DE69720439T2 - Kathodenstrahlröhre mit magnetspule für bildverbesserung - Google Patents

Description

• Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf Elektronenstrahlröhren (CRTs) für Wiedergabesysteme und insbesondere auf derartige Elektronenstrahlröhren, die eine ein Hilfsmagnetfeld erzeugende Spule aufweisen zum Modifizieren der Elektronenstrahlabtastung zum Erzeugen von Wiedergabeverbesserungen.
• Solche Spulen zur Wiedergabeverbesserung sind bekannt. So bezieht sich beispielsweise das US Patent 5.291.102, veröffentlicht in Washburn, auf eine derartige Spule zur Verbesserung der dynamischen Farbtrennung einer CRT-Wiedergabeanordnung.
• Die Verwendung solcher Spulen zum Modulieren der Abtastgeschwindigkeit der Elektronenstrahlen ist ebenfalls bekannt.
• Eine derartige Abtastgeschwindigkeitsmodulation (SVM = scan velocity modulation) hat sich gezeigt als eine sehr effektive Art und Weise, die deutliche Auflösung und die Brillanz von Direkt-Sicht- und von Projektions-CRT-Systemen zu steigern. Im Betrieb sorgen Änderungen in dem elektrischen Strom durch die SVM-Spule, die sich auf das Wiedergabesignal beziehen, dafür, dass die Abtastgeschwindigkeit der Elektronenstrahlen abnimmt wenn die Strahlen durch Begrenzungen zwischen dunklen und hellen Gebieten der Wiedergabe gehen. Dies steigert die Verweilzeit der Elektronenstrahlen am Phosphorschirm, was von einem Zuschauer als eine Verschärfung dieser Grenzen erfahren wird, insbesondere der Grenzen in der vertikalen Richtung.
• SVM wird aber nicht universell für diesen Zweck verwendet, und zwar wegen der relativ hohen Kosten der Hinzufügung eines derartigen Bauteils zu der CRT. Ein großer Teil dieser Kosten wird verursacht durch den Wandler, eine kleine Helmholtz-Spule, die am Hals der CRT angeordnet wird.
• Die allgemeinen Prinzipien, sowie spezifische Entwürfe von SVM- Schaltungen und Wandlerspulen sind bekannt. Siehe dazu beispielsweise die US Patente 5.093.728 (SVM-Steuerschaltung und System zur Vermeidung von Überhitzung); 5. 179.320 (Spule auf Basis eines PCB-Flex-Schaltung, die um den Hals einer CRT geschlungen ist); 5.223.769 (herkömmliche Rahmen- und Drahtspule, am Hals der CRT angeordnet); und die Europäische Patentanmeldung 0592 038 A1 (Spule, getragen durch eine Kunststoffschleife, angeordnet am Hals der CRT).
• Der Entwurf im kommerziellen Gebrauch ist nun der, dass die flexible Spule auf Basis der PCB-Technologie, um den Hals der CRT geschlungen wird. Die Spule ist teuer, insbesondere wegen der Tatsache, dass UL-Sicherheitsregeln für Rauch und Brennbarkeit beachtet werden müssen.
• Weiterhin ist es, trotz der Flexibilität schwer, eine derartige PCB-Spule an der idealen Stelle genau hinter der Ausgangsöffnungen des Elektronenstrahlerzeugungssystems anzuordnen, da eine derartige Stelle dem steilen Übergangsgebiet zwischen dem Hals und dem Trichter der CRT-Hülle entspricht.
• Die in englischer Sprache abgefasste Zusammenfassung der Japanischen Patentanmeldung 63-128530 beschreibt das Bedrucken je einer Hälfte einer SVM-Spule auf der Oberfläche einer Glasperle von einem Paar von diesen Perlen, welche die Elektroden des Elektronenstrahlerzeugungssystems tragen. Während dieser Entwurf das flexible Substrat bei der heutigen Verwendung eliminiert und die Spule näher an die Elektronenstrahlen verlagert, wodurch möglicherweise die Leistungsanforderungen für die Spule verringert werden, hat dieser Entwurf dennoch mehrere wesentliche Nachteile.
• Erstens führt die Anordnung der Spulen auf den Glasperlen oder Multiformen, wie sie auch genannt werden, dazu, dass das Magnetfeld innerhalb des Elektronenstrahlerzeugungssystems erzeugt wird. Dies erfordert eine ausreichende Leistung um den natürlichen magnetischen Abschirmungseffekt der metallenen Teile des Elektronenstrahlerzeugungssystems und die Gefahren der Zerstörung der Fokussierungsleistung des Elektronenstrahlerzeugungssystems, insbesondere des viel verwendeten "In-Line"-Typs eines Elektronenstrahlerzeugungssystems zu überwinden.
• Zweitens zwingt die relativ lange, schmale Form der Multiformen, dass die SVM-Spulenhälften ebenfalls lang und schmal sind, wodurch die Effizienz der Spulenleistung noch weiter aufgeopfert wird.
• Drittens werden die Außenflächen der Multiformen zur Zeit nur schwach gesteuert, da sie nicht kritisch sind für den CRT-Entwurf. Dadurch gibt es eine wesentliche Variation in den Charakteristiken der Oberfläche, wie Oberflächenglätte, von Röhre zu Röhre, es sei denn, dass zusätzliche Kosten gemacht werden bei der Herstellung der Multiformen mit einheitlichen Oberflächenmerkmalen. Ohne eine solche Einheitlichkeit wäre es schwer, SVM-Spulen mit den erforderlichen Charakteristiken zu erzeugen.
• Viertens müssten zum Zuführen von Speisung zu der Spule zwei zusätzliche Stifte in der Basis der Röhre vorgesehen werden, was dadurch die Herstellung der Röhre komplizierter und die Kosten höher macht.
• Fünftens bedeutet die Anordnung der Spule innerhalb der Röhre, dass der Röhrenhersteller die Spule liefern sollte, wodurch vermieden wird, dass der Systemhersteller (beispielsweise des Fernsehgeräts) einen einzigen, weniger teuren Typ anschaffen kann und die SVM-Spule nur bei denjenigen Röhren anordnet, die für teurere "high end"- Fernsehgeräte, wie Projektions-Fernsehgeräte, gemeint sind.
• Sechstens müssen, da die Spule innerhalb der evakuierten, abgedichteten Hülle der Röhre gebildet wird, die verwendeten Materialien und die angewandte Verarbeitung zum Bilden der Spule kompatibel sein mit den Anforderungen des Röhrenentwurfs und der Verarbeitung der Röhre; sonst könnte die Leistung und/oder die Lebensdauer der Röhre beeinträchtigt werden. Eine größere Wahl aus Materialien und Prozessen ist auf diese Weise verfügbar, wenn die Spule außerhalb der Hölle der Röhre vorgesehen wird.
• Auf entsprechende Weise ist es u. a. eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung eine CRT mit einer wenig kostenden ein Magnetfeld erzeugenden Spule, wie eine SVM-Spule, zu schaffen, welche die oben beschriebenen Nachteile vermeidet.
• Nach der vorliegenden Erfindung wird eine CRT nach Anspruch 1 geschaffen.
• Eine derartige Spule wird vorzugsweise nach der vorliegenden Erfindung auf einer äußeren Fläche der gläsernen Hülle der Röhre gebildet, vorzugsweise in dem Übergangsgebiet zwischen dem Hals und den Trichterteilen der Hülle.
• Eine derartige Spule kann beispielsweise nach jedem beliebigen Prozess einer Vielzahl von Prozessen, die für Massenfertigung geeignet sind, wie nach einem photolithographischen Prozess, in einem Siebdruckverfahren oder in einem Druckverfahren, gebildet werden. Das Drucken eines Musters in dem Übergangsgebiet zwischen dem Schirm und dem Konus kann nicht in einem üblichen Siebdruckverfahren erfolgen. Ein Siebdruckverfahren nach der vorliegenden Erfindung wird mit einem Spezialschirm und mit einer Spezialrakel durchgeführt. Der Schirm mit dem Muster ist zylindrisch symmetrisch geformt, so dass dieser, in engem Kontakt mit der zu bedruckenden Oberfläche, über das Übergangsgebiet passt. Die Rakel hat eine derartige Form, dass sie in die Krümmung des Übergangsgebietes passt. Während des Druckprozesses wird die Rakel mit Hilfe eines Motors über den Schirm geführt.
• Typischerweise ist eine derartige Spule eine Helmholtz-Spule mit zwei Hälften, wobei jede Hälfte etwa drei bis sieben Windungen umfasst und eine Strom tragende Kapazität von etwa 450 mAmp aufweist. Diese Auflösung und Strom tragende Fähigkeit liegen innerhalb der Fähigkeiten dieser Bildungsprozesse. So kann beispielsweise eine Spule, gebildet aus einem 0,05 cm (0,02 Zoll) breiten Kupferstreifen, erzeugt mit Hilfe von photolithographischen Techniken, wie diese bei der Herstellung von Printplatten (PCBs) angewandt werden, einen 1 Ampere starken Strom tragen, wobei die Temperatur nicht wesentlich ansteigt.
• Wenn eine derartige Abtastgeschwindigkeitsmodulationsspule (SVM) unmittelbar auf der Oberfläche der Hülle einer Elektronenstrahlröhre (CRT) neben dem Ausgangsende des Elektronenstrahlerzeugungssystems angebracht wird, führt dies zu einer besseren Effizienz und zu reduzierten Kosten gegenüber herkömmlichen Spulen, die auf einzelnen Trägern oder auf an dem Hals vorgesehenen Befestigungselementen angeordnet sind. Außerdem kann eine Einheitlichkeit der Charakteristiken einer Spule durch die Einheitlichkeit der Oberfläche der Hülle, auf der die Spule gebildet wird, erhalten werden.
• Wenn die Spule auf der äußeren Fläche der Hülle der Röhre gebildet wird, ist eine größere Wahl an Materialien und Prozessen verfügbar als wenn die Spule auf der Innenseite der Hülle vorgesehen wird. Weiterhin kann eine derartige Spule von dem Systemhersteller auf selektiven CRTs vorgesehen werden, wobei es dem CRT-Hersteller überlassen wird, eine begrenzte Anzahl Röhrentypen mit einem höheren Volumen und zu geringen Kosten herzustellen.
• Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung dargestellt und werden im vorliegenden Fall näher beschrieben. Es zeigen:
• Fig. 1 einen schematischen Schnitt durch eine bekannte Farb-Elektronenstrahlröhre (CRT) von dem "In-Line"-Typ,
• Fig. 2 eine Draufsicht eines Entwurfs einer ein Magnetfeld erzeugenden Spule, geeignet zur Verwendung bei der CRT nach Fig. 1,
• Fig. 3 und 4 je einen Schnitt gemäß der Linie IV in Fig. 1, wobei zwei verschiedene Orientierungen des Spulenentwurfs nach Fig. 2 auf dem Hals der Hülle der Elektronenstrahlröhre dargestellt sind, und
• Fig. 5 eine schaubildliche Darstellung eines Teils der Hülle der CRT nach Fig. 1, aufgeteilt gemäß der Linie IV, wobei eine ein Magnetfeld erzeugende Spule dargestellt ist, die sich von dem Hals bis an das Übergangsgebiet der Hülle erstreckt,
• Fig. 6 einen schematischen Schnitt durch das Übergangsgebiet einer Elektronenstrahlröhre und eine Vorrichtung zum Anbringen eines Musters im Siebdruckverfahren.
• Fig. 1 zeigt einen schematischen Schnitt durch eine bekannte Farb-Elektronenstrahlröhre von dem "In-Line"-Typ. In dem Hals 4 einer gläsernen Hülle 1 sind drei Elektronenstrahlerzeugungssysteme 5, 6 und 7, welche die Elektronenstrahlen 8, 9 bzw. 10 erzeugen, untergebracht, wobei diese Hülle aus einem Wiedergabefenster 2, einem trichterförmigen Teil 3 und einem Hals 4 zusammengesetzt ist. Die Achsen der Elektronenstrahlerzeugungssysteme 5, 6 und 7 liegen in einer "In-Line"-Ebene, in dieser Orientierung, in der Ebene der Zeichnung. Die Achse des zentralen Elektronenstrahlerzeugungssystems 6 trifft im Wesentlichen mit der Achse 11 der Röhre zusammen. Die drei Elektronenstrahlerzeugungssysteme befinden sich in einer Schleife 16, die koaxial in dem Hals 4 liegt. Das Wiedergabefenster 2 hat auf der Innenfläche desselben eine Vielzahl Triplets von Phosphorzeilen. Jedes Triplet umfasst eine Zeile eines Phosphors, der grün aufleuchtet, eine Zeile eines Phosphors, der blau aufleuchtet und eine Zeile eines Phosphors, der rot aufleuchtet. Alle Triplets zusammen bilden einen Wiedergabeschirm 12. Die Phosphorzeilen stehen senkrecht zu der Ebene der Zeichnung. Eine Schattenmaske 13, in der eine Vielzahl länglicher Öffnungen 14 vorgesehen sind, durch welche die Elektronenstrahlen 8, 9 und 10 hindurchgehen, ist vor dem Wiedergabeschirm 12 angeordnet. Die Elektronenstrahlen 8, 9 und 10 werden in der horizontalen Richtung (in der Ebene der Zeichnung) und in der vertikalen Richtung (senkrecht dazu) durch ein System 15 mit Ablenkspulen abgelenkt, wobei diese Spulen die Außenseite der Hülle in einem Übergangsgebiet 17 zwischen dem Trichter 3 und dem Hals 4 umgeben. Die drei Elektronenstrahlerzeugungssysteme 5, 6 und 7 sind derart zusammengesetzt, dass die Achsen derselben miteinander einen kleinen Winkel einschließen. Dadurch gehen die erzeugten Elektronenstrahlen 8, 9 und 10 durch jede der Öffnungen 14 in dem genannten Winkel, dem sog. Farbselektionswinkel, und treffen je nur auf die Phosphorzeilen ein und derselben Farbe.
• Fig. 2 ist eine Draufsicht eines Entwurfs einer ein Magnetfeld erzeugenden Spule, geeignet für Verwendung in einer CRT nach Fig. 1. Die Spule 20 besteht aus zwei miteinander verbundenen Hälften 22 und 24, die je drei Windungen haben, wobei die Außenwindung eine Länge "1" und eine Breite "d" hat; wobei die letzte Windung jeder Hälfte in einem Verbindungsflecken 26, 28 endet.
• Die gesamte Länge "L" der Spule und der freie Raum "g1" zwischen den Spulenhälften soll derart gewählt werden, dass, wenn die Spule 20 am Hals 4 geformt wird, der freie Raum g1 dem Spalt g2 zwischen den fernen Enden der Spule nahezu entspricht, wie in Fig. 3 und 4 dargestellt, und die Breite "d" der Spule sollte etwa in dem Bereich von D bis 2D liegen, wobei D der Außendurchmesser des Halses 4 der CRT ist, wie in Fig. 5 dargestellt, damit die Erzeugung eines einheitlichen Magnetfeldes zwischen den zwei Spulenhälften wenigstens in der Nähe der Elektronenstrahlen gefördert wird.
• Die Fig. 3 und 4 zeigen zwei verschiedene Orientierungen der Spule nach Fig. 2 an dem Hals 4. In der ersten Orientierung, dargestellt in Fig. 3, liegen die Spalte g1 und g2 zwischen den Spulenhälften 22 und 24 in der In-Line-Ebene I. Dies ist die bevorzugte Orientierung für den SVM-Betrieb zur Verbesserung der Wiedergabeauflösung, und zur Verbesserung der dynamischen Farbtrennung der Wiedergabe, wie in dem US Patent 5.291.102, veröffentlicht in Washburn, beschrieben. In der zweiten Orientierung, dargestellt in Fig. 4, liegen die Spalte g1 und g2 über und unter der In-Line-Ebene I. Dies ist die bevorzugte Orientierung zum Erzielen einer von dem Gebiet abhängigen dynamischen blauen Defokussierung, wie in US 5.712.691 (Aktenzeichen des Anwaltes PHA 23.057), eingereicht, den 5. Dezember 1995 und durch Bezeichnung als hierin aufgenommen betrachtet, beschrieben.
• In Fig. 5 zeigt eine schaubildliche Darstellung des Halses und des Übergangsgebietes der CRT nach Fig. 1 die gesamte Form und die Lage der Spule 20, wobei die Spalte g1 und g2 zwischen den zwei Hälften 22 und 24 in der In-Line-Ebene I liegen; wie ersichtlich erstreckt sich die Spule 20 von dem Hals 4 zu dem Übergangsgebiet 17, was zu einer komplexen Ringform führt, statt zu einer Zylinderform, die entstehend würde, wenn die Spule völlig auf den Hals begrenzt wäre. Eine derartige Anordnung unterhalb der Ablenkspulen 15, in dieser Figur nicht dargestellt, kann zu einer effizienteren Wirkung der Spule 20 auf die Elektronenstrahlen führen als wenn die Spule 20 über das Elektronenstrahlerzeugungssystem liegen würde; außerdem bietet eine derartige Lage die Gelegenheit ein elektrischen Verbindungselement in die Befestigungsstruktur für die Ablenkspulen 15 zu integrieren um mit den elektrischen Kontakten 26 und 28 der Spule 20 Kontakt zu machen.
• In der alternativen Ausführungsform könnte ein derartiges elektrisches Verbindungselement in die Befestigungsstruktur eines nicht dargestellten statischen Konvergenzgebildes integriert werden, das ebenfalls gemeinsam in der gleichen Nähe bei vielen Typen von CRTs vorgesehen ist.
• Das für die Spulen verwendete Material kann jedes beliebige elektrisch leitende Material sein, das mit dem gewählten Bildungsprozess und den elektrischen Leitfähigkeitsanforderungen der Spule kompatibel ist.
• In dem Fall von Siebdrucktechnik könnte eine Silber-, Kupfer- oder Kohlepaste benutzt werden. Bekanntlich wird die Paste durch das Seidensieb hindurch auf den gläsernen Hals gedrückt und danach wird die Paste erhitzt zum Entfernen des Trägermaterials, wobei die metallische Leiterspur zurückbleibt.
• Ein Photoätzverfahren entsprechend dem, das bei der Herstellung von Printplatten angewandt wird, kann auch hier angewandt werden. In dem Fall wird in dem Bereich, wo die Spule gebildet werden soll, beispielsweise durch Bedeckung, Sprühung, Vakuumablagerung oder Plattierung eine Kupferschicht abgelagert. Diese Kupferschicht wird danach mit einer photoempfindlichen Schicht, wie einem positiven oder negativen Photoresist, bedeckt. Die photoempfindliche Schicht wird daraufhin durch ein positives oder negatives Muster hindurch einer aktinischen Strahlung ausgesetzt, was zu der Aushärtung der Schicht führt, und zwar in Gebieten entsprechend dem gewünschten Spulenmuster. Die exponierte Schicht wird danach dadurch "entwickelt", dass sie mit einem Lösungsmittel behandelt wird zum selektiven Entfernen der nicht ausgehärteten Teile, wodurch exponierte Gebiete der Kupferschicht zurückbleiben. Diese exponierten Gebiete werden danach durch Ätzung in einem geeigneten Säurechlorid- oder Eisenchloridätzmittel entfernt, so dass das gewünschte Spulenmuster zurückbleibt. Zum Schluss werden die ausgehärteten photoempfindlichen Gebiete entfernt.
• Ein andere geeignete Technik wird als "Schablone-Ätzen" bezeichnet. In dieser Technik wird statt der Bildung einer gemusterten Maske auf der Kupferschicht unter Anwendung photolithographischer Techniken, die Maske in einem Druckverfahren gefildet, beispielsweise im Siebdruckverfahren, wobei eine gemusterte Emailleschicht auf der Kupferschicht abgelagert wird, wonach die exponierten Teile der Kupferschicht geätzt werden zum Bilden des Spulenmusters, wonach die Emailleschicht entfernt wird.
• Zum Drucken eines Musters auf dem Übergangsbereich zwischen dem Schirm und dem Konus kann nicht ein allgemein üblicher Siebdruckprozess angewandt werden. Ein Siebdruckprozess nach der vorliegenden Erfindung wird mit einem Spezialschirm (30) und einer Spezialrakel (31) durchgeführt, wie dies in Fig. 6 dargestellt ist. Der Schirm (30), der das Muster aufweist, ist zylindrisch symmetrisch geformt, so dass er über das Übergangsgebiet (32) der Röhre passt und mit der Oberfläche in engem Kontakt ist. Die Rakel (31) hat eine derartige Form, dass sie in die Kurve des Übergangsgebietes (32) passt. Vorzugsweise besteht die Rakel (31) oder der Rand der Rakel aus biegsamem Material. Im betrieb wird die Rakel mit Hilfe eines starren Rahmens (33) unterstützt. Die Rakel (31) ist mit einem Motor (34) verbunden, mit dem sie verlagert werden kann.
• Im betrieb wird der Schirm (30) über das Übergangsgebiet der Röhre gebracht und es wird die richtige Menge Siebdruckmaterial über den Schirm (30) verteilt. Dadurch, dass die Rakel (31) angedrückt wird, wird der Schirm (30) gegen die Röhre gedrückt. Der Kontakt tritt in einer Linie auf. Die Welle (35) des Motors (34) wird danach um 360º gedreht, wodurch die Rakel (31) komplett um die Achse (36) der Röhre gedreht wird und wobei das zu druckende Material durch den Schirm (30) hindurch auf die Oberfläche der Röhre gepresst wird. Die Rakel (31), der Schirm (30) und der Rahmen (33) werden dann von der Röhre entfernt, wobei das gedruckte Muster zurückbleibt.
• Die Spule könnte auch unmittelbar auf die Röhrenhülle gedruckt werden, und zwar in einem modifizierten Tintenstrahl-Druckprozess unter Verwendung leitender Tinten. Während dies ein preisgünstigerer Prozess sein würde als der oben beschriebene Ablagerungs- und Bemusterungsprozess, können die niedrigere Leitfähigkeit und das Frequenzverhalten einiger leitender Tinten nicht geeignet sein für die meist gewollten Anwendungen, wie HDTV-Systeme.
• Gewünschtenfalls kann eine Kratz- oder Verschleißfeste Deckschicht (beispielsweise eine Kunststoff-Deckschicht) oben auf der Spule angebracht werden. Eine derartige Deckschicht kann erwünscht sein um die Spule gegen Kratzer bei der Installation der Ablenkjoche und/oder des statischen Konvergenzgebildes auf dem Hals der Röhre auf eine bekannte Art und Weise zu schützen.
• Die vorliegende Erfindung ist in Termen einer begrenzten Anzahl Ausführungsformen beschrieben worden. Andere Ausführungsformen und Variationen von Ausführungsformen dürften dem Fachmann einfallen und sollen als im Rahmen der beiliegenden Patentansprüche liegend, betrachtet werden.

Claims (10)

1. Elektronenstrahlröhre mit einer vakuumdichten Hülle (1), wobei diese Hülle (1) einen Frontteil (2), einen Trichterteil (3), einen Halsteil (4) und ein Übergangsgebiet (17) zwischen dem Trichterteil (3) und dem Halsteil (4) aufweist, wobei in dem Halsteil (4) ein Elektronenstrahlerzeugungssystem (5, 6, 7) vorgesehen ist, und einen Phosphorwiedergabeschirm (12) auf der Innenseite des Frontteils (2) aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektronenstrahlröhre weiterhin eine ein Magnetfeld erzeugende Spule (20) in Form einer mit einem Muster versehenen leitenden Schicht aufweist, die unmittelbar auf einer Fläche der Hülle der Elektronenstrahlröhre vorgesehen ist.

2. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 1, wobei die Spule (20) auf der Außenfläche des Halsteils (4) geformt ist.

3. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 2, wobei die Spule (20) zwei Hälften (22, 24) umfasst.

4. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 2, wobei die Spule (20) eine Abtastgeschwindigkeitsmodulationsspule (SVM) ist.

5. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 4, wobei die Breite (d) der Spule (20) dem Außendurchmesser (D) des Halses der Elektronenstrahlröhre nahezu entspricht.

6. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 1, wobei die Spule (20) nach einer der Techniken geformt ist, gewählt aus der Gruppe, bestehend aus Photolithographie, Siebdrucken und Drucken.

7. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 3, wobei jede Spulenhälfte (22, 24) etwa drei bis sieben Windungen umfasst.

8. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 7, wobei jede Windung in einem elektrischen Kontaktteil (26, 28) endet.

9. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 2, wobei das Halsmaterial Glas ist und die Halsstärke etwa 0,25 cm (0,1 Zoll).

10. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 2, wobei das Spulenmaterial gewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Kupfer, Silber, Kohlenstoff, Gold, Indium und deren Legierungen.