DE3216042C2 - - Google Patents

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1. Ferner betrifft die Erfindung Einschmelzvorrichtungen zur Durchführung eines solchen Verfahrens.

Die elektrostatischen Linsenelemente eines Elektronenstrahl­ erzeugungssystems sind in einer Reihe angeordnet, um wenigstens einen Elektronenstrahl entlang eines im wesent­ lichen longitudinal verlaufenden Elektronenstrahlweges zu beschleunigen und zu fokussieren. Die Linsenelemente des Strahlerzeugungssystems sind an mindestens zwei, im wesentlichen longitudinal verlaufenden isolierenden Halte­ stäben mit Hilfe von Haltelaschen, die von den Linsenele­ menten vorspringen und in die Haltestäbe eingebettet sind, mechanisch gehaltert.

Die Haltelaschen können entweder zusammen mit den Linsen­ elementen aus einem Stück geformt sein oder z. B. durch Anschweißen am Körper der Linsenelemente angebracht sein. In beiden Fällen haben die in die Haltestäbe eingebetteten Teile der Haltelaschen geformte Vorsprünge oder Klauen, die am Ende der Haltelaschen gebildet sind, um diese fest in den Haltestäben zu verankern. Die Befestigung der Laschen an den Haltestäben erfolgt durch eine Operation, die als Einbetten oder Einschmelzen bezeichnet wird. Ein Beispiel einer Einschmelzvorrichtung ist aus der US-PS 35 27 588 (Aiken et al) vom 8. September 1970 bekannt. Während des Einschmelzvorganges kommt es gelegentlich vor, daß einer oder mehrere der Haltestäbe nicht richtig ausgerichtet sind, was zu einem unrichtigen Abstand zwischen den Lin­ senelementen oder einer ungenügenden Abdeckung der Klauen der Haltelaschen durch die isolierenden Haltestäbe führt. Beides ist unerwünscht, da es zu einer Verzerrung des elektrostatischen Feldes im Elektronenstrahlerzeugungs­ system führt, durch die der Elektronenstrahl gestört wird.

Es ist aus der US-PS 36 09 400 (Marks et al) vom 28. Sep­ tember 1971 bekannt, die Ausrichtung der Haltestäbe durch eine Verkleinerung der seitlichen Bewegung der Haltestäbe zu verbessern. Hierbei wird, wie in den Fig. 1 und 1a der vorliegenden Anmeldung dargestellt ist, ein Einschmelz­ supportblock A verwendet, der einen Supporttrog B aufweist, in den ein isolierender Haltestab C eingepaßt ist. Die Genauigkeit der Ausrichtung des Haltestabes hängt von der Genauigkeit ab, mit der die Breite des Halte­ stabes kontrolliert werden kann. Die derzeitige industrielle Breitentoleranz für gepreßte, vielgestaltige Haltestäbe mit einer Länge bis zu 49 mm beträgt ± 0,254 mm. Die Pfeile in Fig. 1a und 1b zeigen die Richtung der Bewegung des Supportblocks A während des Einschmelzvorganges.

Eine ähnliche Einschmelzvorrichtung zum Herstellen eines Elektronenstrahlerzeugungssystems einer Bildaufnahme- oder Kameraröhre ist aus der US-PS 41 69 239 (Ehata et al) vom 25. September 1979 bekannt. Die Konstruktion dieser Vorrichtung ist in den Fig. 2 und 3 der vorliegenden Anmeldung dargestellt. Die isolierenden Haltestäbe E sind auf Einschmelzsupporten D gehaltert, die gegen die aufeinander gestapelten Linsenelemente geschwenkt werden. In der Patentschrift wird dargelegt, daß die Genauigkeit, mit der die Elektroden montiert werden, wegen des thermi­ schen und mechanischen Schocks, der auftritt, wenn der geschmolzene Haltestab die Haltelaschen der Linsenelemente berührt, beeinträchtigt wird, wenn die Viskosität des geschmolzenen Glas-Haltestabes klein ist.

In der Technik ist es außerdem bekannt, daß eine sichere, wenn auch etwas zufällige Positionierung der isolierenden Haltestäbe auf einer Support-Fläche dadurch erreicht wer­ den kann, daß der Support mit einer Vakuumhalterung ver­ sehen wird. In der Praxis kann, wenn der Haltestab durch einen Vakuumwandler in vertikaler Lage gehalten wird, die Vakuumhaltekraft abgeschaltet werden, wenn die Einschmelz­ flammen eingestellt werden, um eine Verunreinigung durch gasförmige Verbrennungprodukte zu vermeiden. Es wurde festgestellt, daß die Rückhaltekraft der auftreffenden Gasflamme groß genug ist, um den Haltestab in vertikaler Lage zu fixieren. Wegen der Wechselbeziehung der Breiten­ toleranzen des Haltestabes und der Support-Fläche kann der Haltestab jedoch beim anfänglichen Aufsetzen in seit­ licher Richtung versetzt werden, was zu einer falschen Ausrichtung des Haltestabes führt.

In der gleichrangigen DE-OS 32 16 041 ist ein Elektronenstrahlerzeugungssystem beschrieben, das mindestens zwei selbstjustierende Haltestäbe aufweist, von denen jeder mindestens zwei Positionierungsausnehmungen in einer Ober­ fläche aufweist, um die Haltestäbe während des Einschmelz­ vorganges richtig auszurichten. Die Positionierungsaus­ nehmungen gestatten es, die Haltestäbe mit den Klauen der Haltelaschen der Linsenelemente zu verschmelzen, ohne auf die Breitentoleranzen der Haltestäbe Rücksicht nehmen zu müssen.

Durch die vorliegende Erfindung sollen ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Einschmelzen der Haltelaschen von Linsenelementen eines Elektronenstrahlerzeugungssystems in isolierende Haltestäbe angegeben werden, welche eine exakte Positionierung der Linsenelemente gewährleisten.

Diese Aufgabe wird durch das im Patentanspruch 1 gekenn­ zeichnete Verfahren gelöst. Ein Unteranspruch betrifft eine vorteilhafte Ausgestaltung dieses Verfahrens. Weitere Ansprüche betreffen Einschmelzvorrichtungen zur Durchführung des Verfahrens gemäß Anspruch 1.

Durch das Verfahren und die Einschmelzvorrichtung gemäß der Erfin­ dung wird mit einfachen Mitteln eine exakte Positionierung der Linsenelemente des Elektronenstrahlerzeugungssystems gewährleistet, ohne daß bei den isolierenden Haltestäben oder der Einschmelzvorrichtung besondere Anforderungen an die Breitentoleranzen gestellt werden.

Im folgenden werden Ausführungsbeispiele der Erfindung unter Bezugnahme auf die Zeichnungen näher erläutert. Es zeigt

Fig. 1 eine perspektivische Ansicht eines Teiles eines Elektronenstrahlerzeugungssystems und einer bekannten Einschmelzvorrichtung zur Erläuterung eines bekannten Verfahrens zur Montage des Elektronenstrahlerzeugungssystems;

Fig. 2 eine perspektivische Ansicht eines Teiles einer bekannten Einschmelzvorrichtung zum Montieren eines Elektronenstrahlerzeugungssystems;

Fig. 3 eine Draufsicht der in Fig. 2 dargestellten Einschmelzvorrichtung in Richtung von Pfeilen 3-3 der Fig. 2;

Fig. 4 eine aufgeschnittene Ansicht der Vorderseite eines Elektronenstrahlerzeugungssystems, das ge­ mäß dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellt wurde;

Fig. 5 eine aufgeschnittene, in Richtung der Pfeile 5-5 der Fig. 4 gesehene Seitenansicht des Elektronen­ strahlerzeugungssystems gemäß Fig. 4;

Fig. 6 eine Draufsicht eines Support­ blockes einer Einschmelzvorrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel der Erfindung;

Fig. 7 eine Seitenansicht in einer Schnittebene 7-7 der Fig. 6;

Fig. 8 eine teilweise Stirnansicht in einer Schnitt­ ebene 8-8 der Fig. 6; und

Fig. 9 eine Seitenansicht eines anderen Ausführungs­ beispiels einer Einschmelzvorrichtung gemäß der Erfindung.

Die Fig. 4 und 5 zeigen strukturelle Details eines Elektronenstrahlerzeugungssystems, das im Hals einer Kathodenstrahlröhre angeordnet ist. Die Kathodenstrahl­ röhre enthält einen evakuierten Glaskolben 11, der bei einer vollständigen Röhre eine rechteckige Frontglaswanne (nicht dargestellt) und einen Kolbentrichter, der mit einem Hals 13 einstückig verbunden ist, enthält. Ein Glasfuß 15, der eine Vielzahl von Stiften aufweist, die sich durch ihn hindurch erstrecken, verschließt das Ende des Halses 13. Außerhalb des Kolbens 11 ist an den Stiften 17 ein Sockel 19 angebracht. Zentrisch im Hals 13 ist ein verschmolzenes Zweigpotential-Inline-Elektronenstrahlerzeugungssystem 21 angeordnet, das dazu dient, drei Elektronenstrahlen zu erzeugen und längs in einer Ebene liegender, konvergierender Wege, die eine gemeinsame, im wesentlichen longitudinale Richtung haben, auf einen nicht dargestellten Bildschirm zu richten.

Das Strahlerzeugungssystem enthält zwei Halte­ stäbe 23 a und 23 b aus Glas, durch die die einzelnen Elektroden so gehaltert sind, daß sich eine zusammenhängende Einheit ergibt, wie sie in der Technik im allgemeinen verwendet wird. Die Elektroden enthalten drei in Querrichtung im wesent­ lichen gleich beabstandete, in einer Ebene liegende Kathoden (je eine zur Erzeugung eines Strahls), eine Steuergitterelektrode 27 (die auch als G 1 bezeichnet wird), eine Schirmgitterelektrode 29 (die auch als G 2 bezeich­ net wird), eine erste Beschleunigungs- und Fokussierungs­ elektrode 31 (die auch als G 3 bezeichnet wird) und eine zweite Beschleunigungs- und Fokussierungselektrode 33 (die auch als G 4 bezeichnet wird), auf die ein Abschirm­ becher 35 folgt. Die Elektroden sind in Längsrichtung mit Abständen in der angegebenen Reihenfolge entlang der Haltestäbe 23 a und 23 b angeordnet. Die verschiedenen Elektroden des Strahlerzeugungssystems 21 sind mit den Stiften entweder direkt oder über Metallstreifen 37 elektrisch verbunden. Das Strahlerzeugungssystem 21 wird auf den Stiften 17 im Hals 13 und mit Federfingern 39 am Abschirmbecher 35, die an einer Innenbeschichtung 41 auf der Innenseite des Halses 13 anliegen und Kontakt mit dieser Beschichtung machen, in einer vorgegebenen Lage gehalten. Die Innenbeschichtung 31 erstreckt sich über die innere Oberfläche des trichterförmigen Kolben­ teils und ist mit einem nicht dargestellten Anodenan­ schluß verbunden.

Die Haltestäbe 23 a und 23 b haben beide je eine Montage­ fläche 45 und eine Haltefläche 47. An den beiden Kanten der Stäbe, die an die Haltefläche angrenzen, sind Abschrägungen von etwa 30° gebildet, um den nachfolgenden Einschmelz- oder Ein­ bettungsvorgang zu erleichtern. Die Elektroden 25 bis 33 weisen jeweils Haltelaschen auf, die in die Montageflächen 45 der Halterungsstäbe 23 a und 23 b eingebettet werden. In den Halteflächen 47 der Haltestäbe 23 a und 23 b sind mindestens zwei Positionierungsausnehmungen 49 und 51 geformt. Die Po­ sitionierungsausnehmungen 49 und 51 liegen auf der Mittellinie der longitudinal verlaufenden Achse der Haltestäbe. Die Positonierungsausnehmungen 49 und 51 haben dieselben seitlichen Abmessungen, wenn jedoch eine der beiden eine andere Abmessung hat als die an­ dere, kann eine eindeutige Positionierung erreicht wer­ den.

Wie in den Fig. 4 und 5 dargestellt ist, haben die jeweils in den Haltestäben 23 a und 23 b gebildeten Po­ sitionierungsausnehmungen 49 und 51 eine im wesentlichen rechteckige Form und reichen bis zu einer Tiefe von etwa 1,5 mm in den Körper der Haltestäbe hinein. Die Positionie­ rungsausnehmungen 49 und 51 sind typischerweise etwa 5 mm lang und etwa 3 mm breit. Wenn die Haltestäbe beim Glühen oder Glasieren mit den Positionierungsausnehmungen 49 und 51 den glasierenden Flammen ausgesetzt werden, wird die Geometrie der Positionierungsausnehmungen, die sich durch das Pressen ergeben hat, nicht in die geglühten Stäbe übertragen. In diesem Falle nehmen die Positionie­ rungsausnehmungen 49 und 51 eine leicht elliptische und parabolische Form entlang der Haupt- und Nebenachse der Haltestäbe an. Während des Einbettungsvorganges sind die Haltestäbe 23 a und 23 b in longitudinaler Richtung wegen der länglichen Positionierungsausnehmungen 49 und 51 beweglich, in der seitlichen Richtung jedoch fixiert.

Eine andere Ausführungsform von Haltestäben 123 a ist in den Fig. 6 und 7 dargestellt. Bei dieser Ausführungs­ form hat eine erste Positionierungsausnehmung 149 eine Längsabmessung, die größer ist als die Querabmessung während eine zweite Positionierungsausnehmung 151 im wesentlichen kreisförmig ist und damit eine Konfiguration mit minimaler Oberfläche bildet. Bei dieser Ausführungsform ist der Haltestab während des Einschmelzvorganges sowohl in der Längsrichtung als auch in der Querrichtung fixiert. Eine der Positionierungsausnehmungen, z. B. die Ausneh­ mung 149, sollte in Längsrichtung beweglich sein, damit keine Probleme hinsichtlich der Toleranz des Abstandes zwischen den Positionierungsausnehmungen 149 und 151 auftreten. Die Positionierungsausnehmung 149 ist typi­ scherweise etwa 5 mm lang und etwa 3 mm breit während die Ausnehmung 151 einen Durchmesser von etwa 3 mm hat.

Um das Elektronenstrahlerzeugungssystem mit Hilfe der selbstjustierenden Haltestäbe 23 a und 23 b oder 123 a zu montieren werden die System- und Linsenelemente auf einen Dorn (nicht dargestellt) gestapelt. In den Fig. 6 bis 8 ist beispielsweise ein Haltestab 123 a darge­ stellt, der auf einer Einschmelzvorrichtung angeordnet ist, die ähnlich wie jene ist, die in der bereits er­ wählten US-PS 35 27 588 beschrieben ist. Die Einschmelz­ vorrichtung enthält hier jedoch mindestens zwei neuar­ tige Einschmelzsupportblöcke 160. Die Support­ blöcke sind auf entgegengesetzten Seiten des Dorns ange­ ordnet und verlaufen im wesentlichen vertikal. Die Halte­ stäbe 123 a werden an den Supportblöcken 160 angebracht und auf die Einschmelztemperatur erhitzt. Wenn die Ein­ schmelzstäbe die Einschmelztemperatur erreicht haben, werden die Supportblöcke der Einschmelzvorrichtung auf den Dorn zugeschwenkt, bis die Klauen der Haltelaschen in die Haltestäbe 123 a eingebettet sind. Einer der Support­ blöcke 160 ist in den Fig. 6 bis 8 dargestellt. Wie die Fig. 6 und 7 zeigen, enthält der Einschmelz­ supportblock 160 ein Basisteil 162 und einen Support­ sockel 164. Das Basisteil 162 und der Supportsockel 164 sind vorzugsweise aus einem einzigen Metallstück, z. B. aus Edelstahl, herausgearbeitet, alter­ nativ können die Stücke auch einzeln gebildet und lösbar verbunden sein, um den Einschmelzsupportblock 160 zu bilden.

Im Basisteil 162 ist eine Leitung 166, z. B. durch Bohren, gebildet, die sich von einer äußeren Oberfläche 168 in Längsrichtung über eine Strecke durch das Basisteil erstreckt, die kleiner ist als die Länge des Basisteils. Die Leitung 166 endet an einer inneren Wand 170, die im Abstand von einer zweiten äußeren Ober­ fläche 172, gegenüber der Oberfläche 168 verläuft. In einer Bodenfläche 176 des Basisteils 172 ist eine Thermo­ element-Öffnung 174 gebildet, die sich in den Support­ sockel 164 erstreckt. Von der Bodenfläche 176 des Basis­ teils 162 springen zwei Stützen 178 und 180 vor, um die Supportblöcke auf einem Paar von Halterahmen (nicht dargestellt) zu haltern, welche während des Einschmelz­ vorganges in Richtung auf den Dorn geschwenkt werden können.

Der Supportsockel 164 des Supportblocks 160 enthält eine Einschmelz-Haltefläche 182, in der mindestens zwei Öffnungen 183 und 184 geformt sind. Die Öffnungen gehen durch den Supportsockel 164 und enden in der Leitung 166. Die Öffnungen 183 und 184 sind längs der Längsachse der Haltefläche 182 ausgerichtet.

Ein Paar von Positionierungsstiften 186 und 188, die Bezugsenden 190 bzw. 192 haben, sind im Preß­ sitz in die Öffnungen 183 und 184 eingesetzt. Die Bezugsenden 190 und 192 der Positionierungsstifte 186 bzw. 188 haben die Form eines Pyramidenstumpfs, der sich über die Haltefläche 182 hinaus erstreckt. Die Höhe der Bezugsenden 190 und 192 ist so eingestellt, daß die Enden in die Positionierungsaus­ nehmungen der isolierenden Haltestäbe 123 a und 123 b reichen und die Haltestäbe berühren.

Mindestens einer, vorzugsweise beide Positionierungs­ stifte 186 und 188 sind mit einer Positionierungsstift­ öffnung 194 versehen, die sich längs der Mittellinie des Positionierungsstiftes durch diesen erstreckt. Die Öff­ nungen 194 gestattet einem Vakuum von einer nicht darge­ stellten äußeren Quelle, den Haltestab 123 a in Berührung mit den Bezugsenden 190 und 192 der Positionierungsstifte 186 und 188 zu halten. Das Vakuum wird über die Leitung 166 im Basisteil, durch die Öffnungen 183 und 184 in der Haltefläche und durch die Positionierungsstift­ öffnungen 194 auf den isolierenden Haltestab 123 a über­ tragen. Zur Überwachung der Einschmelztemperatur ist ein Thermoelement (nicht dargestellt) vakuumdicht in der Thermoelement-Öffnung 174 befestigt. Die Breite der kanalartigen Leitung 166 ist größer als der Durchmesser der Thermoelement-Öffnung 174, so daß das Vakuum durch die Öffnung 173 und die Stiftöffnung 194 zur Einwirkung kommt.

Bei der bekannten Einschmelzvorrichtung gemäß Fig. 1 bis 3 ist ein bekanntes Problem das der Sublimation. Die Gasflamme, die auf die isolierenden Haltestäbe auftrifft, um sie bis zur Einschmelztemperatur zu erhitzen, bläst Rückstände weg, die sich auf den kälteren Oberflächen der Einschmelzvorrichtung und vor allem auf den angrenzenden Oberflächen der Einschmelzsupportblöcke ansammelt. Das Sublimationsprodukt, das hauptsächlich aus Kalium­ metaborat besteht, hat eine hohe Löslichkeit im Glas der Haltestäbe. Die dabei entstehende unterschiedliche Aus­ dehnung verursacht mosaikartige Risse in den Haltestäben. Die mosaikartigen Risse wirken als potentielle Quelle für Glassplitter in der Röhre. Durch eine strukturelle Modifikation des Supportsockels 164, wie es in Fig. 8 dargestellt ist, konnte das Auftreten solcher mosaikartiger Risse praktisch beseitigt werden. Die Haltefläche 182 des Supportsockels 184 hat eine im wesentlichen trogartige Kontur mit einem im wesentlichen ebenen Mittelteil 196 und zwei nach außen abgeschrägten (etwa 30° vom flachen Mittelteil nach oben geneigten), nach oben gerichteten und in Längsrichtung verlaufenden Seitenwänden 198 und 200.

Die Breite der Haltefläche 182 ist kleiner als die Breite des Haltestabs 123 a, so daß das Sublimations­ produkt keine an den Haltestab angrenzende Oberfläche findet, auf der es sich ansammeln könnte. Bei der Anordnung gemäß Fig. 8 trifft die Einschmelzflamme (nicht dargestellt) auf den Haltestab 123 a senkrecht zur Oberfläche 145 auf. Um weiter zu verhindern, daß sich kein Sublimationsprodukt auf dem Supportsockel 164 absetzt, sind zwei einspringende Kerben 202 und 204, die einen Winkel von etwa 10° bezüglich der Normalen bilden, vorgesehen, die sich in Längs­ richtung der äußeren Oberfläche der Seitenwände 198 bzw. 200 erstrecken.

Fig. 9 zeigt ein anderes Ausführungsbeispiel der neuen Einschmelzvorrichtung, wobei jedoch nur eine Hälfte dargestellt ist. Ein identisches Element bildet die andere Hälfte der Vorrichtung. Bei diesem Ausführungs­ beispiel enthält die Einschmelzvorrichtung einen Ein­ schmelzsupportblock 260. Der Supportblock 260 stimmt mit dem in den Fig. 6 bis 8 dargestellten Supportblock 160 überein mit der Ausnahme, daß ein Unterstützungs- oder Supportfuß 261 hinzugefügt wurde, um die longitudinale Bewegung des isolierenden Halte­ stabes 23 a, in dem im wesentlichen rechteckige Positionie­ rungsausnehmungen 49 und 51 gebildet sind, weiter ein­ zuschränken. Bei diesem Ausführungsbeispiel ist der Halte­ stab sowohl durch eine Vakuumhaltekraft von einer äußeren Quelle (nicht dargestellt) als auch durch den Support­ fuß 261, der die longitudinale Bewegung des Haltestabes 23 a begrenzt, befestigt und in Berührung mit den Positionie­ rungsstiften gehalten.

Claims (9)

1. Verfahren zum Herstellen eines Elektronenstrahlerzeugungs­ systems, das isolierende Haltestäbe (23 a, 23 b; 123 a) mit einer Oberfläche (47) enthält, in der eine Anzahl von Posi­ tionierungsausnehmungen (49, 51; 149, 151) gebildet sind, bei dem Haltelaschen der Elektroden des Elektronenstrahlerzeu­ gungssystems in die isolierenden Haltestäbe eingeschmolzen werden, dadurch gekennzeichnet, daß eine Einschmelzvorrichtung mit Halteflächen (182) verwendet wird, an denen jeweils eine Anzahl von Positionierungsvorsprün­ gen (190, 192) derart gebildet sind, daß ihre Anzahl und ihre Anordnung gleich der der Positionierungsausnehmungen (49, 51; 149, 151) der isolierenden Haltestäbe (23 a, 23 b, 123) ist und daß die isolierenden Haltestäbe mit den die Positionierungsausnehmungen enthaltenden Anlageflächen auf die Halteflächen der Einschmelzvorrichtung so aufgebracht werden, daß die Positionierungsvorsprünge in die Positionie­ rungsausnehmungen ragen, und in der auf diese Weise festgeleg­ ten Orientierung von der Einschmelzvorrichtung während des Einschmelzens der Haltelaschen der Elektroden in die isolieren­ den Haltestäbe gehalten werden.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Haltestab (123 a) dadurch in Berührung mit der Haltefläche (182) der Einschmelz­ vorrichtung gehalten wird, daß ein Vakuum durch mindestens einen der Vorsprünge (190) auf den Stab zur Einwirkung gebracht wird.

3. Einschmelzvorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, mit mindestens zwei Einschmelz­ supportblöcken (160; 260), die jeweils eine Haltefläche (182) zur Halterung eines der isolierenden Halte­ stäbe (23 a, 23 b; 123 a) aufweist, gekennzeichnet durch mehrere Positionierungsstifte (186, 188), die jeweils in einem Loch der Haltefläche angeordnet sind und einen Positionierungsvorsprung (190, 192) bilden, der sich über die Haltefläche (182) hinaus in eine Positionierungsausnehmung (49, 51; 149, 151) eines der isolierenden Halte­ stäbe erstreckt, und durch
eine Halterungseinrichtung (166, 183, 194) die die Haltestäbe in Berührung mit den Positionierungsstif­ ten hält.

4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Supportblöcke (160) einen Basisteil (162) und einen Support (164) aufweisen, der die Haltefläche bildet, die trogartig ist und einen im wesent­ lichen ebenen Mittelteil (196) sowie zwei nach außen abgeschrägte, in Längsrichtung verlaufende Seiten­ wände (198, 200) aufweist, die über das ebene Mittel­ teil vorspringen (Fig. 8).

5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Supportsockel (164) eine einspringende Kerbe (202, 204) aufweist, die longitudinal entlang einer anderen Fläche jeder der Seitenwände (198, 200), die an die Haltefläche (182) angrenzen, verläuft.

6. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens einer der Positionierungsstifte (186), die in den Öffnungen (183, 184) der Haltefläche (182) angeordnet sind, eine Positionierungsstiftöffnung (194) aufweist, die sich längs der Mittellinie durch den Stift erstreckt.

7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Halterungsvorrichtung eine Anordnung zur Auf­ rechterhaltung eines Vakuums mit einer im Basisteil (162) gebildeten Leitung (166) enthält, die mit den Öffnungen (183, 184) in der Haltefläche (182) und mit der Stift­ öffnung (194) in mindestens einem der Positionierungs­ stifte (186) kommuniziert.

8. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Positionierungsvorsprünge (190, 192) der Positionierungsstifte (186, 188), die in die Positionierungsausnehmungen (49, 51; 149, 151) der isolierenden Haltestäbe (23 a, 23 b; 123 a) vorspringen, die Form eines Pyramidenstumpfes haben.

9. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß am einen Ende der Supportblöcke (260) ein Stütz­ fuß (261) angebracht ist, der sich über die Haltefläche der Blöcke hinaus erstreckt.