DK145357B - Laminat til fremstilling af trykkeplader eller fotoreservager - Google Patents
Laminat til fremstilling af trykkeplader eller fotoreservager Download PDFInfo
- Publication number
- DK145357B DK145357B DK1673A DK1673A DK145357B DK 145357 B DK145357 B DK 145357B DK 1673 A DK1673 A DK 1673A DK 1673 A DK1673 A DK 1673A DK 145357 B DK145357 B DK 145357B
- Authority
- DK
- Denmark
- Prior art keywords
- photopolymerizable layer
- laminate
- polymeric binder
- copolymer
- unsaturated
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract description 10
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 15
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 13
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 12
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 8
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 claims description 6
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 6
- 229910000406 trisodium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 235000019801 trisodium phosphate Nutrition 0.000 claims description 6
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 4
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 claims description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 3
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 claims description 3
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 claims description 3
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 claims description 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims 3
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 claims 1
- 101100027898 Homo sapiens OCR1 gene Proteins 0.000 claims 1
- 102100026725 Ovarian cancer-related protein 1 Human genes 0.000 claims 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 claims 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract description 20
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 8
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 35
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 19
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000010408 film Substances 0.000 description 12
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 11
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 8
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 5
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 5
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M sodium hydroxide Inorganic materials [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AMPCGOAFZFKBGH-UHFFFAOYSA-N 4-[[4-(dimethylamino)phenyl]-(4-methyliminocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)methyl]-n,n-dimethylaniline Chemical compound C1=CC(=NC)C=CC1=C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 AMPCGOAFZFKBGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical group 0.000 description 4
- GPNYZBKIGXGYNU-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-6-[(3-tert-butyl-5-ethyl-2-hydroxyphenyl)methyl]-4-ethylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CC)=CC(CC=2C(=C(C=C(CC)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O GPNYZBKIGXGYNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 3
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXDJCCTWPBKUKL-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminophenyl)-(4-imino-3-methylcyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)methyl]aniline;hydron;chloride Chemical compound Cl.C1=CC(=N)C(C)=CC1=C(C=1C=CC(N)=CC=1)C1=CC=C(N)C=C1 AXDJCCTWPBKUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical class OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- JUQPZRLQQYSMEQ-UHFFFAOYSA-N CI Basic red 9 Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC=C1C(C=1C=CC(N)=CC=1)=C1C=CC(=[NH2+])C=C1 JUQPZRLQQYSMEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical group OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MJVAVZPDRWSRRC-UHFFFAOYSA-N Menadione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(C)=CC(=O)C2=C1 MJVAVZPDRWSRRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- UTOVMEACOLCUCK-PLNGDYQASA-N butyl maleate Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C/C(O)=O UTOVMEACOLCUCK-PLNGDYQASA-N 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- PEVJCYPAFCUXEZ-UHFFFAOYSA-J dicopper;phosphonato phosphate Chemical compound [Cu+2].[Cu+2].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O PEVJCYPAFCUXEZ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- FTZLWXQKVFFWLY-UHFFFAOYSA-L disodium;2,5-dichloro-4-[3-methyl-5-oxo-4-[(4-sulfonatophenyl)diazenyl]-4h-pyrazol-1-yl]benzenesulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].CC1=NN(C=2C(=CC(=C(Cl)C=2)S([O-])(=O)=O)Cl)C(=O)C1N=NC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 FTZLWXQKVFFWLY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical class CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M ethyl violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000011152 fibreglass Substances 0.000 description 2
- WDPIZEKLJKBSOZ-UHFFFAOYSA-M green s Chemical compound [Na+].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C2=CC=C(C=C2C=C(C=1O)S([O-])(=O)=O)S([O-])(=O)=O)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 WDPIZEKLJKBSOZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- FRCAGVUKJQCWBD-UHFFFAOYSA-L iodine green Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(\C=1C=CC(=CC=1)[N+](C)(C)C)=C/1C=C(C)C(=[N+](C)C)C=C\1 FRCAGVUKJQCWBD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M lithium hydroxide Inorganic materials [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- IPSIPYMEZZPCPY-UHFFFAOYSA-N new fuchsin Chemical compound [Cl-].C1=CC(=[NH2+])C(C)=CC1=C(C=1C=C(C)C(N)=CC=1)C1=CC=C(N)C(C)=C1 IPSIPYMEZZPCPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical class OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- UJMBCXLDXJUMFB-GLCFPVLVSA-K tartrazine Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)C1=NN(C=2C=CC(=CC=2)S([O-])(=O)=O)C(=O)C1\N=N\C1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 UJMBCXLDXJUMFB-GLCFPVLVSA-K 0.000 description 2
- CZIRZNRQHFVCDZ-UHFFFAOYSA-L titan yellow Chemical compound [Na+].[Na+].C1=C(C)C(S([O-])(=O)=O)=C2SC(C3=CC=C(C=C3)/N=N/NC3=CC=C(C=C3)C3=NC4=CC=C(C(=C4S3)S([O-])(=O)=O)C)=NC2=C1 CZIRZNRQHFVCDZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940096522 trimethylolpropane triacrylate Drugs 0.000 description 2
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 2
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 2
- 235000019235 yellow 2G Nutrition 0.000 description 2
- LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(CO)COC(=O)C=C LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYECOAILUNWEAL-NUDFZHEQSA-N (4z)-4-[[2-methoxy-5-(phenylcarbamoyl)phenyl]hydrazinylidene]-n-(3-nitrophenyl)-3-oxonaphthalene-2-carboxamide Chemical compound COC1=CC=C(C(=O)NC=2C=CC=CC=2)C=C1N\N=C(C1=CC=CC=C1C=1)/C(=O)C=1C(=O)NC1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 ZYECOAILUNWEAL-NUDFZHEQSA-N 0.000 description 1
- VSKCCZIUZNTICH-ZPYUXNTASA-N (e)-but-2-enoic acid;ethenyl acetate Chemical compound C\C=C\C(O)=O.CC(=O)OC=C VSKCCZIUZNTICH-ZPYUXNTASA-N 0.000 description 1
- AAFCVNRTKWSHAI-MKWAYWHRSA-N (z)-4-butoxy-4-oxobut-2-enoic acid;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCCCOC(=O)\C=C/C(O)=O AAFCVNRTKWSHAI-MKWAYWHRSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- XHXSXTIIDBZEKB-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5,6,7,8-octamethylanthracene-9,10-dione Chemical compound CC1=C(C)C(C)=C2C(=O)C3=C(C)C(C)=C(C)C(C)=C3C(=O)C2=C1C XHXSXTIIDBZEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 1,3-dinitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- DVFAVJDEPNXAME-UHFFFAOYSA-N 1,4-dimethylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(C)=CC=C2C DVFAVJDEPNXAME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 1,5-Pentadiol Natural products OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2Cl BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAOJJEJGPZRYJF-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxyhexane Chemical class CCCCCCOC=C YAOJJEJGPZRYJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVOVXOXRXQFTAS-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-7-propan-2-ylphenanthrene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=C(C(C)C)C=C3C(=O)C(=O)C2=C1C WVOVXOXRXQFTAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 2,3-di(prop-2-enoyloxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(OC(=O)C=C)COC(=O)C=C PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVPKNMBRVBMTLB-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloronaphthalene-1,4-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(Cl)=C(Cl)C(=O)C2=C1 SVPKNMBRVBMTLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIJPZYXCIHZVGP-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C(C)C(C)=C2 KIJPZYXCIHZVGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQZHOBBQNFBTJE-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-3-methylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C(C)C(Cl)=C2 YQZHOBBQNFBTJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPKCTSIVDAWGFA-UHFFFAOYSA-N 2-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3C(=O)C2=C1 FPKCTSIVDAWGFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKKQLOUBFINSIB-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2,2-triphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 CKKQLOUBFINSIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZCDMINQJLGWEP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2-diphenylpent-4-en-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(CC=C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 RZCDMINQJLGWEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIVXVZXROTWKIH-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2-diphenylpropan-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 DIVXVZXROTWKIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[(2-methylprop-2-enoylamino)methyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCNC(=O)C(C)=C TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFFYQSOLZWNGSO-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[3-[1-[3-(2-methylprop-2-enoylamino)propoxy]ethoxy]propyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCCOC(C)OCCCNC(=O)C(C)=C UFFYQSOLZWNGSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTWDKFNVVLAELH-UHFFFAOYSA-N 2-methylcyclohexa-2,5-diene-1,4-dione Chemical compound CC1=CC(=O)C=CC1=O VTWDKFNVVLAELH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTZCFGZBDDCNHI-UHFFFAOYSA-N 2-phenylanthracene-9,10-dione Chemical compound C=1C=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=CC=1C1=CC=CC=C1 NTZCFGZBDDCNHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZHCVNIARUXHAL-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-ethylphenol Chemical compound CCC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 LZHCVNIARUXHAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)(C)C)=CC=C3C(=O)C2=C1 YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTWRFCRQSLVESJ-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCOC(=O)C(C)=C HTWRFCRQSLVESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFLJTEHFZZNCTR-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCOC(=O)C=C GFLJTEHFZZNCTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical class CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHZXTIBMKNSJCJ-UHFFFAOYSA-N 3-{[(4-{[4-(dimethylamino)phenyl](4-{ethyl[(3-sulfophenyl)methyl]amino}phenyl)methylidene}cyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)(ethyl)azaniumyl]methyl}benzene-1-sulfonate Chemical compound C=1C=C(C(=C2C=CC(C=C2)=[N+](C)C)C=2C=CC(=CC=2)N(CC)CC=2C=C(C=CC=2)S([O-])(=O)=O)C=CC=1N(CC)CC1=CC=CC(S(O)(=O)=O)=C1 IHZXTIBMKNSJCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEIQOMCWGDNMHM-UHFFFAOYSA-N 5-phenylpenta-2,4-dienoic acid Chemical compound OC(=O)C=CC=CC1=CC=CC=C1 FEIQOMCWGDNMHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKCRIUIBDUVZSP-UHFFFAOYSA-N 7,8,9,10-tetrahydrotetracene-1,2-dione Chemical compound C1CCCC2=C1C=C1C=C3C=CC(=O)C(=O)C3=CC1=C2 RKCRIUIBDUVZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 9,10-anthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940076442 9,10-anthraquinone Drugs 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- 201000004624 Dermatitis Diseases 0.000 description 1
- QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N Diacetyl Chemical group CC(=O)C(C)=O QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical group ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000219739 Lens Species 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical class OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFQSMLBZXQOMKK-UHFFFAOYSA-N [3-[(4,8-diamino-6-bromo-1,5-dioxonaphthalen-2-yl)amino]phenyl]-trimethylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C1=CC=CC(NC=2C(C3=C(N)C=C(Br)C(=O)C3=C(N)C=2)=O)=C1 RFQSMLBZXQOMKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910000318 alkali metal phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 1
- VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N arsonium Chemical compound [AsH4+] VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 208000010668 atopic eczema Diseases 0.000 description 1
- JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N auramine O free base Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=N)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N benzil Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHMRXAIRPKSGDE-UHFFFAOYSA-N benzo[a]anthracene-7,12-dione Chemical compound C1=CC2=CC=CC=C2C2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O LHMRXAIRPKSGDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950011260 betanaphthol Drugs 0.000 description 1
- PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC=C PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLHKEWQKOHJIMH-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,3-disulfonate Chemical compound C=COS(=O)(=O)C1=CC=CC(S(=O)(=O)OC=C)=C1 FLHKEWQKOHJIMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHXBXGHGYCSRAP-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=C(C(=O)OC=C)C=C1 IHXBXGHGYCSRAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJCHRUXIDGEWDK-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) butanedioate Chemical compound C=COC(=O)CCC(=O)OC=C AJCHRUXIDGEWDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZQAAQZDDMEFGZ-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) hexanedioate Chemical compound C=COC(=O)CCCCC(=O)OC=C JZQAAQZDDMEFGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEFDCLMNVWHSGT-UHFFFAOYSA-N ethenylcyclopentane Chemical compound C=CC1CCCC1 BEFDCLMNVWHSGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002573 ethenylidene group Chemical group [*]=C=C([H])[H] 0.000 description 1
- SQHOAFZGYFNDQX-UHFFFAOYSA-N ethyl-[7-(ethylamino)-2,8-dimethylphenothiazin-3-ylidene]azanium;chloride Chemical compound [Cl-].S1C2=CC(=[NH+]CC)C(C)=CC2=NC2=C1C=C(NCC)C(C)=C2 SQHOAFZGYFNDQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000012701 green S Nutrition 0.000 description 1
- 239000004120 green S Substances 0.000 description 1
- PBZROIMXDZTJDF-UHFFFAOYSA-N hepta-1,6-dien-4-one Chemical class C=CCC(=O)CC=C PBZROIMXDZTJDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N hex-1-en-3-one Chemical class CCCC(=O)C=C JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical class COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- IZRZMBCKGLWYSC-UHFFFAOYSA-N n'-(2-aminoethyl)ethane-1,2-diamine;2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O.CC(=C)C(N)=O.CC(=C)C(N)=O.NCCNCCN IZRZMBCKGLWYSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N n-[6-(prop-2-enoylamino)hexyl]prop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NCCCCCCNC(=O)C=C YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIWRFSMVIUAEBX-UHFFFAOYSA-N n-methyl-1-phenylmethanamine Chemical compound CNCC1=CC=CC=C1 RIWRFSMVIUAEBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005002 naphthylamines Chemical class 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical group COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATGAWOHQWWULNK-UHFFFAOYSA-I pentapotassium;[oxido(phosphonatooxy)phosphoryl] phosphate Chemical class [K+].[K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O ATGAWOHQWWULNK-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L peroxydisulfate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- UORVCLMRJXCDCP-UHFFFAOYSA-N propynoic acid Chemical compound OC(=O)C#C UORVCLMRJXCDCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 238000007342 radical addition reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004334 sorbic acid Substances 0.000 description 1
- 229940075582 sorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000010199 sorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- HISNRBVYBOVKMB-UHFFFAOYSA-N stibonium Chemical compound [SbH4+] HISNRBVYBOVKMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- LPSWFOCTMJQJIS-UHFFFAOYSA-N sulfanium;hydroxide Chemical class [OH-].[SH3+] LPSWFOCTMJQJIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012756 tartrazine Nutrition 0.000 description 1
- 239000004149 tartrazine Substances 0.000 description 1
- 229960000943 tartrazine Drugs 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N tetrachloro-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003698 tetramethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- CRUVUWATNULHFA-UHFFFAOYSA-M tetramethylphosphanium;hydroxide Chemical compound [OH-].C[P+](C)(C)C CRUVUWATNULHFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J tetrapotassium;phosphonato phosphate Chemical class [K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- MPCYPRXRVWZKGF-UHFFFAOYSA-J tetrasodium 5-amino-3-[[4-[4-[(8-amino-1-hydroxy-3,6-disulfonatonaphthalen-2-yl)diazenyl]phenyl]phenyl]diazenyl]-4-hydroxynaphthalene-2,7-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].C1=C(S([O-])(=O)=O)C=C2C=C(S([O-])(=O)=O)C(N=NC3=CC=C(C=C3)C3=CC=C(C=C3)N=NC3=C(C=C4C=C(C=C(C4=C3O)N)S([O-])(=O)=O)S([O-])(=O)=O)=C(O)C2=C1N MPCYPRXRVWZKGF-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- HADKRTWCOYPCPH-UHFFFAOYSA-M trimethylphenylammonium hydroxide Chemical class [OH-].C[N+](C)(C)C1=CC=CC=C1 HADKRTWCOYPCPH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N vinyl methyl ketone Chemical class CC(=O)C=C FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
Description
(19) DANMARK (w) , \R£/
^ Π2) FREMLÆGGELSESSKRIFT od H5357 B
DIREKTORATET FOR PATENT. OG VAREMÆRKEVÆSENET
(21) Ansøgning nr. 1 6/73 (51) IntCI.3 0 03 F 7/10 (22) Indleveringsdag 3· jan· 1973 (24) Løbedag 3. feb. 1972 (41) Aim. tilgængelig 3. jan. 1973 (44) Fremlagt 1 . nov. 1 982 (86) International ansøgning nr.
(86) International indleveringsdag (85) Videreførelsesdag - (62) Stamansøgning nr. 481/72
(30) Prioritet 4. feb. 1971, 112797, US
(71) Ansøger DYNACHEM CORPORATION, Santa Fe Springs, US.
(72) Opfinder Michael Nicholas Gilano, US: Mel vin Alan Lipson, US: Richard Edmund Beaupre, US.
(74) Fuldmægtig ingeniørfirmaet Hofman-Bang & Bout ard.
(54> Laminat til fremstilling af trykkeplader eller fotoreser= vager.
Opfindelsen angår et laminat til fremstilling af trykkeplader eller fotoreservager, af den i indledningen til krav 1 angivne art. Opfindelsen omhandler således et laminat med et lag af lysfølsom blanding, der let kan fremkaldes ved hjælp af en al- kalisk, vandig opløsning til frembringelse af et produkt, der D er anvendeligt til trykkeplader og fotoreservager. Disse lami- nater er særligt anvendelige til fremstilling af trykte kreds- Ό løb, fordi de reservager, der er fremstillet på basis deraf,
.O
-f. er impermeable over for konventionelle pletteringsopløsninger.
r— *
D
145357 2
Man har længe været klar over ønskværdigheden af at kunne tildanne laminater med lysfølsomme lag, der kan fremkaldes uden nødvendigheden af de konventionelle, organiske opløsningsmidler. Organiske opløsningsmidler er dyre og risikable hvad angår toxicitet og brændbarhed, og de forurener luft og vand.
Fordelene ved sådanne vandige systemer blev bemærket så tidligt som i 1956 i forbindelse med U.S.A.-patent nr. 2 760 863; imidlertid blev der ikke beskrevet nogen specifik blanding, og det kan antages, at patentejeren ikke var i stand til at finde nogen tilfredsstillende blanding. Andre henvisninger til sådanne vandopløselige blandinger forefindes i U.S.A.-patent nr.
2 927 022 og 2 893 868. Uanset hvilke tekniske fordele de blandinger, der er beskrevet i disse patenter, er associeret med, er det klart, at sådanne blandinger i det omfang, i hvilket de kunne fremkaldes med vandige, alkaliske opløsninger, enten ikke var tilstrækkeligt uopløselige på de eksponerede dele eller også var i stand til at kunne angribes ved den konventionelle plettering og af ætseopløsninger, hvor fotoreservagen blev anvendt til et trykt kredsløb.
I forbindelse med laminatet ifølge opfindelsen, der er af den i indledningen til krav 1 angivne art, har det nu vist sig, at man under iagttagelse af de i den kendetegnende del af krav 1 angivne forholdsregler kan fremstille fotopolymeriserbare lag på basis af fotopolymeriserbare blandinger, der kan fremkaldes med vandige, alkaliske opløsninger. Yderligere har de eksponerede dele af disse blandinger fremragende modstandsdygtighed overfor alkaliske opløsninger, herunder de alkaliske ætsemidler og de alkaliske pletteringsopløsninger, der hyppigt forekommer under fremstillingen af trykte kredsløb og ad kemisk vej bearbejdede dele.
145357 3
Fordelene ved laminatet ifølge opfindelsen fremkommer ved i forbindelse med det fotopolymeriserbare lag at udvælge et forud dannet, forligeligt, makromolekylært, polymert bindemiddel, der er en copolymer af (1) en monomer af en ikke-sur vinylmonomer, og (2) en umættet, carboxylgruppeholdig monomer, hvorved bestanddelene (1) og (2) er underkastet de i krav 1 angivne begrænsninger. Anvendelsen af den her beskrevne blanding eliminerer fuldstændigt nødvendigheden af organiske opløsningsmidler og tilvejebringer en i høj grad opløsningsmiddelresistent reservage.
Man kender ganske vist fra GB patentskrift nr. 1 188 921 et laminat, der indeholder en kobberbærer, et fotopolymeriserbart lag af den i indledningen til krav 1 angivne art samt et dæklag, der er impermeabelt overfor oxygen. Dette patent er dog begrænset til en kategori af fotopolymeriserbare materialer, hvori det polymere bindemiddel indeholder en udragende, vandopløselig saltgruppe, jvf. patentets side 2, linie 13-18. De laminater, som er beskrevet i det engelske patent, er ikke velegnet som fo-toreservager til trykte kredsløb og kemisk ætsning, fordi de er ustabile og let bliver angrebet af ætse- og pletteringsopløsninger. Af det engelske patent fremgår det endvidere, at alle de fremstillede blandinger indeholder et monofunktionelt salt som et af de polymeriserbare materialer. Dette salt dannes umiddelbart ved sammenblanding af blandingens bestanddele og før polymerisationen. Hertil kommer, at det eneste formål med fremstillingen af reservagen i engelsk patent nr. 1 188 921 er at fremstille trykkeplader. Den fotopolymere tjener udelukkende som sværtereceptor, og det er derfor ikke nødvendigt, at den skal kunne modstå alkali- og syrebehandling. Desuden er det beskyttende lag, der er vist i det engelske patent, et meget tyndt lag, der ikke kan skrælles af ad mekanisk vej, jvf. det afsnit i patentet, der forbinder side 2 med side 3. I modsætning dertil må det beskyttende lag i laminatet ifølge opfindelsen kunne afskrælles ad mekanisk vej og være selvunderstøttende.
145357 4
Med henblik på dette formål kan det tørre, fotopolymeriserbare lag dækkes med polyethylenfilm på en overflade og med en film af polyethylenterephthalat på den anden, hvorved det bemærkes, at begge disse skrælles af under fremstillingen af fotoreser-vågen.
Det fotopolymeriserbare lag kan desuden indeholde passende farvestoffer og pigmenter og andre additiver, såsom blødgøringsmid-ler og adhæsionspromotorer, der kan være nødvendige til at forbedre de fysiske og kemiske egenskaber af det fotopolymeriserbare lag.
Den ethylenisk umættede forbindelse må indeholde mindst to terminale ethyleniske grupper (CH2=C<) og have et kogepunkt over 100°C under atmosfæretryk og være i stand til at danne en højmolekylær polymer ved en fotoinitieret, kædeoverførende additionspolymerisation, hvorved der gøres brug af frie radikaler.
Sådanne forbindelser er beskrevet i U.S.A.-patent nr. 2 760 863.
Passende forbindelser, der kan anvendes alene eller i kombination, omfatter et alkylen- eller et polyalkylenglycoldiacrylat fremstillet ud fra de alkylenglycoler, der indeholder 2 til 15 carbonatomer, eller de polyalkylenetherglycoler, der indeholder 1 til 10 etherbindinger.
På grund af materialernes generelt hurtige uopløseliggørelses-• hastighed ved eksponering, formentligt hidrørende fra en relativt hurtig etablering af en polymer netværksstruktur, er en fremtrædende kategori af de lavmolekylære additionspolymeriser-bare bestanddele sådanne, der har et større antal additionspo-lymeriserbare, ethyleniske bindinger, især når de foreligger i form af terminale.bindinger, og især sådanne, i hvilke i det mindste en og fortrinsvis de fleste af sådanne bindinger er konjugeret med et dobbeltbundet carbonatom, herunder carbon, der er dobbeltbundet til carbon og til sådanne heteroatomer som nitrogen, oxygen og svovl. Sådanne materialer, i hvilke de ethyleniske umættede grupper, især vinylidengrupperne, er konjuge 5 145357 rede med ester- eller amidstrukturer, skal især fremhæves. Ifølge opfindelsen anvendes som anført umættede estere af polyoler, især sådanne estere af methylencarbpxylsyrerne, for eksempel ethylendiacrylat, diethylenglycoldiacrylat, glyceroldiacrylat, glyceroltriacrylat, ethylendimethacrylat, 1,3-prqpylendimeth-acrylat, 1,2,4-butantrioltrimethacrylat, 1,4-benzendioldimeth-acrylat, pentaerythritoltetramethacrylat, 1,3-propandioldiacry-lat, 1,5-pentadioldimethacrylat, bis-acrylaterne og methacryla-terne af polyethylenglycoler med molekylvægt 200 - 500, umættede amider, især af methylencarboxylsyrerne, og især af alfa, omega-diaminer og oxygenafbrudte omega-diaminer, såsom methylen-bisacrylamid, methylen-bis-methacrylamid, 1,6-hexamethylen-bis-acrylamid, diethylentriamin-tris-methacrylamid, bis-(methacryl-amidopropoxy)-ethan, B-methacrylamidoethylmethacrylat, N-(B-hy·^ droxyethyl)-oxyethyl-acrylamid og vinylestere, såsom divinyl-succinat, divinyladipat, divinylphthalat, divinylterephthalat, divinylbenzen-1,3-disulfonat og divinylbutan-1,4-disulfonat.
De foretrukne monomere forbindelser er de di- og polyfunktiqnel-le, men man kan også anvende monofunktionelle monomere. Mængden af den tilsatte monomer varierer med den særlige termoplastiske polymer. J'
Bestanddelen af styrentypen af det polymere bindemiddel i det fotopolymeriserbare lag af laminatet ifølge opfindelsen har den almene formel: R-C=CH„ 0 hvor R er hydrogen eller en alkylgruppe med mellem 1 og 6 car-bonatomer eller et halogenatom.
Den ikke-sure vinylmonomerbestanddel af det polymere bindemiddel i det fotopolymeriserbare lag af laminatet ifølge opfindelsen " har den almene formel: 6 145357
CH„=C-Y
Z | /
X
hvor symbolerne har den i den kendetegnende del af krav 1 angivne betydning.
Eksempler på disse vinylmonomere er vinylacetat, vinylbutyrat, vinylbenzoat, vinylchlorid, methylacrylat, acrylonitril, alkyl-substituerede acrylamider, vinylmethylketon, vinylpropylketon, vinylmethylether, vinylethylether og vinylhexylether.
Den anden comonomere i det fotopolymeriserbare lag i laminatet ifølge opfindelsen er en eller flere umættede, carboxylgruppe-holdige monomere, med fra 3 til 15 carbonatomer, men fortrinsvis fra 3 til 6 carbonatomer. De mest foretrukne forbindelser er acrylsyre og methacrylsyre. Andre syrer, som kan anvendes, er kanelsyre, crotonsyre, sorbinsyre, itaconsyre, propiolsyre, maleinsyre og fumarsyre, eller de tilsvarende halvestere deraf eller - hvor det er muligt - det tilsvarende anhydrid.
Forholdet mellem styren- eller vinylbestanddelen og den sure comonomer i det fotopolymeriserbare lag i laminatet ifølge opfindelsen vælges sådan, at den copolymere er opløselig i den 2% vandige opløsning af trinatriumphosphat. Hvis mængden af den styren- eller vinylmonomere er for høj, vil den ikke-eks-ponerede del ikke være tilstrækkelig opløselig; hvis på den anden side mængden af den styren- eller vinylmonomere er for lav, vil det eksponerede areal være klæbrigt, opsvulmet eller opløst i den 2% vandige opløsning af trinatriumphosphat. Som et bekvemt kriterium bør den som bindemiddel tjenende copolymere være af en sådan art, at en 40% opløsning i ketoner eller alkoholer vil have en viskositet på fra 10G til 50 000 cP.
Repræsentative comonomerforhold i det polymere bindemiddel ligger mellem 70:30 og 85:15 for styren-acrylsyre eller -methacrylsyre, mellem 35:65 og 70:30 for styren-monobutylmaleat og mellem 70:30 og 95:5 for vinylacetat-crotonsyre. Polymerisationsgraden af den som bindemiddel tjenende copolymer er af en sådan art, at bindemidlet danner en ikke-klæbrig, kontinuerlig 7 145357 film efter eksponering og fremkaldelse. Stort set ligger molekylvægten mellem 1000 og 500 000. Intervallerne for copolymer-forholdene og polymerisationsgraden for de særlige bindemidler kan let bestemmes ved at undersøge opløseligheden i den fortyndede, alkaliske opløsning af repræsentative polymere. Dette repræsenterer en molekylvægt på fra ca. 1000 til 500 000.
Som anført er reservagen fremstillet ud fra laminatet ifølge » opfindelsen resistent over for de sædvanlige pletterings- og ætseopløsninger. Mest overraskende er dens resistens overfor det kobberpyrophosphat, der anvendes ved mønsterplettering, og som repræsenterer en ekstremt høj alkalinitet. Andre opløsninger, der efterlader reservagen upåvirket, omfatter ferrichlo-rid, ammoniumpersulfat og chromsvovlsyre.
De fotoinitiatorer, der anvendes i det fotppolymeriserbare lag 1 laminatet ifølge opfindelsen, er fortrinsvis sådanne, som er aktiverbare med aktinisk lys og termisk inaktive ved 185°C eller derunder. Disse omfatter de substituerede eller usubstituerede polynucleære quinoner, 9,10-anthraquinon, 1-chloranthraquinon, 2-chloranthraquinon, 2-methylanthranquinon, 2-ethylanthraquinon, 2-tert.-butylanthraquinon, octamethylanthraquinon, 1,4-naph-thoquinon, 9,10-phenanthrenquinon, 1,2-benzanthraquinon, 2,3-benzanthraquinon, 2-methyl-l,4-naphthoquinon, 2,3-dichlornaph-thoquinon, 1,4-dimethylanthraquinon, 2,3-dimethylanthraquinon, 2-phenylanthraquinon, 2,3-diphenylanthraquinon natriumsalt af anthraquinon-alfa-sulfonsyre, 3-chlor-2-methyl-anthraquinon, retenquinon, 7,8,9,10-tetrahydronaphthacenquinon og 1,2,3,4-tetrahydrobenz(a)anthracen-7,11-dion.
Følgende fotoinitiator, der er beskrevet i U.S.A. patent nr.
2 760 863, og hvoraf nogle kan være termisk aktive ved temperaturer, der er så lave som 85°C, kan også anvendes: vicinale ketaldonyl-forbindelser, såsom diacetyl og benzil, alfa-ketal-dcnylalkoholer, såsom alfa-methylbenzoin, alfa-allylbenzoin og alfa-phenylbenzoin.
Sølvpersulfat er også anvendeligt som en initiator, der danner 8 145357 frie radikaler, og som kan aktiveres ved aktinisk udstråling.
Visse aromatiske ketoner, for eksempel benzophenon og 4,4'-bis-dialkylaminobenzophenoner, er også anvendelige.
Det fotopolymeriserbare lag i laminatet ifølge opfindelsen indeholder også termiske polymerisationsinhibitorer. Disse omfatter p-methoxyphenol, hydroquinon og alkyl- og ary1substituerede hydroquinoner og quinoner, tert.-butylcatechol, pyrogallol, kobberresinat, naphthylaminer, beta-naphthol, cuprochlorid, 2,6-di-tert.-butyl-p-cresol, 2,2-methylen-bis-(4-ethyl-6-t.-bu-tylphenol), phenothiazin, pyridin, nitrobenzen, dinitrobenzen, p-toluquinon, chloranil, arylphosphater og arylalkylphosphiter.
Om ønsket kan det fotopolymeriserbare lag i laminatet ifølge opfindelsen indeholde farvestoffer og pigmenter. Passende farvende midler vil være forligelige med de fotosensible blandinger og ikke inteferere i større omfang med blandingens fotosensibilitet. De følgende specifikke forbindelser tjener som illustrationer: Fuchsin (C.I. 42510), auraminbase (C.I. 4100B), calcoid grønt S (C.I. 44090), Para Magenta (C.I. 42500), trypa-rason (C.I. 42505), ny magenta (C.I. 42520), surt violet RRH (C.I. 42425), rødviolet 5RS (C.I. 42690), nilblå 2B (C.I. 51185), nyt methylenblåt GG (C.I. 51195), C.I. basisk blåt 20 (C.I.
42585), iodongrønt (C.I. 42556), natgrønt B (C.I. 42115), C.I. direkte gult 9 (C.I. 19540), C.I. surt gult 17 (C.I. 18965), C.I. surt gult 29 (C.I. 18900), tartrazin (C.I. 19140), supra-mingult G (C.I. 19300), buffalosort 10B (C.I. 27790), naphtha-lensort 12B (C.I. 20350), fast black L (C.I. 51215), ethylvio-let (C.I. 42600), pontacyluldblåt BL (C.I. 50315), pontacyluld-blåt GL (C.I. 52320) (tallene hidrører fra den anden udgave af Color Index).
Laminatet med det fotopolymeriserbare lag udsættes for en kilde for aktinisk udstråling. Dette kan foregå gennem et halvtonebillede eller et proceslysbillede, for eksempel et procesnegativ eller -positiv, en stencil eller en maske. Eksponeringen kan også gennemføres gennem et negativt eller positivt billede med en kontinuerlig tone. Eksponeringen kan foretages ved kontakt- eller projektionsmetoden, med eller uden en dæk- 9 145357 plade over det fotopolymeriserbare lag eller ved projektion under anvendelse af et dæklag. Disse metoder er kendt af sagkyndige.
Da additionspolymerisationsinhibitorer, der danner frie radikaler, og som er aktiverbare ved aktinisk udstråling, sædvanligvis udviser deres maksimale følsomhed i det ultraviolette område, bør udstrålingskilden tilvejebringe en effektiv mængde af denne udstråling. Både kilder, som frembringer punktudstråling og bredspektret udstråling, er effektive. Sådanne kilder omfatter kulbuer, kviksølvdampbuer, fluorescerende lamper med emitterende phosphor ved ultraviolet bestråling, argonglødelamper, elektroniske blitzlys og fotografiske projektørlamper.
Blandt disse er kviksølvdamplamperne, især højfjeldssole, mest velegnet. Under visse omstændigheder kan det være fordelagtigt at eksponere med synligt lys, idet man anvender en fotoinitia-tor, der er følsom i spektrets synlige område, for eksempel 9,10-phenanthrenguinon. I sådanne tilfælde bør udstrålingskilden tilvejebringe en effektiv mængde synlig udstråling. Mange af de i det foregående angivne udstrålingskilder tilvejebringer den krævede mængde synligt lys.
De fotopolymeriserbare blandinger kan efter eksponering blive fremkaldt, for eksempel ved dynamisk påvirkning fra stråler ved nedsænkning under omrøring, ved børstning eller skrubning til ønskede billeder med vandige baser, dvs. vandige opløsninger af vandopløselige baser i koncentrationer, der almindeligvis ligger inden for intervallet mellem 0,01 og 10 vægt-%.
Passende baser til fremkaldelsen omfatter alkalimetalhydroxi-derne,for eksempel lithium-, natrium- og kaliumhydroxid, de basisk reagerende alkalimetalsalte af svage syrer, for eksempel lithium-, natrium- og kaliumcarbonater og -bicarbonater, aminer med en baseioniseringskonstant, der er større end ca.
1 x 10 for eksempel primære aminer, såsom benzyl-, butyl-og allylaminer, sekundære aminer, for eksempel dimethylamin og benzylmethylamin, tertiære aminer, for eksempel trimethyl-amin og triethylamin, primære, sekundære og tertiære hydroxy-aminer, for eksempel propanol-, diethanol- og triethanolaminer, 10 145357 og 2-amino-2-hydroxymethyl-l,3-propandiol, cycliske aminer, for eksempel morpholin, piperidin, piperazin og pyridin, poly-aminer, såsom hydrazin, ethylen- og hexamethylenaminer, de vandopløselige basiske salte, for eksempel carbonaterne og bi-carbonaterne af de ovenfor angivne aminer, ammoniumhydroxid og tetrasnbstituerede ammoniumhydroxider, for eksempel tetramethyl-, tetraethyl-, trimethylbenzyl-, og trimethylphenylammoniumhydroxider, sulfoniumhydroxider, for eksempel trimethyl-, diethyl-, methyl-, dimethylbenzylsulfoniumhydroxider og de basiske, opløselige salte deraf, for eksempel carbonaterne, bicarbonaterne og sulfiderne, alkalimetalphosphater og -pyrophosphater, for eksempel natrium- og kaliumtriphosphater og natrium- og kalium-pyrophosphater , tetrasubstitueret (fortrinsvis udelukkende alkyl) phosphonium-, arsonium- og stiboniumhydroxid, for eksempel tetramethylphosphoniumhydroxid.
Det fotopolymeriserede lag i laminatet ifølge opfindelsen kan almindeligvis fjernes ved nedsænkning i opvarmede, vandige opløsninger af stærke alkaliske stoffer eller om ønsket i fjernelsespræparater, der er kendt af sagkyndige.
De følgende eksempler skal illustrere laminatet ifølge opfindelsen, herunder fremstilling og anvendelse deraf.
EKSEMPEL 1
Den i det følgende angivne opløsning blev påført ved overtrækning på en polyesterfilm, hvis tykkelse er 0,0025 cm, og tørret i luft. Den tørre tykkelse af det sensibiliserede lag var ca. 0,0025 cm. Det tørrede lag blev dækket med en polyethylen-film, hvis tykkelse var 0,0025 cm.
Copolymer af 37% styren og 63% monobutyl-maleat, gennemsnitlig molekylvægt 20 000, viskositet af 10% vandig opløsning af ammoniumsalt = 150 cP 67,0 g
Trimethylolpropantriacrylat 22,0 g
Tetraethylenglycoldiacrylat 11,0 g n 1A5357
Benzophenon 2,3 g 4,4'-bis-(dimethylamino)-benzophenon 0,3 g 2,2'-methylen-bis-(4-ethyl-6~tert.- butylphenol) 0,1 g
Methylviolet 2B base 0,7 g
Benzotriazol 0,20 g
Methylethylketon 140,0 g
Et stykke af en kobberbeklædt plade af epoxyfiberglas blev renset ved skuring med et slibende rensemiddel, svabring og grundig skylning i vand. Den blev derpå udsat for en neddykning i 20 sekunder i en fortyndet saltsyreopløsning (2 volumi-na vand plus 1 volumen koncentreret saltsyre), en sekundær skylning med vand og derpå en tørring med luftstråler.
Den af polyethylen bestående dækfilm blev fjernet fra en sektion af det som et sandwich-aggregat foreliggende fotopolymeriserba-re element. Det blottede reservageovertræk med sin polyesterunderstøtning blev lamineret til det rene kobber med overfladen af det fotopolymeriserbare lag i kontakt med kobberoverfladen. Lamineringen blev gennemført ved hjælp af gummibeklædte valser, der arbejdede ved 121°C under tryk på 0,54 kg pr. lineær cm ved indsnævringen og ved en hastighed på 0,61 m pr. minut. Den resulterende, sensibiliserede,kobberbeklædte plade, der er beskyttet på den angivne måde ved hjælp af polyesterfilmen, kunne om nødvendigt opbevares med henblik på senere anvendelse. I dette tilfælde blev den eksponeret for lys gennem et lysbillede, der havde en høj kontrast, og hvori det ledende mønster fremtrådte som gennemsigtige arealér på en uigennemsigtig baggrund. Eksponeringen blev gennemført ved at anordne den sensibiliserede, kobberbeklædte plade (med sin polyesterfilm, der stadig er intakt) og lysbilledet i en fotografisk trykkeramme. Eksponeringen blev foretaget i 45 sekunder med en 400 Watt, 50 Ampere kviksølvdamplampe i en afstand på 30,5 cm. Den understøttende polyethylenterephthalatfilm blev skrællet af, og det eksponerede reservagelag blev fremkaldt ved at holde pladen under om- 12 145357 røring i et trug, der indeholdt 2% natriumcarbonat i vand i 3,5 minutter efterfulgt af en skylning med vand. Den resulterende plade indeholdt et tørret reservagemønster af de klare arealer af eksponeringslysbilledet.
Pladen blev nu ætset med en 45° Baumé opløsning af ferrichlorid og derpå skyllet og tørret. Reservagen blev fjernet fra det rerester ende kobber ved neddypning i 2 minutter i en 3% opløsning af natriumhydroxid i vand ved 70°C. Resultatet var en plade af høj kvalitet med et trykt kredsløb.
EKSEMPEL 2
Den følgende opløsning blev påført ved overtrækning på en 0,0025 cm tyk polyesterfilm, og man lod den tørre under omgivelsernes tilstande i 30 minutter.
Copolymer af 75% styren og 25% methacrylsyre, viskositet af en 40% opløsning i methylethyl-keton er 10 360 cP 11,0 g trimethylolpropantriacrylat 4,66 g
Tetraethylenglycoldiacrylat 2,33 g
Benzophenon 0,75 g 4,4' bis-(dimethylamino)-benzophenon 0,10 g 2,2'-methylen-bis-(4-ethyl-6-tert.-butylphenol) 0,3 g
Methylviolet 2B base 0,2 g
Benzotriazol 0,07 g
Methylethylketon 30,0 g
Den tørre tykkelse af det sensibiliserede lag var ca. 0,0034 cm. Det overtrukne materiale blev derpå lamineret på en renset, kobberbeklædt plade som i eksempel 1. Eksponering blev foretaget gennem et lysbillede, der indeholdt et uigennemsigtigt mønster af kendt areal i 1,5 minutter med en eksponeringsenhed som beskrevet i eksempel 1. Den af polyester bestående understøtningsfilm blev skrællet af, og det eksponerede reservage- 13 145357 lag blev fremkaldt ved at holde pladen under omrøring i et trug, der indeholdt 2% trinatriumphosphat i vand, i 2 minutter efterfulgt af en skylning med vand.
Overfladen af det eksponerede kobber blev yderligere renset ef-, ter fremkaldelse ved et dyppe pladen i et bad af 20% ammonium-persulfat i 30 sekunder, vaske med rigelige mængder vand, dyppe i 30 sekunder i en 20% opløsning af saltsyre og vand, skylle med vand, og derpå tørre pladen med luftstrømme. Den rensede plade blev derpå pletteret i 45 minutter ved 0,032 Ampere pr. cm i et pletteringsbad med kobberpyrophosphat ved 55°C.
EKSEMPEL 3
Et kobberbeklædt stykke af en plade af epoxy-fiberglas blev renset som beskrevet i eksempel 1. Den rensede, tørrede plade blev sensibiliseret ved at lade følgende opløsning strømme over pladens overflade:
Copolymer af 37% styren og 63% monobutylmaleat, gennemsnitlig molekylvægt 20 000, viskositet af 10% vandig opløsning af ammoniumsalt = 150 cP 40,0 g
Pentaerythritoltetraacrylat 23,0 g
Benzophenon 1,5 g 4,4 ' -bis-(dimethylamino)-benzophenon 0,2 g 2,2'-methylen-bis-(4-ethyl-6-tert.-butylphenol) 0,6 g
Methylviolet 2B base 0,4 g
Methylethylketon 100,0 g
Benzotriazol 0,15 g
Den tørre tykkelse af det sensibiliserede lag var ca. 0,0025 cm. Der fremstilledes en kobberbeklædt plade, reservageover-trækket blev lamineret dertil, og det resulterende element blev eksponeret nøjagtigt på samme måde som i eksempel 1. Den understøttende film blev skrællet af, og det eksponerede re-servagelag blev fremkaldt ved at holde pladen under omrøring i et trug, der indeholdt 2% trinatriumphosphat, i 2 minutter 145357 14 efterfulgt af en skylning med vand. Pladen blev nu ætset som i eksempel 1 til dannelse af en plade af høj kvalitet med et trykt kredsløb.
EKSEMPEL· 4 Følgende opløsning overtrækkes på en 0,025 mm tyk polyesterfilm og lufttørres:
Copolymer af 95% vinylacetat og 5% crotonsyre, gennemsnitlig molekylvægt 90 000, viskositet af 8,6% opløsning af ethylalkohol mellem 13 og 18 cP 70,0 g
Pentaerythritoltetraacrylat 30,0
Benzophenon 2,3 g 4,4'-bis-(dimethylamino)-benzophenon 0,3 g 2,2,-methyl-bis-(4-ethyl-6-tert.-butylphenol) 0,1 g
Methylviolet 2B base 0,07 g
Benzotriazol 0,20 g
Methylethylketon 150,0 g
Tykkelsen af det fotofølsomme lag efter tørringen er 0,025 mm. Der fremstilles en plade med et kobberovertræk, og herpå klæbes den behandlede polyesterfilm, hvorefter laminatet eksponeres som angivet i eksempel 1. Bærefilmen trækkes af, og det eksponerede reservagelag fremkaldes ved at bevæge pladen i en skål indeholdende 2% trinatriumphosphat i 2 minutter, hvorefter pladen skylles i vand.
Pladen ætses dernæst som anført i eksempel 1, hvorved der opnås et trykt krédsløs af høj kvalitet.
EKSEMPEL· 5
Den fotosensible opløsning, der er beskrevet i eksempel 1, overtrækkes på kobbertrykkepiader. Efter tørring i varm luft til en tør tykkelse på ca. 0,0025 cm bliver det fotosensible 15 145357 lag overtrukket med en fortyndet, vandig opløsning af polyvi-nylalkohol og gentørret med varm luft. Den vandopløselige polymer danner en tynd, beskyttende barriere overfor oxygen.
Denne for-sensibiliserede metalplade kan opbevares i udstrakte tidsrum.
Ved eksponering for aktinisk lys gennem et passende fotografisk negativ kan det ueksponerede, fotofølsomme lag og det vandopløselige i øverste overtræk fremkaldes samtidigt, hvorved metalpladen efterlades parat til ætsning. Det fotopolymeriserede bil-ledareal tjener derpå som en udmærket reservage for de dybætse-processer, der normalt anvendes ved fremstillingen af metaltrykkeplader. Disse resulterende produkter er resistente overfor almindelige ætsemidler, f.eks. ferrichlorid og salpetersyre, filmdanndnde midler og volddannende midler, der sædvanligvis tilsættes til ætseblandingen for at kontrollere ætsningens geometri .
EKSEMPEL 6
Man følger den i eksempel 5 angivne fremgangsmåde, med undtagelse af, at der anvendes en 0,0025 cm tyk film af polyester som et beskyttende lag i stedet for en vandopløselig polymer.
Efter eksponering for aktinisk lys skrælles det beskyttende lag af før fremkaldelsen i en vandig, alkalisk opløsning. Som i eksempel 5 tjener det fotopolymeriserede billedareal som en udmærket reservage for dybætsningen af trykkeplader.
EKSEMPEL 7
Det fotofølsomme opløsning, der er beskrevet i eksempel 1, påføres ved overtrækning på en 0,0025 cm tyk polyesterfilm, tørres i luft og dækkes med en 0,0025 cm tyk polyethylenfilm. Dette af tre lag bestående, sandwichagtige filmaggregat kan opbevares i plader eller ruller i lystætte områder i ubegrænsede tidsrum. Før anvendelsen skrælles den dækkende polyethylenfilm af, og det fotofølsomme lag anbringes i kontakt med en kobberplade af den type, der er beskrevet i eksempel 5, og der fore 16 145357 tages en understøtning ved laminering. Ved eksponering over for aktinisk lys skrælles det beskyttende polyesterlag af, og fremkaldelsen foretages i en vandig, alkalisk opløsning. Som i eksempel 5 er det fotopolymeriserede billedareal en udmærket reservage for dybætsningen af trykkeplader.
Claims (5)
1. Laminat til fremstilling af trykkeplader eller fotoreser-vager og af den art, hvor et metallisk lag af kobber eller en kobberlegering er overtrukket med et fotopolymeriserbart lag af (A) et additionspolymeriserbart materiale, der i det væsentlige består af en eller flere ikke-gasformige forbindelser, der udviser et kogepunkt over 100°C under atmosfæretryk, og som indeholder mindst to terminal^ ethyleniske grupper, og som er en umættet ester af en polyol, et umættet amid eller en vinylester, (B) et fotoinitierbart initiatorsystem, der danner frie radikaler, (C) en inhibitor for termisk additionspolymerisation og (D) et forud dannet, makromolekylært, polymert bindemiddel, og hvorved det fotopolymeriserbare lag eventuelt er forsynet med et dæklag, der er impermeabelt for oxygen, kendetegnet ved, at det fotopolymeriserbare lag indeholder: (A) fra 10 til 60 vægtdele af det additionspolymeriserbare materiale, der i det væsentlige består af en eller flere ikke-gasformige forbindelser, der udviser et kogepunkt over 100°C under atmosfæretryk, og som indeholder mindst to terminale ethyleniske grupper, og som er en umættet ester af en polyol, et umættet amid eller en vinylester; (B) fra 0,001 til 10 vægtdele af det fotoinitierbare initiatorsystem, der danner frie radikaler; (C) fra 0,001 til 5 vægtdele af inhibitoren for thermisk additionspolymerisation; og (D) fra 40 til 90 vægtdele af det forud dannede, makromoleky-lære, polymere bindemiddel, der er en copolymer af: et primært, monomert materiale, der indeholder en eller flere ikke-sure vinylforbindelser, der er udvalgt blandt dem, der har den almene formel: δ:Η2 eller CH2=c-y X , 18 145357 hvor R er hydrogen, en alkylgruppe med fra 1 til 6 carbon-atomer eller et halogenatom, og hvor X er hydrogen og Y er OOCR1, OR1, OCR1, COOR1, CN, CH=CH2, 0 CNR^R^ eller Cl; eller hvor X er methyl og Y er COOR1, CN, CH=CH2 0 "34 1 eller CNR R ; eller hvor X er chlor og Y er Cl; og hvor R er en alkylgruppe med fra 1 til 12 carbonatomer, en phenylgruppe 3 4 eller en benzylgruppe, og hvor R og R , der kan være ens eller forskellige, er hydrogen, en alkylgruppe med fra 1 til 12 carbona tomer eller en benzylgruppe; og et sekundært monomert materiale, der i det væsentlige består af en eller flere alfa,beta-umættede carboxyl-holdige monomere, der indeholder mellem 3 og 15 carbon-atomer; hvorved forholdet mellem det primære monomere materiale og det sekundære monomere materiale er tilstrækkeligt til at gøre bindemidlet opløseligt i en 2% vandig opløsning af trinatriumphos-phat, hvorved der i blandingen ikke foreligger noget andet addi tionspolymeriserbart materiale end det, der er identificeret som bestanddel (A).
2. Laminat ifølge krav 1, kendetegnet ved, at det polymere bindemiddel i det fotopolymeriserbare lag er en copolymer af styren og en umættet, carboxylgruppeholdig monomer.
3. Laminat ifølge krav 1, kendetegnet ved, at det polymere bindemiddel i det fotopolymeriserbare lag indeholder en copolymer af methacrylsyre som det sekundære, monomere materiale.
4. Laminat ifølge krav 1, kendetegnet ved, at det polymere bindemiddel i det fotopolymeriserbare lag indeholder en copolymer af acrylsyre som det sekundære, monomere materiale.
5. Laminat ifølge krav 1, kendetegnet ved, at det polymere bindemiddel i det fotopolymeriserbare lag indeholder
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DK1673A DK145357C (da) | 1971-02-04 | 1973-01-03 | Laminat til fremstilling af trykkeplader eller fotoreservager |
Applications Claiming Priority (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US11279771A | 1971-02-04 | 1971-02-04 | |
| US11279771 | 1971-02-04 | ||
| DK48172 | 1972-02-03 | ||
| DK48172AA DK142623B (da) | 1971-02-04 | 1972-02-03 | Fotopolymeriserbar blanding indeholdende polymert bindemiddel. |
| DK1673A DK145357C (da) | 1971-02-04 | 1973-01-03 | Laminat til fremstilling af trykkeplader eller fotoreservager |
| DK1673 | 1973-01-03 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DK145357B true DK145357B (da) | 1982-11-01 |
| DK145357C DK145357C (da) | 1983-03-21 |
Family
ID=27220328
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DK1673A DK145357C (da) | 1971-02-04 | 1973-01-03 | Laminat til fremstilling af trykkeplader eller fotoreservager |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DK (1) | DK145357C (da) |
-
1973
- 1973-01-03 DK DK1673A patent/DK145357C/da not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DK145357C (da) | 1983-03-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3953309A (en) | Polymerization compositions and processes having polymeric binding agents | |
| DK144184B (da) | Fremgangsmaade til fremstilling af en fotoreservage | |
| US4239849A (en) | Polymers for aqueous processed photoresists | |
| EP0128014B1 (en) | Photopolymerizable composition, products made therefrom and processes for preparing such products | |
| DE2602410C2 (de) | Photopolymerisierbares Material | |
| US4003877A (en) | Photopolymerizable screen printing inks for permanent coatings prepared from aryloxyalkyl compositions | |
| US4065315A (en) | Phototropic dye system and photosensitive compositions containing the same | |
| CA1136472A (en) | Photoresist formulations containing a n-substituted benzotriazole adhesion promoter | |
| US4632897A (en) | Photopolymerizable recording material suitable for the production of photoresist layers | |
| US3718473A (en) | Photopolymerizable elements containing hydro philic colloids and polymerizable monomers for making gravure printing plate resists | |
| US4108666A (en) | Monofunctional monomer-containing photosensitive composition for photoresist | |
| JPS6344216B2 (da) | ||
| US4572887A (en) | Radiation-polymerizable mixture with crosslinkable binder | |
| JPS6253318A (ja) | (メタ)アクリル共重合体含有光重合性組成物およびその製造方法 | |
| US4610951A (en) | Process of using a flexible, fast processing photopolymerizable composition | |
| US3255004A (en) | Process for production of photopolymerized relief images | |
| US4230790A (en) | Photopolymerizable compositions useful in dry film photoresist | |
| US4339527A (en) | Process for using photopolymerizable compositions | |
| DK145357B (da) | Laminat til fremstilling af trykkeplader eller fotoreservager | |
| JP2982398B2 (ja) | 新規な感光性樹脂組成物 | |
| JPS60240715A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JP4172248B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 | |
| JPH01224747A (ja) | 光レジスト組成物 | |
| JPH0369102B2 (da) | ||
| JPH0242213B2 (da) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PUP | Patent expired |