DE4242801C2 - Hochspannungsschaltkreis - Google Patents
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft einen Hochspannungsschaltkreis der im Oberbe
griff des Patentanspruchs 1 genannten Art.
Ein solcher Hochspannungsschaltkreis ist aus der Druckschrift JP 2-116095 A be
kannt. Bei diesem Hochspannungsschaltkreis erfolgt eine Trennung zwischen einer
Puffereinrichtung und einer Hochspannungspumpeinrichtung durch zwei in Reihe
geschaltete Transistoren. Beide Transistoren sind als Anreicherungstransistoren
ausgeführt.
Ein weiterer konventioneller Hochspannungs-Schaltkreis, der in Fig. 6
dargestellt ist, weist ein NAND-Gate 10 zum Puffern von Ein
gangssignalen auf, einen Transistor 12 des Verarmungstyps,
bei welchem ein Kanal zwischen einer Ausgangsklemme des NAND-
Gates 10 und einen ersten Knotenpunkt 11 geschaltet ist, um
eine Quellenspannung von einer hohen Spannung abzutrennen,
und eine Hochspannungs-Pumpschaltung 14, die zwischen den er
sten Knotenpunkt 11 und eine Ausgangsklemme geschaltet ist,
um in Reaktion auf die Eingangssignale entweder eine hohe
Spannung oder eine Massespannung zu erzeugen. Die Hochspan
nungs-Pumpschaltung 14 weist weiterhin einen ersten NMOS-
Transistor 16 auf, der mit einem Kanal versehen ist, der zwi
schen einer Hochspannungsversorgung VPP und einem zweiten
Knotenpunkt 22 geschaltet ist, und weiterhin ein an den er
sten Knotenpunkt 11 angeschlossenes Gate aufweist, einen zwei
ten NMOS-Transistor 18, der einen zwischen den ersten und
zweiten Knotenpunkt 11 bzw. 22 geschalteten Kanal aufweist,
sowie ein an den zweiten Knotenpunkt 22 angeschlossenes Gate,
und einen dritten NMOS-Transistor 25, der ein an den zweiten
Knotenpunkt 22 angeschlossenes Gate aufweist sowie einen Ka
nal, dessen beide Klemmen miteinander verbunden sind.
Bei einem Schaltvorgang für eine hohe Spannung wird an die
Eingangsklemme VPP eine hohe Spannung angelegt, wird ein
erster Eingang ΦD des NAND-Gates 10 in einem hohen Zustand
gehalten, befindet sich ein Gate-Eingang ΦP des Verarmungs
transistors 12 in einem niedrigen Zustand, und führt ein Ein
gang Φ des NMOS-Transistors 25 periodische Schwingungen aus.
Wenn ein zweiter Eingang des NAND-Gates 10 ein Signal mit ei
nem hohen Pegel empfängt, befindet sich in diesem Fall der
Ausgang des NAND-Gates 10 auf Massepegel, und daher ebenso
der erste Knotenpunkt 11.
Wenn allerdings der zweite Eingang des NAND-Gates 10 ein
Signal mit einem niedrigen Pegel empfängt, so befindet sich
der Ausgang des NAND-Gates 10 auf einem hohen Pegel. Der
Verarmungstransistor 12 wird eingeschaltet, so daß er den
ersten Knotenpunkt 11 mit einer Spannung versorgt, die durch
Subtraktion der Schwellenspannung des Transistors 12 von dem
hohen Pegel des NAND-Gates 10 erhalten wird, wodurch die
Hochspannungs-Pumpschaltung 14 getrieben wird. Weiterhin
trennt der Verarmungstransistor 12 die Ausgangsspannung des
NAND-Gates 10 von der hohen Spannung des ersten Knotenpunkts
11. In diesem Fall wird das Gate des Transistors 12 mit ei
ner Massespannung versorgt. Falls an das Gate des Verarmungs
transistors 12 eine Quellenspannung VCC angelegt wird, so
tritt ein Kurzschlußvorgang zwischen der Hochspannungsversor
gung VPP und der Quellenspannung VCC auf, so daß keine
hohe Spannung an der Ausgangsklemme erzeugt wird.
Bei einem Hochspannungs-Schaltvorgang tritt eine Zusammen
bruchsspannung über dem Verarmungstransistor 12 auf, infolge
eines elektrischen Feldes zwischen dem Gate und dem Drain des
Verarmungstransistors 12, wenn die Ausgangsklemme auf ein
hohes Potential angehoben wird, und das Gate des Verarmungs
transistors 12 an Masse gelegt wird. Daher darf zur Verhinde
rung dieser Schwierigkeit keine hohe Spannung oberhalb eines
vorgegebenen Wertes an der Ausgangsklemme erzeugt werden.
Aufgabe der Erfindung ist es, einen robusteren Hochspannungsschaltkreis anzuge
ben.
Diese Aufgabe wird durch den Hochspannungsschaltkreis gemäß Anspruch 1 gelöst.
Vorteilhafte Weiterbildungen sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche.
Vorteilhaft an dem erfindungsgemäßen Hochspannungsschaltkreis ist, daß er keine
zusätzliche Schaltungseinrichtung benötigt, die verhindert, daß an seinem Ausgang
eine zu hohe Spannung anliegt. Somit reduziert der erfindungsgemäße Hochspan
nungsschaltkreis die Größe der integrierten Halbleiterschaltung, die den Hochspan
nungsschaltkreis enthält.
Im folgenden wird eine bevorzugte Ausführungsform der Erfindung unter Bezugnah
me auf die beiliegenden Zeichnungen näher erläutert. Dabei zeigen:
Fig. 1 einen Graphen, welcher Zusammenbruchsspannungs
eigenschaften von Anreicherungs- und Verarmungs-
Transistoren gemäß der erfindungsgemäßen Schal
tung im Vergleich zu denen konventioneller Schal
tungen zeigt;
Fig. 2 schematische Schaltungen der Anreicherungs- und
Verarmungs-Transistoren aus Fig. 1;
Fig. 3 ein schematisches Schaltbild einer Schaltung gemäß
einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
Fig. 4 eine Anordnung zur Erzeugung der erfindungsgemäßen
Schaltung;
Fig. 5 eine Querschnittsansicht entlang der Linie A-A'
von Fig. 4; und
Fig. 6 ein schematisches Schaltbild einer Schaltung nach
dem Stand der Technik.
In Fig. 3 ist ein Hochspannungs-Schaltkreis einschließlich ei
ner Umkehrschaltung 30 zum Puffern eines Eingangssteuersignals
gezeigt, einer Hochspannungs-Pumpschaltung 40 zur Erzeugung
einer hohen Spannung oder einer Massespannung in Reaktion auf
Ausgangssignale von der Umkehrschaltung 30, und einer Unter
brechungsschaltung 50, um elektrisch die Umkehrschaltung 30
von der Hochspannungs-Pumpschaltung 40 abzutrennen. In diesem
Fall kann die Umkehrschaltung 30 durch ein NAND-Gate oder ein
NOR-Gate ersetzt werden. Die Unterbrechungsschaltung 50 umfaßt
einen Transistor 36 des Verarmungstyps und einen Transistor
34 des Anreicherungstyps.
Bei einem Hochspannungs-Schaltvorgang wird eine Eingangsklem
me VPP mit einer hohen Spannung versorgt, und ein Eingang
führt periodische Schwingungen durch. Wenn der Steuereingang
der Umkehrschaltung 30 auf einem hohen Potential liegt, so
nehmen der erste, zweite und dritte Knotenpunkt 31, 32 bzw.
33 ein niedriges Potential an, so daß die Hochspannungs-Pump
schaltung 40 nicht getrieben wird. Wenn allerdings das Ein
gangssteuersignal der Umkehrschaltung 40 auf niedrigem Pegel
liegt, so nimmt der erste Knotenpunkt 31 einen hohen Pegel
an, und dann fällt der zweite Knotenpunkt 32 von einer Quel
lenspannung VCC auf eine Spannung VCC-VTE ab, die da
durch erhalten wird, daß eine Schwellenspannung VTE des An
reicherungs-Transistors 34 von der Quellenspannung VCC sub
trahiert wird. Die Spannung VCC-VTE treibt die Hochspan
nungs-Pumpschaltung 40 so, daß der Spannungspegel der Aus
gangsklemme erhöht wird, also des dritten Knotenpunktes 33,
auf eine hohe Spannung VPP. Der dritte Knotenpunkt 33 und
der Spannungsquellen-Knotenpunkt 31 werden elektrisch durch
den Transistor 34 des Anreicherungstyps getrennt.
Wie aus Fig. 4 hervorgeht, werden ein Vorrichtungsbereich 60,
eine Polysiliziumschicht 62 für ein Gate, welche sich in ei
ner vorgegebenen Richtung über den Vorrichtungsbereich 60 er
streckt, und ein verarmter Ionen-Implantierungsbereich 64,
der einen Abschnitt der Polysiliziumschicht 62 in dem Vorrich
tungsbereich 60 überlappt, in einem Halbleitersubstrat ausge
bildet.
Der in Fig. 5 gezeigte Vorrichtungsbereich 60 wird durch eine
Feldoxidschicht 70 begrenzt, und umfaßt eine Source 66 und
einen Drain 68, die voneinander durch einen Kanalbereich ge
trennt sind, sowie ein Gate 62 aus Polysilizium, welches über
dem Kanalbereich ausgebildet ist. Der Transistor 36 des Ver
armungsmodus und der Transistor 34 des Anreicherungsmodus wer
den in dem Kanalbereich ausgebildet.
In Fig. 1 werden die Zusammenbruchsspannungseigenschaften von
Anreicherungs- und Verarmungstransistoren gemäß der vorliegen
den Erfindung mit denen konventioneller Schaltungen vergli
chen. Die vertikale bzw. horizontale Achse stellt den Strom
bzw. die Spannung zwischen einem Drain und einer Source dar.
Eine durch die Bezugsziffer 71 bezeichnete Kurve repräsentiert
eine charakteristische Kurve des Anreicherungs-NMOS-Transis
tors 34, dessen Gate und Source mit einer Massespannung ver
bunden sind, wie schematisch in Fig. 2 gezeigt. Eine durch die
Bezugsziffer 73 bezeichnete Kurve repräsentiert eine charakte
ristische Kurve eines Anreicherungs-NMOS-Transistors (Fig. 2)
mit floatender Source, dessen Gate an die Sourcespannung an
geschlossen ist, nach dem Stand der Technik. Die durch die
Bezugsziffer 75 bezeichnete Kurve repräsentiert eine charak
teristische Kurve eines Verarmungs-NMOS-Transistors (Fig. 2),
dessen Gate an eine Massespannung und dessen Source an die
Sourcespannung angeschlossen ist, nach dem Stand der Technik.
Die durch eine Bezugsziffer 77 bezeichnete Kurve repräsentiert
eine charakteristische Kurve eines Verarmungs-Transistors
(Fig. 2) mit floatender Source, dessen Gate an die Source
spannung angeschlossen ist, gemäß der vorliegenden Erfindung.
Hieraus wird deutlich sichtbar, daß die höchste Transistor-
Durchbruchsspannung mit der vorliegenden Erfindung erzielt
wird.
Wie voranstehend erläutert verwendet der Schaltkreis gemäß
der vorliegenden Erfindung eine Unterbrechungsschaltung zur
Unterbrechung der hohen Spannung der Ausgangsklemme und der
Ausgangsspannung der Pufferschaltung. Der Schaltkreis umfaßt
Anreicherungs- und Verarmungs-Transistoren, die Kanäle auf
weisen, die in Reihe geschaltet sind, und die Gates aufwei
sen, die gemeinsam mit der Source-Spannung versorgt werden,
wodurch an das Gate und den Drain der Transistoren angelegte
elektrische Felder verringert werden, wenn die Ausgangsspan
nung auf einen hohen Pegel angehoben wird. Dies führt dazu,
daß die Durchbruchsspannung eines Transistors vergrößert wird,
um so die gewünschte hohe Spannung an der Ausgangsklemme der
Schaltung zur Verfügung zu stellen.
Da Anreicherungs- und Verarmungstransistoren gleichzeitig in
einem Kanal ausgebildet werden, ist darüber hinaus der Layout-
Bereich der integrierten Schaltung verringert, wodurch eine
Halbleiter-Speichervorrichtung erhalten wird, die eine hohe
Dichte aufweist. Daher wird ein Hochspannungs-Schaltkreis er
halten, der eine maximale Hochspannung in einer integrierten
Schaltung minimaler Größe aufweist.
Claims (6)
1. Hochspannungsschaltkreis mit:
einer Puffereinrichtung (10; 30) zum Abpuffern eines Eingangssignals;
eine Hochspannungspumpeinrichtung (14; 40) zum Erzeugen einer vorgege benen Spannung im Ansprechen auf ein Ausgangssignal der Puffereinrich tung; und
eine Unterbrechungseinrichtung (12; 50), die zwischen die Puffereinrichtung (10; 30) und die Hochspannungspumpeinrichtung (14; 40) geschaltet ist, um die Puffereinrichtung (10; 30) von der Hochspannungspumpeinrichtung (14; 40) zu trennen;
dadurch gekennzeichnet, daß
die Puffereinrichtung (10; 30) von der Hochspannungspumpeinrichtung (14; 40) getrennt wird, wenn das Ausgangssignal der Puffereinrichtung (10; 30) eine Quellenspannung (Vcc) und die vorgegebene Spannung der Hochspan nungspumpschaltung eine hohe Spannung ist, wobei die Unterbrechungsein richtung (12; 50) einen Anreicherungstransistor (34) und einen Verarmungs transistor (36) umfaßt, die in Reihe geschaltet sind.
einer Puffereinrichtung (10; 30) zum Abpuffern eines Eingangssignals;
eine Hochspannungspumpeinrichtung (14; 40) zum Erzeugen einer vorgege benen Spannung im Ansprechen auf ein Ausgangssignal der Puffereinrich tung; und
eine Unterbrechungseinrichtung (12; 50), die zwischen die Puffereinrichtung (10; 30) und die Hochspannungspumpeinrichtung (14; 40) geschaltet ist, um die Puffereinrichtung (10; 30) von der Hochspannungspumpeinrichtung (14; 40) zu trennen;
dadurch gekennzeichnet, daß
die Puffereinrichtung (10; 30) von der Hochspannungspumpeinrichtung (14; 40) getrennt wird, wenn das Ausgangssignal der Puffereinrichtung (10; 30) eine Quellenspannung (Vcc) und die vorgegebene Spannung der Hochspan nungspumpschaltung eine hohe Spannung ist, wobei die Unterbrechungsein richtung (12; 50) einen Anreicherungstransistor (34) und einen Verarmungs transistor (36) umfaßt, die in Reihe geschaltet sind.
2. Hochspannungsschaltkreis nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Puffereinrichtung ein Invertierer (30), ein NAND-Gatter oder ein NOR-
Gatter ist.
3. Hochspannungsschaltkreis nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeich
net, daß der Anreicherungs- und der Verarmungstransistor (34, 36) benach
barte Kanäle aufweisen, die unterhalb eines gemeinsamen Gates (62) gebil
det sind.
4. Hochspannungsschaltkreis nach Anspruch 3, wobei der Kanal des Verar
mungstransistors (36) ein n-dotierter (-) Kanalbereich und der Kanal des An
reicherungstransistors (34) ein p-dotierter (+) Kanalbereich ist.
5. Hochspannungsschaltkreis nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei die
Gates des Anreicherungstransistors (34) und des Verarmungstransistors (36)
zusammen an die Quellenspannung (Vcc) angeschlossen sind.
6. Hochspannungsschaltkreis nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch ge
kennzeichnet, daß der Verarmungstransistor (36) der Unterbrechungseinrich
tung (12; 50) mit einer Ausgangsklemme der Hochspannungspumpschaltung
(14; 40) verbunden ist.
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Effective date: 20120703 |