DE69915211T2

DE69915211T2 - Herstellung eines Trägers einer Flachdruckplatte

Info

Publication number: DE69915211T2
Application number: DE1999615211
Authority: DE
Inventors: Tu Vinh Leeds Chau; Felton Rudolph Leeds Mayers
Original assignee: Agfa Gevaert NV
Current assignee: Agfa NV
Priority date: 1998-11-16
Filing date: 1999-11-03
Publication date: 2005-01-13
Anticipated expiration: 2019-11-04
Also published as: EP1000768A2; DE69915211D1; EP1000768B1; EP1000768A3; GB9825822D0; JP2000141938A

Description

TECHNISCHES GEBIET DER ERFINDUNG
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Metallträgers zur Verwendung als Substrat für eine lithografische Druckplatte. Die vorliegende Erfindung betrifft insbesondere ein Verfahren zur Oberflächenbehandlung eines Metallbogens, insbesondere eines Aluminiumbogens, wobei ein Substrat mit besonders günstigen lithografischen Eigenschaften erhalten werden kann.
Herkömmliche Aluminiumsubstrate, die als Trägermaterialien für lithografische Druckplatten und deren Vorstufen vorgesehen sind, sind in der Regel vor ihrer Beschichtung mit einem lichtempfindlichen Beschichtungsmaterial Oberflächenbehandlungen unterzogen worden. Diese Behandlungen dienen zur Verbesserung der lithografischen Eigenschaften des Aluminiums und insbesondere der Hydrophilie des Aluminiums. Diese Eigenschaft ist wichtig während der Druckvorgänge und zwar weil die Grundlage von Lithografie die Fähigkeit der lithografischen Platte ist, in Bildbereichen Druckfarbe anzuziehen und in Hintergrundbereichen (Nicht-Bildbereichen) Druckfarbe abzustoßen und Wasser anzuziehen, wodurch ein gedrucktes Bild ohne irgendwelche Verschmutzung in den Hintergrundbereichen erhalten wird. Die lichtempfindliche Beschichtung einer Vorstufe einer lithografischen Druckplatte wird also bildmäßig mit Strahlung belichtet, um eine Änderung der Löslichkeitseigenschaften der Beschichtung in den Bereichen, auf die die Strahlung auftrifft, hervorzurufen. Die löslichen Bereiche werden anschließend durch eine Behandlung mit einer Entwicklerlösung vom Substrat abgelöst, um die Aluminiumoberfläche, die in der Lage sein muß, Druckfarbe anzuziehen und Wasser abzustoßen, freizulegen.
Eine typische Oberflächenbehandlung umfaßt eine Körnung als Beginnbehandlung, wobei die Aluminiumoberfläche mit Hilfe eines mechanischen oder elektrochemischen Mittels aufgerauht wird, und eine anschließende eloxierende Behandlung, wobei auf der Oberfläche des Aluminiums eine Schicht aus Aluminiumoxid gebildet wird. Bei eloxierenden Behandlungen wird zum Beispiel eine gekörnte Aluminiumbahn durch ein Bad, das eine geeignete eloxierende Säure wie Schwefelsäure oder Phosphorsäure oder ein Gemisch derselben enthält, geführt, während ein elektrischer Strom durch das Eloxierungsbad fließt und die Bahn als Anode dient.
Die Anwesenheit einer anodischen Oberflächenschicht führt eine merkliche Verbesserung der Hydrophilie der Aluminiumoberfläche herbei und die Haftung der im anschließenden Schritt gebildeten Bildschicht ist viel besser, wenn die Oberfläche des Aluminiums vor ihrer Eloxierung gekörnt wird.
Zusätzlich dazu wird nach dem Eloxiervorgang oft eine weitere Oberflächenbehandlung erfordert. In der Regel dient eine solche Behandlung – die als Nacheloxiertauchbehandlung bezeichnet wird – zur Verbesserung spezifischer lithografischer Druckeigenschaften des Substrats, wie eine Reinigung von Hintergrundbereichen und eine Behandlung zur Verbesserung der Haftung der Beschichtung und der Korrosionsbeständigkeit, und besteht sie in der Regel darin, das Aluminium durch eine Lösung, oft eine wäßrige Lösung, mit dem gewählten Reagens zu führen. Übliche Nacheloxiertauchlösungen sind u. a. wäßrige Lösungen, die zum Beispiel Natriumcarbonat oder Natriumbicarbonat, Poly(acrylsäure) oder verschiedene wasserlösliche Copolymere enthalten.
In US-A 4 689 272 wird ein durch die nachstehenden Schritte gekennzeichnetes Verfahren zur Herstellung eines Trägers für eine Vorstufe einer lithografischen Druckplatte offenbart : Bereitstellen eines Metallsubstrats, Aufrauhen einer Oberfläche des Substrats, Eloxieren der aufgerauhten Oberfläche des Substrats und Behandlung der aufgerauhten und eloxierten Oberfläche des Substrats mit einer wäßrigen Lösung, die ein Homopolymer oder Copolymer von Vinylphosponsäure oder Vinylmethylphosponsäure enthält, durch Eintauchen und/oder elektrochemisch. Die nach diesem Verfahren nachbehandelten Platten warten mit verbesserten hydrophilen Eigenschaften der Nicht-Bildbereiche, einer verringerten Neigung zu Fleckenbildung und einer verbesserten Alkalibeständigkeit auf.
Die Anwendung einer Nacheloxiertauchbehandlung erfolgt in herkömmlicher Weise durch einfaches Eintauchen des gekörnten und eloxierten Substrats in der gerade oben beschriebenen Weise. Die Erfinder der vorliegenden Erfindung haben nunmehr aber unerwartet gefunden, daß merklich verbesserte Platteneigenschaften erzielbar sind, indem für die obenerwähnte Behandlung ein ein Copolymer aus Acrylsäure und Vinylphosphonsäure enthaltendes Tauchmittel benutzt und das System während der Eintauchbehandlung mit elektrischem Strom beaufschlagt wird. In dieser Weise können Platten mit merklich verbesserten Reinigungseigenschaften, einer gesteigerten Auflagenhöhe und hervorragender Korrosionsbeständigkeit erhalten werden.
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist demgemäß das Bereitstellen eines durch die nachstehenden Schritte gekennzeichneten Verfahrens zur Herstellung eines Trägers für die Vorstufe einer lithografischen Druckplatte

(a) Bereitstellen eines Metallsubstrats,
(b) Körnung von zumindest einer Oberfläche des Substrats,
(c) Auftrag einer anodischen Schicht auf zumindest eine gekörnte Oberfläche des Substrats, und
(d) Behandlung von zumindest einer gekörnten und eloxierten Oberfläche des Substrats mit einer wäßrigen Lösung, die ein Copolymer aus Acrylsäure und Vinylphosphonsäure enthält, wobei eine konstante Spannung oder ein konstanter Strom durch die Lösung fließt.

Das Metallsubstrat kann ein beliebiges leitfähiges Metallsubstrat sein, ist jedoch ganz besonders bevorzugt ein Substrat aus Aluminium oder einer Aluminiumlegierung, die geringe Mengen von zum Beispiel Mangan, Nickel, Kobalt, Zink, Eisen, Silicium oder Zirconium enthält. Das Substrat wird in der Regel in Form einer kontinuierlichen Bahn oder Rolle eines Metalls oder einer Metallegierung bereitgestellt.
Vorzugsweise wird das Substrat vor der Körnungsbehandlung entfettet. Am praktischsten ist eine Entfettung mittels einer wäßrig-alkalischen Lösung. Bei dieser Behandlung wird in der Regel das Substrat durch ein eine 5 bis 20 gew.-%ige Lösung von zum Beispiel Natrium- oder Kaliumhydroxid enthaltendes Bad geführt. Anschließend an die entfettende Behandlung und vor der weiteren Behandlung wird das Substrat mit Wasser gespült.
Die Behandlung der gekörnten und eloxierten Oberfläche oder Oberflächen mit einer wäßrigen, ein Copolymer von Acrylsäure und Vinylphosphonsäure enthaltenden Lösung erfolgt vorzugsweise dadurch, daß das Substrat bei einer bevorzugten Temperatur zwischen 5° und 80°C (besonders bevorzugt zwischen 15° und 40°C), einer bevorzugten Verweilzeit zwischen 1 Sekunden und 60 Minuten (besonders bevorzugt zwischen 15 Sekunden und 5 Minuten) und bei einem pH zwischen 0 und 13 (vorzugsweise zwischen 1 und 5, und ganz besonders bevorzugt rund 3) in eine wäßrige Lösung, die vorzugsweise zwischen 0,001 Gew.-% und 5,0 Gew.-% (besonders bevorzugt zwischen 0,01 Gew.-% und 1,0 Gew.-%) des Copolymers enthält, eingetaucht wird. Die wäßrige Lösung enthält vorzugsweise auch Aluminiumionen in einer Menge zwischen 0,1 und 50.000 ppm, wobei die Aluminiumionen der wäßrigen Lösung in Form eines beliebigen Aluminiumsalzes zugesetzt werden können oder im Falle eines Aluminiumsubstrats aus dem Substrat in die wäßrige Lösung herausgelöst werden.
Das Copolymer von Acrylsäure und Vinylphosphonsäure kann gemäß einer beliebigen, den Fachleuten bekannten Standardpolymerisationstechnik, zum Beispiel Lösungspolymerisation, Suspensionspolymerisation oder Emulsionspolymerisation, hergestellt werden. Geeignete Copolymere zur Verwendung im erfindungsgemäßen Verfahren weisen in der Regel ein Gewichtsmittel des Molekulargewichts zwischen 10.000 und 100.000, vorzugsweise zwischen 30.000 und 70.000, und ganz besonders bevorzugt rund 50.000 auf und das Verhältnis von Acrylsäureeinheiten zu Vinylphosphonsäureeinheiten in den Copolymeren liegt in der Regel zwischen 0,5 : 1 und 1,5 : 1, vorzugsweise zwischen 0,85 : 1 und 1,30 : 1.
Als konstante Spannung oder konstanter Strom wird bevorzugt ein konstanter Gleichstrom, ein pulsierender Gleichstrom, ein Wechselstrom (sinusförmige und rechteckige Wellenformen), ein Polarisationswechselstrom oder eine mit einem 1-6-Phasen-Einweggleichrichter gleichgerichtete Wechselspannung zwischen 0,1 und 1.000 V (vorzugsweise zwischen 1 V und 100 V) über das Behandlungsbad angelegt, wobei das Substrat als eine Elektrode und ein anderer elektrischer Leiter wie Platin, Aluminium, Kohlenstoff, rostfreier Stahl oder Weichstahl als die andere Elektrode benutzt wird. Wenngleich das Aluminiumsubstrat zum Beispiel die Kathode und der andere elektrische Leiter die Anode bilden kann, bildet das Aluminiumsubstrat jedoch vorzugsweise die Anode und der andere elektrische Leiter die Kathode.
In der Regel wird ein Wechselstrom bei einer Frequenz von 1 bis 5.000 Hz, vorzugsweise 30 bis 70 Hz angelegt. Die Volleistung kann schon ab Beginn der elektrochemischen Behandlung eingestellt werden oder die Leistung kann während der Behandlung allmählich gesteigert werden. Anschließend an die Behandlung entwickelt sich auf dem Substrat ein Oberflächenfilm mit einer Stärke zwischen 1 und 500 nm. Wahlweise kann die Oberfläche des Oberflächenfilms geprägt werden.
Die Körnungsbehandlung des erfindungsgemäßen Verfahrens kann eine mechanische Körnung sein, wobei die Oberfläche des Substrats mechanischen Kräften unterzogen wird, die zum Beispiel durch Verwendung einer dichten Masse winziger Metallkugeln oder über Bürstenkörnungstechniken erzeugt werden. Ebenfalls geeignet und ganz besonders bevorzugt wird aber eine elektrochemische Körnung, wobei ein Substrat durch eine Lösung einer mineralischen oder organischen Säure oder eines Gemisches derselben wie eines Gemisches aus Chlorwasserstoffsäure und Essigsäure geführt wird und ein elektrischer Strom durch diese Säurelösung fließt. Typische Körnungsbedingungen umfassen den Einsatz eines Bads von wäßriger Chlorwasserstoffsäure in einem Verhältnis zwischen 1 und 10 g/l und mit einer Temperatur zwischen 5 und 50°C, wobei die Verweilzeit im Bad zwischen 1 und 60 Sekunden und die angelegte Spannung zwischen 1 und 40 V liegt. Das gekörnte Substrat wird dann vor der weiteren Verarbeitung mit Wasser gespült.
Anschließend an die elektrochemische Körnung wird das gekörnte Substrat vorzugsweise entfettet, um während der elektrochemischen Körnung angefallene und auf die Oberfläche des Substrats abgesetzte Nebenprodukte zu entfernen. Dabei wird das gekörnte Substrat in der Regel mit einer wäßrig-sauren oder wäßrig-alkalischen Lösung gemäß einer den Fachleuten bekannten Technik behandelt. Anschließend an die Entfettung wird das Substrat mit Wasser gespült.
Das gekörnte und gegebenenfalls entfettete Substrat wird dann eloxiert, um einen anodischen Aluminiumoxidfilm auf der gekörnten Oberfläche oder den gekörnten Oberflächen des Substrats zu erhalten. Eloxierverfahren sind den Fachleuten allgemein bekannt und bestehen in der Regel darin, daß das Substrat durch ein Bad, das eine wäßrige Lösung einer mineralischen Säure wie Schwefelsäure, Phosphorsäure, Salpetersäure, Fluorwasserstoffsäure oder Chromsäure oder eine wäßrige Lösung einer organischen Säure wie zum Beispiel Oxalsäure, Weinsäure, Zitronensäure, Essigsäure oder Oleinsäure oder eines Gemisches aus diesen Säuren enthält, geführt wird und ein elektrischer Strom durch dieses Eloxierbad fließt. Typische Eloxierbedingungen umfassen den Einsatz eines Bades, das Schwefelsäure in einem Verhältnis zwischen 10 und 300 g/l, vorzugsweise in einem Verhältnis rund 120 g/l enthält, eine Temperatur zwischen 20° und 60°C, vorzugsweise rund 40°C, eine Verweilweit zwischen 5 und 120 s, vorzugsweise rund 40 s, eine Spannung im Bad zwischen 10 und 25 V, vorzugsweise etwa 20 V, und eine Stromdichte zwischen 1.000 und 2.000 A/m², vorzugsweise rund 1.400 A/m². Das gekörnte und eloxierte Substrat wird dann vor der weiteren Verarbeitung mit Wasser gespült.
Der nach dem erfindungsgemäßen Verfahren beschichtete Träger kann anschließend mit einer lichtempfindlichen Schicht überzogen werden, um eine Vorstufe einer lithografischen Druckplatte zu erhalten.
Zu diesem Zweck kommen verschiedene Beschichtungen der den Fachleuten allgemein bekannten Typen in Frage, zum Beispiel positivarbeitende Beschichtungen, die Chinondiazid-Derivate enthalten, negativarbeitende Beschichtungen, die Diazoharze oder Azidharze oder fotovernetzbare Harze enthalten, oder Beschichtungen auf Silberhalogenidbasis. Die Beschichtungen können gemäß einer beliebigen, den Fachleuten bekannten Standardbeschichtungstechnik aufgetragen werden, wie Vorhangbeschichtung, Tauchbeschichtung, Wulstbeschichtung, Umkehrwalzenbeschichtung und dergleichen.
Die so erhaltene Vorstufe einer lithografischen Druckplatte kann dann bildmäßig belichtet und die Nicht-Bildbereiche können durch Entwicklung entfernt werden, um eine lithografische Druckplatte zu erhalten, die dann auf einer Druckmaschine zum Drucken von Abzügen benutzt wird.
Lithografische Druckplatten, die aus nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten Aluminiumträgern erhalten werden, warten sowohl während der Plattenentwicklung als auf der Presse mit einem hervorragenden Abriebwiderstand und einer hervorragenden Korrosionsbeständigkeit, Beständigkeit gegen Fleckenbildung und Beständigkeit gegen Schaumbildung auf. Der durch die Behandlung gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellte Oberflächenfilm wartet mit einer hervorragenden Haftung der Beschichtung in den Bildbereichen auf. Zusätzlich dazu weist die Platte einen sehr guten Belichtungsspielraum und eine sehr gute Beständigkeit gegen Lösungsmittel auf und ist das Ganze ihrer Eigenschaften merklich verbessert im Vergleich zu einem gekörnten und eloxierten Substrat, das einer aus dem aktuellen Stand der Technik bekannten Nacheloxiertauchbehandlung unterzogen wird.
Die vorliegende Erfindung wird jetzt anhand der folgenden Beispiele veranschaulicht, ohne sie jedoch darauf zu beschränken.
BEISPIELE
Beispiel 1
Ein in herkömmlicher Weise entfettetes, gekörntes, erneut entfettetes und eloxiertes Aluminiumsubstrat wird 120 s lang in ein mit einer Kohlenstoffelektrode bestücktes und eine wäßrige Lösung eines Copolymers von Acrylsäure und Vinylphosphonsäure (1 : 1) (M_w 50.000) (10 g/l) bei Zimmertemperatur enthaltendes Bad eingetaucht. Die Kohlenstoffelektrode und die durch das Aluminiumsubstrat gebildete Aluminiumelektrode werden mit einer konstanten Gleichspannung von 60 V bestromt, wobei die Kohlenstoffelektrode als die Kathode und die Aluminiumelektrode als die Anode dient.
Das erhaltene Substrat wird mit Wasser gespült und mit einer Lösung eines strahlungsempfindlichen Naphthochinondiazidharzes und eines Kresolnovolakträgerharzes in 2-Methoxypropanol beschichtet, um eine lichtempfindliche Beschichtung zu erhalten, wonach das beschichtete Substrat 5 Minuten lang bei 130°C eingebrannt wird. Die so erhaltene Vorstufe einer lithografischen Druckplatte wird bei einer Leistung von 100–300 mJ/cm² bildmäßig mit UV-Licht belichtet und die Nicht-Bildbereiche werden durch Entwicklung unter 30sekündiger Eintauchung bei 20°C in eine wäßrig-alkalische Entwicklerlösung entfernt. Die so erhaltene lithografische Druckplatte wird mit Wasser gespült und in einem Kühlluftstrom getrocknet, wonach auf einer Drent-Rollenoffsetpresse 250.000 Abzüge hervorragender Qualität gedruckt werden. Die Platte wartet sowohl während der Entwicklung als auf der Presse mit einem hervorragenden Abriebwiderstand und einer hervorragenden Korrosionsbeständigkeit, Beständigkeit gegen Fleckenbildung und Beständigkeit gegen Schaumbildung auf.
Beispiel 2
Ein in herkömmlicher Weise entfettetes, gekörntes, erneut entfettetes und eloxiertes Aluminiumsubstrat wird 10 s lang in ein mit einer Kohlenstoffelektrode bestücktes und eine wäßrige Lösung eines Copolymers von Acrylsäure und Vinylphosphonsäure (1 : 1) (M_w 50.000) (10 g/l) bei Zimmertemperatur enthaltendes Bad eingetaucht. Die Kohlenstoffelektrode und die durch das Aluminiumsubstrat gebildete Aluminiumelektrode werden mit einer Wechselspannung von 10 V bestromt, wobei die Kohlenstoffelektrode als die Kathode und die Aluminiumelektrode als die Anode dient.
Das so erhaltene Substrat wird analog Beispiel 1 beschichtet, eingebrannt, belichtet und entwickelt, um eine lithografische Druckplatte herzustellen, mit der auf einer Drent-Rollenoffsetpresse 250.000 Abzüge hervorragender Qualität gedruckt werden. Die Platte wartet sowohl während der Entwicklung als auf der Presse mit einem hervorragenden Abriebwiderstand und einer hervorragenden Korrosionsbeständigkeit, Beständigkeit gegen Fleckenbildung und Beständigkeit gegen Schaumbildung auf.
Beispiel 3
Ein in herkömmlicher Weise entfettetes, gekörntes und erneut entfettetes Aluminiumsubstrat wird 120 s lang in ein mit einer Kohlenstoffelektrode bestücktes und eine wäßrige Lösung eines Copolymers von Acrylsäure und Vinylphosphonsäure (0,9 : 1) (M_w 55.000) (5 g/l) bei Zimmertemperatur enthaltendes Bad eingetaucht. Die Kohlenstoffelektrode und die durch das Aluminiumsubstrat gebildete Aluminiumelektrode werden mit einer gleichgerichteten Wechselspannung von 20 V bestromt, wobei die Kohlenstoffelektrode als die Kathode und die Aluminiumelektrode als die Anode dient.
Das so erhaltene Substrat wird analog Beispiel 1 beschichtet, eingebrannt, belichtet und entwickelt, um eine lithografische Druckplatte herzustellen, mit der auf einer Drent-Rollenoffsetpresse 250.000 Abzüge hervorragender Qualität gedruckt werden. Die Platte wartet sowohl während der Entwicklung als auf der Presse mit einem hervorragenden Abriebwiderstand und einer hervorragenden Korrosionsbeständigkeit, Beständigkeit gegen Fleckenbildung und Beständigkeit gegen Schaumbildung auf.

Claims

Ein durch die nachstehenden Schritte gekennzeichnetes Verfahren zur Herstellung eines Trägers für die Vorstufe einer lithografischen Druckplatte (a) Bereitstellen eines Metallsubstrats, (b) Körnung von zumindest einer Oberfläche des Substrats, (c) Auftrag einer anodischen Schicht auf zumindest eine gekörnte Oberfläche des Substrats, und (d) Behandlung von zumindest einer gekörnten und eloxierten Oberfläche des Substrats mit einer wäßrigen Lösung, die ein Copolymer aus Acrylsäure und Vinylphosphonsäure enthält, wobei eine konstante Spannung oder ein konstanter Strom durch die Lösung fließt.
Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Metallsubstrat ein Substrat aus Aluminium oder einer Aluminiumlegierung ist, die geringe Mengen von Mangan, Nickel, Kobalt, Zink, Eisen, Silicium und/oder Zirconium enthält.
Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Gewichtsmittel des Molekulargewichts des Copolymers von Acrylsäure und Vinylphosphonsäure zwischen 10.000 und 100.000 liegt.
Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Gewichtsmittel des Molekulargewichts rund 50.000 liegt.
Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis von Acrylsäureeinheiten zu Vinylphosphonsäureeinheiten im Copolymer zwischen 0,5 : 1 und 1,5 : 1 liegt.
Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis von Acrylsäureeinheiten zu Vinylphosphonsäureeinheiten zwischen 0,85 : 1 und 1,30 : 1 liegt.
Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die wäßrige Lösung zusätzlich Aluminiumionen in einer Menge zwischen 0,1 und 50.000 ppm enthält.
Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Copolymer in einem Verhältnis zwischen 0,001 Gew.-% und 5,0 Gew.-% in der wäßrigen Lösung enthalten ist.
Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Behandlung bei einer Temperatur zwischen 5° und 80°C erfolgt.
Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Verweilzeit bei der Behandlung zwischen 15 Sekunden und 5 Minuten liegt.
Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der pH bei der Behandlung zwischen 1 und 5 liegt.
Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß als konstante Spannung oder konstanter Strom ein konstanter Gleichstrom, ein pulsierender Gleichstrom, ein Wechselstrom (sinusförmige oder rechteckige Wellenform), ein Polarisationswechselstrom oder eine mit einem 1-6-Phasen-Einweggleichrichter gleichgerichtete Wechselspannung zwischen 0,1 und 1.000 V über das Behandlungsbad angelegt wird.
Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Wechselstrom bei einer Frequenz zwischen 30 und 70 Hz angelegt wird.
Verfahren nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat eine Elektrode bildet und die andere Elektrode aus Platin, Aluminium, Kohlenstoff, rostfreiem Stahl oder Weichstahl besteht.
Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat Aluminium enthält und die Anode bildet.
Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Körnungsbehandlung eine elektrochemische Körnung umfaßt.
Verfahren nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat bei der elektrochemischen Körnung durch eine Lösung einer mineralischen oder organischen Säure oder eines Gemisches derselben geführt wird und ein elektrischer Strom durch diese Lösung fließt.
Verfahren nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß die Lösung ein Gemisch aus Chlorwasserstoffsäure und Essigsäure enthält.
Verfahren nach Anspruch 17 oder 18, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat anschließend an die elektrochemische Körnungsbehandlung entfettet wird.
Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der anodische Film auf die gekörnte Oberfläche oder die gekörnten Oberflächen des Substrats aufgetragen wird, indem das Substrat durch ein Bad, das eine wäßrige Lösung einer mineralischen oder organischen Säure oder eines Gemisches derselben enthält, geführt wird und ein elektrischer Strom durch diese Lösung fließt.
Verfahren nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß das Bad Schwefelsäure enthält.
Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat vor der Körnungsbehandlung entfettet wird.
Verfahren nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß die Entfettungsbehandlung mittels einer wäßrig-alkalischen Lösung durchgeführt wird.
Ein durch die nachstehenden Schritte gekennzeichnetes Verfahren zur Herstellung der Vorstufe einer lithografischen Druckplatte a) Bereitstellen eines Trägers für die Vorstufe nach einem wie in einem der vorstehenden Ansprüche definierten Verfahren, b) Auftrag einer lichtempfindlichen Schicht auf die behandelte Oberfläche oder behandelte Oberflächen des Trägers.