DE2007484C3 - Verfahren zur Herstellung einer Belichtungsmaske für die Fotoätztechnik - Google Patents

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Belichtungsmaske für die Fotoätztechnik, bei dem auf eine Glasplatte eine Bleisulfidschicht aufgebracht wird und nach Aufbringung einer Ätzmaske, z. B. in Form einer Fotolackschicht, die nicht abgedeckten Teile der Bleisulfidschicht mit Chromschwefelsäure herausgeätzt werden.

Bei der Herstellung von Leiterplatten im Wege der Fotoätztechnik und beim Ätze.i von Formteilen werden Belichtungsmasken verwendet, die aus Glasplatten bestehen, die eine etwa 1 μΐη starke Bleisulfidschicht mit dem gewünschten Muster aufweisen. Die Herstellung dieser Glasoriginale erfolgt in der Weise, daß auf eine Glasplatte eine etwa 1 μ starke Bleisulfidschicht aufgebracht, darüber im Wege der Fotoätztechnik eine Ätzmaske hergestellt wird, worauf die Bleisulfidschicht mit Hilfe von Chromschwefelsäure geätzt wird. Während dieses Ätzvorgangs wird das Bleisulfid zu Bleichromat und Bleisulfat oxydiert. Diese Reaktionsprodukte sind schwerlöslich und bleiben an der angeätzten Oberfläche als gelbe Schutzhaut haften, so daß das Durchätzen der Bleisulfidschicht verlangsamt wird. Erst nach dem Durchätzen lassen sich die Reakionsprodukte, z. B. durch Abwischen mit einem nassen Schwamm, entfernen. Die Konturengenauigkeit der auf diese Weise hergestellten Glasoriginale ist jedoch beschränkt, da während der Ätzung eine Unterätzung der Kanten auftritt. Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung von Glasoriginalen anzugeben, das die Herstellung von Glasoriginalen mit größerer Konturengeiiauigkeit gestattet.

Zur Lösung dieser Aufgabe wird ein Verfahren der eingangs genannten Art vorgeschlagen, nach dem erfindungsgemäß die Ätzung in mehreren Verfahrensstufen durchgeführt wird und nach jeder Teilätzung die geätzten Teile mit Komplexbildnern behandelt werden, um die gebildeten Ätzprodukte zu entfernen, worauf die Ätzung fortgesetzt wird.

Hierbei wird die schilderte gelbe Deckschicht entfernt. Das dadurch reigelegte Bleisulfid wird Eidann weitergeätzt und die neu gebildete gelbe Deckschicht wiederum mit Komplexbildnern abgetragen. Meist genügt ein 4-Stufen-Prozeß zum Freiätzen einer Platte.

Als besonders gut geeignet hat sich die Verwen-

ao dung von Dinatriumsalz von Äthylendiamintetra-Essigsäure erwiesen. Andere geeignete Komplexbildner sind unter anderem: ammoniakalische Weinsäurelösung, neutrale Lösungen von Nitrilotriessigsäure und Diäthylentriaminpentaessigsäure.

as Die bei diesen Verfahren sich ergebende Unterätzung des Bleisulfidmusters ist äußerst gering. Es ist daher möglich, hiernach Glasoriginale mit sehr geringen Toleranzen herzustellen.

Ausführungsbeispiel

Glasplatten, die eine etwa 1 μ dicke Bleisulfidschicht aufwiesen, auf die eine die nicht zu ätzenden Teile bedeckende Maske aufgebracht war, wurden zunächst mit Leitungswasesr benetzt, in einen geeigneten Rahmen eingelegt und sodann während 10 Sekunden einer Sprühätzung mit einer Ätzlösung aus 150 g pro Liter Chromtrioxyd, 112 ml pro Liter konzentrierter Schwefelsäure, 3 ml pro Liter konzentrierter Salzsäure bei einer Temperatur von etwa 45° unterzogen. Hierauf wurden die so behandelten Glasplatten mit deionisiertem Wasser gespült und in eine Komplexlösung aus etwa 150 g Dinatriumsalz der Äthylendiamintetra-Essigsäure in 21 deionisiertem Wasser ausgesetzt. Gleichzeitig wurde mit einem weichen, flachen Pinsel die Oberfläche des Glasoriginals überstrichen, bis die durch das Ätzen gebildete gelbe Bleichromatschicht entfernt war und die graue Farbe der darunterliegenden Bleisulfidschicht zum Vorschein kam. Nach einer weiteren Spülung mit Leitungswasser wurde die Ätzung für eine Dauer von etwa 7 bis 8 Sekunden fortgesetzt. Hierauf erfolgte wiederum eine Behandlung in der Komplexbildnerlösung. In der Regel ist damit der Ätzprozeß beendet. Ist das nicht der Fall, so kann eine weitere Ätzung, die diesmal nur 2 Sekunden dauert, erfolgen. Hierauf erfolgt eine weitere Spülung in Leitungswasser, dann Spülung in deionisiertem Wasser und anschließend das Trocknen der Glasoriginale mit Preßluft.

Claims (4)

Patentansprüche:

1. Verfahren zur Herstellung einer Belichtungsmaske für die Fotoätztechnik, bei dem auf eine Glasplatte eine Bleisulfidschicht von ungefähr 1 μ Dicke aufgebracht wird und nach Aufbringung einer Ätzmaske die nicht abgedeckten Teile der Bleisulfidschicht mit Chromschwefelsäure herausgeätzt werden, dadurch gekennzeichnet, daß die Ätzung in mehreren Verfahrensstufen durchgeführt wird und daß nach jeder Teilätzung die geätzten Teile mit einem Komplexbildner behandelt werden, um das schwerlösliche Ätzprodukt Bleisulfat in ein leichtlösliches Salz umzuwandeln und dadurch zu entfernen, worauf die Ätzung fortgesetzt wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Komplexbildner das Dinatriumsalz der Äthylendiamintetra-Essigsäure verwendet wird.

3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Komplexbildner ammo-

" niakalische Weinsäure verwendet wird.

4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Komplexbildner neutrale Lösungen von Nitrilotri-Essigsäure oder Diäthylentriaminpenta-Essigsäure verwendet werden.