DE69519064T2 - Schnelle Abtastspotkorrektor in einem Rasterabtastpolygon - Google Patents

Schnelle Abtastspotkorrektor in einem Rasterabtastpolygon

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DE69519064T2 DE1995619064 DE69519064T DE69519064T2 DE 69519064 T2 DE69519064 T2 DE 69519064T2 DE 1995619064 DE1995619064 DE 1995619064 DE 69519064 T DE69519064 T DE 69519064T DE 69519064 T2 DE69519064 T2 DE 69519064T2
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Description

  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Rasterabtastsystem und insbesondere auf ein Abtastsystem, das eine ROS mit tangential versetztem, überfülltem Polygon und eine Einrichtung zum Erzielen einer Spot- bzw. Fleckgrößenkorrektur besitzt.
  • Drucker nach dem Stand der Technik, die eine Rasterausgabeabtasteinrichtung (ROS) verwenden, verwenden typischerweise auch ein sich drehendes Polygon, das flache, reflektive Oberflächen, oder Facetten, parallel zu der Rotationsachse des Polygons haben. Lichtstrahlen werden von einer Lichtquelle, wie beispielsweise einem Heliumneonlaser oder einem Diodenlaser, emittiert. Die Lichtstrahlen werden durch Vorpolygon- Konditionierungsoptiken hindurch gerichtet, entsprechend Bildeingabesignalen moduliert und auf die Facettenoberflächen des sich drehenden Polygons gerichtet. Die Strahlen werden durch ein Nachpolygon-Konditionierungslinsensystem reflektiert und über die volle Prozeßbreite einer photoempfindlichen Bildebene abgetastet, um bildweise Abtastlinienbelichtungen zu bilden. Bei diesen ROS-Systemen nach dem Stand der Technik sind die Vorpolygon-Konditionierungsoptiken entweder in einem Design mit unterfüllter Facette, wo die Lichtstrahlen, die gegen jede Polygonfacette gerichtet sind, nur einen Bereich der Facette beleuchten, oder in einem Design mit überfüllter Facette, wo die Lichtstrahlen vollständig jede Facette und einen kleinen Bereich angrenzender Facetten beleuchten, eingesetzt. Wenn man die zwei Designs vergleicht, kann in einem überfüllten Design die Facettengröße, die erforderlich ist, um eine gegebene Fleckgröße an der Bildebene zu produzieren, stark verringert werden, was ermöglicht, daß viel mehr Facetten auf dem Polygon mit demselben Durchmesser aufgenommen werden. Dies ermöglicht wiederum dem Abtastsystem, bei einer relativ niedrigen Rotationsrate zu arbeiten, was die Verwendung von Polygon-Motoren und Polygon-Motortreibern mit geringerer Leistung (und kostengünstiger) ermöglicht. Dieser Vorteil wird teilweise von zwei Faktoren kompromittiert: niedrige Durchsatzeffektivität und Fleck- bzw. Spot-Breitenvariationen in der Breite der Flecke, die die Abtastlinie an der Bildebene bilden. Um die niedrige Effektivität (typischerweise 10 bis 15%) zu tolerieren, ist gewöhnlich eine Laserdiode mit einer höheren Leistung erforderlich. Gemäß der Erfindung wird die Fleckgrößenvariation durch Modifizieren eines bekannten Korrekturschaltkreises für ein nicht gleichförmiges Strahlen korrigiert, der sowohl bei einem unterfüllten als auch bei einem überfüllten Design anwendbar ist. In jedem System ändert sich der Strahlfleckgrößendurchmesser in der Richtung einer Abtastung von dem Start einer Abtast-(SOS)-Position zu dem Ende einer Abtast-(EOS)-Position aufgrund der Änderung in der erscheinenden Breite der Facette, die dem Lichtstrahl ausgesetzt wird. Alternativ angegeben ist, wenn sich das Polygon dreht und da die Facette die begrenzende Apertur in der Schnellabtastrichtung definiert, die Breite des Flecks an einer Abtastlinie an der Photorezeptorebene von der erscheinenden Breite der Facette abhängig. Die Variation in dem Fleckgrößendurchmesser in der Schnellabtastrichtung kann bis zu 20% groß sein. Eine solche Variation gestaltet das tangential versetzte, überfüllte Design für Hochqualitäts-ROS-Systeme nicht akzeptierbar. Der Abtaststrahl zeigt eine ihm eigene Strahlintensitätsvariation, die sich durch eine Abnahme der Beleuchtungsintensität an beiden Enden der Abtastung manifestierte (ein Zustand, der herkömmlich als "frown" bzw. "finster" bezeichnet ist). "Frown" bzw. eine Finsternis ist nicht die einzige Ursache von Ungleichmäßigkeiten in der Intensität in dem Ausgabedruck. Andere mögliche Quellen einer Ungleichförmigkeit sind Ladungs- und Entwicklungsvariationen innerhalb eines xerographischen Drucksystems; Ungleichförmigkeiten in der Polygonfacettenreflektivität, Laserleistungsverschlechterung, Verlust der Modulatoreffektivität, und dergleichen. Verschiedene Techniken sind im Stand der Technik zum Erreichen eines bestimmten Grads einer Kompensation für diese Schreibstrahlintensitätsvariationen vorhanden. Eine Technik setzt den Laser in eine Rückkopplungsschleife ein und steuert dann elektronisch den Anregungspegel. Eine andere Technik, die in der US-A-4,400,740 offenbart ist, beschreibt ein System zum Kombinieren von Videobildsignalen mit Strahlintensitätssignalen, um einen Eingang zu einem Modulatoranschluß zu schaffen, der dann die Strahlintensität reguliert. Eine noch andere Technik ist in der US-A-4,727,382 offenbart, wo eine Intensitätssteuervorrichtung für einen Laser in einem Laserstrahldrucker beschrieben ist. Die Intensitätssteuervorrichtung speichert eine erste Darstellung einer momentanen Lichtintensität des Lasers während seines Nicht-Abtastmodus und speichert weiterhin eine zweite Darstellung einer vom Benutzer ausgewählten Bilddichte für eine Hardkopie. Siehe Spalte 1, Zeile 67, bis Spalte 2, Zeile 29. Es ist auch nach dem Stand der Technik bekannt, die Laserquelle zu dem Zeitpunkt der Herstellung zu evaluieren und zu programmieren oder "einzubrennen", und zwar in einem ROM, um eine Korrektur eines "Scheinens" in Bezug auf das Ausgangs signal zu erzeugen, um die bestimmte "finstere" Ausgangsintensitätsvariation zu kompensieren. Ein anderer Typ einer Korrektur des Scheins ist in der US-A-4,978,185 offenbart. Die Technik, die darin offenbart ist, korrigiert nicht, während sie eine adäquate, anfängliche Kompensation erzielt, andere Ungleichförmigkeitsfaktoren, die vorstehend beschrieben sind, die Änderungen über die Zeit verursachen. Während die Laserquelle einen neuen ROM haben könnte, in den eine Korrektur zu einer späteren Zeit eingebrannt ist, ist dies eine kostenaufwendige Lösung und erfordert ein Entfernen eines Bereichs einer Unteranordnung. Ein noch anderer Typ einer Scheinkorrektur ist in der US-A-5,165,074 beschrieben. In diesem Patent wird ein Photorezeptor in einem sich variierenden Testmuster belichtet, das entwickelt wird und auf einen Ausgabedruck übertragen wird. Der sich ergebende Druck besitzt eine Vielzahl von Testmusterbändern, wobei jedes Band einem spezifischen Strahlintensitätskorrektursignal zugeordnet ist. Ein Band einer optimalen Dichte wird identifiziert und ein entsprechendes Digitalstrahlintensitätskorrektursignal wird an den Laser angelegt.
  • Eine noch andere Schnellabtastgeschwindigkeitsgrößenkorrektur ist in der parallel anhängigen, veröffentlichten EP-A-0 596 719 offenbart, in der die Korrektur durch Modulieren der Impulsbreite der Treibersignale, die an die Laserstrahlquelle angelegt sind, vorgenommen wird.
  • Keine der vorstehenden Lösungen nach dem Stand der Technik ist auf eine Korrektur von Schnellabtastfleckgrößenvariationen in einem überfüllten System gerichtet.
  • Es ist deshalb eine Aufgabe der Erfindung, dieses Problem zu lösen.
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung, wie sie im Anspruch 1 angegeben ist, wird ein Verfahren zum Korrigieren von Ungleichförmigkeiten in einem Rasterausgabeabtasteinrichtungssystem geschaffen, das die Schritte aufweist:
  • Vorspannen eines photoempfindlichen Mediums auf einen vorbestimmten, xerographischen Vorspannungspegel;
  • Drehen eines Polygons, das eine Vielzahl von verspiegelten Facetten besitzt;
  • Strahlen eines in der Intensität variablen, kohärenten, kollimierten Lichtstrahls bei einem ersten Beleuchtungspegel entlang einem ersten Pfad;
  • Beleuchten sowohl einer ersten Facette als auch einer zweiten Facette der Vielzahl verspiegelter Facetten mit dem kollimierten Lichtstrahl so, um einen Reflexionslichtstrahl von der ersten Facette zu produzieren, der eine Intensität besitzt, die von einem Winkel zwi schen dem ersten Pfad und der ersten Facette (siehe EP-A-0 596 719) abhängig ist, gekennzeichnet durch
  • Erzeugen einer Abtastlinie eines latenten Bilds, die eine Breite auf dem photoempfindlichen Medium durch Fokussieren des reflektierten Lichtstrahls auf das Medium hat, um einen Fleck zu bilden, der eine Fleckbreite besitzt, die über das Medium abgetastet wird;
  • Messen der Fleckbreite an dem ersten Beleuchtungspegel entsprechend dem xerographischen Vorspannungspegel; und
  • Variieren des Beleuchtungspegels, wenn der Fleck abgetastet wird, derart, daß die Breite der Abtastlinie im wesentlichen konstant ist.
  • Genauer gesagt wird ein im Schnellabtastkalibrierungslicht moduliertes Muster durch ein Laser-ROS-System erzeugt. Die Schnellabtastfleckbreite wird entlang einer Vielzahl von Punkten entlang der Abtastlinie durch CCD-Kameras oder andere Strahlbreitenmeßvorrichtungen gemessen. Die Beleuchtungsprofilbreite für jeden Strahl bei dem xerographischen (Photorezeptor) Vorspannungsbeleuchtungspegel wird gemessen; die maximale Strahlbreite wird bestimmt und der Beleuchtungs- bzw. Belichtungspegel an allen Punkten entlang der Abtastlinie wird erhöht, um sie gleich zu der maximalen, erfaßten Strahlbreite zu machen.
  • Die Erfindung wird nun anhand eines Beispiels unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen beschrieben, in denen:
  • Fig. 1 zeigt eine Draufsicht eines überfüllten ROS-Drucker-Designs (Stand der Technik).
  • Fig. 2 zeigt einen Ausdruck eines Abtaststrahlbeleuchtungspegels über eine Abtastlinie auf der Oberfläche eines Photorezeptors, der eine Scheinkorrektur nach dem Stand der Technik darstellt, die einen Beleuchtungspegel korrigiert.
  • Fig. 3 stellt Profile von zwei übereinandergelegten Strahlen dar, gemessen in der Schnellabtastrichtung in Bezug auf einen xerographischen Vorspannungs- bzw. Bias- (FWXB)-Pegel durch CCD-Kameras in der Bildebene.
  • Fig. 4 stellt Profile von zwei übereinandergelegten Strahlen dar, gemessen in der Schnellabtastrichtung in Bezug auf den Voll-Breiten-Halb-Max-(FWHM)-Pegel.
  • Fig. 5 stellt das System der Fig. 1 dar, das so modifiziert ist, um in einem Schnellabtast- Fleckbreiten-Korrekturkalibrierungsmodus zu arbeiten.
  • Das Fleckgrößenvariationsproblem wird zunächst unter Bezugnahme auf Fig. 1 beschrieben. Fig. 1 stellt ein Rasterabtastsystem nach dem Stand der Technik dar, das ei ne Strahlerzeugungseinrichtung 1 umfaßt. Die Einrichtung 1 weist einen Diodenlaser 6 und eine kollimierende Linse 7 auf. Der Laser 6 ist selbstmodulierend und der modulierte Ausgangslichtstrahl stimmt mit den Informationen überein, die in einem Binärdatenbildsignal enthalten sind, das von einer Bildverarbeitungseinheit in einem elektronischen Untersystem (ESS) 13 geschickt ist. Die Bildsignale können von einer Speicherplatte oder einer Rastereingabeabtasteinrichtung (RIS) oder dergleichen ausgehen.
  • Der modulierte, divergierende Ausgangsstrahl von dem Laser 6 wird durch eine Linse 7 kollimiert und durch einen Spiegel 2 (optional) in eine Vorpolygonlinse 3 abgelenkt. Die Linse 3 ist typischerweise eine Zylinderlinse und dient dazu, den Strahl mit einer kontrollierten Energieverteilung auf die Facetten eines Polygons 4 zu fokussieren. Das Polygon 4 ist so ausgelegt, daß es eine große Anzahl von Facetten besitzt, die mit einer Architektur eines überfüllten Designs konsistent sind. Wie in Fig. 1 dargestellt ist, beleuchtet in der Architektur mit überfülltem Design der Strahlungsenergiestrahl zumindest teilweise mehr als eine Facette ungeachtet der umdrehungsmäßigen Position des Polygons 4. Mit der Drehung des Polygons 4 in der angezeigten Richtung wird ein Lichtstrahl von den Facetten des Polygons 4 reflektiert und führt durch eine Nachpolygon-Linseneinheit 5 hindurch, die den Strahl über die Breite eines aufgeladenen Photorezeptors 10, in einer schnellen Abtastrichtung, als eine Abtastlinie 11 abbildet. Eine Nachpolygon-Abbildungslinse 5 kann eine torroidale f Abbildungslinse, die eine Wobbel- bzw. Taumelkorrektur in der Querabtastrichtung durchführt, oder eine herkömmliche fθ Abbildungslinse und einen Zylinderspiegel (nicht dargestellt) umfassen. Der Photorezeptor 10 wird durch Einrichtungen, die nicht dargestellt sind, auf einen bestimmten Ladungsvorspannungspegel aufgeladen. Für einen DAD-Prozeß (Discharged Area Development - Entwicklung eines entladenen Flächenbereichs) wird der entladene Flächenbereich des Photorezeptors (solche Flächenbereiche, die durch eine "Ein" Zeit der Pixel abgebildet sind) später durch eine Entwicklungseinrichtung entwickelt, die Toner aufbringt, so daß der Photorezeptor ein visuell wahrnehmbares Bild der Daten trägt, das dann auf das Ausgabemedium übertragen werden kann. Die Photorezeptorladung wird (in einem DAD-System) über Pixel in Flächenbereichen entlang der Abtastlinie entladen, wo der Laser eingeschaltet ist. Die US-A-4,833,503, 4,611,901 und 4,791,452 offenbaren ein herkömmliches, xerographisches System, das dazu verwendet werden kann, ein latentes Bild, das auf einem Photorezeptor gebildet ist, aufzuladen, zu entwickeln und zu übertragen. Herkömmliche Ladungspegel betragen un gefähr 800-900 Volt; eine Photorezeptor- (oder xerographische) Vorspannung von ungefähr 200 Volt wird durch ein elektrisches Feld erzeugt, das zwischen dem Entwicklungseinrichtungsgehäuse und dem Photorezeptor angelegt ist. Dieser Vorspannungspegel wird als der xerographische Vorspannungspegel bezeichnet. Die Belichtung, die erforderlich ist, um den Photorezeptor von seinem anfänglichen Ladungspegel auf den xerographischen Vorspannungspegel zu entladen, wird als der xerographische Vorspannungsbelichtungspegel bezeichnet.
  • Wie vorstehend beschrieben ist, ist ein Problem, das in einer ROS mit überfülltem Polygon vorhanden ist, dasjenige, daß sich die erscheinende Breite der Facette, und deshalb die Breite des Strahls in der Schnellabtastrichtung, wenn durch eine f Linse gesehen wird, entlang der Abtastlinie ändert, wenn sich die Polygonfacette von der SOS zu der EOS dreht; z. B. ist in Fig. 1 WSOS nicht gleich zu WEOS (WSOS ist breiter). Da die Facette die limitierende Apertur in der Schnellabtastrichtung definiert, ist die Breite des Flecks an dem Photorezeptor von der erscheinenden Breite der Facette abhängig. Da sich die erscheinende Facettenbreite ändert, wenn sich das Polygon von SOS zu EOS dreht, variiert sich die Fleckgröße an der Photorezeptorebene, wenn bei voller Breite, halbem Maximum (FWHM) gemessen wird, entlang der Abtastlinie. Diese Variation in FWHM kann bis zu 20% betragen. Sie ist der Designarchitektur eigen und kann nicht wesentlich durch den Linsen-Designer verbessert werden. Diese Variation in FWHM kann die Auswahl dieser ROS-Architektur nicht akzeptierbar für Hochqualitäts-ROS-Systeme machen. Das FWHM kann sich auch aufgrund anderer Faktoren in dem System, wie beispielsweise Ausrichtungstoleranzen, Fabrikationstoleranzen und Aberrationen, variieren. Das FWHM wird irgendwo in der Abtastung ein Maximum sein. Um dieses Problem in einem xerographischen System zu korrigieren, und gemäß den Prinzipien der vorliegenden Erfindung, ist das optische System so ausgelegt, daß das größte FWHM entlang der Abtastlinie die Schnellabtast-FWHM-Spezifikation erfüllt, und eine Modifikation des derzeit eingesetzten Systems mit Scheinkorrektur (Belichtungsgleichförmigkeit) in dem ESS wird verwendet, um die Fleckgrößengleichförmigkeit bei dem xerographischen Vorspannungspegel beizubehalten, wie nachfolgend beschrieben ist.
  • Eine Scheinkorrektur ist eine ausreichend bekannte Technik, die in Polygon-ROS- Systemen verwendet wird, um eine Beleuchtungsungleichförmigkeit eines im Raum erzeugten Bilds über die Abtastlinie zu korrigieren. Dies wird durch "Kalibrieren" der ROS durch Messen des Beleuchtungspegels an verschiedenen Punkten (zum Beispiel 20) entlang der ROS-Abtastlinie durchgeführt. Wie Fig. 2 zeigt, werden diese Messungen mit dem Laser 6 kontinuierlich "eingeschaltet" bei einem festgelegten Ausgangspegel vorgenommen, und zwar unter Verwendung eines großflächigen, schnellen Detektors in der Bildebene. Das Beleuchtungsprofil über die Abtastlinie 11 aufgrund des kontinuierlich auf "ein" stehenden Lasers ist als die "Beleuchtungsreferenzkurve" bekannt. Der minimale Beleuchtungspegel unter den 20 Punkten entlang der Abtastlinie wird dann bestimmt. Die Reduktion in der Beleuchtung, die notwendig ist, um den Beleuchtungspegel herunter auf diesen niedrigsten Pegel an jedem der anderen 19 Positionen entlang der Abtastlinie zu bringen, wird dann berechnet. Diese berechneten Reduktionswerte werden einem Korrekturschaltkreis in der ESS 13 (Fig. 1) zugeführt, die Scheinkorrektur-Schaltkreissignale zu dem Laser 6 hin erzeugt. Der Ausgang des Lasers an jedem der verbleibenden 19 Abschnitte der Abtastlinie wird verringert, um eine gleichförmige Beleuchtung entlang der Abtastlinie zu erreichen. Eine Kurve, die die Reduktionsfaktoren an jedem Punkt entlang der Abtastung darstellt, bezeichnet als der Korrekturfaktor "alle eingeschaltet", ist auch in Fig. 2 dargestellt. Diese Technik korrigiert die Beleuchtungsungleichförmigkeitsvariationen entlang der Abtastlinie, kompensiert allerdings nicht Ungleichförmigkeiten in der Fleckgröße über die Abtastlinie.
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung wird die Scheinkorrekturtechnik nach dem Stand der Technik so modifiziert, um Breitenvariationen des xerographischen Schnellabtastflecks entlang der Abtastlinie zu korrigieren, anstelle von Beleuchtungsungleichförmigkeitsvariationen eines räumlichen Bilds (diese Breitenvariationen des xerographischen Schnellabtastflecks können durch Beleuchtungsungleichförmigkeiten eines räumlich erzeugten Bilds verursacht sein). Diese Korrektur wird unter Verwendung eines Schnellabtastmusters vorgenommen, das aus "einem Ein, verschiedenen Aus" besteht, und zwar für das Kalibrierungsmuster für ein xerographisches DAD-System. (Ein "eines Aus, verschiedene Ein" Muster würde für ein xerographisches CAD-System verwendet werden.) Dieses Muster "eines Ein, verschiedene Aus" wird sich jede Abtastlinie wiederholen. Die "Referenzkurve" für das Muster "eines Ein, verschiedene Aus" wird durch Messen des dynamischen Schnellabtastbeleuchtungsprofils des Musters an verschiedenen Punkten entlang der Abtastlinie (zum Beispiel 20) erhalten. Für ein spezifisches Beispiel einer Schnellabtastfleckbreitenkorrektur 20 wird das ROS-System, das in Fig. 1 dargestellt ist, in einen Kalibrie rungsmodus, dargestellt in Fig. 5, versetzt. In diesem Modus wird ein Videodateneingang an den Laser 6 angelegt, der einen Laserausgang mit "ein Pixel Ein, verschiedene Pixel Aus" liefert. Verschiedene CCD-Kameras 16 sind in der Bildebene positioniert, um eine relative Fleckgrößenintensität zu messen, z. B. um ein dynamisches Schnellabtastbeleuchtungsprofil an verschiedenen Punkten entlang der Abtastlinie zu liefern. Fig. 3 stellt ein typisches Profil von zwei übereinandergelegten Strahlen dar, einer an der Mitte einer Abtastung (COS) und der andere an dem Ende einer Abtastung (EOS), mit Strahlbreiten, die in Mikron gemessen sind. Ein Pixelprofil kann herkömmlich mit dem Videodateneingang, eines Ein, verschiedene Aus, gemessen werden. In einem typischen DAD xerographischen Entwicklungssystem werden nur Belichtungen oberhalb des xerographischen Vorspannungspegels entwickelt. Ein typischer Vorspannungspegel von 200 Volt ist in Fig. 3 durch einen relativen Intensitätspegel von 0,2 auf der CCD-Kamera dargestellt. Demzufolge ist der Fleckbreitenparameter, der für das xerographische System relevant ist, die volle Breite des Flecks in der Schnellabtastrichtung an dem xerographischen Vorspannungspegel (bezeichnet als FWXB) und nicht der häufiger angegebene FWHM Pegel. Es ist anzumerken, daß die Schnellabtastbreiten bei dem xerographischen Vorspannungspegel (FWXB) des EOS Profils und des COS (nicht korrigierten) Profils (dargestellt als Breiten A und B jeweils) unterschiedlich sind; zum Beispiel besitzt das nicht korrigierte COS Profil eine geringere Breite (50 Mikron) als das EOS Profil (60 Mikron). Diese Differenz ist typisch für die Situation, die in einem tatsächlichen ROS vorhanden ist. Wie die Fig. 3 zeigt, ändert sich die Schnellabtastbreite des Beleuchtungsprofils bei FWXB mit dem Beleuchtungspegel, da der xerographische Vorspannungspegel ein festgelegter Pegel ist, bestimmt durch die Photorezeptorempfindlichkeit und die Steuerspannungen für den xerographischen Prozeß, allerdings unabhängig von dem Peakwert des Beleuchtungsprofils. Um die vorstehende Beschreibung zu erläutern und wiederum unter Bezugnahme auf Fig. 3, ist die Strahlbreite B bei FWXB des COS Pixelprofils (unterbrochene Linie) unkorrigiert ein gewisser Wert (beispielsweise 50 Mikron), während die Strahlbreite A des korrigierten COS Profils (punktierte Linie) größer ist (beispielsweise 60 Mikron). Demzufolge ist zu sehen, daß sich FWXB von dem nicht korrigierten zu dem korrigierten Profil ändert, wenn der Peakwert des Beleuchtungsprofils geändert wird. Ein Vergleich mit Fig. 4 zeigt, daß die volle Breite bei dem halben Maximum (FWHM) des nicht korrigierten COS Profils und das FWHM des (korrigierten) COS Profils dieselbe Breite C von 40 Mikron haben, was sich nicht mit dem Beleuchtungspegel ändert. Dies kommt daher, daß FWHM relativ zu dem Peak bzw. Spitzenwert des Beleuchtungsmusters gemessen ist. Demzufolge wird sich, wenn sich die Laserdiodenleistung erhöht, der Peak des Beleuchtungsprofils erhöhen, allerdings bleibt FWHM konstant. Unter Verwendung der vorstehenden Meßtechnik wird die Schnellabtastbeleuchtungsprofilbreite bei FWXB (im Gegensatz zu FWHM) bestimmt, und zwar an jedem der 20 Punkte entlang der Abtastlinie. Ausgänge von den Kameras 16 werden dann zu einem Schnellabtastfleckbreitenkorrekturschaltkreis 20 (Fig. 5) geschickt, der den Scheinkorrekturschaltkreis nach dem Stand der Technik ersetzt. An einem dieser 20 Punkte entlang der Abtastlinie, Pmax, wird die volle Breite bei dem xerographischen Vorspannungspegel des Beleuchtungsprofils, FWXB, ein Maximum sein. Der Beleuchtungspegel an jedem anderen Punkt entlang der Abtastlinie wird dann erhöht, um FWXB an jedem Punkt entlang der Abtastung gleich zu FWXB bei Pm zu machen. Für das Beispiel, das angegeben ist, wird FWXB bei EOS als Pm angenommen. Der Beleuchtungspegel für die Belichtung für das COS Pixelprofil wird auf dasjenige, das durch das Profil mit punktierter Linie in Fig. 3 (COS korrigiert) dargestellt ist, durch den Fleckbreitenkorrekturschaltkreis 20 erhöht, der die Ausgangsleistung der Lichtquelle erhöht. Diese Erhöhung in der Belichtung führt zu einer Erhöhung von FWXB des COS Profils auf denselben Wert wie FWXB des EOS Pixels, das dargestellt ist; z. B. von 50 auf 60 Mikron. Die Beleuchtungspegelerhöhung entlang der Abtastlinie wird durch Erzeugen von Schnellabtastbreitenkorrektursignalen bewirkt, die an den Laser 6 angelegt werden, um die Laserausgangsintensität zu variieren.

Claims (3)

1. Verfahren zum Korrigieren von Ungleichförmigkeiten in einem Rasterausgabeabtasteinrichtungssystem, das die Schritte aufweist:
Vorspannen eines photoempfindlichen Mediums (16) auf einen vorbestimmten, xerographischen Vorspannungspegel;
Drehen eines Polygons (4), das eine Vielzahl von verspiegelten Facetten besitzt;
Strahlen eines in der Intensität variablen, kohärenten, kollimierten Lichtstrahls bei einem ersten Beleuchtungspegel entlang einem ersten Pfad;
Beleuchten sowohl einer ersten Facette als auch einer zweiten Facette der Vielzahl verspiegelter Facetten mit dem kollimierten Lichtstrahl so, um einen reflektierten Lichtstrahl von der ersten Facette zu produzieren, der eine Intensität besitzt, die von einem Winkel zwischen dem ersten Pfad und der ersten Facette abhängig ist, gekennzeichnet durch Erzeugen einer Abtastlinie (11) eines latenten Bilds, die eine Breite auf dem photoempfindlichen Medium durch Fokussieren des reflektierten Lichtstrahls auf das Medium (16) hat, um einen Fleck zu bilden, der eine Fleckbreite besitzt, die über das Medium (16) abgetastet wird;
Messen der Fleckbreite an dem ersten Beleuchtungspegel entsprechend dem xerographischen Vorspannungspegel; und
Variieren des Beleuchtungspegels, wenn der Fleck abgetastet wird, derart, daß die Breite der Abtastlinie im wesentlichen konstant ist.
2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Schritt eines Messens der Fleckbreite den Schritt eines Identifizierens einer maximalen Fleckbreite bei dem ersten Beleuchtungspegel entsprechend dem xerographischen Vorspannungspegel umfaßt und wobei der Schritt eines Variierens des Beleuchtungspegels den Schritt eines Erhöhens des Beleuchtungspegels umfaßt so, daß die Breite der Abtastlinie im wesentlichen dieselbe ist wie die Breite der Abtastlinie, die durch die identifizierte, maximale Fleckbreite produziert ist.
3. Verfahren nach Anspruch 1, wobei das System in einem DAD-Modus arbeitet.
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