015-04-21 | Carl Zeiss Microscopy, Llc | Ion sources, systems and methods |
| US7554096B2 (en) | 2003-10-16 | 2009-06-30 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
| US7786452B2 (en) | 2003-10-16 | 2010-08-31 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
| US7786451B2 (en) | 2003-10-16 | 2010-08-31 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
| US7554097B2 (en) | 2003-10-16 | 2009-06-30 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
| US9159527B2 (en) | 2003-10-16 | 2015-10-13 | Carl Zeiss Microscopy, Llc | Systems and methods for a gas field ionization source |
| US8110814B2 (en) | 2003-10-16 | 2012-02-07 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
| US7915583B2 (en) | 2004-04-02 | 2011-03-29 | California Institute Of Technology | Method and system for ultrafast photoelectron microscope |
| EP1735811A4 (de) * | 2004-04-02 | 2009-08-19 | California Inst Of Techn | Verfahren und system für ein ultraschnelles fotoelektronen-mikroskop |
| US7804068B2 (en) | 2006-11-15 | 2010-09-28 | Alis Corporation | Determining dopant information |
| US9029765B2 (en) | 2008-06-13 | 2015-05-12 | Carl Zeiss Microscopy, Llc | Ion sources, systems and methods |
| US8461557B2 (en) | 2008-06-13 | 2013-06-11 | Carl Zeiss Microscopy, Llc | Ion sources, systems and methods |
| WO2009151458A1 (en) * | 2008-06-13 | 2009-12-17 | Carl Zeiss Smt, Inc. | Ion sources, systems and methods |
| FR2987165A1 (fr) * | 2012-02-16 | 2013-08-23 | Centre Nat Rech Scient | Dispositif et procede d'emission d'electrons et dispositif comportant un tel systeme d'emission d'electrons |
| WO2013121021A1 (fr) | 2012-02-16 | 2013-08-22 | Centre National De La Recherche Scientifique (Cnrs) | Dispositif et procédé d'émission d'électrons et dispositif comportant un tel système d'émission d'électrons |
| DE102013108603A1 (de) * | 2013-08-08 | 2015-02-12 | Von Ardenne Gmbh | Strahlungsquelle, Vorrichtung und Verfahren zur schnellen Wärmebehandlung von Beschichtungen |
| DE102013108603B4 (de) * | 2013-08-08 | 2015-05-13 | Von Ardenne Gmbh | Strahlungsquelle, Vorrichtung und Verfahren zur schnellen Wärmebehandlung von Beschichtungen |
| CN104766776A (zh) * | 2014-01-07 | 2015-07-08 | 中国科学院物理研究所 | 多功能超快透射电子显微镜电子枪 |
| CN104766776B (zh) * | 2014-01-07 | 2016-09-28 | 中国科学院物理研究所 | 多功能超快透射电子显微镜电子枪 |
| EP3561850A1 (de) * | 2018-04-27 | 2019-10-30 | Friedrich-Alexander-Universität Erlangen-Nürnberg | Elektronenemittierende vorrichtung und verfahren zur emission von elektronen |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NL1002246C2 (nl) | 1998-07-13 |
| JPH08212952A (ja) | 1996-08-20 |
| NL1002246A1 (nl) | 1996-08-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE19604272A1 (de) | Laserbestrahlungs-Elektronenkanone | |
| DE112009003724B4 (de) | Verwendung eines Elektronenstrahlgeräts | |
| DE69711653T2 (de) | Röntgergenerator | |
| DE68928167T2 (de) | Bilderzeugung und kontrolle eines prozesses, der einen fokussierten ionenstrahl verwendet | |
| DE69422825T2 (de) | Wahrnehmungsvorrichtung für die messung starker höhenunterschiedsverhältnisse | |
| DE69834413T2 (de) | Elektronenstrahlmikroskop mit verwendung von elektronenstrahlmustern | |
| DE69830664T2 (de) | Vorrichtung zum emittieren eines geladenen teilchenstrahls | |
| DE2826273A1 (de) | Kathodenstrahlroehre mit kaltkathode | |
| DE102006043895A1 (de) | Elektronenmikroskop zum Inspizieren und Bearbeiten eines Objekts mit miniaturisierten Strukturen und zugehöriges Verfahren | |
| DE3924605A1 (de) | Rasterelektronenmikroskop | |
| DE69133256T2 (de) | Rasterelekronenmikroskop und Bilderzeugungsverfahren | |
| DE2151167B2 (de) | Elektronenstrahl Mikroanalysator mit Auger Elektronen Nachweis | |
| EP1403898B1 (de) | Elektronenstrahlquelle und elektronenoptischer Apparat mit einer Elektronenstrahlquelle und Verfahren zum Betrieb einer Elektronenstrahlquelle | |
| DE69738332T2 (de) | Ladungsträgerstrahl-emittiervorrichtung | |
| DE19647975C2 (de) | Reflexionselektronenmikroskop | |
| DE102021112503B4 (de) | Teilchenstrahlvorrichtung mit einer Ablenkeinheit | |
| EP0401658B1 (de) | Rastertunnelmikroskop mit Einrichtungen zur Erfassung von von der Probe herkommender Elektronen | |
| DE2821597A1 (de) | Verwendung eines systems zur erzeugung eines elektronenflachstrahls mit rein elektrostatischer fokussierung in einer roentgenroehre | |
| DE2540602C2 (de) | ||
| DE19915572A1 (de) | Immersionslinse und Elektronenstrahl-Projektionssystem zu deren Anwendung | |
| DE69621803T2 (de) | Elektronenstrahlerzeugende Vorrichtung | |
| DE2161027C3 (de) | Elektronenstrahlerzeuger mit einer durch einen Energiestrahl zu erhitzenden Kathode | |
| DE879876C (de) | Vorrichtung mit elektronenoptischer Abbildung einer photoelektrischen Kathode | |
| DE3943211A1 (de) | Abbildendes elektronenoptisches geraet | |
| DE2043749B2 (de) | Raster-Korpuskularstrahlmikroskop |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
| 8131 | Rejection |