DE891435C

DE891435C - Elektronenstrahlgeraet, insbesondere Elektronenuebermikroskop

Info

Publication number: DE891435C
Application number: DEP13558A
Authority: DE
Inventors: Robert Dr Rer Nat Seeliger
Original assignee: SUEDDEUTSCHE LABORATORIEN GmbH
Current assignee: SUEDDEUTSCHE LABORATORIEN GmbH
Priority date: 1948-10-02
Filing date: 1948-10-02
Publication date: 1953-09-28

Description

Es sind "Elektronenstrahlgeräte,- insbesondere Elektronenübermikroskope, bekannt, die mit einem zum Betrachten eines ebenen Leuchtschirmes dienenden optischen System ausgerüstet sind. Diese Geräte sind in der Regel so ausgebildet, d'aß der Leuchtschirm von der der Elektronens.trahlenquelle zugekehrten Seite her betrachtet wird. Aus konstruktiven Gründen wird daher bei den bekannten Geräten der Leuchtschirm unter einem Winkel von etwa 30 bis 45° gegen seine Normale, die zur Achsenrichtung des abbildenden Elektronenstrahles parallel berichtet ist, betrachtet. Durch Verwendung von optischen Geräten besonderer Bauart kann man bei diesen Geräten wenigstens für das zentrale Bildfeld eine befriedigende Schärfe erzielen.
Mit einem wesentlich einfacheren optischen System kommt man. jedoch bei dem Elektronenstrahlgerät gemäß der Erfindung aus,. bei dem der Leuchtschirm mindestens in seinem den Durchtrittspunkt der optischen Achse enthaltenden Bereich mit dieser Achse einen von 9o° weniger verschiedenen Winkel aufweist als die Einstellebene des abbildenden Elektronenstrahles mit diesem. Man. wird, soweit es die Bauart des- Gerätes irgend zuläßt, anstreben, daß die optische Achse des Betrachtungssystems möglichst parallel zu den zu diesem Bereich der Leuchtschirmoberfläche gehörenden Normalen; gerichtet ist. Man erreicht dadurch größte Abbildungsschärfe des optischen Systems für diesen Bereich.
Für sehr viele Anwendungszwecke genügt die Verwendung eines ebenen Leuchtschirms, der senkrecht zur optischen Achse des Betrachtungssystems angeordnet ist. Ein solcher Schirm ist, wenn die Brennweite des Betrachtungssystems seiner Größe in der üblichen; Weise angepaßt ist, bereits mit verhältnismäßig wohlfeilen Mitteln bis zum Randscharf abbildbar.
Die Figur zeigt in schematischer Darstellung ein Ausführungsbeispiel des Elektronenistrahlgerätes gemäß der Erfindung.
Die Elektronenstrafhlen i mögen dazu dienen, auf der photographischen Schicht 2, die zu der Strahlachse senkrecht steht, ein Bild zu erzeugen. Zu diesem Zweck wird zur Erzielung größter Bildschärfe die Einstellebene des Elektronenstrahles in die Ebene :2 gelegt. Bei den bekannten Geräten wird zur Betrachtung des in der Einstellebene zu erwartenden Elektronenbildes vor der Aufnahme in die Einstellebene ein Leuchtschirm gebracht, der unter einem meist beträchtlichen Winkel gegen seine Normale mittels eines optischen Systems betrachtet wird. Bei dem dargestellten. Ausführungsbeispiel bildet gemäß der Erfindung der Leuchtschirm 3 mit der Einstellebene :2 einen solchen Winkel 9p, daß er mit der optischen Achse 5 des durch die Linse 4. schematisch dargestelltenBetrachtungssystemseinen Winkel a bildet, der von 9o° möglichst wenig verschieden sein sollte.

Claims

PATENTANSPRÜCHE: i. Elektronenstrahlgerät mit einem zum Betrachten des Leuchtschirmes dienenden optischen, System, insbesondere Elektronenübermikroskop, dadurch gekennzeichnet, daß der Leuchtschirm mindestens in seinem den Durchtrittspunkt der optischen Achse enthaltenden Bereich mit dieser Achse einen von 9o° weniger verschiedenen Winkel aufweist als die Einstellebene des abbildenden Elektronenstrahls mit diesem.
2. Gerät nach Anspruch i mit einem ebenen Leuchtschirm, dadurch gekennzeichnet, daß ein ebener Leuch.tsehirm senkrecht zur optischen Achse des Betrachtungssystems angeordnet ist.
3. Gerät nach Anspruch i oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das optische System derart angeordnet ist, daß seine Achse den zentralen Strahl des abbildenden Elektronenstrahles in dessen Einstellebene schneidet.
4. Gerät nach Anspruch i oder folgerüden mit einer in der Einstellebene des Elektronenstrahles angeordneten photographischen Schicht, dadurch gekennzeichnet; daß. Mittel vorgesehen sind, mit deren Hilfe der Leuchtschirm während der Betrachtung in einer gegen die Einstellebene des Elektronenstrafles geneigten Stellung an die Stelle der photographischen Schicht gebracht werden kann. Angezogene Druckschriften: Schweizerische Patentschrift Nr. 233 018; Siemens Zeitschrift, 2o. Jahrg., 1940, Heft 6, S. 217 bis 227.