DE3045979C2

DE3045979C2 -

Info

Publication number: DE3045979C2
Application number: DE19803045979
Authority: DE
Inventors: Takao Otsu Shiga Jp Kinashi; Takashi Kusatsu Shiga Jp Fujita; Norio Otsu Shiga Jp Kawabe
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1979-12-05
Filing date: 1980-12-05
Publication date: 1990-12-06
Also published as: JPS6154222B2; FR2471622A1; GB2064803A; FR2471622B1; CA1164267A; DE3045979A1; GB2064803B; JPS5680046A

Description

Die Erfindung betrifft eine lichtempfindliche Trocken- Flachdruck-Platte und ein Verfahren zu ihrer Herstellung. Die Erfindung bezieht sich insbesondere auf einen neuen Typ einer vorsensibilisierten Trocken-Flachdruck- Platte zur Anwendung für den Trocken-Flachdruck und ein Verfahren zu ihrer Herstellung.

Es wurden bereits zahlreiche Vorschläge für negativ arbeitende Flachdruckformen für den Trocken-Flachdruck gemacht, die eine Siliconkautschukschicht aufweisen, welche eine lichtempfindliche Schicht überdeckt, die auf einem Trägersubstrat aufgebracht ist.

So wird beispielsweise in der japanischen Patentveröffentlichung Nr. 16 044/1971 eine vorsensibilisierte Flachdruckplatte beschrieben, in der eine Siliconkautschukschicht mit Hilfe einer Klebmittelschicht auf einer unter der Einwirkung von Licht löslich werdenden lichtempfindlichen Schicht des Diazonium-Typs haftet, welche wiederum auf einer Aluminiumplatte aufgetragen ist. Die Platte wird durch einen Negativfilm mit aktinischem Licht belichtet, um die lichtempfindliche Schicht in dem belichteten Bereich löslich zu machen, dann wird die löslich gemachte lichtempfindliche Schicht mit Hilfe eines Entwicklers herausgelöst und gleichzeitig wird die darüber angebrachte Siliconkautschukschicht entfernt, so daß die als Trägersubstrat vorliegende Aluminiumplatte in den belichteten Bereichen in Form der Bildbereiche freiliegt.

In der GB-PS 14 42 374 wird ein Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte beschrieben, in dem auf eine auf einem Träger befindliche lichtempfindliche Schicht eine Lösung einer Mischung eines bei RT reagierenden Siliconkautschuks und einer Organosiloxan-Organohydrogensiloxan-Katalysator-Zusammensetzung aufgebracht wird und diese bei 60-120°C zu einer Siliconkautschukschicht umgesetzt wird.

Auch in den offengelegten japanischen Patentanmeldungen Nr. 8 306/1974 und Nr. 7 320/1974 und der japanischen Patentanmeldung Nr. 1 31 797/1978 wird eine negativ arbeitende Flachplatte für den Trocken-Flachdruck beschrieben, welche den vorstehend beschriebenen Aufbau hat. In dieser Flachdruckplatte werden die löslich gemachte lichtempfindliche Schicht und die auf dieser aufgebrachte Siliconkautschukschicht durch die Entwicklung entfernt und die freigelegten Bereiche des Trägers stellen die Bildbereiche dar. In diesen vorstehend beschriebenen Druckformen hat der Bildbereich eine ähnliche Struktur wie der einer Tiefätz-Form, in der die farbaufnehmenden Teile aus Vertiefungen bestehen (nachstehend auch als "Zellen" bzw. "Poren" bezeichnet), welche durch Entfernen der löslich gemachten lichtempfindlichen Schicht und der darüber angeordneten Siliconkautschukschicht ausgebildet worden sind. Bei einer solchen Druckform war es daher bisher erforderlich, auf die Druckplatte eine größere Menge an Druckfarbe aufzutragen, um zu gewährleisten, daß die Druckfarbe während des Druckvorgangs ausreichend in dem Zellenbereich haftet. Dies führt jedoch zu einer starken Erhöhung des verbrauchten Volumens an Druckfarbe, wodurch nicht nur eine Erhöhung der Druckkosten, sondern auch schwerwiegende Probleme im Hinblick auf den Druckeffekt, nämlich bei der Reproduktion der Gradation, verursacht werden. Wenn beispielsweise Druckfarbe auf eine Druckplatte aufgetragen wird, so daß eine wünschenswerte optische Dichte des sogenannten festen Anteils der erzielten Abdrucke erreicht wird, so wird die Druckfarbe von der Formwalze einer Druckmaschine in die Zellen auf der Form, die ein Punktrasterbild in den sogenannten Lichtspitzen-Teilen des Abdruckes bilden sollen, nicht ausreichend übertragen, insbesondere in die Zellen, die sehr kleine Rasterpunkte mit einem Durchmesser in der Größenordnung von mehreren 10 µm bilden. Somit neigen die Punkte auf dem Abdruck dazu, deformiert zu werden oder manchmal tritt wegen der fehlenden Übertragung von Farbe in die Zellen ein Auslassen von Punkten auf. Wenn die Menge der auf die Formoberfläche aufgetragenen Farbe erhöht wird, um diese Unregelmäßigkeiten der Form der Punkte auszuschalten, so wird andererseits die optische Dichte des festen Anteils zu hoch, wodurch die Ausgeglichenheit des Druckeffekts verlorengeht oder manchmal auch schwerwiegende Probleme im Hinblick auf die Druckqualität auftreten können, beispielsweise die, daß Rasterpunkte in den Schattenbereichen nicht reproduziert werden.

Um diese Schwierigkeiten zu beseitigen, kann es wirkungsvoll sein, die Schichtdicke der aufzulösenden lichtempfindlichen Schicht zu vermindern und dadurch die Zelltiefe zu vermindern. Es ist jedoch sehr schwierig und praktisch undurchführbar, eine lichtempfindliche Schicht einer Dicke, wie sie erforderlich ist, um die vorstehenden mit dem Druck in Zusammenhang stehenden Schwierigkeiten zu lösen, auszubilden, z. B. mit einer Filmdicke von etwa 0,1 µm. Darüber hinaus führt das Dünnerwerden der lichtempfindlichen Schicht zu einem erhöhten physikalischen und chemischen Einfluß durch den Schichtträger, wobei z. B. die Reproduzierbarkeit und die Beständigkeit des Bildes in vielen Fällen störend beeinflußt werden.

Die bisher bekannten negativ arbeitenden Flachdruckplatten für den Trocken-Flachdruck zeigen somit Nachteile im Hinblick auf das Haften der Druckfarbe etc. und eignen sich somit weniger für die praktische Anwendung.

Aufgabe der Erfindung ist es, unter Ausschaltung der vorstehend beschriebenen Nachteile eine neue lichtempfindliche Trocken-Flachdruckplatte für den Trocken-Flachdruck mit einem Schichtträger, einer darauf aufgebrachten oleophilen lichtempfindlichen Schicht und einer Druckfarbe abweisenden Siliconkautschukschicht sowie ein Verfahren zur Herstellung einer solchen Platte zur Verfügung zu stellen, die infolge der Änderung der Haftung der lichtempfindlichen Schicht zur Siliconkautschukschicht zu einer leichten Entfernung der Siliconkautschukschicht führt und die dabei erhaltene Platte eine gute Druckqualität in allen Bereichen des Bildes zeigt. Andere Aufgaben und Vorteile der Erfindung sind aus der nachstehenden Beschreibung ersichtlich.

Die Erfindung betrifft eine lichtempfindliche Trocken-Flachdruckplatte für den Trocken-Flachdruck mit

(1) einem Schichtträger,
(2) einer darauf aufgebrachten oleophilen lichtempfindlichen Schicht und
(3) einer Druckfarbe abweisenden Siliconkautschukschicht,

die dadurch gekennzeichnet ist, daß die lichtempfindliche Schicht sowohl vor als auch nach der Belichtung in Entwicklern unlöslich ist und die Haftung zur Siliconkautschukschicht in den belichteten Bereichen so gemindert wird, daß die Siliconkautschukschicht durch einen Entwickler entfernt werden kann.

Die Erfindung betrifft außerdem eine lichtempfindliche Trocken-Flachdruckplatte für den Trocken-Flachdruck, die dadurch gekennzeichnet ist, daß sie einen Bildbereich aufweist, der durch die lichtempfindliche Schicht gebildet wird, die auf einem Schichtträger aufgebracht ist, und daß sie einen bildfreien Bereich aufweist, der durch eine Siliconkautschukschicht gebildet ist, die auf dieser lichtempfindlichen Schicht aufgebracht ist.

Die Erfindung betrifft außerdem ein Verfahren zur Herstellung einer Negativ-Flachdruckform für den Trocken- Flachdruck, das dadurch gekennzeichnet ist, daß man eine lichtempfindliche Druckplatte gemäß der Erfindung bildmäßig belichtet und anschließend die belichtete Druckplatte mit einem Entwickler behandelt, der nur die belichteten Bereiche der Siliconkautschukschicht entfernt.

Durch die Erfindung wird somit eine Negativ-Flachdruckform zugänglich, für die beim Negativ- Flachdruck kein Wasser zum Befeuchten erforderlich ist und die aus einem Schichtträger, einer auf dem Schichtträger aufgebrachten lichtempfindlichen Schicht und einer auf der lichtempfindlichen Schicht aufgebrachten Siliconkautschukschicht besteht, wobei die Haftung der lichtempfindlichen Schicht zur Siliconkautschukschicht bei Belichtung gemindert und so die Entfernung der Siliconkautschukschicht durch einen Entwickler ermöglicht wird. Wenn diese Druckform durch einen Negativfilm belichtet und danach mit einem Entwickler behandelt wird, wird nur die auf der belichteten lichtempfindlichen Schicht aufgebrachte Siliconkautschukschicht entfernt, während die lichtempfindliche Schicht als solche zurückbleibt und einen Bildbereich ausbildet. Befeuchtungswasser ist nicht erforderlich, wenn das Drucken mit dieser Flachdruckplatte durchgeführt wird.

Die Erfindung wird nachstehend ausführlicher beschrieben. Die erfindungsgemäß vorliegende lichtempfindliche Schicht ist in Entwicklern schwerlöslich oder unlöslich. Es handelt sich um eine Licht-Trennschicht, d. h. eine unter der Einwirkung von Licht eine Freigabe bewirkende Schicht, die ermöglicht, daß beim Entwickeln nur die darauf aufgebrachte Siliconkautschukschicht entfernt wird, so daß die belichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht unverändert zurückbleiben, ohne praktisch entfernt zu werden.

Eine solche Licht-Trennschicht wird erhalten, indem eine bekannte, unter Lichteinwirkung löslich werdende lichtempfindliche Verbindung durch Vernetzung dieser Verbindung mit einer polyfunktionellen Verbindung oder durch Modifizieren einer in der Verbindung vorhandenen funktionellen Gruppe mit einer monofunktionellen Verbindung in Entwicklern schwerlöslich oder unlöslich gemacht wird. Zur Veranschaulichung von geeigneten unter Lichteinwirkung löslich werdenden lichtempfindlichen Verbindungen seien Chinondiazide erwähnt, wie sie normalerweise für vorsensibilisierte Positivplatten, Wipe-on-Platten oder Photoresists verwendet werden, wie Ester von Benzochinon-1,2-diazid-sulfonaten oder Naphthochinon- 1,2-diazid-sulfonaten und Polyhydroxyverbindungen, z. B. Ester aus Benzochinon-1,2-diazid-sulfochlorid und Polyhydroxyphenyl, Ester aus Naphthochinon-1,2-diazid-sulfochlorid und Pyrogallol- aceton-Harz und Ester aus Naphthochinon-1,2-diazid- sulfochlorid und Phenol-Formaldehyd-Novolakharzen, oder Komplexe von Diazoniumverbindungen mit anorganischen oder organischen Säuren, beispielsweise photoempfindliche Komplexe von Diazodiphenylamin und Phosphowolframsäure.

Zu geeigneten Methoden zur Einführung einer vernetzten Struktur in eine derartige unter Lichteinwirkung löslich werdende lichtempfindliche Verbindung gehört eine Methode, gemäß der reaktive Gruppen, beispielsweise Hydroxyl- und Aminogruppen, die in der lichtempfindlichen Verbindung vorhanden sind, mit einem polyfunktionellen Vernetzungsmittel vernetzt werden.

Zu Beispielen für geeigneten Vernetzungsmittel gehören Polyisocyanate, z. B. Paraphenylendiisocyanat, 2,4- oder 2,6- Toluoldiisocyanat, 4,4′-Diphenylmethandiisocyanat, Hexamethylendiisocyanat, Isophorondiisocyanat oder Addukte dieser Verbindungen und Polyepoxyverbindungen, z. B. Polyethylenglycol- diglycidylether, Polypropylenglycol-diglycidylether, Bisphenyl A-diglycidylether und Trimethylolpropan-triglycidylether. Es ist erforderlich, daß der Härtungsvorgang mit Hilfe dieser Vernetzungsmittel unter Bedingungen durchgeführt wird, unter denen die lichtempfindliche Substanz ihre Lichtempfindlichkeit nicht verliert, gewöhnlich bei einer Temperatur von nicht mehr als 120°C. Zu diesem Zweck wird ein Katalysator oder dergleichen angewendet.

Andere geeignete Methoden, um eine derartige unter Lichteinwirkung löslich werdende lichtempfindliche Verbindung in Entwicklern schwerlöslich oder unlöslich zu machen besteht darin, daß man beispielsweise eine in dieser lichtempfindlichen Verbindung vorhandene funktionelle Gruppe urethanisiert, verestert oder amidisiert. Die Verbindung, die mit dieser funktionellen Gruppe der lichtempfindlichen Verbindung umgesetzt werden soll, kann entweder eine niedermolekulare oder eine relativ hochmolekulare Verbindung sein. Wahlweise kann ein Vinylmonomeres auf die lichtempfindliche Verbindung pfropfpolymerisiert werden.

Eine besonders bevorzugte lichtempfindliche Schicht, die erfindungsgemäß verwendet wird, wird durch Vernetzen oder Modifizieren eines Teilesters aus Naphthochinon-1,2-diazid- 5-sulfochlorid und Phenol-Formaldehyd-Novolakharz mit einem poly- oder monofunktionellen Isocyanat erhalten.

Der lichtempfindlichen Schicht können weitere Bestandteile einverleibt werden, um die Filmbildungseigenschaft oder die Haftung an dem Schichtträger zu verbessern, oder Farbstoffe, um das Bild zum Zeitpunkt der Entwicklung oder Belichtung sichtbar zu machen, vorausgesetzt, daß diese zugesetzten anderen Bestandteile die erfindungsgemäße Wirkung nicht beeinträchtigen.

Die Dicke der erfindungsgemäß verwendeten Licht-Trennschicht liegt im Bereich von 0,1 bis 100 µm, vorzugsweise von 0,5 bis 10 µm. Eine geringere Dicke führt leicht zur Ausbildung von Defekten, wie zur Bildung von Nadellöchern zum Zeitpunkt der Beschichtung, während eine größere Dicke in wirtschaftlicher Hinsicht nachteilig ist.

Die erfindungsgemäß verwendete Siliconkautschukschicht besteht hauptsächlich aus einem linearen Organopolysiloxan mit einem Molekulargewicht von mehreren 1000 bis mehreren 100 000, das die folgende wiederkehrende Einheit aufweist:

worin n eine ganze Zahl von nicht weniger als 1 bedeutet und R für eine C₁ bis C₁₀-Alkyl-, -Alkenyl oder Phenylgruppe steht, wobei vorzugsweise 60% oder mehr der Gruppen R Methylgruppen bedeuten. Ein solches lineares Organopolysiloxan kann mit einem organischen Peroxid vermischt und der Wärmebehandlung unterworfen werden, wobei ein mäßig vernetzter Siliconkautschuk gebildet wird.

Außerdem wird dem linearen Polysiloxan ein Vernetzungsmittel zugesetzt, welches ein sogenanntes Raumtemperatur-Vulkanisationsmittel (Niedertemperatur-Vulkanisationsmittel) darstellt, wie es für Siliconkautschuk verwendet wird, wozu beispielsweise Acetoxysilane, Ketoximinosilane, Alkoxysilane, Aminosilane und Amidosilane gehören. Durch Verwendung dieser Vernetzungsmittel in Kombination mit einem Hydroxyl-Endgruppen aufweisenden linearen Organopolysiloxan werden Siliconkautschuke des Deacetyl- Typs, Deoxim-Typs, Dealkohol-Typs, Deamin-Typs und Deamid-Typs erhalten. Im allgemeinen wird zu diesen Siliconkautschuken zusätzlich eine geringe Menge einer Organozinnverbindung oder dergleichen als Katalysator zugesetzt.

Die Dicke der Siliconkautschukschicht liegt im Bereich von 0,5 bis 10 µm. Eine geringere Dicke kann zu Schwierigkeiten im Hinblick auf die Dauerhaftigkeit beim Drucken führen, während eine größere Dicke nicht nur nachteilig in wirtschaftlicher Hinsicht ist, sondern auch im Gegensatz zu der erfindungsgemäßen Aufgabe steht, wonach die Zellen flacher gemacht werden sollen; darüber hinaus wird es schwierig, die Siliconkautschukschicht während der Entwicklung zu entfernen, wodurch eine verschlechterte Bildreproduzierbarkeit verursacht wird.

Bei der erfindungsgemäßen Flachdruckplatte sind außerdem die Haftung zwischen dem Schichtträger und der lichtempfindlichen Schicht und zwischen der lichtempfindlichen Schicht und der Siliconkautschukschicht so wichtig für das grundsätzliche Verhalten und die Arbeitsweise der Platte, wie die Bildreproduzierbarkeit und die Dauerhaftigkeit beim Drucken, daß erforderlichenfalls eine Haftschicht bzw. Klebmittelschicht zwischen den vorstehend genannten Schichten ausgebildet werden kann oder daß eine das Haftvermögen verbessernde Komponente jeder der vorstehend genannten Schichten einverleibt werden kann. Speziell für das Haftvermögen zwischen der lichtempfindlichen Schicht und der Siliconkautschukschicht ist es wirksam, zwischen den beiden Schichten eine bekannte Silicon-Grundierschicht oder Silan-Kupplungsmittelschicht vorzusehen oder der lichtempfindlichen Schicht oder der Siliconkautschukschicht einen Silicon-Primer oder ein Silan- Kupplungsmittel einzuverleiben.

Der Schichtträger sollte so flexibel sein, daß er in einer üblichen Flachdruckmaschine befestigt werden kann, und sollte fest genug sein, um der während des Druckens angelegten Belastung zu widerstehen. Typisch für geeignete Schichtträger sind Metallplatten, wie aus Aluminium, Kupfer und Stahl, Kunststoff- Folien, wie aus Polyäthylenterephthalat, und beschichtete Papiere. Auf diesen Platten oder Folien kann eine weitere Überzugsschicht aufgebracht werden, um die Lichthofbildung zu vermeiden oder um andere Ziele zu verfolgen, und die so beschichteten Platten oder Folien können als Schichtträger verwendet werden.

Zum Schützen der Siliconkautschukschicht, die als Oberflächenschicht in den wie vorstehend aufgebauten Trocken-Flachdruckplatten vorliegt oder auch zu anderen Zwecken kann ein dünner Schutzfilm auf die Oberfläche der Siliconkautschukschicht aufgetragen werden.

Die vorstehend beschriebene Trocken-Flachdruckplatte gemäß der Erfindung wird beispielsweise auf folgende Art hergestellt. Zuerst wird auf den Schichtträger eine Lösung einer die lichtempfindliche Schicht bildenden Zusammensetzung aufgetragen, was unter Anwendung einer üblichen Beschichtungsvorrichtung, wie einer gleichsinnig laufenden Walzenauftragmaschine, einer Luftrakel-Beschichtungsvorrichtung oder einer Mayer-Stab-Beschichtungsvorrichtung, oder mit Hilfe einer rotierenden Auftragvorrichtung, wie einer Wirbelbeschichtungsvorrichtung, erfolgen kann. Anschließend wird die Schicht getrocknet und erforderlichenfalls wärmegehärtet und dann wird erforderlichenfalls in der gleichen Weise eine Haftschicht auf der lichtempfindlichen Schicht aufgetragen, wonach getrocknet wird. Schließlich wird eine Siliconkautschuklösung in gleicher Weise aufgetragen, wonach eine Wärmebehandlung, normalerweise bei einer Temperatur von 100 bis 120°C, mehrere Minuten lang durchgeführt wird, um die Härtung bis zu einem ausreichenden Grad zu ermöglichen, so daß eine Siliconkautschukschicht gebildet wird. Erforderlichenfalls kann die so gebildete Siliconkautschukschicht mit Hilfe einer Laminiervorrichtung oder dergleichen mit einem Schutzfilm überzogen werden.

Die erfindungsgemäße Trocken-Flachdruckplatte, die in der vorstehend beschriebenen Weise hergestellt wurde, wird durch eine Negativ-Bildvorlage bildmäßig belichtet, die im Vakuum in engen Kontakt mit der Platte gebracht wird. Die für diese Belichtungsstufe verwendete Lichtquelle sollte eine ausreichende Menge an Ultraviolettstrahlung (Ultraviolett-Licht) erzeugen. Als Lichtquelle zu diesem Zweck eignen sich Quecksilberlampen, Kohlebogenlampen, Xenonlampen, Metallhalogenid-Lampen oder Fluoreszenzlampen.

Nach der Belichtung wird die Platte mit einem Entwicklerkissen abgerieben, welches einen Entwickler enthält, wobei nur die Siliconkautschukschicht in den belichteten Bereichen entfernt wird, während die lichtempfindliche Schicht, die durch Vernetzen oder Modifizieren in dem Entwickler schwerlöslich oder unlöslich gemacht wurde, ohne wesentliche Verminderung ihrer Dicke zurückbleibt, wobei die belichtete Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht einen für Druckfarbe aufnahmefähigen Bereich darstellt.

Geeignete Entwickler, die für die Zwecke der Erfindung verwendet werden können, umfassen aliphatische Kohlenwasserstoffe (z. B. Hexan, Heptan, Benzin, Kerosin), aromatische Kohlenwasserstoffe (z. B. Toluol, Xylol) oder halogenierte Kohlenwasserstoffe (z. B. Trichlorethyl), die befähigt sind, Siliconkautschuk anzuquellen, und diesen Entwicklern sind die nachstehenden polaren Lösungsmittel einverleibt:
Alkohole (z. B. Methanol, Ethanol), Ether (z. B. Ethylcellosolve, Dioxan), Ketone (z. B. Aceton, Methylethylketon), Ester (z. B. Ethylacetat, Cellosolveacetat).

Das theoretische Prinzip der Bilderzeugung mit Hilfe der unter Lichteinwirkung eine Freisetzung bewirkenden, lichtempfindlichen Schicht gemäß der Erfindung ist unbekannt; es wird jedoch angenommen, daß es auf der Änderung der Haftung der lichtempfindlichen Schicht gegenüber der Siliconkautschukschicht beruht, die durch eine Änderung der Polarität der lichtempfindlichen Schicht bei der Belichtung oder eine Änderung der Quelleigenschaften der lichtempfindlichen Schicht gegenüber dem Entwicklungslösungsmittel verursacht wird. Die Tiefe der feinen Zellen, welche die Druckfarbe-aufnehmenden Bereiche der auf diese Weise hergestellten Druckform bilden, ist um die Dicke der lichtempfindlichen Schicht geringer als die Tiefe der Zellen in üblichen negativ arbeitenden Flachdruckformen für den Trocken-Flachdruck, in denen die löslich gemachte lichtempfindliche Schicht in den belichteten Bereichen weggelöst wird und gleichzeitig die darüber angeordnete Siliconkautschukschicht entfernt wird. Der freizulegende Druckfarbe aufnehmende Bereich kann aus einem für Druckfarbe hochaufnahmefähigen Harz bestehen. Aus diesem Grund kann bei Verwendung der erfindungsgemäßen Flachdruckfarbe ein extrem guter Druck erreicht werden, der frei von dem sogenannten Auslassen von feinen Punkten ist.

Darüber hinaus läßt sich der Bildbereich, der durch die lichtempfindliche Schicht als Oberflächenschicht gebildet wird, leicht mit Farbstoffen färben, während die bildfreien Bereiche, die aus der Siliconkautschukschicht als Oberflächenschicht bestehen, nicht gefärbt werden; es ist daher möglich, die Druckplatte zu überprüfen, wobei nur der Bildbereich gefärbt ist. Wenn es notwendig wird, die Druckfarben-Aufnahmefähigkeit der betreffenden Bildbereiche zu beseitigen, beispielsweise aufgrund von Korrekturen oder dergleichen, wird eine Siliconkautschuklösung auf den betreffenden Teil aufgetragen, um den Bildbereich mit einem Siliconkautschukfilm zu überziehen. Da die lichtempfindliche Schicht des Bildbereiches besonders gute Haftung an dem Siliconkautschukfilm zeigt, der auf dem zu beseitigenden Teil ausgebildet ist, zeigt dieser genannte Bereich ausgezeichnete Beständigkeit beim Drucken.

Die Erfindung wird nachstehend anhand von Ausführungsbeispielen eingehender erläutert. Die dort angegebenen Teile sind Gewichtsteile.

Beispiel 1

(A) Auf eine mit einer chemischen Umwandlungsschicht überzogene Aluminiumplatte (0,3 mm dick) wurde eine Lösung der nachstehenden Zusammensetzung zur Ausbildung einer lichtempfindlichen Schicht aufgetragen, wonach eine 2 Minuten dauernde Wärmebehandlung bei 120°C erfolgte, wobei eine 2,6 µm dicke lichtempfindliche Schicht gebildet wurde:

(a) Naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfoester von Phenolnovolakharz (handelsübliches Produkt) mit einem prozentualen Veresterungsgrad von 44%
100 Teile
(b) 4,4-Diphenylmethandiisocyanat	20 Teile
(c) Dibutylzinndilaurat	0,2 Teile
(d) Methylcellosolveacetat	2000 Teile

Auf die so ausgebildete lichtempfindliche Schicht wurde dann eine Siliconkautschuklösung der nachstehenden Zusammensetzung aufgetragen, wonach 2 Minuten lang auf 120°C erhitzt wurde, um die Härtung durchzuführen, wobei eine 2,2 µm dicke Siliconkautschukschicht gebildet wurde:

(a) Dimethylpolysiloxan (Molekulargewicht etwa 80 000, mit Hydroxyl-Endgruppen)
100 Teile
(b) Ethyltriacetoxysilan	5 Teile
(c) Dibutylzinndiacetat	0,2 Teile
(d) γ-Aminopropyltriäthoxysilan	3 Teile
(e) Isoparaffinisches, aus KWSt mit einem Kp. von 115-142°C best. Lösungsmittel	1650 Teile

Auf die so erhaltene Trockenflachdruckplatte wurde im Vakuum in bekannter Weise ein Negativfilm mit einem Rasterbild von 175 Linien enghaftend aufgelegt und die Anordnung wurde dann mit Hilfe einer Metallhalogenidlampe unter einem Abstand von 1 m 60 Sekunden lang bildmäßig belichtet. Die Platte wurde dann in eine Mischlösung aus Ethanol/Kompar (e) (s. o.) im Verhältnis 20/80 eingetaucht und leicht mit einem Entwicklerkissen abgerieben, wodurch die Siliconkautschukschicht in den belichteten Bereichen entfernt wurde und die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht freigelegt wurde, wobei ein Bild erzeugt wurde, welches mit dem Originalfilm übereinstimmte.

Die Oberflächenbedingungen der so erhaltenen Druckplatte wurden mit einem Oberflächen-Rauhigkeits-Prüfgerät des Nadel- Typs geprüft, wobei festgestellt wurde, daß die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht in dem durch die Entwicklung freigelegten Bereich sehr glatt war und daß die Dicke der lichtempfindlichen Schicht, die 2,6 µm betrug, nicht vermindert war.

(B) Andererseits wurde auf der gleichen vorstehend beschriebenen Aluminiumplatte eine lichtempfindliche Schicht der nachstehenden Zusammensetzung aufgetragen, deren Dicke 2,6 µm betrug, wonach eine Wärmebehandlung während 2 Minuten bei 120°C durchgeführt wurde:
(a) Naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfoester von Phenolnovolakharz (handelsübliches Produkt) mit einem Veresterungsgrad von 44%.

Dann wurde auf der so ausgebildeten lichtempfindlichen Schicht die gleiche Siliconkautschukschicht aufgebracht, die vorstehend unter (A) beschrieben wurde, wobei die gleiche Dicke eingehalten wurde, wonach 2 Minuten bei 120°C wärmebehandelt wurde. Die nachstehende Belichtung und Entwicklung wurden in gleicher Weise wie vorstehend unter (A) durchgeführt, wobei die lichtempfindliche Schicht in den belichteten Bereichen aufgelöst wurde und gleichzeitig die darüberliegende Siliconkautschukschicht entfernt wurde, so daß in diesen Bereichen die Aluminiumplatte freigelegt wurde. Auf diese Weise wurde eine Druckplatte hergestellt.

Die gemäß (A) und (B) erhaltenen Druckplatten wurden jeweils in einer Offsetpresse befestigt und der Druck wurde unter Verwendung einer Cyan-Druckfarbe für den Trockenflachdruck ohne Verwendung von Befeuchtungswasser durchgeführt. Das Drucken erfolgte bei einem Grad der optischen Dichte des festen Bereiches auf dem Abdruck von 2,0 bis 0,7, während das Anhaften von Druckfarbe in den Lichtspitzen-Bereichen (Punktdurchmesser 50 bis 70 µm) durch eine Lupe mit dem Auge beobachtet werden konnte (50fache Vergrößerung). Dabei wurde gefunden, daß die optische Dichte des festen Anteils, bei der die Haftung der Druckfarbe schlecht wurde (einiges oder völliges Weglassen von Punkten), in Platte (A) 0,8 bis 0,9 und in Platte (B) 1,3 bis 1,4 betrug. Bei der gleichen Menge der Druckfarbe zeigte Platte (A) eine bemerkenswerte Verbesserung des Haftens der Druckfarbe in den Punktbereichen.

Beispiel 2

Auf eine 0,24 mm dicke Aluminiumplatte wurde ein Resolharz (handelsübliches Produkt) aufgetragen, so daß eine Dicke von 2 µm erreicht wurde, wonach eine 3minütige Wärmebehandlung bei 180°C durchgeführt wurde, um die Härtung zu bewirken. Auf diese Weise wurde ein Trägersubstrat erhalten. Dann wurde eine Lösung für eine lichtempfindliche Schicht der nachstehenden Zusammensetzung auf das Trägersubstrat aufgetragen und durch 2minütiges Erhitzen auf 120°C gehärtet, wobei eine 2,4 µm dicke lichtempfindliche Schicht gebildet wurde:

(a) Naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfoester von Phenolnovolakharz) wie in Beispiel 1 beschrieben)
100 Teile
(b) 2,6-Toluoldiisocyanat	20 Teile
(c) Dibutylzinnlaurat	0,2 Teile
(d) Dioxan	2000 Teile

Dann wurde eine Siliconkautschuklösung der nachstehenden Zusammensetzung auf die lichtempfindliche Schicht aufgetragen und durch 2minütiges Erhitzen auf 120°C gehärtet, wobei eine 2,1 µm dicke Siliconkautschukschicht gebildet wurde:

(a) Dimethylpolysiloxan (Molekulargewicht etwa 80 000, mit Hydroxyl-Endgruppen)
100 Teile
(b) Vinyl-tri(methylethylketoximo)-silan	8 Teile
(c) Dibutylzinndiacetat	0,2 Teile
(d) γ-[N-(β-Aminoethyl)amino]-propyltrimethoxysilan	2,5 Teile
(e) wie Bsp. 1	1800 Teile

Die so erhaltene Druckform-Matrix wurde 60 Sekunden unter einem Abstand von 1 m mit einer Metallhalogenidlampe belichtet, wobei die Belichtung durch einen Negativfilm mit einem Rasterbild von 150 Linien erfolgte, der im Vakuum in dichtem Kontakt an der Platte haftete. Die Platte wurde dann in einen Entwickler eingetaucht (Komp. (e)/Ethanol = 9/1), der einen Farbstoff enthielt (Öl-Blau A; öllösliche blaue Druckfarbe) und leicht mit einem Entwicklerkissen abgerieben, wobei nur die Siliconkautschukschicht in den belichteten Bereichen entfernt wurde. Auf diese Weise wurde eine Druckplatte mit einer freigelegten gefärbten lichtempfindlichen Schicht erhalten, welche exakt das Bild des Negativfilms reproduzierte.

Beispiel 3

In 30 ml trockenes Dioxan wurden unter einem Stickstoff- Gasstrom 10 g Phenylisocyanat und 20 mg Dibutylzinndilaurat gegeben, wonach 7 g Naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfoester von Phenolnovolak mit einem Veresterungsgrad von 43% unter Rühren zugesetzt wurden. Das Rühren wurde 3 Stunden bei Raumtemperatur fortgesetzt. Nach dem Stehenlassen über Nacht wurde 1 ml Wasser zugefügt, um verbliebenes Phenylisocyanat zu zersetzen. Das Reaktionsgemisch wurde filtriert, um den Niederschlag zu entfernen. Das Filtrat wurde dann in einen großen Überschuß an Wasser gegossen, wobei eine Ausfällung stattfand, wonach der Niederschlag filtriert und getrocknet wurde. Es wurde ein gelbes Pulver erhalten.

Der erhaltene Naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfoester von Phenolnovolakharz, der in dieser Weise mit Phenylisocyanat modifiziert worden war, wurde in Dioxan gelöst, so daß eine 5gew.-%ige Lösung erhalten wurde. Diese Lösung wurde auf eine 0,3 mm dicke durch chemische Umwandlung beschichtete Aluminiumplatte aufgetragen und dann getrocknet, um eine 2,2 µm dicke lichtempfindliche Schicht auszubilden. Auf diese Schicht wurde dann in gleicher Weise wie in Beispiel 2 eine Siliconkautschukschicht aufgebracht. Die so erhaltene Druckform- Matrix wurde 60 Sekunden unter einem Abstand von 1 m durch einen Negativfilm mit einem Rasterbild von 150 Linien, der im Vakuum in dichtem Kontakt mit der Platte stand, mit einer Metallhalogenidlampe belichtet. Die Platte wurde dann in eine aus Komp. (e)/Ethanol (= 9/1) bestehende Lösung eingetaucht und mit einem Entwicklerkissen abgerieben, wobei nur die Siliconkautschukschicht in den belichteten Bereichen entfernt wurde und eine freiliegende lichtempfindliche Schicht zurückblieb, die ein getreues Abbild des Filmoriginals darstellte.

Die so erhaltene Druckplatte wurde im Hinblick auf ihre Oberflächenbedingungen unter Verwendung eines Oberflächen- Rauhigkeits-Prüfgeräts des Nadel-Typs geprüft. Dabei wurde gefunden, daß die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht in den durch die Entwicklung freigelegten Bereichen glatt war und daß die Dicke der lichtempfindlichen Schicht 2,2 µm betrug.

Beispiel 4

Unter Verwendung jeder der in Beispielen 1 (A), 2 und 3 hergestellten Druckformen wurde das Drucken mit einer magenta-farbenen Druckfarbe für den Trockenflachdruck ohne Verwendung von Befeuchtungswasser mit Hilfe einer Offset- Druckpresse durchgeführt. Dabei erzeugten alle Druckformen schöne Abdrucke und selbst nach 20 000, 10 000 bzw. 10 000 Kopien waren die Oberflächen der Druckformen frei von Beschädigung, so daß sie zum weiteren Drucken verwendbar waren.

Claims

1. Lichtempfindliche Trockenflachdruckplatte mit

a) einem Schichtträger,
b) einer darauf aufgebrachten oleophilen lichtempfindlichen Schicht und
c) einer Druckfarbe abweisenden Siliconkautschukschicht,

dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht sowohl vor als auch nach der Belichtung in Entwicklern unlöslich ist und die Haftung zur Siliconkautschukschicht in den belichteten Bereichen so gemindert wird, daß die Siliconkautschukschicht durch einen Entwickler entfernt werden kann.

2. Lichtempfindlichen Trockenflachdruckplatte nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch einen Bildbereich, der durch eine auf dem Schichtträger aufgebrachte lichtempfindliche Schicht gebildet wird, und einen bildfreien Bereich, der durch die Siliconkautschukschicht gebildet wird, die auf der lichtempfindlichen Schicht aufgebracht ist.

3. Lichtempfindliche Trockenflachdruckplatte nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht durch Vernetzung einer Chinondiazid- Verbindung mit einer polyfunktionellen Verbindung in Entwicklern schwer löslich oder unlöslich gemacht wurde.

4. Lichtempfindliche Trockenflachdruckplatte nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß als polyfunktionelle Verbindung eine Polyisocyanatverbindung verwendet wurde.

5. Lichtempfindliche Trockenflachdruckplatte nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß als polyfunktionelle Verbindung eine Polyepoxyverbindung verwendet wurde.

6. Lichtempfindliche Trockenflachdruckplatte nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht dadurch in Entwicklern schwer löslich oder unlöslich gemacht wurde, daß eine Chinondiazid- Verbindung mit einem Monoisocyanat urethanisiert wurde.

7. Lichtempfindliche Trockenflachdruckplatte nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht dadurch in Entwicklern schwer löslich oder unlöslich gemacht wurde, daß eine Chinondiazid- Verbindung verestert wurde.

8. Lichtempfindliche Trockenflachdruckplatte nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht dadurch in Entwicklern schwer löslich oder unlöslich gemacht wurde, daß eine Chinondiazid- Verbindung amidisiert wurde.

9. Lichtempfindliche Trockenflachdruckplatte nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht in Entwicklern schwer löslich oder unlöslich gemacht wurde, indem eine Chinondiazid-Verbindung mit einem Vinylmonomeren der Pfropfpolymerisation unterworfen wurde.

10. Lichtempfindliche Trockenflachdruckplatte nach einem der Ansprüche 3 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß als Chinondiazid-Verbindung ein Ester aus Naphthochinon-1,2- diazid-sulfonat und einer Polyhydroxyverbindung verwendet worden ist.

11. Lichtempfindliche Trockenflachdruckplatte nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß als Polyhydroxyverbindung ein Phenol-Formaldehyd-Novolakharz verwendet wurde.

12. Lichtempfindliche Trockenflachdruckplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der lichtempfindlichen Schicht im Bereich von 0,1 bis 100 µm liegt.

13. Lichtempfindliche Trockenflachdruckplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Siliconkautschukschicht ein vernetztes Diorganopolysiloxan enthält, das durch Härtung eines Diorganopolysiloxans mit der folgenden wiederkehrenden Einheit erhalten wurde, worin n eine ganze Zahl von nicht weniger als 1 ist und die Reste R gleich oder verschieden sind und jeweils für C₁ bis C₁₀-Alkylgruppen, Alkenyl- oder Phenylgruppen, wobei 60% oder mehr der Reste R für Methylgruppen bedeuten, stehen.

14. Lichtempfindliche Trockenflachdruckplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der Siliconkautschukschicht im Bereich von 0,5 bis 10 µm liegt.

15. Verfahren zur Herstellung einer Negativ-Flachdruckform für den Trocken-Flachdruck, dadurch gekennzeichnet, daß man eine lichtempfindliche Druckplatte nach einem der Ansprüche 1-14 bildmäßig belichtet und mit einem Entwickler behandelt, der lediglich die belichteten Bereiche der Siliconkautschukschicht entfernt.