DE3323852C2 - - Google Patents
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- DE3323852C2 DE3323852C2 DE3323852A DE3323852A DE3323852C2 DE 3323852 C2 DE3323852 C2 DE 3323852C2 DE 3323852 A DE3323852 A DE 3323852A DE 3323852 A DE3323852 A DE 3323852A DE 3323852 C2 DE3323852 C2 DE 3323852C2
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Beleuch
tungsvorrichtung gemäß dem Oberbegriff von Patentanspruch
1. Eine solche Beleuchtungsvorrichtung findet insbeson
dere Anwendung zum Belichten von Halbleiterplättchen bzw.
Wafern durch eine Maske hindurch, die ein Schaltungs
muster trägt.
Bei der Herstellung von Halbleiterschaltungen wird ein
integriertes Schaltungsmuster auf einen Wafer übertragen,
indem eine Maske und der Wafer aufeinandergelegt werden
und die Maske beleuchtet wird, so daß das darauf
befindliche Schaltungsmuster auf den Wafer projiziert
wird. Alternativ zu diesem Vorgehen ist es auch bekannt,
zwischen der Maske und dem Wafer ein Projektionsobjektiv
anzuordnen, das die Maske auf dem Wafer abbildet.
Um qualitativ hochwertige Halbleiterschaltungen herzu
stellen, soll das von der Beleuchtungsvorrichtung gelie
ferte Beleuchtungslicht das Objekt bzw. die Maske
möglichst über ihre gesamte Fläche gleichmäßig hell
bestrahlen. Ferner soll der effektive Einfallswinkel des
auftreffenden Beleuchtungslichtes in den verschiedenen
Bereichen der beleuchteten Objekt- bzw. Maskenfläche
möglichst gleich und möglichst klein sein.
Eine Beleuchtungsvorrichtung mit den Merkmalen des
Oberbegriffs von Patentanspruch 1 ist bekannt (DE-OS
25 00 746). Diese bekannte Beleuchtungsvorrichtung weist
eine erste Strahlaufteilungsvorrichtung sowie ein erstes
Objektiv auf. Das von der Lichtquelle ausgehende Licht
bündel fällt als Parallelstrahlenbündel auf die
Eintrittsfläche der ersten Strahlaufteilungsvorrichtung,
nachdem das von der Lichtquelle divergierend ausgehende
Lichtbündel mittels einer Sammellinse parallel
ausgerichtet worden ist. Diese bekannte Beleuchtungsvor
richtung arbeitet in der Weise, daß durch die Aufteilung
des einfallenden Lichtbündels auf eine Vielzahl von
Lichtbündeln in der Austrittsfläche der Strahlauftei
lungsvorrichtung nebeneinander in flächiger Anordnung
zahlreiche Sekundärlichtquellen vorhanden sind. Diese
haben allerdings untereinander verschiedene Helligkeiten
bzw. Lichtmengen, wobei die in der Nähe der optischen
Achse der gesamten Vorrichtung verlaufenden, aufgeteilten
Lichtbündel heller sind als die am Rand der
Strahlaufteilungsvorrichtung austretenden Lichtbündel,
die einen größeren Abstand zur optischen Achse haben.
Mittels des Objektivs wird jedes der aufgeteilten
Lichtbündel auf dieselbe Objektfläche gerichtet wie die
übrigen aufgeteilten Lichtbündel und dort mit den übrigen
aufgeteilten Lichtbündeln überlagert. Dies führt trotz
unterschiedlicher Lichtmengen in jedem der Lichtbündel zu
weitgehend gleicher Helligkeit über die gesamte
Objektfläche, auf der die Überlagerung erfolgt.
Unterschiedlich in den verschiedenen Bereichen der
beleuchteten Objektfläche sind jedoch die effektiven
Einfallswinkel des auftreffenden Beleuchtungslichtes,
d. h., die Richtungscharakteristik des Beleuchtungslichtes
ist ungleichmäßig.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die
gattungsgemäße Beleuchtungsvorrichtung derart weiterzu
bilden, daß über die beleuchtete Objektfläche eine
möglichst hohe Gleichförmigkeit der Helligkeit und eine
hohe Gleichmäßigkeit der effektiven Einfallswinkel
erreicht ist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die Merkmale im
kennzeichnenden Teil von Patentanspruch 1 gelöst, d. h., im
wesentlichen dadurch, daß der ersten Strahlaufteilungs
vorrichtung ein System aus einem zweiten Objektiv und
einer zweiten Strahlaufteilungsvorrichtung vorgeschaltet
ist, das dafür sorgt, daß bereits das auf die
Eintrittsfläche der ersten Strahlaufteilungsvorrichtung
einfallende Gesamt-Lichtbündel über seinen Bündelquer
schnitt bzw. über die Eintrittsfläche gleiche Helligkeit
hat. Dies hat zur Folge, daß die aus der ersten
Strahlaufteilungsvorrichtung austretenden, aufgeteilten
Lichtbündel - anders als bei der gattungsbildenden
Beleuchtungsvorrichtung - untereinander gleiche Lichtmen
gen enthalten, was zu der aufgabegemäß angestrebten
besseren Gleichverteilung sowohl hinsichtlich der
Helligkeit als auch hinsichtlich der Richtungscharak
teristik führt.
Durch die japanische Gebrauchsmusterveröffentlichung Nr.
54-1 38 649 ist ein Beleuchtungssystem für ein Mikroskop
bekannt, das nach dem Köhlerschen Beleuchtungsprinzip
arbeitet und bei dem zwei Streuscheiben vorgesehen sind,
nämlich eine in der Pupille einer Kondensorlinse und eine
in der Bildebene der Kondensorlinse, d. h. an einer
bezüglich der Kondensorlinse zur Lichtquelle konjugierten
Stelle. Unterdrückt werden damit störende Einflüsse, die
durch eine ungleichmäßige Linsenwirkung des Glaskörpers
der Lichtquelle verursacht sein können. Eine
Strahlaufteilung erfolgt nicht.
Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den
Unteransprüchen gekennzeichnet.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachstehend
anhand schematischer Zeichnungen näher erklärt. Es
zeigen:
Fig. 1 eine optische Schnittansicht eines ersten
Ausführungsbeispiels,
Fig. 2 eine Schnittansicht der Bauteile des ersten
Ausführungsbeispiels,
Fig. 3 die Helligkeitsverteilung des Bildes einer Licht
quelle,
Fig. 4 die Helligkeitsverteilung in einer Austrittsfläche
b,
Fig. 5 die Helligkeitsverteilung in einer Austrittsfläche
d, und
Fig. 6 eine optische Schnittansicht eines zweiten
Ausführungsbeispiels.
In Fig. 1 ist ein erstes Ausführungsbeispiel der
Erfindung dargestellt. Eine Lichtquelle 1 kann z. B. eine
Höchstdruck-Quecksilberdampflampe sein, da es zweckmäßig
ist, daß die Lichtquelle eine hohe Beleuchtungsstärke
hat. Ein elliptischer Spiegel 2 dient zur verlustlosen
Konvergierung des aus der Lichtquelle 1 ausgesandten
Lichtes bzw. Lichtbündels. Der elliptische Spiegel 2 ist
so angeordnet, daß die Lichtquelle 1 in seinem ersten
Brennpunkt zu liegen kommt und das aus dieser ausgesandte
Lichtbündel an seinem zweiten Brennpunkt konvergiert
wird. Ein Spiegel 3 mit dichroischer Schicht läßt
hauptsächlich infrarotes Licht hindurch und reflektiert
ultraviolettes. Dieser Spiegel dient zur Filterung des
Lichts und Umlenkung des optischen Wegs. Ein Verschluß 4
begrenzt die Bestrahlungsenergie. Eine optische Strahl
aufteilungsvorrichtung 5 zur Erzeugung einer Vielzahl von
Lichtbündeln umfaßt eine Vielzahl von optischen
Elementen, die jeweils bestehen aus einem Paar positiver
Linsen L1 und L2 mit gleicher Brennweite, wobei jede im
Brennpunkt der anderen angeordnet ist, und die in einer
Fassung zusammengebaut sind. Die Paare positiver Linsen
sind zweidimensional angeordnet. Eine erste, die
positiven Linsen L1 umfassende Ebene bildet eine
Eintrittsfläche der Strahlaufteilungsvorrichtung und ist
so angeordnet, daß sie mit der zweiten Brennebene des
elliptischen Spiegels 2 zusammenfällt. Gemäß den
nachstehend erwähnten Gründen wird eine Vielzahl von
Sekundärlichtquellen in einer zweiten, die positiven
Linsen L2 umfassenden Ebene erzeugt, die eine Austritts
fläche b der Strahlaufteilungsvorrichtung bildet.
Spiegel 6 und 9 lenken den optischen Weg um jeweils 90°
um und bewirken dadurch einen kompakten Aufbau der
gesamten Beleuchtungsvorrichtung. Ein Filter 7 unter
drückt Licht mit einer kürzeren Wellenlänge als der
beispielsweise beim Belichten eines Wafers gewünschten
Wellenlänge. Ferner sind ein Objektiv in Form eines
Kollimatorobjektivs und eine der Strahlaufteilungsvor
richtung 5 im Aufbau ähnliche optische Strahlauf
teilungsvorrichtung 10 zur Erzeugung einer Vielzahl von
Lichtbündeln dargestellt. Die Austrittsfläche b der
Strahlaufteilungsvorrichtung 5 liegt in einer Brennebene
des Objektivs 8, und eine Eintrittsfläche c der optischen
Strahlaufteilungsvorrichtung 10 liegt in der anderen
Brennebene des Objektivs 8. In einer Austrittsfläche d
der Strahlaufteilungsvorrichtung 10 liegen wiederum
Sekundärlichtquellen vor. Eine Blende 11 bestimmt die
Form und Größe der Gesamtheit der aus der Austrittsfläche
d austretenden Lichtbündel. Ein ebener Spiegel 12 lenkt
die optische Achse um 90° um. Eine Brennebene eines
Objektivs 13 in Form eines Kollimatorobjektivs fällt mit
der Austrittsfläche d der Strahlaufteilungsvorrichtung 10
zusammen, während deren andere Brennebene mit einer
Objektebene e zusammenfällt. In dieser ist eine Maske
angeordnet, und ein Muster wird auf einen Wafer
belichtet, der in Berührung mit oder dicht neben der
Maske steht; das Belichten auf den Wafer kann auch durch
ein Projektionsobjektiv (nicht gezeigt) erfolgen.
Die Objektive 8 und 13 umfassen gewöhnlich eine Vielzahl
von einzelnen Linsen; aus Gründen der Einfachheit sind
sie jedoch hier jeweils als einzelne Linse dargestellt.
Im Rahmen dieser Beschreibung werden das Objektiv 13 als
erstes Objektiv, das Objektiv 8 als zweites Objektiv, die
Strahlaufteilungsvorrichtung 10 als erste Strahlauftei
lungsvorrichtung und die Strahlaufteilungsvorrichtung 5
als zweite Strahlaufteilungsvorrichtung bezeichnet. Nach
dem Einschalten der Lichtquelle 1 wird deren Bild durch
den elliptischen Spiegel in dessen zweiter Brennebene und
somit auf der Eintrittsfläche erzeugt. Die Helligkeits
verteilung dieses Lichtquellenbildes ist, wie Fig. 3
zeigt, aufgrund der Aberrationen des elliptischen
Spiegels 2 sehr uneinheitlich, wobei die höchste
Intensität auf der optischen Achse liegt und mit
zunehmendem Abstand zu dieser steil abfällt. Falls die
Eintrittsfläche c mit diesem Lichtquellenbild als einer
zweiten Lichtquelle beleuchtet würde, wäre die
Helligkeitsverteilung in der Objektivebene uneinheitlich.
Da die zweite Strahlaufteilungsvorrichtung 5 mit ihrer
Eintrittsfläche a in der zweiten Brennebene des ellip
tischen Spiegels 2 angeordnet ist, wird das das Bild der
Lichtquelle 1 in der zweiten Brennebene erzeugende
Lichtbündel durch die zweidimensional angeordneten
Elemente aus den positiven Linsen L1 und L2 in eine
Vielzahl von Lichtbündeln aus parallelen Strahlen
unterteilt, die aus der Austrittsfläche b austreten und
dort Sekundärlichtquellen bilden, wobei jede dieser
Sekundärlichtquellen eine gleichförmige Helligkeitsver
teilung hat, die verschiedenen Sekundärlichtquellen
jedoch entsprechend dem Einfallswinkel auf die
Eintrittsfläche a unterschiedliche Helligkeit haben (Fig.
4). Die zweite Strahlaufteilungsvorrichtung 5 dient somit
zur Erzeugung von Sekundärlichtquellen mit gleichförmiger
Verteilung aus einer Lichtquelle mit ungleichförmiger
Verteilung. Da nun die Eintrittsfläche c mittels
derartiger Sekundärlichtquellen und mittels des
Köhlerschen Beleuchtungsverfahrens beleuchtet wird, wird
in der Austrittsfläche d eine einheitliche Helligkeit
erreicht. Die erste Strahlaufteilungsvorrichtung 10 ist
derart angeordnet, daß an der Eintrittsfläche c ein Bild
der Lichtquelle vorliegt, wodurch die Sekundärlicht
quellen in der Austrittsfläche d keine Unterschiede in
der Helligkeit haben und eine sehr einheitliche
Richtungscharakteristik aufweisen (Fig. 5). Deshalb sind
die Helligkeitsunterschiede erheblich verringert, wenn
die Objektebene e durch die Sekundärlichtquellen in der
Austrittsfläche d und mittels des Objektivs 13 beleuchtet
wird.
Der Verschluß 4 zur Begrenzung der auf die Objektebene e
(Maske) auftreffenden Bestrahlungsenergie ist in der Nähe
der zweiten Brennebene des elliptischen Spiegels 2
angeordnet. Einer Änderung der Helligkeitsverteilung beim
Öffnen und Schließen des Verschlusses wirkt die erste
Strahlaufteilungsvorrichtung 10 entgegen und somit ist
die Verteilung der Helligkeit in der Austrittsfläche d
einheitlich und frei von Ungleichmäßigkeiten. Änderungen
der Helligkeitsverteilung der Sekundärlichtquellen in der
Austrittsfläche b aufgrund von Schwingungen des
Lichtbogens der Lichtquelle 1 während der Aufnahmezeit
oder aufgrund von Einbaufehlern der Lichtquelle werden
ebenfalls aus den oben erwähnten Gründen neutralisiert.
Da die Helligkeitsverteilung in der Austrittsfläche d
gleichförmig ist, kann deren Größe und Form unabhängig
und leicht geändert werden, indem die Größe und Form der
neben ihr liegenden Blende 11 geändert wird.
Fig. 6 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel. Hierbei
sind eine dem oben beschriebenen Ausführungsbeispiel
ähnliche Lichtquelle 1 sowie Kondensorlinsen 22 und 22′
dargestellt. Bei diesem Ausführungsbeispiel sind zwei
Kondensorlinsen, nämlich eine linke und eine rechte,
vorgesehen; es können jedoch alternativ zwei zusätzliche
Kondensorlinsen in einer zur Zeichenebene senkrechten
Ebene angeordnet sein. Die Kondensorlinsen 22 und 22′
dienen zur verlustarmen Sammlung der aus der Lichtquelle
1 ausgesandten Lichtstrahlen. Spiegel 3′ und 3′′ mit
dichroischer Schicht filtern infrarotes Licht aus den
durch die Kondensorlinsen 22 und 22′ geformten
Lichtbündeln paralleler Strahlen aus und richten dieses
auf Kondensorlinsen 23 und 23′. Filter 7′ und 7′′
unterdrücken Licht mit anderer als der verwendeten
Wellenlänge und sind zwischen den Spiegeln 3′ und 3′′
sowie den Kondensorlinsen 23 und 23′ angeordnet. Ferner
ist ein Verschluß 4 dargestellt.
Eine zweite Strahlaufteilungsvorrichtung 5′ zur Erzeugung
einer Vielzahl von Strahlenbündeln besteht z. B. aus einem
optischen Faserbündel, das derart gebündelt ist, daß die
Faserzuordnung zwischen einer Eintrittsfläche a und einer
Austrittsfläche b zufällig ist. Die Eintrittsfläche a
fällt mit der Brennebene der Kondensorlinsen 23 und 23′
zusammen. Ein Objektiv 8′ in Form eines Kollimator
objektivs dient zur Konvergierung; eine erste
Strahlaufteilungsvorrichtung 10′ hat z. B. einen Aufbau,
wie er in Fig. 2 dargestellt ist. Die Austrittsfläche b
liegt in der ersten Brennebene des Objektivs 8 und eine
Eintrittsfläche c der ersten Strahlaufteilungsvorrichtung
10′ liegt in der zweiten Brennebene des Objektivs 8.
Deshalb beleuchten Sekundärlichtquellen in der Austritts
fläche b die Eintrittsfläche c aufgrund Köhlerscher
Beleuchtung ohne Ungleichmäßigkeit. Die auf das Objektiv
8′ folgende Anordnung ist ähnlich derjenigen in Fig. 1.
Es sind ein Objektiv 13′ in Form eines Kollimator
objektivs, ein Wafer w sowie eine Objektebene e
vorhanden, auf der eine Maske getragen wird.
Die Eintrittsfläche c der ersten Strahlaufteilungsvor
richtung 10′ wird einheitlich aufgrund des oben
beschriebenen Aufbaus beleuchtet und deshalb haben die an
der Austrittsfläche d gebildeten Sekundärlichtquellen
keinerlei Helligkeitsunterschiede und eine einheitliche
Richtungscharakteristik und bilden sie eine ideale
Lichtquelle für die Objektebene.
Die Ausbildung des optischen Systems vor der ersten
Strahlaufteilungsvorrichtung 10′, die in Fig. 6
dargestellt ist, unterscheidet sich von der in Fig. 1
gezeigten, ist jedoch in der theoretischen Wirkung mit
dieser identisch. In Fig. 1 wird ein elliptischer Spiegel
verwendet, um das von der Lichtquelle ausgesandte
Lichtbündel wirkungsvoll zu konvergieren und das Bild der
Lichtquelle auf der Eintrittsfläche a der zweiten
Strahlaufteilungsvorrichtung zu erzeugen, während in Fig. 6
zwei Gruppen (oder vier Gruppen) von Kondensorlinsen
zum gleichen Zweck Verwendung finden. Alternativ kann das
durch den elliptischen Spiegel reflektierte Lichtbündel
durch eine Linse in ein Lichtbündel paralleler Strahlen
geformt werden und eine Facettenlinse oder dergleichen
kann in diesem parallelen Bündel angeordnet sein.
Die erste Strahlaufteilungsvorrichtung 10 bzw. 10′ kann
außer der in Fig. 2 dargestellten weitere Ausführungs
formen aufweisen: Sie kann ein optisches Faserbündel oder
eine Facettenlinse sein. Wenn hierbei das Licht aus der
Lichtquelle an der Eintrittsfläche der ersten
Strahlaufteilungsvorrichtung konvergiert wird und die
Austrittsfläche der von der zweiten Strahlaufteilungsvor
richtung gebildeten Sekundärlichtquellen gleichförmige
Helligkeit aufweist, weist die neue, durch die erste
Strahlaufteilungsvorrichtung mit ihren Sekundärlicht
quellen gebildete Lichtquelle keinerlei Helligkeitsunter
schiede auf und hat sie eine gleichmäßige Richtungs
charakteristik.
Wie oben beschrieben, sorgt die beschriebene Vorrichtung
für Gleichförmigkeit in der Helligkeit. Die durch die
Beleuchtungsvorrichtung gebildete Beleuchtungslichtquelle
hat ferner eine gleichmäßige Richtungscharakteristik und
kann leicht mit gewünschter Form und Größe ausgebildet
werden. Ebenfalls können Helligkeitsunterschiede und eine
ungleichförmige Richtungscharakteristik aufgrund des
Schwingens des Lichtbogens der Höchstdruck-Quecksilber
dampflampe, die die Ausgangs-Lichtquelle ist, und
aufgrund des Öffnens und Schließens des Verschlusses oder
eines Lagefehlers des Lichtbogens klein gehalten werden.
Dies führt zu einer ständig konstanten Beleuchtungslicht
quelle und zum Ausschluß von Beleuchtungsungleich
mäßigkeiten.
Claims (11)
1. Beleuchtungsvorrichtung zur Beleuchtung eines
Objektes, mit einer Lichtquelle (1), einem objektseitigen
ersten Objektiv (13, 13′) und einer mit einer
Austrittsfläche (d) versehenen, ersten optischen
Strahlaufteilungsvorrichtung (10, 10′), die ein auf sie
einfallendes Lichtbündel in eine Vielzahl von aus ihrer
Austrittsfläche austretenden Lichtbündeln aufteilt, wobei
das Objektiv die von der Strahlaufteilungsvorrichtung
aufgeteilten Lichtbündel auf ein und derselben Objekt
fläche überlagert, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen
der Lichtquelle (1) und der ersten optischen
Strahlaufteilungsvorrichtung (10, 10′) eine mit einer
Eintrittsfläche (a) und einer Austrittsfläche (b)
versehene zweite optische Strahlaufteilungsvorrichtung
(5, 5′), die das auf ihre Eintrittsfläche (a) einfallende
Lichtbündel in eine Vielzahl von aus ihrer Austritts
fläche (b) austretenden Lichtbündeln aufteilt, und ein
zweites Objektiv (8, 8′) angeordnet sind, das die von der
zweiten Strahlaufteilungsvorrichtung (5, 5′) aufgeteilten
Lichtbündel auf ein und derselben Eintrittsfläche (c) der
ersten Strahlaufteilungsvorrichtung (10, 10′) überlagert,
wobei auf die Eintrittsfläche (a) der zweiten Strahlauf
teilungsvorrichtung (5, 5′) das Licht von der Lichtquelle
(1) einfällt.
2. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß das zweite Objektiv (8, 8′) aus einer
Kollimatoreinrichtung besteht, die die Vielzahl von
Lichtbündeln von der zweiten Strahlaufteilungsvorrichtung
(5, 5′) parallel richtet und daß die erste Strahlauf
teilungsvorrichtung (10, 10′) eine Einrichtung umfaßt, in
der eine Vielzahl optischer Elemente (L1, L2) entlang
einer Richtung angeordnet sind, die quer zu den
Bündelachsen der Vielzahl parallel gerichteter Licht
bündel des zweiten Objektivs (8, 8′) liegt, wobei jedes
der optischen Elemente eine erste, auf der Seite des
Lichteinfalls angeordnete Linse (L1) und eine zweite, auf
der Seite des Lichtaustritts angeordnete Linse (L2)
umfaßt, die in der Nähe des Brennpunktes der ersten Linse
(L1) vorgesehen ist.
3. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Strahlaufteilungs
vorrichtung (5, 5′) aus einer Fish-eye-Linse besteht.
4. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Strahlaufteilungs
vorrichtung (5, 5′) aus einem optischen Faserbündel
besteht.
5. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 2, dadurch
gekennzeichnet, daß die Eintrittsfläche (c) der ersten
Strahlaufteilungsvorrichtung (10, 10′) in einer Brenn
ebene des zweiten Objektivs (8, 8′) angeordnet ist.
6. Beleuchtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1
bis 5, gekennzeichnet durch eine Bilderzeugungsein
richtung (2; 22, 22′, 23, 23′), die auf der Eintritts
fläche (a) der zweiten Strahlaufteilungsvorrichtung (5,
5′) ein Bild der Lichtquelle (1) erzeugt.
7. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 6, dadurch
gekennzeichnet, daß die Bilderzeugungseinrichtung ein
elliptischer Spiegel (2) ist und daß der elliptische
Spiegel (2) und die zweite Strahlaufteilungsvorrichtung
(5, 5′) im ersten bzw. zweiten Brennpunkt des
elliptischen Spiegels angeordnet sind.
8. Beleuchtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1
bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß in der beleuchteten
Objektebene (e) eine Photomaske zur Herstellung eines
Halbleiterbauelementes angeordnet ist.
9. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 2, dadurch
gekennzeichnet, daß die zweite Strahlaufteilungsvor
richtung (5, 5′) eine Einrichtung umfaßt, in der eine
Vielzahl optischer Elemente entlang einer Richtung
angeordnet sind, die quer zur Bündelachse des von der
Lichtquelle (1) einfallenden Lichtes liegt, wobei jedes
der optischen Elemente eine erste, auf der Seite des
Lichteinfalls angeordnete Linse (L1) und eine zweite, auf
der Seite des Lichtaustritts angeordnete Linse (L2)
umfaßt, die in der Nähe des Brennpunktes der ersten Linse
(L1) vorgesehen ist.
10. Beleuchtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1
bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß das Objekt ein Wafer
(W) ist, der durch eine Maske beleuchtet wird.
11. Beleuchtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1
bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß das erste Objektiv
(13, 13′) und das zweite Objektiv (8, 8′) jeweils ein
Kollimatorobjektiv ist.
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
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