DE3323852C2 - - Google Patents

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DE3323852C2
DE3323852C2 DE3323852A DE3323852A DE3323852C2 DE 3323852 C2 DE3323852 C2 DE 3323852C2 DE 3323852 A DE3323852 A DE 3323852A DE 3323852 A DE3323852 A DE 3323852A DE 3323852 C2 DE3323852 C2 DE 3323852C2
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Description

Die Erfindung bezieht sich auf eine Beleuch­ tungsvorrichtung gemäß dem Oberbegriff von Patentanspruch 1. Eine solche Beleuchtungsvorrichtung findet insbeson­ dere Anwendung zum Belichten von Halbleiterplättchen bzw. Wafern durch eine Maske hindurch, die ein Schaltungs­ muster trägt.
Bei der Herstellung von Halbleiterschaltungen wird ein integriertes Schaltungsmuster auf einen Wafer übertragen, indem eine Maske und der Wafer aufeinandergelegt werden und die Maske beleuchtet wird, so daß das darauf befindliche Schaltungsmuster auf den Wafer projiziert wird. Alternativ zu diesem Vorgehen ist es auch bekannt, zwischen der Maske und dem Wafer ein Projektionsobjektiv anzuordnen, das die Maske auf dem Wafer abbildet.
Um qualitativ hochwertige Halbleiterschaltungen herzu­ stellen, soll das von der Beleuchtungsvorrichtung gelie­ ferte Beleuchtungslicht das Objekt bzw. die Maske möglichst über ihre gesamte Fläche gleichmäßig hell bestrahlen. Ferner soll der effektive Einfallswinkel des auftreffenden Beleuchtungslichtes in den verschiedenen Bereichen der beleuchteten Objekt- bzw. Maskenfläche möglichst gleich und möglichst klein sein.
Eine Beleuchtungsvorrichtung mit den Merkmalen des Oberbegriffs von Patentanspruch 1 ist bekannt (DE-OS 25 00 746). Diese bekannte Beleuchtungsvorrichtung weist eine erste Strahlaufteilungsvorrichtung sowie ein erstes Objektiv auf. Das von der Lichtquelle ausgehende Licht­ bündel fällt als Parallelstrahlenbündel auf die Eintrittsfläche der ersten Strahlaufteilungsvorrichtung, nachdem das von der Lichtquelle divergierend ausgehende Lichtbündel mittels einer Sammellinse parallel ausgerichtet worden ist. Diese bekannte Beleuchtungsvor­ richtung arbeitet in der Weise, daß durch die Aufteilung des einfallenden Lichtbündels auf eine Vielzahl von Lichtbündeln in der Austrittsfläche der Strahlauftei­ lungsvorrichtung nebeneinander in flächiger Anordnung zahlreiche Sekundärlichtquellen vorhanden sind. Diese haben allerdings untereinander verschiedene Helligkeiten bzw. Lichtmengen, wobei die in der Nähe der optischen Achse der gesamten Vorrichtung verlaufenden, aufgeteilten Lichtbündel heller sind als die am Rand der Strahlaufteilungsvorrichtung austretenden Lichtbündel, die einen größeren Abstand zur optischen Achse haben. Mittels des Objektivs wird jedes der aufgeteilten Lichtbündel auf dieselbe Objektfläche gerichtet wie die übrigen aufgeteilten Lichtbündel und dort mit den übrigen aufgeteilten Lichtbündeln überlagert. Dies führt trotz unterschiedlicher Lichtmengen in jedem der Lichtbündel zu weitgehend gleicher Helligkeit über die gesamte Objektfläche, auf der die Überlagerung erfolgt. Unterschiedlich in den verschiedenen Bereichen der beleuchteten Objektfläche sind jedoch die effektiven Einfallswinkel des auftreffenden Beleuchtungslichtes, d. h., die Richtungscharakteristik des Beleuchtungslichtes ist ungleichmäßig.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die gattungsgemäße Beleuchtungsvorrichtung derart weiterzu­ bilden, daß über die beleuchtete Objektfläche eine möglichst hohe Gleichförmigkeit der Helligkeit und eine hohe Gleichmäßigkeit der effektiven Einfallswinkel erreicht ist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die Merkmale im kennzeichnenden Teil von Patentanspruch 1 gelöst, d. h., im wesentlichen dadurch, daß der ersten Strahlaufteilungs­ vorrichtung ein System aus einem zweiten Objektiv und einer zweiten Strahlaufteilungsvorrichtung vorgeschaltet ist, das dafür sorgt, daß bereits das auf die Eintrittsfläche der ersten Strahlaufteilungsvorrichtung einfallende Gesamt-Lichtbündel über seinen Bündelquer­ schnitt bzw. über die Eintrittsfläche gleiche Helligkeit hat. Dies hat zur Folge, daß die aus der ersten Strahlaufteilungsvorrichtung austretenden, aufgeteilten Lichtbündel - anders als bei der gattungsbildenden Beleuchtungsvorrichtung - untereinander gleiche Lichtmen­ gen enthalten, was zu der aufgabegemäß angestrebten besseren Gleichverteilung sowohl hinsichtlich der Helligkeit als auch hinsichtlich der Richtungscharak­ teristik führt.
Durch die japanische Gebrauchsmusterveröffentlichung Nr. 54-1 38 649 ist ein Beleuchtungssystem für ein Mikroskop bekannt, das nach dem Köhlerschen Beleuchtungsprinzip arbeitet und bei dem zwei Streuscheiben vorgesehen sind, nämlich eine in der Pupille einer Kondensorlinse und eine in der Bildebene der Kondensorlinse, d. h. an einer bezüglich der Kondensorlinse zur Lichtquelle konjugierten Stelle. Unterdrückt werden damit störende Einflüsse, die durch eine ungleichmäßige Linsenwirkung des Glaskörpers der Lichtquelle verursacht sein können. Eine Strahlaufteilung erfolgt nicht.
Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen gekennzeichnet.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachstehend anhand schematischer Zeichnungen näher erklärt. Es zeigen:
Fig. 1 eine optische Schnittansicht eines ersten Ausführungsbeispiels,
Fig. 2 eine Schnittansicht der Bauteile des ersten Ausführungsbeispiels,
Fig. 3 die Helligkeitsverteilung des Bildes einer Licht­ quelle,
Fig. 4 die Helligkeitsverteilung in einer Austrittsfläche b,
Fig. 5 die Helligkeitsverteilung in einer Austrittsfläche d, und
Fig. 6 eine optische Schnittansicht eines zweiten Ausführungsbeispiels.
In Fig. 1 ist ein erstes Ausführungsbeispiel der Erfindung dargestellt. Eine Lichtquelle 1 kann z. B. eine Höchstdruck-Quecksilberdampflampe sein, da es zweckmäßig ist, daß die Lichtquelle eine hohe Beleuchtungsstärke hat. Ein elliptischer Spiegel 2 dient zur verlustlosen Konvergierung des aus der Lichtquelle 1 ausgesandten Lichtes bzw. Lichtbündels. Der elliptische Spiegel 2 ist so angeordnet, daß die Lichtquelle 1 in seinem ersten Brennpunkt zu liegen kommt und das aus dieser ausgesandte Lichtbündel an seinem zweiten Brennpunkt konvergiert wird. Ein Spiegel 3 mit dichroischer Schicht läßt hauptsächlich infrarotes Licht hindurch und reflektiert ultraviolettes. Dieser Spiegel dient zur Filterung des Lichts und Umlenkung des optischen Wegs. Ein Verschluß 4 begrenzt die Bestrahlungsenergie. Eine optische Strahl­ aufteilungsvorrichtung 5 zur Erzeugung einer Vielzahl von Lichtbündeln umfaßt eine Vielzahl von optischen Elementen, die jeweils bestehen aus einem Paar positiver Linsen L1 und L2 mit gleicher Brennweite, wobei jede im Brennpunkt der anderen angeordnet ist, und die in einer Fassung zusammengebaut sind. Die Paare positiver Linsen sind zweidimensional angeordnet. Eine erste, die positiven Linsen L1 umfassende Ebene bildet eine Eintrittsfläche der Strahlaufteilungsvorrichtung und ist so angeordnet, daß sie mit der zweiten Brennebene des elliptischen Spiegels 2 zusammenfällt. Gemäß den nachstehend erwähnten Gründen wird eine Vielzahl von Sekundärlichtquellen in einer zweiten, die positiven Linsen L2 umfassenden Ebene erzeugt, die eine Austritts­ fläche b der Strahlaufteilungsvorrichtung bildet.
Spiegel 6 und 9 lenken den optischen Weg um jeweils 90° um und bewirken dadurch einen kompakten Aufbau der gesamten Beleuchtungsvorrichtung. Ein Filter 7 unter­ drückt Licht mit einer kürzeren Wellenlänge als der beispielsweise beim Belichten eines Wafers gewünschten Wellenlänge. Ferner sind ein Objektiv in Form eines Kollimatorobjektivs und eine der Strahlaufteilungsvor­ richtung 5 im Aufbau ähnliche optische Strahlauf­ teilungsvorrichtung 10 zur Erzeugung einer Vielzahl von Lichtbündeln dargestellt. Die Austrittsfläche b der Strahlaufteilungsvorrichtung 5 liegt in einer Brennebene des Objektivs 8, und eine Eintrittsfläche c der optischen Strahlaufteilungsvorrichtung 10 liegt in der anderen Brennebene des Objektivs 8. In einer Austrittsfläche d der Strahlaufteilungsvorrichtung 10 liegen wiederum Sekundärlichtquellen vor. Eine Blende 11 bestimmt die Form und Größe der Gesamtheit der aus der Austrittsfläche d austretenden Lichtbündel. Ein ebener Spiegel 12 lenkt die optische Achse um 90° um. Eine Brennebene eines Objektivs 13 in Form eines Kollimatorobjektivs fällt mit der Austrittsfläche d der Strahlaufteilungsvorrichtung 10 zusammen, während deren andere Brennebene mit einer Objektebene e zusammenfällt. In dieser ist eine Maske angeordnet, und ein Muster wird auf einen Wafer belichtet, der in Berührung mit oder dicht neben der Maske steht; das Belichten auf den Wafer kann auch durch ein Projektionsobjektiv (nicht gezeigt) erfolgen.
Die Objektive 8 und 13 umfassen gewöhnlich eine Vielzahl von einzelnen Linsen; aus Gründen der Einfachheit sind sie jedoch hier jeweils als einzelne Linse dargestellt.
Im Rahmen dieser Beschreibung werden das Objektiv 13 als erstes Objektiv, das Objektiv 8 als zweites Objektiv, die Strahlaufteilungsvorrichtung 10 als erste Strahlauftei­ lungsvorrichtung und die Strahlaufteilungsvorrichtung 5 als zweite Strahlaufteilungsvorrichtung bezeichnet. Nach dem Einschalten der Lichtquelle 1 wird deren Bild durch den elliptischen Spiegel in dessen zweiter Brennebene und somit auf der Eintrittsfläche erzeugt. Die Helligkeits­ verteilung dieses Lichtquellenbildes ist, wie Fig. 3 zeigt, aufgrund der Aberrationen des elliptischen Spiegels 2 sehr uneinheitlich, wobei die höchste Intensität auf der optischen Achse liegt und mit zunehmendem Abstand zu dieser steil abfällt. Falls die Eintrittsfläche c mit diesem Lichtquellenbild als einer zweiten Lichtquelle beleuchtet würde, wäre die Helligkeitsverteilung in der Objektivebene uneinheitlich.
Da die zweite Strahlaufteilungsvorrichtung 5 mit ihrer Eintrittsfläche a in der zweiten Brennebene des ellip­ tischen Spiegels 2 angeordnet ist, wird das das Bild der Lichtquelle 1 in der zweiten Brennebene erzeugende Lichtbündel durch die zweidimensional angeordneten Elemente aus den positiven Linsen L1 und L2 in eine Vielzahl von Lichtbündeln aus parallelen Strahlen unterteilt, die aus der Austrittsfläche b austreten und dort Sekundärlichtquellen bilden, wobei jede dieser Sekundärlichtquellen eine gleichförmige Helligkeitsver­ teilung hat, die verschiedenen Sekundärlichtquellen jedoch entsprechend dem Einfallswinkel auf die Eintrittsfläche a unterschiedliche Helligkeit haben (Fig. 4). Die zweite Strahlaufteilungsvorrichtung 5 dient somit zur Erzeugung von Sekundärlichtquellen mit gleichförmiger Verteilung aus einer Lichtquelle mit ungleichförmiger Verteilung. Da nun die Eintrittsfläche c mittels derartiger Sekundärlichtquellen und mittels des Köhlerschen Beleuchtungsverfahrens beleuchtet wird, wird in der Austrittsfläche d eine einheitliche Helligkeit erreicht. Die erste Strahlaufteilungsvorrichtung 10 ist derart angeordnet, daß an der Eintrittsfläche c ein Bild der Lichtquelle vorliegt, wodurch die Sekundärlicht­ quellen in der Austrittsfläche d keine Unterschiede in der Helligkeit haben und eine sehr einheitliche Richtungscharakteristik aufweisen (Fig. 5). Deshalb sind die Helligkeitsunterschiede erheblich verringert, wenn die Objektebene e durch die Sekundärlichtquellen in der Austrittsfläche d und mittels des Objektivs 13 beleuchtet wird.
Der Verschluß 4 zur Begrenzung der auf die Objektebene e (Maske) auftreffenden Bestrahlungsenergie ist in der Nähe der zweiten Brennebene des elliptischen Spiegels 2 angeordnet. Einer Änderung der Helligkeitsverteilung beim Öffnen und Schließen des Verschlusses wirkt die erste Strahlaufteilungsvorrichtung 10 entgegen und somit ist die Verteilung der Helligkeit in der Austrittsfläche d einheitlich und frei von Ungleichmäßigkeiten. Änderungen der Helligkeitsverteilung der Sekundärlichtquellen in der Austrittsfläche b aufgrund von Schwingungen des Lichtbogens der Lichtquelle 1 während der Aufnahmezeit oder aufgrund von Einbaufehlern der Lichtquelle werden ebenfalls aus den oben erwähnten Gründen neutralisiert.
Da die Helligkeitsverteilung in der Austrittsfläche d gleichförmig ist, kann deren Größe und Form unabhängig und leicht geändert werden, indem die Größe und Form der neben ihr liegenden Blende 11 geändert wird.
Fig. 6 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel. Hierbei sind eine dem oben beschriebenen Ausführungsbeispiel ähnliche Lichtquelle 1 sowie Kondensorlinsen 22 und 22′ dargestellt. Bei diesem Ausführungsbeispiel sind zwei Kondensorlinsen, nämlich eine linke und eine rechte, vorgesehen; es können jedoch alternativ zwei zusätzliche Kondensorlinsen in einer zur Zeichenebene senkrechten Ebene angeordnet sein. Die Kondensorlinsen 22 und 22′ dienen zur verlustarmen Sammlung der aus der Lichtquelle 1 ausgesandten Lichtstrahlen. Spiegel 3′ und 3′′ mit dichroischer Schicht filtern infrarotes Licht aus den durch die Kondensorlinsen 22 und 22′ geformten Lichtbündeln paralleler Strahlen aus und richten dieses auf Kondensorlinsen 23 und 23′. Filter 7′ und 7′′ unterdrücken Licht mit anderer als der verwendeten Wellenlänge und sind zwischen den Spiegeln 3′ und 3′′ sowie den Kondensorlinsen 23 und 23′ angeordnet. Ferner ist ein Verschluß 4 dargestellt.
Eine zweite Strahlaufteilungsvorrichtung 5′ zur Erzeugung einer Vielzahl von Strahlenbündeln besteht z. B. aus einem optischen Faserbündel, das derart gebündelt ist, daß die Faserzuordnung zwischen einer Eintrittsfläche a und einer Austrittsfläche b zufällig ist. Die Eintrittsfläche a fällt mit der Brennebene der Kondensorlinsen 23 und 23′ zusammen. Ein Objektiv 8′ in Form eines Kollimator­ objektivs dient zur Konvergierung; eine erste Strahlaufteilungsvorrichtung 10′ hat z. B. einen Aufbau, wie er in Fig. 2 dargestellt ist. Die Austrittsfläche b liegt in der ersten Brennebene des Objektivs 8 und eine Eintrittsfläche c der ersten Strahlaufteilungsvorrichtung 10′ liegt in der zweiten Brennebene des Objektivs 8. Deshalb beleuchten Sekundärlichtquellen in der Austritts­ fläche b die Eintrittsfläche c aufgrund Köhlerscher Beleuchtung ohne Ungleichmäßigkeit. Die auf das Objektiv 8′ folgende Anordnung ist ähnlich derjenigen in Fig. 1. Es sind ein Objektiv 13′ in Form eines Kollimator­ objektivs, ein Wafer w sowie eine Objektebene e vorhanden, auf der eine Maske getragen wird.
Die Eintrittsfläche c der ersten Strahlaufteilungsvor­ richtung 10′ wird einheitlich aufgrund des oben beschriebenen Aufbaus beleuchtet und deshalb haben die an der Austrittsfläche d gebildeten Sekundärlichtquellen keinerlei Helligkeitsunterschiede und eine einheitliche Richtungscharakteristik und bilden sie eine ideale Lichtquelle für die Objektebene.
Die Ausbildung des optischen Systems vor der ersten Strahlaufteilungsvorrichtung 10′, die in Fig. 6 dargestellt ist, unterscheidet sich von der in Fig. 1 gezeigten, ist jedoch in der theoretischen Wirkung mit dieser identisch. In Fig. 1 wird ein elliptischer Spiegel verwendet, um das von der Lichtquelle ausgesandte Lichtbündel wirkungsvoll zu konvergieren und das Bild der Lichtquelle auf der Eintrittsfläche a der zweiten Strahlaufteilungsvorrichtung zu erzeugen, während in Fig. 6 zwei Gruppen (oder vier Gruppen) von Kondensorlinsen zum gleichen Zweck Verwendung finden. Alternativ kann das durch den elliptischen Spiegel reflektierte Lichtbündel durch eine Linse in ein Lichtbündel paralleler Strahlen geformt werden und eine Facettenlinse oder dergleichen kann in diesem parallelen Bündel angeordnet sein.
Die erste Strahlaufteilungsvorrichtung 10 bzw. 10′ kann außer der in Fig. 2 dargestellten weitere Ausführungs­ formen aufweisen: Sie kann ein optisches Faserbündel oder eine Facettenlinse sein. Wenn hierbei das Licht aus der Lichtquelle an der Eintrittsfläche der ersten Strahlaufteilungsvorrichtung konvergiert wird und die Austrittsfläche der von der zweiten Strahlaufteilungsvor­ richtung gebildeten Sekundärlichtquellen gleichförmige Helligkeit aufweist, weist die neue, durch die erste Strahlaufteilungsvorrichtung mit ihren Sekundärlicht­ quellen gebildete Lichtquelle keinerlei Helligkeitsunter­ schiede auf und hat sie eine gleichmäßige Richtungs­ charakteristik.
Wie oben beschrieben, sorgt die beschriebene Vorrichtung für Gleichförmigkeit in der Helligkeit. Die durch die Beleuchtungsvorrichtung gebildete Beleuchtungslichtquelle hat ferner eine gleichmäßige Richtungscharakteristik und kann leicht mit gewünschter Form und Größe ausgebildet werden. Ebenfalls können Helligkeitsunterschiede und eine ungleichförmige Richtungscharakteristik aufgrund des Schwingens des Lichtbogens der Höchstdruck-Quecksilber­ dampflampe, die die Ausgangs-Lichtquelle ist, und aufgrund des Öffnens und Schließens des Verschlusses oder eines Lagefehlers des Lichtbogens klein gehalten werden. Dies führt zu einer ständig konstanten Beleuchtungslicht­ quelle und zum Ausschluß von Beleuchtungsungleich­ mäßigkeiten.

Claims (11)

1. Beleuchtungsvorrichtung zur Beleuchtung eines Objektes, mit einer Lichtquelle (1), einem objektseitigen ersten Objektiv (13, 13′) und einer mit einer Austrittsfläche (d) versehenen, ersten optischen Strahlaufteilungsvorrichtung (10, 10′), die ein auf sie einfallendes Lichtbündel in eine Vielzahl von aus ihrer Austrittsfläche austretenden Lichtbündeln aufteilt, wobei das Objektiv die von der Strahlaufteilungsvorrichtung aufgeteilten Lichtbündel auf ein und derselben Objekt­ fläche überlagert, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen der Lichtquelle (1) und der ersten optischen Strahlaufteilungsvorrichtung (10, 10′) eine mit einer Eintrittsfläche (a) und einer Austrittsfläche (b) versehene zweite optische Strahlaufteilungsvorrichtung (5, 5′), die das auf ihre Eintrittsfläche (a) einfallende Lichtbündel in eine Vielzahl von aus ihrer Austritts­ fläche (b) austretenden Lichtbündeln aufteilt, und ein zweites Objektiv (8, 8′) angeordnet sind, das die von der zweiten Strahlaufteilungsvorrichtung (5, 5′) aufgeteilten Lichtbündel auf ein und derselben Eintrittsfläche (c) der ersten Strahlaufteilungsvorrichtung (10, 10′) überlagert, wobei auf die Eintrittsfläche (a) der zweiten Strahlauf­ teilungsvorrichtung (5, 5′) das Licht von der Lichtquelle (1) einfällt.
2. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite Objektiv (8, 8′) aus einer Kollimatoreinrichtung besteht, die die Vielzahl von Lichtbündeln von der zweiten Strahlaufteilungsvorrichtung (5, 5′) parallel richtet und daß die erste Strahlauf­ teilungsvorrichtung (10, 10′) eine Einrichtung umfaßt, in der eine Vielzahl optischer Elemente (L1, L2) entlang einer Richtung angeordnet sind, die quer zu den Bündelachsen der Vielzahl parallel gerichteter Licht­ bündel des zweiten Objektivs (8, 8′) liegt, wobei jedes der optischen Elemente eine erste, auf der Seite des Lichteinfalls angeordnete Linse (L1) und eine zweite, auf der Seite des Lichtaustritts angeordnete Linse (L2) umfaßt, die in der Nähe des Brennpunktes der ersten Linse (L1) vorgesehen ist.
3. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Strahlaufteilungs­ vorrichtung (5, 5′) aus einer Fish-eye-Linse besteht.
4. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Strahlaufteilungs­ vorrichtung (5, 5′) aus einem optischen Faserbündel besteht.
5. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Eintrittsfläche (c) der ersten Strahlaufteilungsvorrichtung (10, 10′) in einer Brenn­ ebene des zweiten Objektivs (8, 8′) angeordnet ist.
6. Beleuchtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, gekennzeichnet durch eine Bilderzeugungsein­ richtung (2; 22, 22′, 23, 23′), die auf der Eintritts­ fläche (a) der zweiten Strahlaufteilungsvorrichtung (5, 5′) ein Bild der Lichtquelle (1) erzeugt.
7. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Bilderzeugungseinrichtung ein elliptischer Spiegel (2) ist und daß der elliptische Spiegel (2) und die zweite Strahlaufteilungsvorrichtung (5, 5′) im ersten bzw. zweiten Brennpunkt des elliptischen Spiegels angeordnet sind.
8. Beleuchtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß in der beleuchteten Objektebene (e) eine Photomaske zur Herstellung eines Halbleiterbauelementes angeordnet ist.
9. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Strahlaufteilungsvor­ richtung (5, 5′) eine Einrichtung umfaßt, in der eine Vielzahl optischer Elemente entlang einer Richtung angeordnet sind, die quer zur Bündelachse des von der Lichtquelle (1) einfallenden Lichtes liegt, wobei jedes der optischen Elemente eine erste, auf der Seite des Lichteinfalls angeordnete Linse (L1) und eine zweite, auf der Seite des Lichtaustritts angeordnete Linse (L2) umfaßt, die in der Nähe des Brennpunktes der ersten Linse (L1) vorgesehen ist.
10. Beleuchtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß das Objekt ein Wafer (W) ist, der durch eine Maske beleuchtet wird.
11. Beleuchtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß das erste Objektiv (13, 13′) und das zweite Objektiv (8, 8′) jeweils ein Kollimatorobjektiv ist.
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