DE3912295C2 - Katodenzerstäubungsanlage - Google Patents
KatodenzerstäubungsanlageInfo
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- DE3912295C2 DE3912295C2 DE3912295A DE3912295A DE3912295C2 DE 3912295 C2 DE3912295 C2 DE 3912295C2 DE 3912295 A DE3912295 A DE 3912295A DE 3912295 A DE3912295 A DE 3912295A DE 3912295 C2 DE3912295 C2 DE 3912295C2
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
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- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
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- H—ELECTRICITY
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- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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Description
Die Erfindung betrifft eine Katodenzerstäubungsan
lage zur Beschichtung von Substraten in einer Vakuum
kammer, in der ein rotierender Substratträger unterge
bracht ist, mit mindestens einer Katodenstation, eine
Beladestation und Entladestation.
In der Vakuumverfahrenstechnik, insbesondere in der
Dünnschichttechnik ist das Beschichten von Substrater
beispielsweise von Compactdisks (CD) bekannt. Die
Compactdisks sind ein modernes Speichermedium für
digitale Informationen. In einem Sputterprozeß werden
die geprägten Kunststoffscheiben mit beispielsweise ei
ner Aluminiumschicht von weniger als einem zehntau
sendstel Millimeter überzogen. Die hierzu eingesetzte
Sputterbeschichtungsanlagen sind ringförmig aufge
baut. Über eine Schleuse in einem Sauberraum lädt und
entlädt ein Roboter die Anlage. Von der Schleuse aus
transportiert ein Substratträger die Substrate durch die
ringförmige Prozeßkammer. Das Besputtern erfolgt
durch eine Hochleistungszerstäubungskatode, die als
Magnetron aufgebaut ist.
Eine solche Anlage wird beispielsweise in dem Pro
spekt 12-710.01 der ehemaligen Leybold-Heraeus
GmbH beschrieben. Dieses bekannte Katodenzerstäu
bungssystem dient zur einseitigen Beschichtung mit ei
ner laserreflektierenden Aluminiumschicht. Die Anlage
hat eine ringförmige, horizontal angeordnete Vakuum
kammer mit Be- und Entladestation, Hochleistungszer
stäubungskatode, Transportring mit Plattenaufnahme
und dynamischen Schleusen zur Drucktrennung zwi
schen Beschichtungskammer und Be- und Entladesta
tion.
Der Erfindung liegen folgende Aufgaben zugrunde:
Mit der Erfindung soll die Möglichkeit geschaffen wer
den, an der Prozeß-, beziehungsweise Vakuumkammer,
mehr Katodenstationen, Meßstationen und Stationen
mit anderen Funktionen, wie Be- und Entladen der An
lage, unterzubringen, als dies bei Anlagen des Standes
der Technik möglich ist. Es soll eine raumsparende Lö
sung geschaffen werden. Die Anschlüsse für Vakuum,
Kühlwasser, Strom und Druckluft sollen extrem kurz
werden. Das zur Halterung der Anlage notwendige Ge
stell, beziehungsweise Rahmen oder Ständer, soll gleich
zeitig als Träger für die Versorgungsleitungen dienen.
Es sollen Voraussetzungen für einen extrem kleine
Sauberraum geschaffen werden.
Es soll eine Katodenzerstäubungsanlage geschaffen
werden, deren Prozeßkammer von allen Seiten leicht
zugänglich ist. Insbesondere sollen die Wartungs-, Aus
tausch- und Reparaturarbeiten von den beiden großen
Seitenflächen der Vakuumkammer einfacher als beim
Stand der Technik durchgeführt werden können.
Die Anlage soll nur eine kleine Stellfläche in An
spruch nehmen. Insbesondere soll es möglich sein, eine
unmittelbare Kopplung im Fertigungsfluß der Katoden
zerstäubungsanlage mit anderen Fertigungsanlagen
herzustellen.
Die Erfindung macht es sich weiterhin zur Aufgabe,
einen verbesserten Schutz gegen das Besputtern von
Teilen der Transportvorrichtung für die Substrate zu
erzielen. Außerdem soll die Abdichtung der Be- und
Entladestation von dem übrigen Teil der Prozeßkam
mer verbessert werden.
Es gehört weiterhin zur Aufgabe, die Transportvor
richtung für die Substrate leicht zu gestalten, damit kein
großer Antrieb im Vakuum der Prozeßkammer notwen
dig ist.
Ein wesentlicher Teil der Aufgabe besteht darin, daß
eine sehr gute, sichere Trennung des Katodenraums
während des Sputtervorgangs vom übrigen Vakuum
raum der Anlage erzielt wird.
Ein weiterer wesentlicher Teil der Aufgabenstellung
besteht darin, daß die bisher bekannten Transportmittel
für die Substrate, wie Transportplatten mit Substratauf
nahmevorrichtungen, überflüssig werden. Diese Trans
portmittel des Standes der Technik bedürfen einer sehr
aufwendigen und genauen Bearbeitung, sie sind daher
sehr teuer.
Die gestellten Aufgaben werden erfindungsgemäß
dadurch gelöst, daß der Substratträger aus mindestens
einer Transportkelle besteht.
Dabei kann vorgesehen werden, daß die Transport
kelle einen Substrataufnahmekörper (Aufnahmekörper)
umfaßt, der vorzugsweise in Richtung der Achse der
Katodenstation, beziehungsweise der Beladestation, be
ziehungsweise der Entladestation, bewegbar ist.
Als besonders zweckmäßig hat sich herausgestellt,
daß die Transportkelle aus einem vorzugsweise kreis
scheibenförmig ausgebildeten Substrataufnahmekörper
und einem Arm besteht, der so ausgebildet und ange
ordnet ist, daß der Aufnahmekörper in Hinsicht auf die
mit ihm zusammenwirkenden Teilen der Anlage, wie
Teilen der Zerstäubungskatode, Teilen der Beladesta
tion, Teilen der Entladestation während seiner Bewe
gung stets parallel zu diesen Teilen ausgerichtet ist.
In Fortführung dieses Gedankens wird vorgeschla
gen, daß der Arm elastisch beweglich, insbesondere als
federndes Bauteil ausgebildet ist.
Konkretisiert wird dieser Gedanke dadurch, daß der
Arm ein Führungssystem, bestehend aus zwei parallel
zueinander angeordneten Armelementen, aufweist, daß
die Armelemente aus Blattfedern bestehen.
Eine saubere Trennung des Raums der Katodensta
tion wird dadurch erreicht, daß der Substrataufnahme
körper gegen die Katodenstation anpreßbar ausgebil
det ist, daß ein Druckorgan für die Anpressung vorgese
hen ist.
Eine Konzentration des Sputtermaterials auf das Sub
strat wird möglich gemacht, indem zwischen Katode
einerseits und dem Substrataufnahmekörper und Sub
strat andererseits eine Maske angeordnet wird, auf die
der Aufnahmekörper und das Substrat durch das Druck
organ anpreßbar sind.
In einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung
wird vorgesehen, daß Teile der Katodenstation, insbe
sondere der Maske, des Substrataufnahmekörpers und
des vorzugsweise als Druckplatte ausgebildeten Druck
organs einen Vakuumraum bilden, der vakuumdicht
trennbar ist gegenüber dem restlichen Teil der Vakuum
kammer der Katodenzerstäubungsanlage.
Das erfinderische Grundprinzip kann in der Weise
angewendet werden, daß der Substrataufnahmekörper
gegen Teile der Beladestation anpreßbar ausgebildet ist
und daß ein Druckorgan für die Anpressung vorgesehen
ist.
In gleicher Weise kann vorgesehen werden, daß der
Substrataufnahmekörper gegen Teile der Entladesta
tion anpreßbar ausgebildet ist und daß ein Druckorgan
für die Anpressung vorgesehen ist.
Um die Transportkellen in Rotationsbewegung zu
setzen, wird vorgeschlagen, daß für eine oder mehrere
Transportkellen eine in Bezug auf die Katodenzerstäu
bungsanlage zentral angeordnete Antriebsvorrichtung
vorgesehen ist, die die Transportkelle um einen be
stimmten Winkel schrittweise in der Vakuumkammer
der Katodenzerstäubungsanlage weitertransportiert.
Der Grundgedanke der Erfindung kann bei Vakuum
kammern angewendet werden, die waagerecht oder in
einer anderen Stellung montiert sind. In einem bevor
zugten Ausführungsbeispiel wird vorgeschlagen, daß
die Vakuumkammer der Katodenzerstäubungsanlage
senkrecht angeordnet ist, daß die Transportkelle, bezie
hungsweise die Transportkellen um eine waagerecht an
geordnete Achse rotieren.
Um den im Bereich des Substrataufnahmekörpers
auftretenden Gasströmen einen geringen Strömungswi
derstand zu bieten und um die Kelle insgesamt leicht zu
gestalten, wird vorgeschlagen, daß der Substrataufnah
mekörper im wesentlichen die Form einer kreisförmi
gen Platte aufweist, die vorzugsweise mit kreisförmigen
Ausnehmungen versehen ist.
Mit der Erfindung werden folgende Vorteile erzielt:
Die gestellten Aufgaben werden gelöst. Es wird eine
sehr gute, sichere Trennung des Katodenraums wäh
rend des Sputtervorgangs vom Vakuumraum der Anla
ge erzielt. Die bisher bekannten Transportmittel für die
Substrate, wie Transportplatten mit eingebauten Sub
strataufnahmevorrichtungen, deren Bearbeitung sehr
aufwendig und sehr teuer ist, werden überflüssig. Durch
das Kellenprinzip zusammen mit der senkrechten An
ordnung der Vakuumkammer werden ausgezeichnete
Voraussetzungen dafür geschaffen, daß eine Vielzahl
von Stationen (Katodenstationen, Meßstationen, Ent-
und Beladestation u. a.) untergebracht werden können.
Die Anlage wird also in einem Höchstmaß ausgenutzt.
Weitere Einzelheiten der Erfindung sind der folgen
den Beschreibung mehrerer Ausführungsbeispiele der
Erfindung zu entnehmen. Diese Ausführungsbeispiele
werden anhand von sieben Figuren erläutert.
Fig. 1 zeigt in axonometrischer Darstellung ein Aus
führungsbeispiel der erfindungsgemäßen Katodenzer
stäubungsanlage.
Fig. 2 zeigt in einem Schnittbild einen Teilbereich der
Zerstäubungskatode der Anlage nach Fig. 1.
Die Fig. 3 bis 5 zeigen eine Transportkelle.
Fig. 6 zeigt einen Teilbereich der Entladestation der
Anlage nach Fig. 1.
Fig. 7 zeigt einen Teilbereich der Ladestation der An
lage nach Fig. 1.
Aus Fig. 1 ist die kreisscheibenförmige Ausgestaltung
der Vakuumkammer, die mit 1 bezeichnet ist, erkennbar.
Die Vakuumkammer ist in einem Rahmen oder Ständer
2 untergebracht. Mit 3 ist die Gesamtheit der Beladesta
tion bezeichnet. 4 kennzeichnet die Gesamtheit der Ent
ladestation. Mit 5 ist eine geöffnete Katodenstation be
zeichnet. Die Beladestation, Entladestation und die Ka
todenstation werden anhand der weiteren Figuren be
schrieben.
In Fig. 1 ist die Vakuumkammer 1 teilweise geöffnet
gezeichnet, so daß eine Transportkelle sichtbar wird. Sie
besteht aus dem Arm 6 und dem Substrataufnahmekör
per 7. Der Arm ist an einer zentralen Scheibe (Trans
portscheibe) 8 angeordnet. Die Scheibe wird von einer
Antriebsvorrichtung 9 entsprechend dem Pfeil 10 um
einen bestimmten Winkel schrittweise von Station zu
Station gedreht. Wie aus Fig. 1 ersichtlich, ist die An
triebsvorrichtung 9 zentral in Bezug auf die Vakuum
kammer angeordnet. Mit 11 ist die zentrale Achse der
Vakuumkammer bezeichnet.
Fig. 1 zeigt mehrere Katodenstationen und mehrere
Meßstationen zur Überprüfung der Arbeitsweise der
Anlage. Die Fig. 2 zeigt Einzelheiten einer Katodensta
tion. Die Gesamtheit der Katode ist mit 12 bezeichnet.
Sie umfaßt das Target, das mit 13 gekennzeichnet ist. Es
handelt sich um eine Hochleistungskatode (Magnetron
katode).
Während des Betriebs der Katode bildet sich im Be
reich 14 vor der Katode ein Plasma, das durch das Ma
gnetfeld der Magnetronkatode verdichtet wird. Aus
dem Plasma heraus bombardieren positiv geladene Io
nen das Target. Aus dem Target werden Materialparti
kel gesputtert. Das Sputtermaterial gelangt auf das Sub
strat, das in Fig. 2 mit 15 bezeichnet ist. Zwischen der
Katode 12 einerseits und dem Substrat 15 und dem Sub
strataufnahmekörper 16 andererseits ist eine Maske 17
angeordnet.
Während des Sputtervorgangs wird durch die Druck
platte 18 der Substrataufnahmekörper 16 und das Sub
strat in Richtung des Pfeils 20 gegen die Maske gepreßt.
In dieser Situation wird das Sputtermaterial auf das
Substrat konzentriert. Andererseits wird vermieden,
daß der Substrataufnahmekörper und andere Teile der
Transportkelle besputtert werden. Durch die konische
Form der Oberfläche 21 der Maske werden der Sub
strataufnahmekörper und die anderen Teile der Trans
portkelle abgeschattet. Gleichzeitig wird eine gute
Schichtdickengleichmäßigkeit erzielt. Mit 19 ist der An
trieb für die Druckplatte 18 bezeichnet. Der Antrieb ist
mittels O-Ring 22 an der Wand der Vakuumkammer
abgedichtet.
Die Wände 23, 24, 25 der Katodenstation, die Katode
selbst, die Maske 17, der Substrataufnahmekörper 16
und die Druckplatte 18 bilden während des Sputtervor
gangs einen isolierten Vakuumraum 27, der gegenüber
dem restlichen Vakuumraum 26 der Katodenzerstäu
bungsanlage getrennt ist.
Mit 28 ist ein Vakuumanschluß bezeichnet, der zur
Evakuierung des soeben beschriebenen isolierten Kato
denvakuumraums 27 dient. Mit 29, 30, 31, 32 sind O-Rin
ge bezeichnet, die der Abdichtung des Katodenvakuum
raums dienen.
In Fig. 2 sind die Wände 33, 34 der Vakuumkammer
der Katodenzerstäubungsanlage dargestellt. 35 ist eine
Antriebsscheibe, beziehungsweise Transportscheibe,
für den Arm der Transportkelle. Die Transportkelle
selbst besteht aus einem Arm und dem beschriebenen
Substrataufnahmekörper. Der Arm besteht aus zwei
Armelementen 36, 37, die als Blattfedern ausgebildet
sind. Die Blattfedern sind, wie aus Fig. 2 ersichtlich, par
allel angeordnet.
Durch diese parallele Anordnung beschreibt der Sub
strataufnahmekörper 16 eine parallele Bewegung wäh
rend des Anpreßvorgangs, die man als "paralleles Ver
setzen" bezeichnen kann. Außerdem sind die Blattfe
dern 36, 37 so lang ausgebildet, daß keine nennenswerte
Verkürzung des Kellenarms, beziehungsweise des Radi
usses eintritt, das heißt, in Radialrichtung gibt es keinen
nennenswerten Versatz.
Alternative Ausführungsformen in Hinsicht auf die
parallele Anordnung zweier Blattfedern sind möglich.
Es kommt in jedem Fall darauf an, daß zwei parallele
Armelemente so angelenkt sind, daß der flächige Sub
strataufnahmekörper 16 in Hinsicht auf die mit ihm zu
sammenwirkenden, beziehungsweise an ihn anliegen
den flächigen Teile der Druckplatte 18 und der Maske
17 während seiner Bewegung stets parallel ausgerichtet
bleibt.
Wie aus Fig. 1 ersichtlich, ist 11 die Rotationsachse,
um die die Transportkellen in Takten, das heißt, schritt
weise rotieren. Antriebsorgan ist eine innere Scheibe
(Transportscheibe) 8. In der Ausführungsform gemäß
Fig. 2 trägt diese Transportscheibe die Bezugsziffer 35.
Die Bewegung, beziehungsweise das Takten um einen
gewissen Winkel, wird mit hoher Genauigkeit durch ei
nen Präzisionsschalttisch bewirkt, wie er beispielsweise
im Werkzeugmaschinenbau eingesetzt wird.
Das Substrat wird durch die Transportkelle schritt
weise von der Einschleußstation, beziehungsweise Lade
station, zu den Katodenstationen der Anlage transpor
tiert.
Während des Sputtervorgangs wird durch die Erfin
dung eine sichere Trennung zwischen den Katodenva
kuumräumen und dem restlichen Vakuumraum der An
lage gewährleistet.
Das Substrat kann einseitig oder beidseitig beschich
tet werden. Bei einer beidseitigen Beschichtung ist in
einer Station eine Katode gemäß Fig. 2 an der Vakuum
kammerwand angeordnet, in einer weiteren Station
wird eine Anordnung vorgesehen, die der der Fig. 2
entspricht, jedoch ist dann die Katode links angeordnet.
Das Substrat kann im Substrataufnahmekörper ent
weder in der Mitte über ein Zentralloch gehalten wer
den oder es kann, wie in Fig. 2 gezeigt, am äußeren
Umfang eingeklemmt sein.
Die Fig. 3 bis 5 zeigen die Transportkelle, die aus dem
Substrataufnahmekörper, der in diesem Ausführungs
beispiel mit 38 bezeichnet ist, und dem Arm, der in sei
ner Gesamtheit mit 39 bezeichnet ist, besteht. Der Arm
selbst wird aus zwei Blattfedern 40, 41 gebildet, siehe
Fig. 5.
Die Fig. 5 ist ein Schnittbild entsprechend der
Schnittlinie V/V der Fig. 3. Aus Fig. 5 ist ersichtlich, daß
das Substrat, in diesem Ausführungsbeispiel mit 42 be
zeichnet, an der rechten Oberfläche des Substrataufnah
mekörpers angeordnet ist.
Beim Ausführungsbeispiel nach Fig. 2 ist eine andere
Position für das Substrat vorgesehen. Nach Fig. 2 ist das
Substrat nicht auf einer Oberfläche des Substrataufnah
mekörper positioniert, sondern in der Mitte des Sub
strataufnahmekörpers.
Fig. 4 zeigt schematisch die Transportkelle nach Fig.
3, nachdem sie durch das Schrittgetriebe 9, siehe Fig. 1,
um einen Schritt, beziehungsweise um eine Teilung, wei
tertransportiert worden ist, und zwar in Richtung des
Pfeils 43.
Mit 44, 45 sind in Fig. 5 je ein O-Ring bezeichnet, die
die Funktion des Abdichtens des vom restlichen Vaku
umraum 26 der Katodenzerstäubungsanlage während
des Sputtervorgangs abgetrennten Katodenvakuum
raums 27 durchführen.
Aus Fig. 3 sind sechs kreisförmige Ausnehmungen er
kennbar, von denen eine mit 46 bezeichnet ist. Durch sie
wird das Gewicht des Substrataufnahmekörpers redu
ziert. Außerdem wird der Strömungswiderstand für
durchströmendes Gas durch die Ausnehmungen redu
ziert.
In Fig. 6 ist eine Entladestation gezeigt. Mit 47, 48
sind die Wände der Vakuumkammer 49 der Anlage be
zeichnet. 50 ist die Transportscheibe, die vom Schrittge
triebe angetrieben wird. Mit 51, 52 sind die beiden Blatt
federn des Arms der Transportkelle bezeichnet. 53 ist
der Substrataufnahmekörper. Das Substrat selbst trägt
das Bezugszeichen 54. Über die Anpreßvorrichtung 55
wird der Substrataufnahmekörper gegen die Wand 47
gepreßt. Anschließend wird das beschichtete Substrat
entnommen.
Fig. 7 zeigt eine Ladestation. Es ist erkennbar, daß
durch die Anpreßvorrichtung 56 der Substrataufnahme
körper 57 sich im gegen die Wand 58 angepreßten Zu
stand befindet. Die zweite Wand der Vakuumkammer
der Anlage trägt das Bezugszeichen 59. Die Transport
scheibe ist mit 60 bezeichnet. 61, 62 sind die beiden
Blattfedern des Arms des Substrataufnahmekörpers 57.
In dieser Position des Substrataufnahmekörpers kann
dieser mit einem zu beschichtenden Substrat beladen
werden.
Bezugszeichenliste
1 Vakuumkammer
2 Rahmen, Ständer
3 Beladestation
4 Entladestation
5 Katodenstation
6 Arm
7 Substrataufnahmekörper
8 Transportscheibe
9 Antriebsvorrichtung, Schrittgetriebe
10 Pfeil
11 Achse
12 Kathode
13 Target
14 Bereich, Plasma
15 Substrat
16 Substrataufnahmekörper
17 Maske
18 Druckplatte, Druckorgan
19 Antrieb
20 Pfeil
21 Oberfläche
22 O-Ring
23 Wand
24 Wand
25 Wand
26 Vakuumraum
27 Vakuumraum
28 Vakuumanschluß
29 O-Ring
30 O-Ring
31 O-Ring
32 O-Ring
33 Wand
34 Wand
35 Antriebsscheibe, Transportscheibe
36 Armelement, Blattfeder
37 Armelement, Blattfeder
38 Substrataufnahmekörper, Platte
39 Arm
40 Blattfeder
41 Blattfeder
42 Substrat
43 Pfeil
44 O-Ring
45 O-Ring
46 Ausnehmung
47 Wand
48 Wand
49 Vakuumkammer
50 Transportscheibe
51 Blattfeder
52 Blattfeder
53 Substrataufnahmekörper
54 Substrat
55 Anpreßvorrichtung
56 Anpreßvorrichtung
57 Substrataufnahmekörper
58 Wand
59 Wand
60 Transportscheibe
61 Blattfeder
62 Blattfeder.
2 Rahmen, Ständer
3 Beladestation
4 Entladestation
5 Katodenstation
6 Arm
7 Substrataufnahmekörper
8 Transportscheibe
9 Antriebsvorrichtung, Schrittgetriebe
10 Pfeil
11 Achse
12 Kathode
13 Target
14 Bereich, Plasma
15 Substrat
16 Substrataufnahmekörper
17 Maske
18 Druckplatte, Druckorgan
19 Antrieb
20 Pfeil
21 Oberfläche
22 O-Ring
23 Wand
24 Wand
25 Wand
26 Vakuumraum
27 Vakuumraum
28 Vakuumanschluß
29 O-Ring
30 O-Ring
31 O-Ring
32 O-Ring
33 Wand
34 Wand
35 Antriebsscheibe, Transportscheibe
36 Armelement, Blattfeder
37 Armelement, Blattfeder
38 Substrataufnahmekörper, Platte
39 Arm
40 Blattfeder
41 Blattfeder
42 Substrat
43 Pfeil
44 O-Ring
45 O-Ring
46 Ausnehmung
47 Wand
48 Wand
49 Vakuumkammer
50 Transportscheibe
51 Blattfeder
52 Blattfeder
53 Substrataufnahmekörper
54 Substrat
55 Anpreßvorrichtung
56 Anpreßvorrichtung
57 Substrataufnahmekörper
58 Wand
59 Wand
60 Transportscheibe
61 Blattfeder
62 Blattfeder.
Claims (13)
1. Katodenzerstäubungsanlage zur Beschichtung
von Substraten in einer Vakuumkammer, in der ein
rotierender Substratträger untergebracht ist, mit
mindestens einer Katodenstation, einer Beladesta
tion und Entladestation, dadurch gekennzeichnet,
daß der Substratträger aus mindestens einer Trans
portkelle besteht.
2. Katodenzerstäubungsanlage nach Anspruch 1 dadurch
gekennzeichnet, daß die Transportkelle einen Substrat
aufnahmekörper (Aufnahmekörper) (16) umfaßt, der
in Richtung der Achse der Katodenstation,
der Beladestation oder der Entlade
station, bewegbar ist.
3. Katodenzerstäubungsanlage nach Anspruch 1 und/oder
2, dadurch gekennzeichnet, daß die Transportkelle aus
einem kreisscheibenförmig ausgebildeten
Substrataufnahmekörper (16) und einem Arm besteht, der
so ausgebildet und angeordnet ist, daß der Aufnahmekörper
(16) in Hinsicht auf die mit ihm zusammenwirkenden
Teilen der Anlage, wie Teilen der Zerstäubungskatode,
Teilen der Beladestation, Teilen der Entladestation
während seiner Bewegung stets parallel zu diesen Teilen
ausgerichtet ist.
4. Katodenzerstäubungsanlage nach einem oder
mehreren der vorangegangenen Ansprüche, da
durch gekennzeichnet, daß der Arm elastisch be
weglich, insbesondere als federndes Bauteil aus ge
bildet ist.
5. Katodenzerstäubungsanlage nach einem oder
mehreren der vorangegangenen Ansprüche, da
durch gekennzeichnet, daß der Arm ein Führungs
system, bestehend aus zwei parallel zueinander an
geordneten Armelementen, aufweist, daß die Arm
elemente aus Blattfedern (36, 37) bestehen.
6. Katodenzerstäubungsanlage nach einem oder
mehreren der vorangegangenen Ansprüche, da
durch gekennzeichnet, daß der Substrataufnahme
körper (16) gegen die Katodenstation anpreßbar
ausgebildet ist, daß ein Druckorgan (18) für die An
pressung vorgesehen ist.
7. Katodenzerstäubungsanlage nach einem oder
mehreren der vorangegangenen Ansprüche, da
durch gekennzeichnet, daß zwischen Katode einer
seits und dem Substrataufnahmekörper und Sub
strat andererseits eine Maske (17) angeordnet ist,
auf die der Aufnahmekörper (16) und das Substrat
(15) durch das Druckorgan (18) anpreßbar sind.
8. Katodenzerstäubungsanlage nach einem oder
mehreren der vorangegangenen Ansprüche, da
durch gekennzeichnet, daß Teile der Katodensta
tion, insbesondere der Maske (17), des Substratauf
nahmekörpers (16) und des vorzugsweise als
Druckplatte ausgebildeten Druckorgans (18) einen
Vakuumraum (27) bilden, der vakuumdicht trenn
bar ist gegenüber dem restlichen Teil der Vakuum
kammer (26) der Katodenzerstäubungsanlage.
9. Katodenzerstäubungsanlage nach einem oder
mehreren der vorangegangenen Ansprüche, da
durch gekennzeichnet, daß der Substrataufnahme
körper (57) gegen Teile der Beladestation anpreß
bar ausgebildet ist, daß ein Druckorgan (56) für die
Anpressung vorgesehen ist.
10. Katodenzerstäubungsanlage nach einem oder
mehreren der vorangegangenen Ansprüche, da
durch gekennzeichnet, daß der Substrataufnahme
körper (53) gegen Teile der Entladestation anpreß
bar ausgebildet ist, daß ein Druckorgan (55) für die
Anpressung vorgesehen ist.
11. Katodenzerstäubungsanlage nach einem oder
mehreren der vorangegangenen Ansprüche, da
durch gekennzeichnet, daß für eine oder mehrere
Transportkellen eine in Bezug auf die Katodenzer
stäubungsanlage zentral angeordnete Antriebsvor
richtung (9) vorgesehen ist, die die Transportkelle
um einen bestimmten Winkel schrittweise in der
Vakuumkammer (1) der Katodenzerstäubungsan
lage weitertransportiert.
12. Katodenzerstäubungsanlage nach einem oder
mehreren der vorangegangenen Ansprüche, da
durch gekennzeichnet, daß die Vakuumkammer (1)
der Katodenzerstäubungsanlage senkrecht ange
ordnet ist, daß die Transportkelle, beziehungsweise
die Transportkellen um eine waagerecht angeord
nete Achse (11) rotieren.
13. Katodenzerstäubungsanlage nach einem oder
mehreren der vorangegangenen Ansprüche, da
durch gekennzeichnet, daß der Substrataufnahme
körper im wesentlichen die Form einer kreisförmi
gen Platte (38) aufweist, die vorzugsweise mit kreis
förmigen Ausnehmungen (46) versehen ist.
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3912295A DE3912295C2 (de) | 1989-04-14 | 1989-04-14 | Katodenzerstäubungsanlage |
| US07/377,132 US4943363A (en) | 1989-04-14 | 1989-07-10 | Cathode sputtering system |
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