DE3809182C2 - Optisches Bauelement mit organischem nicht-linearen Material - Google Patents

Optisches Bauelement mit organischem nicht-linearen Material

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Description

Die Erfindung betrifft optische Bauelemente gemäß den Oberbegriffen der Ansprüche 1, 6 und 9, wie sie aus Optics Communications Vol. 50, No. 3, 1. June 1984, S. 154-156 bekannt sind. Solche optischen Bauelemente sind insbesondere zur Anwendung in der optischen Kommunikationstechnik oder der optischen Informationsverarbeitung geeignet.
Es hat sich bei experimentellen und theoretischen Forschun­ gen herausgestellt, daß organische Verbindungen mit nicht-lokalisierten Pi-Elektronen ein extrem großes nichtlineares optisches Ansprechverhalten zeigen. Insbesondere für nicht-lineare optische Konstanten der zweiten Ordnung wurden viele Verbindungen auf molekularer Ebene gefunden, die eine nicht-lineare optische Konstante haben, die wesentlich größer ist als die der bekannten anorganischen Kristalle wie LiNbO3 oder dergleichen, und es wurden Untersuchungen angestellt, diese Verbindungen zu kristallisieren.
Solche organischen nicht-linearen optischen Kristalle er­ wecken als neue Materialien für die Anwendung bei der opti­ schen Modulation, der optischen Frequenzmodulation, der optischen Bistabilität, der phasenkonjugierten Optik usw. viele Hoffnungen, und es wurden daher schon einige Methoden für den Einbau solcher Kristalle in Bauelemente vorgeschlagen. So wurde bereits die Aufmerksamkeit auf Einmoden-Wel­ lenleiter als auch auf konventionelle Multimoden-Wellenleiter als optische Bauelemente des Wellenleitertyps gelenkt. Diese Überlegungen führten jedoch nur zur Schaffung von Multimoden-Wellenleitern, wie es in Optical Communications, Vol. 50, No. 3, 1. June 1984, S. 154-156 beschrieben sind, wobei auf einem Substrat aus SiO₂- Glas ein Kanal mit einer Breite und Tiefe von etwa 100 µm mit geschmolzenem nicht-linearen Material, nämlich Meta-Nitroanilin, gefüllt wird, das dann in einen Einkristall umgewandelt wird. Es ist schwierig, den Kanal mit dem geschmolzenen nicht-linearen optischen Material zu füllen.
Die JP 62-3230 A offenbart einen Wellenleiter aus MNA, der in einem Quader aus Quarzglas nach Bohren einer Kapillare durch Kapillarwirkung erzeugt wird.
Andererseits werden optische Bauelemente aus einem Einmoden- Wellenleiter mit kleinem Kerndurchmesser und Elektroden zur Steuerung des durchgeleiteten Lichts durch elektrooptische, akustooptische oder ähnliche Effekte gebraucht.
Aus der US 4 199 698 ist es bekannt, MNA als organisches nichtlineares optisches Wellenleitermaterial, das zwischen einer oberen und einer unteren Glasschicht angeordnet ist, zu verwenden. Weitere nichtlineare optische Materialien (MNA, m-NA, POM usw.) sind aus Laser Focus Feb. 1982, S. 59-64 und EP-A2 91 838 bekannt.
Der Erfindung liegt dfie Aufgabe zugrunde, ein optisches Bauelement mit einem optischen Einmoden-Wellenleiter aus dem organischen, nichtlinearen Material anzugeben, das sich leicht mit anderen Bauteilen integrieren läßt.
Diese Aufgabe wird durch die optischen Bauelemente nach den Ansprüchen 1, 6 und 9 gelöst.
Nach der in Anspruch 1, 6 oder 9 gekennzeichneten Lösung dieser Aufgabe wird von einem zunächst offenen Schlitz ausgegangen, der sich derart fein ausbilden läßt, daß der fertige Lichtleiter als Einmoden-Lichtleiter arbeitet. Nach Abdecken des Schlitzes mit dem zweiten Substrat läßt sich das Wellenleitermaterial durch Kapillarwirkung oder Unterdruck auf einfache Weise einbringen. Die Verwendung von Silicium für mindestens eines der Substrate gestattet es ferner, in dieses weitere Bauelement zu integrieren. Die aus SiO₂ bestehende Beschichtung der Oberfläche des Siliciumsubstrats ergibt den erforderlichen niedrigen Brechungsindex. Aufgrund des in den Ansprüchen 1, 6 bzw. 9 angegebenen Aufbaus kann der optische Wellenleiter kleiner gemacht werden als nach dem Stand der Technik, so daß er auch mit geringerer Spannung betrieben werden kann und ein sehr schnelles Ansprechverhalten zeigt.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachstehend anhand der Zeichnung näher erläutert. Darin zeigt
Fig. 1 eine perspektivische Ansicht eines ersten Ausführungsbeispiels des optischen Bauelements,
Fig. 2 einen Längsschnitt, und
Fig. 3 einen Querschnitt durch die erste Ausführungsform,
Fig. 4 und 5 schematische Darstellungen zweier Arten von optischen Bauelementen,
Fig. 6 und 7 Schnittansichten eines zweiten bzw. eines dritten Ausführungsbeispiels des optischen Bauelements, und
Fig. 8, 9 und 10 Darstellungen weiterer Ausführungsbeispiele des Bauelementes.
Die Fig. 1 zeigt eine Realisierung des optischen Bauelemen­ tes als Phasenmodulator, der ein Grundbeispiel für ein optisches funktionelles Bauelement ist. Das Bezugszeichen 1 bezeichnet dabei ein Silicium-Substrat "Pyrex" bedeuted im Folgenden "Borosilicat", 2 eine Pyrex-Glas­ platte, 3 einen Wellenleiter aus einem organischen nicht­ linearen optischen Material, 4 eine Elektrode und 5 eine Lichtleitfaser.
An der Oberfläche des Substrates 1 ist eine Nut oder ein Kanal ausgebildet, die bzw. der dafür vorgesehen ist, mit einem organischen nichtlinearen optischen Material gefüllt zu werden. Der Kanal hat eine vorgegebene Breite und Tiefe, die für die Übertragung einer Einheitsmode erforderlich ist.
Auf die Oberfläche des Substrates 1, an der der Kanal ausge­ bildet ist, ist die Pyrex-Glasplatte 2 so aufgeklebt, daß sie den Kanal abdeckt, wodurch der erwähnte Kanal einen Hohlraum in der Form einer feinen Röhre bildet. In den Hohlraum wird mittels Kapillarwirkung oder Vakuum-Ansaugung ein orga­ nisches nichtlineares optisches Material eingebracht, wo­ durch der Wellenleiter 3 mit organischem nichtlinearen opti­ schen Material ausgebildet wird.
Es ist in diesem Fall erforderlich, daß die Brechungsindizes an der Oberfläche des Kanals im Substrat und an der den oberen Teil des Kanals abdeckenden Fläche kleiner sind als der Brechungsindex des eingefüllten organischen nichtline­ aren optischen Materials, um das Substrat als optisches Zwischenmedium des optischen Wellenleiters verwenden zu können.
Als Substrat kann neben Silizium eine Glasplatte, eine Platte, an deren Oberfläche Glas aufgebracht wurde, oder dergleichen verwendet werden. Der Brechungsindex einer Glas­ platte bzw. einer Platte, an deren Oberfläche Glas auf­ gebracht ist, ist kleiner als der eines organischen nicht­ linearen optischen Materials. Eine Siliziumplatte hat jedoch normalerweise einen größeren Brechungsindex, und es ist da­ her erforderlich, die Oberfläche des Kanals oder die den Kanal abdeckende Fläche einer thermischen Oxidation zu unterwerfen, um eine optische Zwischenschicht auszubilden. Die entsprechenden Brechungsindizes (n) sind im allgemeinen wie folgt:
Bei Silizium ist n etwa 3,75; bei thermisch oxidiertem Silizium (SiO2) ist (bei einer Wellenlänge von 0,6328 µm) n = 1,460; bei einer Pyrex-Glasplatte ist (bei der Wellen­ länge 0,6328 µm) n = 1,472; und organisches nichtlineares optisches Material hat ein n von 1,5 bis 2,5.
Der Kern der Lichtleitfaser 5 ist mit den Enden des Wellen­ leiters 3 verbunden. Dazu ist auf dem Substrat 1 durch Ätzen in der Verlängerung der Achse des Wellenleiters 3 eine V-förmige Nut ausgebildet, die die Lichtleitfaser 5 auf­ nimmt.
Auf der Oberfläche des Substrates 1 ist ein Paar von Elek­ troden 4 ausgeformt, zwischen denen der Wellenleiter 3 angeordnet ist. Eine genaue Beschreibung dieser Anordnung folgt später. Wenn an die Elektroden 4 eine Spannung ange­ legt und im Wellenleiter 3 ein elektrisches Feld erzeugt wird, ändert sich der Brechungsindex des Wellenleiters 3 durch den elektrooptischen Effekt erster Ordnung (Pockels- Effekt), so daß eine Phasenmodulation des Lichts erfolgt, das durch den Wellenleiter 3 läuft, der dadurch als opti­ scher Modulator wirkt.
Die Fig. 2 zeigt den Aufbau des Bauelementes in einem Schnitt längs des Wellenleiters 3, und die Fig. 3 den Aufbau in einem Schnitt senkrecht zum Wellenleiter 3.
Wie in der Fig. 3 gezeigt, ist das Silizium-Substrat 1 vom p-Typ, und eine benötigte elektronische Schaltung oder andere Bauteile können vorhergehend darauf ausgebildet werden. In diesem Fall ist zur Isolation des Substrates von solchen Zusatzelementen ein Bereich 8 vom n-Typ auf dem Substrat 1 mit der p-Typ-Schicht 9 aufgebracht, und im Bereich 8 befinden sich p⁺-Schichten 7, die einen Abschnitt bilden, der als Elektrode 4 wirkt.
Dann wird ein Kanal mit einer Breite von 1 µm, einer Tiefe von 1 µm und einer Länge von 1 mm, das heißt ein ent­ sprechendes Raster an der Seite des Substrates 1 vorgesehen, auf der durch reaktives Sputter-Ätzen ein Kanal ausgeformt werden soll. Die V-förmige Nut zur Aufnahme der Lichtleit­ faser wird durch alkalisches Ätzen mit Kaliumhydroxid oder dergleichen erzeugt.
Silizium hat einen großen Brechungsindex, daher kann der Wellenleiter 3 nicht direkt auf dem Silizium ausgebildet werden. Die Oberfläche des Silizium-Substrates 1 wird deshalb thermisch oxidiert, um eine SiO2-Schicht 6 auf­ wachsen zu lassen, die als optische Zwischenschicht dient. Die thermische Oxidation wird bei einer Temperatur von 1000 bis 1200°C in trockener Reinsauerstoff-Atmosphäre (trockene Oxidation) oder in Dampfatmosphäre (nasse Oxidation) ausge­ führt. Die zur Oxidation erforderliche Zeit hängt von der Atmosphäre ab, wobei die nasse Oxidation schneller vor sich geht als die trockene Oxidation. Durch die Oxidation wird eine SiO2-Zwischenschicht mit einem Brechungsindex erzeugt, der kleiner ist als der von Silizium. Es reicht dabei aus, wenn sich die Zwischenschicht nur in dem Kanal befindet, der für den Wellenleiter 3 vorgesehen ist, so daß die SiO2- Schicht an den anderen Stellen durch Ätzen oder dergleichen entfernt werden kann.
Dann wird die Oberfläche des Silizium-Substrates 1, an der sich der Kanal befindet, mit der Pyrex-Glasplatte 2 oder einem Substrat, an dessen Oberfläche Pyrex-Glas abgeschieden ist, abgedeckt und durch eine anodische Verbindung des Sili­ ziums und des Pyrex-Glases befestigt, so daß durch den er­ wähnten Kanal eine hohle Röhre entsteht. Dann wird ein geschmolzenes organisches nichtlineares optisches Material durch Kapillarwirkung oder Vakuum-Ansaugung in die Röhre eingebracht.
Wenn als organisches nichtlineares optisches Material 2-Methyl-4-Nitroanilin (MNA) verwendet wird, kann es bei einer Temperatur eingefüllt werden, die entsprechend dem Schmelzpunkt von MNA etwas größer ist als 131°C, jedoch noch keine Zersetzung des MNA verursacht.
Als organisches nichtlineares optisches Material kann auch m-Nitroanilin (m-NA, Urea, 3-Methyl-4-Nitropyridinoxid (POM) oder p-Nitroanilin (p-NA) Verwendung finden.
Das in den Kanal eingefüllte organische nichtlineare opti­ sche Material (z.B. MNA) wird dann auf Raumtemperatur abge­ kühlt. Das Material bildet jedoch dabei normalerweise eine feinkristalline, ungeordnete Struktur aus. Deshalb wird das Material mit einer bestimmten geringen Geschwindigkeit durch einen Ofen mit einem geeigneten Temperaturgradienten ge­ führt, um sicherzustellen, daß es in einen großen Einkri­ stall rekristallisiert und somit als Wellenleiter verwendet werden kann.
In der Fig. 2 bezeichnet das Bezugszeichen 5′ die Umhüllung der Lichtleitfaser 5 und das Bezugszeichen 5′′ den Kern davon.
Auf der Oberfläche der p⁺-Schicht 7 ist ein Elektrodenan­ schluß 10 aus Aluminium oder dergleichen vorgesehen.
Mit dieser Ausführungsform kann ein Wellenleiter aus organischem nichtlinearen optischen Material mit exakten Abmessungen einfach hergestellt werden.
Bei dem beschriebenen Ausführungsbeispiel wird als Substrat 1 ein Silizium-Substrat verwendet, so daß ein Einmoden-Wel­ lenleiter mit einem organischen nichtlinearen optischen Material und die Elektroden oder andere Bauelemente leicht auf demselben Substrat ausgebildet werden können.
Als erstes Ausführungsbeispiel wurde ein Phasenmodulator beschrieben. Eine solche zusammengesetzte bzw. abgedeckte Ausführung eines Wellenleiters kann jedoch auch als Modu­ lator des Abzweigungs-Interferenz-Typs oder des Brückentyps usw. Verwendung finden.
Es ist auch möglich, an Stelle der Elektroden eine Heiz­ vorrichtung vorzusehen, um die Phase durch Steuerung der Temperatur einzustellen, so daß eine Harmonische höherer Ordnung erzeugt werden kann. Es kann mit anderen Worten mit dieser Ausführungsform ein optisches Frequenzwandler-Element erhalten werden.
Es kann auch ein Innen-Totalreflektionsschalter wie in der Fig. 4 oder ein Abzweigungsschalter wie in der Fig. 5 erhal­ ten werden. Solche Bauelemente erfordern jedoch Bereiche zwischen dem Wellenleiter und den Elektroden, die sich überschneiden, weshalb es schwierig ist, diese Bauelemente mit dem oben geschilderten zusammengesetzten Aufbau herzu­ stellen.
Es wird daher anhand der Fig. 6 und 7 ein Beispiel gezeigt, das für diesen Fall besser geeignet ist.
Bei dem in der Fig. 6 gezeigten Ausführungsbeispiel wird ein isolierendes Substrat 11 geeigneter Art verwendet. Auf der Oberfläche des Substrates 11 sind Elektroden 4 ausgebildet, auf denen eine SiO2-Schicht 6′ als optische Zwischenschicht vorgesehen ist. Darauf ist durch ein CVD-Verfahren eine Si­ liziumschicht 12 in einer Dicke abgeschieden, die der Tiefe des optischen Wellenleiters 3 entspricht, womit der Kanal für den Wel­ lenleiter erzeugt wird. An der Innenfläche des Kanals wird durch thermische Oxidation eine SiO2-Schicht 6 als optische Zwischenschicht erzeugt. Dann wird auf die Siliziumschicht 12 eine Pyrex-Glasplatte 2 mittels einer anodischen Verbin­ dung zur Ausbildung eines hohlen Abschnittes aufgebracht. Schließlich wird in den hohlen Abschnitt ein geschmolzenes organisches nichtlineares optisches Material eingefüllt, das dann verfestigt und zur Bildung eines Wellenleiters in die Form eines Einkristalles gebracht wird.
Bei dem in der Fig. 7 gezeigten Beispiel wird als Substrat 1 ein Silizium-Substrat mit der p-Typ-Schicht 9, dem n-Typ-Bereich 8 und der p⁺-Schicht 7 ähnlich wie bei der Ausführung der Fig. 3 verwendet. Auf dem Substrat ist ein Kanal mit der SiO2-Schicht 6 und der Elektrodenanschluß 10 vorgesehen. Auf einem weiteren, vom Substrat 1 getrennten isolierenden Substrat 13 sind Elektroden 14 und eine Pyrex- Glasschicht 2 angebracht, die durch Abscheidung erzeugt wurde und als Haftschicht für eine optische Zwischenschicht und das Silizium dient. Die beiden Substrate 1 und 13 werden durch eine anodische Verbindung miteinander verbunden, um den hohlen Abschnitt zu bilden, in den zur Bildung des Wellenleiters 3 ein organisches nichtlineares optisches Material eingefüllt wird.
Es reicht aus, daß die Elektrodenanschlüsse 10 auf dem Substrat 1 und die Elektroden 14 auf dem Substrat 13 miteinander durch Lot 15 verbunden werden.
Bei den Ausführungsbeispielen der Fig. 6 und 7 überschneiden sich somit die optischen Wellenleiter und die Elektroden. Es ist daher möglich, den Innen-Totalreflektions-Schalter der Fig. 4 oder den Abzweigungsschalter der Fig. 5 auf diese Art auszubilden. Es kann daher eine Integration eines optischen Einmoden-Wellenleiters mit einem organischen nichtlinearen optischen Material mit Elektroden und anderen elektronischen Schaltungselementen zum Aufbau eines optischen funktionellen Bauteiles erfolgen.
Bei den beschriebenen Ausführungsbeispielen wurde der hohle Abschnitt für den optischen Wellenleiter durch Laminieren und Aufeinanderkleben zweier Substrate erzeugt. Im folgenden werden Ausführungsbeispiele beschrieben, bei denen der hohle Abschnitt durch eine Reihe von Halbleiter-Prozeßschritten und nicht durch Verbinden mehrerer Teile erhalten wird.
Die Fig. 8 zeigt, wie eine Reihe von Prozeßschritten aus­ geführt wird, um ein Substrat herzustellen, das einen hohlen Abschnitt enthält, der zur Ausbildung eines optischen Wel­ lenleiters durch Einbringen eines organischen nichtlinearen optischen Materials vorgesehen ist. Dabei wird wie in der Fig. 8A gezeigt zuerst das Silizium-Substrat 1 vorbereitet und es werden die Elektroden 4 und andere erforderliche Schaltungselemente an dessen Oberfläche ausgebildet. Gemäß Fig. 8B wird dann eine SiO2-Schicht 6 durch CVD oder ther­ mische Oxidation aufgebracht und darin an vorbestimmter Stelle eine Öffnung mit einer Breite erzeugt, die geringer ist als die des herzustellenden optischen Wellenleiters.
Wie in der Fig. 8C gezeigt, wird das Substrat 1 dann einer isotropen Ätzung mit der SiO2-Schicht 6, in der sich die Öffnung befindet, als Maske durchgeführt. Dabei erfolgt eine Ätzung des Substrates 1 nicht nur in die Tiefe, sondern auch in die Breite, wodurch ein Kanal mit einer Breite entsteht, die größer ist als die der Öffnung in der SiO2-Schicht 6.
Dann wird das Substrat 1 gemäß Fig. 8D zur Erzeugung einer SiO2-Schicht 6′ thermisch oxidiert und nach Fig. 8E mit einer SOG-Schicht 16 versehen (SOG für "Spin-on-Glass"; ein Material aus Glaspulver und einer organischen Masse, die beim Einbrennen bei 450°C für 30-60 Minuten eine glas­ ähnliche Substanz bildet; der Brechungsindex nach dem Aus­ härten ist etwa 1,5 bis 2) und bei einer vorgegebenen Tem­ peratur von mehreren 100°C ausgehärtet. Die SOG-Schicht 16 kann so ausgebildet werden, daß sie die Öffnung in der SiO2-Schicht 6 verschließt, jedoch nicht in die Öffnung bzw. den hohlen Abschnitt eindringt. Im Ergebnis ist der im Substrat 1 ausgebildete hohle Abschnitt mit der SOG-Schicht 16 abgedeckt und bildet den Kanal.
Dann kann durch Einbringen eines organischen nichtlinearen optischen Materials im geschmolzenen Zustand durch Kapillar­ wirkung oder Vakuum-Ansaugung in den hohlen Abschnitt bzw. Kanal der optische Wellenleiter hergestellt werden.
Die Fig. 9 zeigt ein weiteres Beispiel eines optischen Bauelementes, bei dem ein Paar von n⁺-Elektroden auf dem Silizium-Substrat 1 ausgebildet ist und wobei der Kanal, der zur Aufnahme eines organischen nichtlinearen optischen Materials und zum Halten einer Lichtleitfaser vorgesehen ist, auf dem Substrat 1 durch Ätzen hergestellt wird. Die Oberfläche des Silizium-Substrates 1, auf der sich der Kanal befindet, ist durch ein weiteres Silizium-Substrat 1′ abge­ deckt, das am ersten Substrat anbracht ist. Eine gute Ver­ bindung der Substrate 1, 1′ wird durch große Reinheit, d.h. durch gründliches Spülen zur Vermeidung der Kontamination mit Staub oder dergleichen, Aktivieren und Zusammenkleben der polierten Flächen der Siliziumplättchen erreicht. Die zusammengeklebten Substrate werden bei einer Temperatur von 1000°C oder mehr zur vollständigen Integration getempert. Wenn das so gebildete Laminat aus den Silizium-Substraten 1, 1′ einer thermischen Oxidation unterworfen wird, oxidieren die Seitenflächen des Kanals unter Bildung einer SiO2- Schicht 6′.
Die Fig. 10 zeigt noch ein Beispiel für ein optisches Bau­ element, bei dem der Kanal durch Ätzen auf einer Pyrex- Glasplatte 2 ausgebildet wird und wobei ein Paar von n⁺-Elektroden getrennt auf einem Silizium-Substrat 1 ange­ ordnet sind. Die Oberfläche der Pyrex-Glasplatte 2 mit dem Kanal ist mit der Fläche des Silizium-Substrates 1 bedeckt, an der die n⁺-Elektroden angeordnet sind, und diese Flächen sind durch anodisches Verbinden zusammengefügt. Nach dem Zusammenfügen wird eine thermische Oxidation ausgeführt, so daß die Fläche des Silizium-Substrates 1, die den Kanal abdeckt, unter Bildung einer SiO2-Schicht 6′ oxidiert wird.

Claims (9)

1. Optisches Bauelement, bei dem ein organisches nichtlineares optisches Material als optischer Wellenleiter in einem in der Oberfläche eines ersten Substrats angebrachten Schlitz eingebettet ist, wobei die Schlitz-Oberfläche aus SiO₂ besteht und einen kleineren Brechungsindex hat als das nichtlineare organische Material, dadurch gekennzeichnet,
daß der Schlitz an seiner Oberseite von einem zweiten Substrat (2) abgedeckt ist, dessen den Schlitz abdeckende Oberfläche ebenfalls einen kleineren Brechungsindex hat als das nichtlineare optische Material (3), und
daß das erste Substrat (1) aus Silicium besteht, dessen das organische nichtlineare optische Material (3) begrenzende Oberfläche (6) zu SiO₂ thermisch oxidiert ist.
2. Bauelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite Substrat (2) eine Glasplatte oder ein Substrat mit an seiner den Schlitz abdeckenden Oberfläche abgeschiedenem Glas ist.
3. Bauelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite Substrat (1′) aus Silicium besteht und die den Schlitz abdeckende Oberfläche zu SiO₂ thermisch oxidiert ist.
4. Bauelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite Substrat (2) auf die Oberfläche des ersten Substrats (1) aufgeschmolzen ist.
5. Bauelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite Substrat (2) eine SiO₂- Schicht (6) ist, die in einem den Schlitz bedeckenden mittleren Bereich eine mit einer Spin-On-Glass · Glasschicht (16) verschlossene Öffnung aufweist.
6. Optisches Bauelement, bei dem ein organisches nicht-lineares optisches Material als optischer Wellenleiter in einem in der Oberfläche einer Glasplatte als erstem Substrat angebrachten Schlitz eingebettet ist, wobei die Glasplatte einen kleineren Brechungsindex hat als das organische nichtlineare optische Material, dadurch gekennzeichnet,
daß der Schlitz an seiner Oberseite von einem zweiten Substrat (2) abgedeckt ist, dessen den Schlitz bedeckende Oberfläche ebenfalls einen kleineren Brechungsindex hat als das organische nichtlineare optische Material, und
daß das zweite Substrat (2) aus Silicium besteht, dessen das organische nichtlineare optische Material (3) begrenzende Oberfläche (6) zu SiO₂ thermisch oxidiert ist.
7. Bauelement nach Anspruch 1 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite Substrat (2) eine auf der Oberfläche des ersten Substrats (1) durch Laminieren, Kleben oder anodisches Verbinden befestigte Platte ist.
8. Bauelement nach Anspruch 3 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite Substrat (2) durch direkte Haftung zwischen polierten Flächen auf der Oberfläche des ersten Substrats (1) befestigt ist.
9. Optisches Bauelement, bei dem ein organisches nichtlineares optisches Material als optischer Wellenleiter in einem in der Oberfläche eines ersten Substrats angebrachten Schlitz eingebettet ist, wobei die Schlitz-Oberfläche aus SiO₂ besteht und einen kleineren Brechnungsindex hat als das organische Material, dadurch gekennzeichnet,
daß der Schlitz an seiner Oberseite von einem zweiten Substrat (2) abgedeckt ist, dessen den Schlitz abdeckende Oberfläche ebenfalls einen kleineren Brechungsindex hat als das organische Material,
daß der Schlitz in einer Siliciumschicht (12) als erstem Substrat angebracht ist, die auf einer SiO₂-Schicht (6′) angeordnet ist und deren das organische nichtlineare optische Material (3) begrenzende Flächen (6) zu SiO₂ thermisch oxidiert sind, und
daß die SiO₂-Schicht (6′) auf einem isolierenden Substrat (11) aufgetragen ist.
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