DE681015C

DE681015C - Doppelseitige Mosaikplatten, insbesondere fuer Photomosaiks in Bildzerlegerroehren, und Verfahren zur Herstellung derselben

Info

Publication number: DE681015C
Application number: DEF81322D
Authority: DE
Inventors: Dr Heinrich Struebig
Original assignee: Fernseh GmbH
Current assignee: Robert Bosch Fernsehanlagen GmbH
Priority date: 1936-06-18
Filing date: 1936-06-18
Publication date: 1939-09-29
Also published as: NL49963C; GB497018A; FR823220A

Description

Doppelseitige Mosaikplatten, insbesondere für Photomosaiks in Bildzerlegerröhren, und Verfahren zur Herstellung derselben Die Erfindung betrifft eine Masaikplatte mit durchgehenden Mosaikelektroden, wie sie besonders für Photomosaiks in Fernsehbildzerlegerröhren verwendet wird.
Beim sogenannten zweiseitigen Ikonoskop erfolgt die Belichtung der Mosaikplatte von der einen, die Abtastung durch den Kathodenstrahl von der anderen Seite. Die Mosaikelektroden, die sich bei der Belichtung photoelektrisch aufladen und bei der Abtastung wieder entladen, müssen auf beiden Seiten der Trägerplatte eine leitende Fläche aufweisen: Außerdem muß die Platte mit einer zusammenhängenden leitenden Gegenelektrode für sämtliche Mosaikelektroden versehen sein.
Die Herstellung einer solchen Mosaikplatte machte bisher erhebliche Schwierigkeiten, da die quer durch die Platte hindurchgehenden Mosaikelektroden in der Regel einzeln eingesetzt werden mußten. Bei zunehmender Feinheit des Rasters, wie sie in der Weiterentwicklung des Fernsehens liegt, würde nach diesem Verfahren der Arbeitsaufwand für eine Mosaikplatte untragbar hoch werden.
Die Erfindung gibt einen Weg an, wie eine derartige Mosaikplatte auf einfache Weise mit beliebig hoher Rasterfeinheit hergestellt werden kann. Der Arbeitsaufwand ist dabei unabhängig von der Zahl der Rasterelemente, da diese nicht mehr einzeln, sondern gleichzeitig hergestellt werden.
Gemäß der Erfindung wird eine durchlochte Isolierplatte auf der einen Seite mit einer Hilfsschicht versehen, dann werden die Mosaikelemente durch Bedampfen der anderen Seite hergestellt, und schließlich wird die Hilfsschicht wieder entfernt. Während bei den bekanntgewordenen Mosaikplatten die einzelnen Elektroden senkrecht zur Platte ihre größte Ausdehnung besaßen, werden die Elektroden im vorliegenden Fall in der Regel aus dünnen, parallel zur Platte an dieser haftenden Schicht mit nur mäßiger mechanischer Festigkeit bestehen. Als Material für die Isolierplatte wird zweckmäßig eine Glimmer-oder Glasfolie verwendet, die im Bedarfsfall auf einer Seite z. B. durchAufdampfen metallisiert wird.
Die in der Platte notwendigen Löcher können z. B. durch Stanzen hergestellt werden. Zweckmäßig werden die Löcher jedoch nicht einzeln, sondern ebenfalls gleichzeitig hergestellt. Dies kann durch ritzen geschehen, wobei die stehenbleibenden Teile abgedeckt werden. Ein besonders vorteilhaftes Verfahren besteht in der Verwendung eines Strahlgebläses, welches z. B. mit Siliciumcarbidpulver betrieben wird. Zwischen dem Gebläse und der Platte wird dabei ein Netz angeordnet. Die Teilchen des Siliciumcarbidpulvers können dann nur durch die Maschen des Netzes auf die Platte gelangen. Sie werden mit so großer Geschwindigkeit auf diese gerichtet, daß die Platte durchschossen wird. Es wurde gefunden, daß auf die Weise sehr regelmäßige Löcher in einer Glimmerplatte erzeugt werden können, ohne daß das stehenbleibende Material splittert. An Stelle des Netzes kann natürlich jede andere Schablone verwendet werden, die die erforderlichen Löcher aufweist, jedoch die nicht zu bestrahlenden Teile der Platte abdeckt.
Zur Aufdampfung der Mosaikelektroden wird auf der der Strahlenquelle abgewandten Seite der Isolierplatte eine wieder entfernbare Hilfsschicht, z. B. mittels einer Kollodiumlösung angebracht. Nach Entfernung dieser Hilfsschicht weist die :Mosaikelektrode nach beiden Seiten der Platte eine leitende Fläche auf.
Die Erfindung wird an Hand der Abbildungen näher erläutert, die als Beispiel einen sehr kleinen Teil einer Mosaikplatte gemäß der Erfindung im Querschnitt zeigt.
Die Abb. i und 2 stellen zwei Stadien während des erfindungsgemäßen Herstellungsganges dar, während in Abb. 3 die fertige Platte gezeichnet ist.
Mit i ist die Trägerplatte, die aus einer Glimmerfolie bestehen möge, bezeichnet. 2 sind einander benachbarte Drähte eines Netzes. Zunächst wird auf der Platte i durch Aufdampfenvon oben einezusammenhängende Metallschicht 3 erzeugt (Abb. i). Sodann wird die Platte von unten her durch das Netz 2 hindurch mit Siliciumcarbidpulver beschossen, so daß an den Stellen q. in Abb. 2 Löcher entstehen. Es wurde gefunden, daß die so entstehenden Löcher wesentlich kleiner sind als die COffnungen des Netzes. Nach der Durchlochung geht die zusammenhängende Metallschicht 3 nicht mehr ganz bis zum Rand des Loches, sondern hört in gewisser Entfernung vor dem Rand auf. Vielfach entsteht auch bei derDurchlochung ein Gratrand, welcher verhindert, daß die Metallisierung bis an den Rand des Loches stehenbleibt.
Nunmehr wird auf der metallisierten Seite eine dünne Kollodiumschicht 6 aufgetragen, die auch die Löcher überdeckt. Als nächster Arbeitsgang wird von unten her ein Metall aufgedampft, und zwar wiederum durch ein Netz oder eine andere geeignete Schablone. Am besten erfolgt die Aufdampfung durch dasselbe Netz wie die Durchlöcherung, so daß das Netz während des ganzen Herstellungsganges der Platte anliegen kann und nur gegebenenfalls während des Auftragens der Kollodiumschicht abgehoben zu werden braucht. Es entstehen nunmehr lauter voneinander und gegen die Metallisierung 3 isolierte Mosaikelemente 5, die die Löcher abdecken (Abb. :2).
Werden nunmehr die Kollodiumschicht (z. B. durch Auflösung in Aceton) und das Netz entfernt, so wird eine betriebsfertige und allen Anforderungen genügende Mosaikplatte erhalten (Abb. 3). Durch die Verwendung von Glimmer wird dabei noch der Vorteil erhalten, daß beim Betrieb keine nachträgliche Gasabgabe zu befürchten ist. Eine entsprechend hergestellte Mosaikplatte ist natürlich auch bei einseitigen Ikonoskopen verwendbar. In diesem Fall kann die Hilfsschicht 6 auf der Platte verbleiben.
Um das Netz während der Herstellung der Platte fest gegen diese zu drücken, wird zweckmäßig eine Spannvorrichtung benutzt. Am einfachsten werden Glimmerplatte und Netz gegen eine Paßfläche gedrückt, die eine geringe Wölbung aufweist. In der Zeichnung würde eine solche Paßfläche von unten her angedrückt werden.
Die bei Verwendung der Mosaikplatte in Bildzerlegerröhren erforderliche Gegenelektrode braucht nicht als zusammenhängende Metallschicht auf oder auch innerhalb der Isolierplatte ausgebildet zu. sein. Es kann auch das für die Herstellung benutzte Netz nach Beendigung des Verfahrens auf die andere Seite der Platte umgesetzt und an dieser befestigt werden. In diesem Fall kann eine besondere zusammenhängende Metallisierung fortfallen, da das Netz als Gegenelektrode für alle Mosaikelektroden dient.
Bei Photomosaiks für Bildzerlegerröhren wird die eine Oberfläche der Mosaikelektroden mit einem stark photoelektrischen Material, vorzugsweise Caesium, aktiviert, während die andere, vom Kathodenstrahl bestrichene Fläche zweckmäßig aus einem anderen Metall gebildet wird, welches weder selbst noch als Oxyd -Caesium bindet. Hierfür kommt besonders Nickel in Frage. Es werden dann bei der Aufdampfung zwei aus verschiedenen Metallen, z. B. Silber und Nickel, bestehende Schichten unmittelbar aufeinander erzeugt. Die Silberschicht wird dann oberflächlich oxydiert und mit Caesium aktiviert.

Claims

PATENTANSPRÜCHE: i. Verfahren zur Herstellung von doppelseitigen Mosaikplatten, insbesondere für Photomosaiks in Bildzerlegerröhren, dadurch gekennzeichnet, daß eine durchlochte Isolierplatte auf der einen Seite mit einer Hilfsschicht versehen, dann die Mosaikelemente durch Bedampfen der anderen Seite, vorzugsweise durch eine der Lochung entsprechende Schablone hindurch, hergestellt und schließlich die Hilfsschicht wieder entfernt wird.
2. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß als Hilfsschicht eine Kollodiumschicht verwendet wird, die nach Herstellung des Mosaiks z. B. durch Auflösen in Aceton entfernt wird.
3. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die Aufdampfung der Mosaikelemente durch ein Netz als Schablone hindurch vorgenommen wird. q.. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß bei der Herstellung von einer homogenen Isolierschicht, z. B. eine Glimmer- oder Glasfolie, ausgegangen. wird. 5. Verfahren nach Anspruch q., dadurch gekennzeichnet, daß die Löcher in der Isolierplatte mittels eines Strahlgebläses, welches beispielsweise mit Siliciumcarbid betrieben wird, derart hergestellt werden, daß zwischen Gebläse und Isolierplatte eine Schablone angeordnet ist. 6. Verfahren nach Anspruch 1, 3 und 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Durchlochung der Isolierplatte und die Aufdampfung der Elemente durch dieselbe Schablone vorgenommen wird. 7. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Isolierplatte vor der Durchlochung auf der einen Seite z. B. durch Aufdampfung mit einer zusammenhängenden, später als Gegenelektrode dienenden Metallschicht versehen wird. B. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß nacheinander zwei aus verschiedenen Metallen, z. B. Nickel und Silber, bestehende Schichten aufgedampft werden. g. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Netz während des ganzen Herstellungsganges der Glas-oder Glimmerfolie dicht anliegt und nur während der Auftrag ung der Kollodiumschicht gegebenenfalls abgehoben wird. io. Verfahren nach Anspruch g, gekennzeichnet durch die Verwendung einer z. B. aus einer gewölbten Paßfläche bestehenden Spannvorrichtung, mittels derer das Netz gegen die Folie gedrückt wird. i i. Mosaikplatte für Bildzerlegerröhren, hergestellt nach einem der Verfahren der Ansprüche i bis io. 12. Mosaikplatte nach Anspruch i i, dadurch gekennzeichnet, daß das bei der Herstellung verwendete Netz nachFertigstellung der :Platte als Gegenelektrode verwendet wird. 13. Mosaikplatte nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß das Netz nach Fertigstellung der Platte auf der anderen Plattenseite befestigt ist.