DE458876C

DE458876C - Verfahren zur elektrischen Gasreinigung

Info

Publication number: DE458876C
Application number: DEE28589D
Authority: DE
Original assignee: Elek Sche Gasreinigungs G M B; H ROHMANN DR
Current assignee: Elek Sche Gasreinigungs G M B; H ROHMANN DR
Priority date: 1922-10-14
Filing date: 1922-10-14
Publication date: 1928-04-21

Description

Verfahren zur elektrischen Gasreinigung. Die Einführung von staubhaltigem Gas in eine Sprühentladung hat zur Folge, daß bei konstanter Klemmenspannung die Stromstärke der Sprühentladung sinkt. Die Verminderung der Stromstärke rührt im wesentlichen von einer Verminderung der elektrischen Feld -stärke in der Nähe der Sprühelektrode 'her, die ihrerseits durch die elektrische Raumladung hervorgerufen wird, welche die geladenen Staubteilchen bewirken. Der Einfluß einer bestimmten Raumladung auf den Sprühstrom ist um so größer, je höher bei sonst gleichen Verhältnissen das Minimumpotential der benutzten Sprühelektrode ist.
Diese Erscheinung hat zur Folge, daß eine Gasreinigungsanlage, bei der die einzelnen Teile der Sprühentladung von Gas mit verschiedenem Staubgehalt durchströmt werden, in den verschiedenen Teilen nicht gleichmäßig arbeitet. Unterschiede im Staubgehalt werden aber bei jeder Gasreinigungsanlage notwendigerweise immer dadurch auftreten, daß die zuerst durchströmten Teile eine gewisse Menge Staub niederschlagen.
Gasreinigungsanlagen mit vom Gaseintritt bis zum Gasaustritt gleichmäßig ausgeführten Elektroden sind daher für die Abscheidung ungünstig. Solche Apparaturen müssen zweckmäßig in den verschiedenen Teilen mit voneinander verschiedenen Spannungen betrieben werden. Für jeden Behandlungsabschnitt der Gasreinigungsanlage gibt es nämlich offenbar einen günstigsten Wert der Elektrodenspannun-. Diese Spannung muß für die im Gasstrom vorn liegenden Teile höher sein als für die weiter hinten liegenden Behandlungsabschnitte. Ein und dieselbe angelegte Spannung kann also für die vorderen Teile der Apparatur noch zu niedrig sein, um genügend starkes Sprühen zu bewirken, während sie in den hinten liegenden Teilen der Anlage schon Überschläge erzeugt. Man kann diesen Umständen Rechnung tragen dadurch, daß man in den einzelnen Stufen der Gasreinigungsanlage verschieden hoheKlemmenspannungen verwendet, sei es, daß man mit mehreren Elektrizitätsquellen von verschiedener Spannung arbeitet, sei es, daß man bei Verwendung einer einzigen Elektrizitätsquelle die verschiedenen Spannungen durch Abzweigen von Widerständen herstellt. Ferner kann man den Einflüssen der Rahmladung durch einen im Sinne des Gasstroms gesetzmäßig wachsenden Elektrodenabstand Rechnung tragen.
Nach der Erfindung wird den aus der Raumladung sich ergebenden Schwierigkeiten dadurch abgeholfen und eine wesentliche Verbesserung der Abscheidungswirkung gegenüber Apparaturen der bisher bekannten Art dadurch herbeigeführt, daß die Sprühelektroden innerhalb der Anlage verschieden aus-eführt oder ein-estellt werden, und zwar in der Art, daß die im Sinne des Gasstroms hinten liegenden Sprühelektroden immer wachsendes Minimumpotential und zugleich auch wachsendes Überschlagspotential erhalten. Hierdurch läßt sich bei einer bestimmten, an die ganze Apparatur. angelegten Spannung erreichen, daß der von Staubgas durchströmte Apparat ih allen seinen Teilen gleichmäßig sprüht und die Abscheidung in den einzelnen Stufen gleichmäßig stark wird. Die geforderte Verschiedenheit der Sprühelektroden kann dadurch erzielt werden, daß z. B. Sprühdrähte von verschiedener Stärke verwendet werden, in den vorderen Teilen der Apparatur sehr feine und dünne, nach rückwärts solche von zunehmender Stärke. Die Auswahl der einzusetzenden Sprühdrahtstärken und; die Art der Stärkeabnahme in den hintereinanderliegenden Elektroden muß der Art und der Geschwindigkeit des zu behandelnden Rohgases angepaßt werden. Weiter können als Sprühelektroden vorn sehr scharfe, nach hinten immer stumpfere Spitzen Verwendung finden. Bei Spitzen sowohl wie bei Sprühdrähten, wie auch bei beliebigen Ausführungsformen der Sprühelektroden von verschiedenem Minimum -potential kann der Elektrodenabstand in der ganzen Anlage konstant sein, oder er kann in an sich bekannter Weise nach hinten zunehmen, derart, daß die Verschiedenheit der Sprühelektroden zusammen mit der Verschiedenheit der Elektrodenabstände günstiges und gleichmäßiges Sprühen an allen Stellen der Anlage ergibt.
Minimumpotential und Überschlagspotential der Sprühelektroden sind in an sich bekannter Weise dadurch veränderlich, daß die Sprühorgane z. B. in einstellbarer Weise teilweise umgeben werden mit auf gleichem Potential befindlichen Leitern ohne scharfe Kanten. Eine ähnliche Wirkung wie durch diese Art der Einstellung des Minimumpotentials der Sprühelektroden läßt sich auch dadurch erzielen, daß Sprühelektroden von verschiedener Temperatur und von an sich bekannter Art benutzt werden; z. B. vorn sehr hoch erhitzte Sprühdrähte, nach rückwärts zu immer kältere.
Der technische Vorteil dieses Verfahrens besteht darin, daß es möglich ist, eine Gasreinigungsanlage mit einer einzigen angelegten. Spannung in allen Teilen für günstige Abscheidung nutzbar zu machen.

Claims

PATENTANSPRÜCHE: i. Verfahren zur elektrischen Gasreinigung, dadurch gekennzeichnet, daß Minimumpotential und Überschlagspotential der Sprühelektroden an hintereinan.derliegenden Stellen der Abscheidungsapparatur dem abnehmenden Staubgehalt derartig angepaßt oder eingestellt zunehmen, daß alle Sprühelektroden mit einer und derselben angelegten Spannung günstiges Sprühen und günstige Abscheidung ergeben.
2. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die entsprechende Veränderlichkeit der Sprühelektroden durch Verwendung von Sprühdrähten verschiedener Dicke bewirkt wird.
3. Verfahren nach Anspruch i, gekennzeichnet durch die Verwendung von Spitzen verschiedener Schärfe als Sprühelektroden. q.. Verfahren nach Anspruch i, gekennzeichnet durch die Verwendung verschieden stark geheizter Sprühelektroden.