DE949802C - Verfahren zur Herstellung von Linien enthaltenden Rastern auf Photomechanischem Wege - Google Patents

Description

• Verfahren zur Herstellung von Linien enthaltenden Rastern auf photomechanischem Wege Die in der Reproduktionstechnik gebräuchlichen Raster werden in der Mehrzahl als sogenannte gravierte Raster durch Ätzen in Verbindung mit Einlassen hergestellt. Nur bei den Offsetrastern werden neben den gravierten Rastern auch auf photomechanischem Wege erzeugte Raster verwendet, da diese Raster stets aus zwei Glasplatten bestehen und die Linien des photomechanischen Rasters durch die Glasplatten gegen mechanische und sonstige Beschädigungen geschützt sind. Diese Deckglasplatten machen es unmöglich, daß der Raster selbst beliebig nahe an die lichtempfindliche Schicht herangebracht werden kann, so daß die vom Abstand zwischen Raster und lichtempfindlicher Schicht abhängige Variationsmöglichkeit im Aufbau der Bildpunkte erheblich eingeschränkt wird. Zudem haben die beim Tiefdruck verwendeten ungeschützten gravierten Raster den Nachteil, daß die Vollständigkeit des Einlasses immer wieder nachgeprüft werden muß. Es ist auch bekannt, Kornraster durch Aufdestillieren oder Aufsublimieren von kornbildenden festen oder flüssigen Stoffen, wie Kampfer, Arsen, Paraffin usw., auf geeignete Unterlagen herzustellen. Nach diesem Verfahren lassen sich aber nicht ohne weiteres Linienraster herstellen. Solche Linienraster würden außerdem ebenfalls eine sehr geringe Widerstandsfähigkeit besitzen. Zweck der Erfindung ist es, Raster zu erzeugen, die die obigen Mängel nicht aufweisen, deren Linien insbesondere so widerstandsfähig gegen mechanische und chemische Beanspruchung sind, daß ein Schutz durch Glasplatten nicht nötig ist und die zudem wesentlich einfacher und billiger herzustellen sind als die gravierten Raster.
• Um dies zu erreichen, werden die Raster auf photomechanischem Wege in Verbindung mit Aufdampfen im Vakuum in der Weise erzeugt, daß die linienbildenden Belegungen auf dem Rasterträger aus in Vakuum aufgedampften Materialienbestehen. Dies geschieht in an sich bekannter Weise dadurch, daß zunächst auf den. Träger eine lichtempfindliche auswaschbare Schicht aufgebracht, unter Zwischenfügung eines Originals oder einer sonstigen Vorlage belichtet und dann ausgewaschen wird und sodann auf den mit dieser ausgewaschenen Schicht versehenen Träger kopiebildende Stoffe beliebiger Art, z. B. Chrom und Siliziumoxyd, aufgedampft werden, worauf die nicht ausgewaschenen Stellen oder Zonen der Schicht zusammen mit den diese Stellen oder Zonen bedeckenden, aufgedampften Stoffen gelöst werden, bis auf dem Träger lediglich die auf den ausgewaschenen Stellen oder Zonen der Schicht aufgedampften Stoffe in Form einer dem Original entsprechenden Kopie zurückbleiben.

Claims (1)

1. PATENTANSPRUCH: Verfahren zur Herstellung von Linien enthaltenden Rastern auf photomechanischem Wege, dadurch gekennzeichnet, daß eine auf einem Träger aufgebrachte lichtempfindliche Schicht unter einem Linien enthaltenden Raster belichtet wird, worauf nach dem Entwickeln und Freilegen der Linien auf dem Träger in an sich bekannter Weise chemisch und mechanisch widerstandsfähige Schichten bildende Stoffe im Vakuum aufgedampft und die Reste der lichtempfindlichen Schicht entfernt werden. In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Patentschrift Nr. 161 957; britische Patentschrift Nr. q.8o 670; österreichische Patentschrift Nr. 132 q.66.