DK133206B - Kontaktraster til anvendelse pa bade negativer og positiver ved fotomekanisk reproduktion, savel ved direkte dybtryk som direkte eller indirekte offsettryk - Google Patents

Kontaktraster til anvendelse pa bade negativer og positiver ved fotomekanisk reproduktion, savel ved direkte dybtryk som direkte eller indirekte offsettryk

Info

Publication number
DK133206B
DK133206B DK150969A DK150969A DK133206B DK 133206 B DK133206 B DK 133206B DK 150969 A DK150969 A DK 150969A DK 150969 A DK150969 A DK 150969A DK 133206 B DK133206 B DK 133206B
Authority
DK
Denmark
Prior art keywords
direct
principals
negatives
positives
application
Prior art date
Application number
DK150969A
Other languages
English (en)
Other versions
DK133206C (da
Inventor
C Crespi
Original Assignee
Cordaro W
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Cordaro W filed Critical Cordaro W
Publication of DK133206B publication Critical patent/DK133206B/da
Application granted granted Critical
Publication of DK133206C publication Critical patent/DK133206C/da

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F5/00—Screening processes; Screens therefor
    • G03F5/14—Screening processes; Screens therefor by contact methods
    • G03F5/16—Screening processes; Screens therefor by contact methods using grey half-tone screens

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Facsimile Image Signal Circuits (AREA)
DK150969A 1968-03-27 1969-03-19 Kontaktraster til anvendelse pa bade negativer og positiver ved fotomekanisk reproduktion savel ved direkte dybtryk som direkte eller indirekte offsettryk DK133206C (da)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
IT3586168 1968-03-27
IT3847068 1968-07-16

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DK133206B true DK133206B (da) 1976-04-05
DK133206C DK133206C (da) 1976-09-06

Family

ID=26329019

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DK150969A DK133206C (da) 1968-03-27 1969-03-19 Kontaktraster til anvendelse pa bade negativer og positiver ved fotomekanisk reproduktion savel ved direkte dybtryk som direkte eller indirekte offsettryk

Country Status (8)

Country Link
AT (1) AT294137B (da)
BE (1) BE727728A (da)
CH (1) CH498427A (da)
DK (1) DK133206C (da)
FR (1) FR1598313A (da)
GB (1) GB1236626A (da)
NL (1) NL6903196A (da)
SE (1) SE357268B (da)

Also Published As

Publication number Publication date
FR1598313A (da) 1970-07-06
AT294137B (de) 1971-10-15
NL6903196A (da) 1969-09-30
GB1236626A (en) 1971-06-23
BE727728A (da) 1969-07-01
CH498427A (it) 1970-10-31
SE357268B (da) 1973-06-18
DK133206C (da) 1976-09-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SE441044B (sv) Fotosensitivt element till anvendning som flexografisk tryckplat eller som fotoresist
NO149424C (no) Fremgangsmaate til avgiftning av avvann som inneholder fenol, fenolderivater eller fenol og formaldehyd
NO153766C (no) Gjennomsiktige plateprodukter som er fri for irisering, og fremgangsmaate ved fremstilling derav.
DK124065B (da) Fremgangsmåde ved trykkemekanisme og trykningsmekanisme til udøvelse af fremgangsmåden.
ES211954Y (es) Marco o prensa de pruebas para la exposicion de placas de impresion.
NL144159B (nl) Gasmasker.
ES216670Y (es) Marco para reproducciones graficas o cuadros.
NO145013C (no) Makromolekylaere adenin-derivater for anvendelse som substrat ved affinitetskromatografering, og ved enzymatiske og/eller ko-enzymatiske reaksjoner
DK133206B (da) Kontaktraster til anvendelse pa bade negativer og positiver ved fotomekanisk reproduktion, savel ved direkte dybtryk som direkte eller indirekte offsettryk
NO142782C (no) Polyaminforbindelser for anvendelse som antimikrobielt middel og/eller algeinhibitor
DK141319C (da) Fremgangsmaade og anlaeg til regulering af elektromotorenkeltdrev ved flerfoldstraekkeanlaeg
DK116488B (da) Diazotypimateriale, der som lysfølsomt stof indeholder én eller flere p-aminobenzendiazoforbindelser.
DK117977B (da) Ventilmekanisme til åndedrætsapparater ved respiratorer eller narkoseanlæg.
NL7503961A (nl) Drukvel of drukplaat.
DK102077A (da) Glasplade, klar til forsendelse og/eller indbygning
DK592975A (da) N-(triklormetyltio, tetrakloretyltio eller tetraklorfluoretyltio)-halogenbenzoylanilider og deres anvendelse som fungicider
DK140499B (da) N,n!-bis ( (1-formanido-2,2,2-trichlor)ethyl)-piperazin til anvendelse som fungicid
BE765987A (fr) Composition depilatoire, (inv: p. pistre)
ES163840Y (es) Helice de aspas inclinables, para ventiladores.
NO141583C (no) Koplingsanordning for trykknappstyrt regisamband eller hoeyttaleranlegg.
DK131455B (da) Litografisk trykkeplade og billedlak til anvendelse ved dens fremstilling.
CA607322A (en) Photographic stencil negatives or positives
DK107563C (da) Fremgangsmåde til fremstilling af 1-(1-naftyl)-2-aminoætanolderivater eller salte deraf.
DK104229C (da) Fremgangsmåde til formindskelse af indholdet af kviksølv i hydrogen eller en anden med kviksølv ikke reaktionsdygtig gas, som er forurenet dermed.
CA960481A (en) Printing of photographic colour negatives