DK148216B - Apparat til bestraaling af et substrat - Google Patents

Apparat til bestraaling af et substrat Download PDF

Info

Publication number
DK148216B
DK148216B DK259077AA DK259077A DK148216B DK 148216 B DK148216 B DK 148216B DK 259077A A DK259077A A DK 259077AA DK 259077 A DK259077 A DK 259077A DK 148216 B DK148216 B DK 148216B
Authority
DK
Denmark
Prior art keywords
dichroic
reflector
light
plane
symmetry
Prior art date
Application number
DK259077AA
Other languages
English (en)
Other versions
DK148216C (da
DK259077A (da
Inventor
Harden Henry Troue
Original Assignee
Union Carbide Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Union Carbide Corp filed Critical Union Carbide Corp
Publication of DK259077A publication Critical patent/DK259077A/da
Publication of DK148216B publication Critical patent/DK148216B/da
Application granted granted Critical
Publication of DK148216C publication Critical patent/DK148216C/da

Links

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26—DRYING
    • F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B3/00—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat
    • F26B3/28—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by radiation, e.g. from the sun
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21—LIGHTING
    • F21V—FUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F21V7/00—Reflectors for light sources
    • F21V7/22—Reflectors for light sources characterised by materials, surface treatments or coatings, e.g. dichroic reflectors

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microbiology (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Vessels And Coating Films For Discharge Lamps (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Radiation-Therapy Devices (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)

Description

i 148216
Den foreliggende opfindelse angår et apparat til bestråling af et substrat med ultraviolet lys, og som har et reflektorhus med en reflektor af ellipselignende form, og med en åbning ved en ende og en første brændlinie, hvilket apparat har en linieformig ultra-5 violet lyskilde, der er anbragt i reflektorhuset, hvor lyskildens længdeakse er beliggende i apparatets symmetriplan, der står vinkelret på reflektorhusets åbning, hvilket apparat endvidere har dichroiske flader.
Der kendes et apparat af denne art fra beskrivelsen til USA patent 10 nr. 3.769.503, idet det dog skal bemærkes, at dette apparat tjener til afgivelse af synligt lys alene eller en blanding af synligt lys og varmestråler. Dette kendte apparats reflektor er dichroisk på den måde, at den er indrettet til at reflektere synligt lys og til at lade varmestråler passere. Til apparatet hører der en i tvær-15 snit stort set cirkulær dichroisk reflektorplade, hvis inderside er reflekterende overfor varmestråler, men som er gennemtrængelig for synligt lys. Den sidstnævnte reflektorplade kan bevæges fra en stilling, hvor den befinder sig ved den i forhold til reflektoren modstående side af lyskilden. Anbragt på denne måde vil synligt lys, som udstråles 20 fra lyskilden, blive reflekteret af reflektorens inderside og vil kunne passere gennem den foran lyskilden anbragte dichroiske reflektorplade. Samtidigt vii de varmestråler, der udsendes af lyskilden, og som rammer reflektoren, passere gennem denne, og de varmestråler, der rammer den omstillelige reflektorplade, vil af denne blive reflekteret mod 25 reflektoren og passere denne. I denne indstilling vil således kun synligt lys blive udsendt af det pågældende apparat. Såfremt apparatet opstilles således, at den reflektorplade, hvis inderside reflekterer varmestråler, anbringes mellem reflektoren og varmekilden, vil det pågældende apparat udsende både synligt lys og varmestråler.
30 Den omstillede reflektorplade vil nemlig i så fald fra sin inderside reflektere de varmestråler, som rammes af denne inderside fra lyskilden. Endvidere vil reflektoren reflektere synligt lys, som trænger igennem den omstillede reflektorplade.
Hvad angår den kendte teknik, skal der yderligere henvises til 35 beskrivelsen til USA patent nr. 3.745.325, hvorfra der kendes et apparat til udsendelse af fotografisk lys. Dette apparat har en 2 148216 ellipsoideformet reflektor med en lyskilde, der er anbragt i ellipsoidens ene brændpunkt. Reflektorens inderside udgøres af en dichroisk flade, der er gennemtrængelig for varmestråler, men som er reflekterende overfor synligt lys. Følgelig vil denne reflektor fokusere det synlige 5 lys, der udsendes fra lyskilden, i ellipsoidens andet brændpunkt.
De varmestråler, der udsendes af lyskilden, vil derimod trænge igennem indersiden af reflektoren og vil blive reflekteret af indersiden af en reflekterende belægning, som der findes på ydersiden af reflektoren. De varmestråler, som trænger gennem reflektorens 10 inderside, vil blive reflekteret, når de rammer indersiden af belægningen på reflektorens yderside, og disse varmestråler vil således blive udsendt fra reflektoren, men uden at blive fokuseret i ellipsoidens andet brændpunkt. Derved forhindres reflektoren i at blive varm, og kun synligt lys fokuseres på den beskrevne måde.
15 Apparatet ifølge den foreliggende opfindelse er ejendommeligt ved, at de dichroiske flader består af to første optisk plane dichroiske flader, som er anbragt på hver sin side af symmetriplanet med deres ene ende nær reflektorhusets åbning, og af to andre optisk plane dichroiske plader, som er anbragt på hver sin side af symmetri-20 planet og forbundet med de andre ender af de første dichroiske plane flader, hvorhos den første og den anden dichroiske flade på hver side af symmetriplanet sammen danner en konkav flade set fra symmetriplanet, samt at apparatet har et reflekterende organ, der i tværsnit stort set har form som et ruder es med konkave sider, 25 hvilket reflekterende organ er anbragt mellem de konkave flader, således at dets længdesymmetriplan falder sammen med apparatets symmetriplan, og således at det reflekterende organ befinder sig nær reflektoråbningen under den anden brændlinie for reflektorhuset, samt således at praktisk taget alt ultraviolet lys fra den lineære 30 kilde kun rammer en dichroisk flade én gang, og således at praktisk taget alt ultraviolet lys, der forlader apparatet, har ramt en dichroisk flade én gang. Der opnås herved et apparat til bestråling af et substrat med ultraviolet lys, der er praktisk taget rent, og som har høj intensitet, idet alt lys, som udsendes, vil være filtreret 35 for infrarødt lys som følge af, at det har ramt en dichroisk flade, 3 148216 og ved at lyset kun rammer en dichroisk flade én gang, undgås det, at ultraviolet lys går tabt.
Almindeligvis kan lyshærdelige organiske belægningsmaterialer hærdes ved lave til middelhøje strålingsintensiteter og ofte med ultraviolet lys af kun én bølgelængde. Denne energitype kan let frembringes ved lavspændingsultraviolet lamper, såsom bakteriedræbende lamper, som ifølge sagens natur er brugbare og relativt kolde. Når imidlertid stærkt pigmenterede, relativt tykke belægninger skal hærdes, er det nødvendigt at tilføre et bredt spektrum af ultraviolet lys, og ved en højere strålingsintensitet. Dette kan let opnås ved hjælp af kviksølvlamper med højere effekt i området ti til flere hundrede watt pr. centimeter buelænde. Disse lamper frembringer i sig selv en stor mængde infrarødt lys, der viser sig som varme på det substrat, der hærdes.
Dette gør naturligvis i mange tilfælde brugen af ultraviolette lamper 15 af høj intensitet uacceptable som ultraviolet kilde, fordi varmen vil ødelægge det substrat, der skal hærdes, hvis dette f.eks. er papir, plastlaminat eller lignende materiale. Hidtil har ultraviolette lamper derfor haft en begrænset anvendelighed, hvilket den foreliggende opfindelse imidlertid råder bod på.
Opfindelsen vil i det følgende blive nærmere forklaret under henvisning til tegningen, hvor fig. 1 viser en udførelsesform for apparatet ifølge opfindelsen, set forfra uden lysarmatur, fig. 2 det i fig. 1 viste apparat set fra siden, og hvoraf dertil hørende kølekanaler fremgår, fig. 3 et tværsnit langs linien 3-3 i fig. 1 gennem en foretrukket udførelsesform for apparatet, og fig. 4 og 5 karakteristiske strålingsveje for lys, der udstråles fra kvadranter af en til apparatet hørende kv iksølvdamp-30 lampe.
På tegningen og især i fig. 1 og 3 omfatter en foretrukket udførelsesform for apparatet ifølge opfindelsen en kombination af et lampehus 1 med en reflekterende inderflade 3 og en åbning 4. Fladen 3 er sammensat af tre cylindriske flader, hvis krumningscentre er beliggende 35 4 148216 henholdsvis ved 5, 7 og 9 som vist i fig. 4 og 5. Fladen 3 er derfor en ellipselignende overflade. For at give let adgang til en dichroisk filterenhed 11 er huset 1 aftageligt anbragt på den dichroiske enhed 11, således at åbningen 4 i huset 1 står i forbindelse med enheden 5 11.1 huset 1 er der anbragt en kviksølvdamplampe 13 med høj effekt ved den første brændlinie 15. Lampehuset 1 og enheden 11, der udgør apparatet, har et symmetriplan, som står vinkelret på åbningen 4's plan. Symmetriplanet i fig. 3 er vist ved en linie 16. Længdeaksen for lampen 13 ligger i symmetriplanet 16.
10 Den dichroiske enhed 11 består af et par første optisk plane dichroiske flader 17 og 18, som er anbragt i enheden 11 på hver side af symmetriplanet 16, således at de første dichroiske flader 17 og 18 vil have deres ene ende nær ved iampehusets åbning 4, når lampehuset og den dichroiske enhed er sammensat til brug. I enheden 11 15 er der på hver side af symmetriplanet 16 anbragt andre optisk plane . dichroiske flader 19 og 20, som er forbundet med den anden ende 21, henholdsvis 22 af de dichroiske filtre, henholdsvis 17 og 18, således at overfladerne 17 og 19, henholdsvis 18 og 20, danner en konkav flade på hver side af symmetriplanet, set fra symmetriplanet.
2® Fladerne 17 og 18 er fortrinsvis anbragt under en vjnkel 0 med symmetriplanet på 9°. Denne vinkel måles mellem en linie 23, der er parallel med linien 16, og de dichroiske flader 17 og 18. Fladerne 19 og 20 hælder ligeledes mod symmetriplanet under en vinkel a på ca. 11°.
25 De dichroiske flader 17 og 18 er anbragt på ekstruderede absorberingsorganer 24 og 25 af aluminium. De dichroiske flader 19 og 20 er anbragt på ekstruderede absorberingsorganer 26 og 27 af aluminium. Disse absorberingsorganer har en flade nær bagsiden af den dichroiske flade, der er en savtakket overflade med en 30 vinkel på ca. 30° mellem tænderne.
Vandkøling af absorberingsoverfladerne sker ved at lade kølevand passere gennem kanaler 29.
Enheden 11 er lukket ved hver ende af en spejlflade 28.
Et reflekterende organ 30, der i tværsnit stort set har form som 35 et ruder es med konkave sider, er anbragt i enheden 11 mellem de dichroiske flader 17, 19, henholdsvis 18,20, således at dets længde- 148216 5 symmetriplan falder sammen med apparatets symmetriplan 16. Det reflekterende organ 30 er anbragt langs symmetriplanet 16 under den anden brændlinie 32 i reflektorhuset 1. Begrundelsen for denne anbringelse og for selve det reflekterende organ 30 er at sikre, at praktisk 5 taget alle lysstråler fra lampen ' 13 vil blive kastet kun én gang tilbage fra en di chroisk flade. Organet 30 spærrer således for den direkte udgang af uf iltreret lys, som det fremgår af fig. 4 og 5, og tilbagekaster disse lysstråler til en filterflade, som også tilbagekaster filtrerede lysstråler ud af apparatet, uden at de på ny rammer en 10 filterflade. For at opnå dette er organet 30 fortrinsvis fremstillet af fire segmenter af en cylinderflade og består af fire spejlflader på et passende formgivet aluminiumhus. De to segmenter 40 i denne udformning har en krumningsradius på ca. 7,6 cm. Segmenterne 42 har en krumningsradius på ca. 8,9 cm.
15 Dichroiske filtre kan udformes til mest effektivt at transmittere og tilbagekaste lys Indenfor forskellige bøjgelængdeområder, som har deres topværdier ved de ønskede specifikke bølgelængder. En dichroisk filterflade, der fortrinsvis er anvendt ved udøvelse af den foreliggende opfindelse, reflekterer mest effektivt ultraviolet lys over et bølgelængde-20 område, som har sin topværdi ved 3700 ångstrøm, når lyset rammer fladen under en indfaldsvinkel på 90°. Fladerne anvendes imidlertid således, at det meste af det lys, der udgår fra lampen 13, vil ramme fladen med en indfaldsvinkel på 45°. Ved denne vinkel tilbagekastes ultraviolet lys mest effektivt over et bølgelængdeområde, som har 25 sin topværdi ved en bølgelængde på 3478 ångstrøm. Opfindelsen er baseret på at anbringe de dichroiske filterflader således, at praktisk taget alt lyset vil ramme fladerne mindst én gang, og at alt det lys, der forlader enheden 11, kun rammer overfladerne én gang. Dette er nødvendigt, fordi den anden gang en lysstråle rammer en filter-30 flade, vil den i de fleste tilfælde gøre dette med en indfaldsvinkel, som er forskellig fra den første indfaldsvinkel. Således vil f.eks. de stråler, der ligger indenfor det ultraviolette bølgelængdeområde, der har sin topværdi ved en bølgelængde på 3478 ångstrøm, og som er blevet reflekteret efter at have ramt en filterflade med en ind-35 faidsvinkel på 45°, hvis de rammer en anden filterflade med en anden indfaldsvinkel, der adskiller sig væsentligt fra 45°, næsten
DK259077A 1976-06-11 1977-06-10 Apparat til bestraaling af et substrat DK148216C (da)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US69497276 1976-06-11
US05/694,972 US4048490A (en) 1976-06-11 1976-06-11 Apparatus for delivering relatively cold UV to a substrate

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DK259077A DK259077A (da) 1977-12-12
DK148216B true DK148216B (da) 1985-05-06
DK148216C DK148216C (da) 1985-09-23

Family

ID=24791044

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DK259077A DK148216C (da) 1976-06-11 1977-06-10 Apparat til bestraaling af et substrat

Country Status (15)

Country Link
US (1) US4048490A (da)
JP (1) JPS52152673A (da)
AU (1) AU503995B2 (da)
BE (1) BE855595A (da)
CA (1) CA1066247A (da)
DE (1) DE2726387C3 (da)
DK (1) DK148216C (da)
ES (1) ES459692A1 (da)
FR (1) FR2354510A1 (da)
GB (1) GB1554253A (da)
IT (1) IT1078491B (da)
NL (1) NL185536C (da)
NO (1) NO149752C (da)
SE (1) SE421827B (da)
ZA (1) ZA773235B (da)

Families Citing this family (64)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT355200B (de) * 1978-01-23 1980-02-25 Espe Pharm Praep Bestrahlungsgeraet zum aushaerten von durch strahlung haertbaren massen
US4385344A (en) * 1980-08-29 1983-05-24 Dentsply Research & Development Corp. Visible light apparatus for curing photo-curable compositions
GB2091858B (en) * 1980-12-11 1984-09-26 Infraroedteknik Ab Surface treatment of objects
US4563589A (en) * 1984-01-09 1986-01-07 Scheffer Herbert D Ultraviolet curing lamp device
CH660489A5 (de) * 1984-08-31 1987-04-30 Bernhard Glaus Verfahren und vorrichtung zum aushaerten polymerisierbarer beschichtungsmassen auf nicht textilen substraten.
DE3526082A1 (de) * 1985-07-20 1987-01-29 Rueesch Ferd Ag Vorrichtung zum trocknen von uv-druckfarben
GB2186068B (en) * 1986-01-24 1990-01-17 Scandasol Limited Sun tan system
US4798960A (en) * 1986-07-17 1989-01-17 Ferd. Ruesch Ag Device for the treatment of substances by UV radiation
US4864145A (en) * 1986-10-31 1989-09-05 Burgio Joseph T Jr Apparatus and method for curing photosensitive coatings
DE3902643A1 (de) * 1989-01-30 1990-12-13 Metz Luft Und Trocknungsanlage Uv-strahler
DE3937889C1 (en) * 1989-11-15 1991-05-16 Hoffmeister-Leuchten Gmbh & Co Kg, 5880 Luedenscheid, De Electrical illuminator with lamp and reflector - has diffusor extending whole length of tubular envelope at distance from foil
JPH0675200B2 (ja) * 1990-05-18 1994-09-21 株式会社オーク製作所 露光装置用冷却構造
DE4317939C2 (de) * 1993-04-27 1995-09-28 Darius Jung Vorrichtung zur Optimierung der Intensität der auf zu bestrahlende Flüssigabfälle und Abwasser gerichteten Strahlung
DE4318735A1 (de) * 1993-06-05 1994-12-08 Kammann Maschf Werner UV-Strahler zum Bestrahlen von Druckfarben auf Objekten und Verfahren zum Trocknen von mit Druckfarbe versehenen Objekten
DE4431502A1 (de) * 1994-09-03 1996-03-07 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren zur mehrschichtigen Oberflächenbehandlung von Werkstücken aus Kunststoff in Tauchbadanlagen
ES2155600T3 (es) * 1995-03-15 2001-05-16 Nlm Combineering Aps Procedimiento para activar fotoiniciadores en sustratos fotosensibles y aparato para endurecer tales sustratos.
US6177678B1 (en) * 1995-04-05 2001-01-23 Brasscorp Ltd. Method and apparatus for leak detection and non-destructive testing
JP3094902B2 (ja) * 1996-03-27 2000-10-03 ウシオ電機株式会社 紫外線照射装置
GB9607129D0 (en) * 1996-04-04 1996-06-12 Gew Ec Ltd Uv dryer with improved reflector
DE19651977C2 (de) * 1996-12-13 2001-03-01 Michael Bisges UV-Bestrahlungsvorrichtung
JPH1144799A (ja) * 1997-05-27 1999-02-16 Ushio Inc 光路分割型紫外線照射装置
GB2329756A (en) * 1997-09-25 1999-03-31 Univ Bristol Assemblies of light emitting diodes
US6200134B1 (en) * 1998-01-20 2001-03-13 Kerr Corporation Apparatus and method for curing materials with radiation
DE19810455C2 (de) * 1998-03-11 2000-02-24 Michael Bisges Kaltlicht-UV-Bestrahlungsvorrichtung
US6118130A (en) * 1998-11-18 2000-09-12 Fusion Uv Systems, Inc. Extendable focal length lamp
DE29919483U1 (de) * 1999-11-05 2000-03-30 Dr. Hönle AG, 82152 Planegg UV-Bestrahlungsvorrichtung
US7320593B2 (en) 2000-03-08 2008-01-22 Tir Systems Ltd. Light emitting diode light source for curing dental composites
GB2360084B (en) * 2000-03-08 2004-04-21 Nordson Corp Lamp assembly
US6755518B2 (en) * 2001-08-30 2004-06-29 L&P Property Management Company Method and apparatus for ink jet printing on rigid panels
GB2407371B (en) * 2001-02-27 2005-09-07 Nordson Corp Lamp assembly
WO2002100531A1 (en) * 2001-06-08 2002-12-19 Aetek Uv Systems Uv curing system for heat sensitive substances
US7316182B2 (en) * 2001-08-15 2008-01-08 Integrity Engineering, Inc. Ink proofer arrangement including light source for curing ink
US6814001B2 (en) * 2001-08-15 2004-11-09 Integrity Engineering, Inc. Ink proofer
DE20114380U1 (de) * 2001-08-31 2002-02-21 Dr. Hönle AG, 82152 Planegg UV-Bestrahlungsvorrichtung
DE10215024A1 (de) 2002-04-03 2003-10-30 Juergen Welle UV-Strahler
US6797971B2 (en) * 2002-07-18 2004-09-28 Fusion Uv Systems, Inc. Apparatus and method providing substantially two-dimensionally uniform irradiation
WO2004011848A2 (en) 2002-07-25 2004-02-05 Dahm Jonathan S Method and apparatus for using light emitting diodes for curing
US7182597B2 (en) 2002-08-08 2007-02-27 Kerr Corporation Curing light instrument
US6649921B1 (en) 2002-08-19 2003-11-18 Fusion Uv Systems, Inc. Apparatus and method providing substantially two-dimensionally uniform irradiation
WO2004038759A2 (en) 2002-08-23 2004-05-06 Dahm Jonathan S Method and apparatus for using light emitting diodes
US6717161B1 (en) 2003-04-30 2004-04-06 Fusion Uv Systems, Inc. Apparatus and method providing substantially uniform irradiation of surfaces of elongated objects with a high level of irradiance
US7075713B2 (en) * 2003-05-05 2006-07-11 University Of Central Florida Research Foundation High efficiency collector for laser plasma EUV source
DE102004017047B4 (de) * 2004-04-02 2007-05-16 Hoenle Ag Dr Verfahren und Vorrichtung zur Härtung von radikalisch polymerisierbaren Beschichtungen
DE502005008677D1 (de) * 2004-05-04 2010-01-21 Eltosch Torsten Schmidt Gmbh Bestrahlungseinrichtung
CN100594327C (zh) 2004-06-15 2010-03-17 汉高公司 大功率led电-光学器件组件
US7275482B2 (en) * 2004-10-28 2007-10-02 Integrity Engineering, Inc. Ink proofer arrangement including substrate roll support and tensioner and method of using
DE102005000837B4 (de) 2005-01-05 2022-03-31 Advanced Photonics Technologies Ag Thermische Bestrahlungsanordnung zur Erwärmung eines Bestrahlungsgutes
US7600471B2 (en) 2005-05-10 2009-10-13 Westby Ronald K Hand proofer tool
US8113830B2 (en) * 2005-05-27 2012-02-14 Kerr Corporation Curing light instrument
DE102006035986B4 (de) * 2006-08-02 2016-10-27 Koenig & Bauer Ag Vorrichtung zum Trocknen von UV-Druckfarben oder UV-Lacken auf einem Bedruckstoff
US8047686B2 (en) * 2006-09-01 2011-11-01 Dahm Jonathan S Multiple light-emitting element heat pipe assembly
GB2448538A (en) 2007-04-19 2008-10-22 Nordson Corp Lamp assembly and cooling thereof
US8720335B2 (en) 2007-04-24 2014-05-13 Probity Engineering, Llc Offset hand proofer tool
WO2010014619A2 (en) 2008-07-28 2010-02-04 Integrity Engineering, Inc. Improvements to flexographic proofing tools and methods
US7964858B2 (en) 2008-10-21 2011-06-21 Applied Materials, Inc. Ultraviolet reflector with coolant gas holes and method
DE102008061597B4 (de) * 2008-12-11 2021-06-24 Venjakob Maschinenbau Gmbh & Co. Kg UV-Bestrahlungsvorrichtung
US9066777B2 (en) * 2009-04-02 2015-06-30 Kerr Corporation Curing light device
US9072572B2 (en) 2009-04-02 2015-07-07 Kerr Corporation Dental light device
TWI494410B (zh) * 2013-04-10 2015-08-01 Hon Hai Prec Ind Co Ltd 膠帶
DE102013011066A1 (de) * 2013-07-03 2015-01-08 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Wärme-Lichttrennung für eine UV-Strahlungsquelle
US20150123015A1 (en) * 2013-11-04 2015-05-07 Nordson Corporation Apparatus and methods for irradiating substrates with ultraviolet light
CN107109641B (zh) * 2014-12-23 2019-06-18 瑞科硅公司 在热分解反应器中利用反射能管理温度分布的设备和方法
DE102019219511B4 (de) * 2019-12-12 2021-06-24 Heraeus Noblelight Gmbh Belichtungsvorrichtung mit einer vielzahl optischer elemente und einer modularen elektromagnetischen strahlungsquelle, die ein strahlungsquellenmodul mit einem halbwertswinkel beinhaltet
EP4285851A1 (en) * 2022-06-02 2023-12-06 Koninklijke Philips N.V. A light treatment device

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2198014A (en) * 1937-07-22 1940-04-23 Harry G Ott Optical system
US3381125A (en) * 1967-06-01 1968-04-30 George D. Cooper Light fixture
US3745325A (en) * 1971-08-17 1973-07-10 Eastman Kodak Co Photographic light
US3769503A (en) * 1972-06-23 1973-10-30 Gen Electric Lamp fixture having dichoric filter arrangement for selectively directing heat and light
US3819929A (en) * 1973-06-08 1974-06-25 Canrad Precision Ind Inc Ultraviolet lamp housing
US4005135A (en) * 1975-04-07 1977-01-25 Sun Chemical Corporation Rotatable ultraviolet lamp reflector and heat sink

Also Published As

Publication number Publication date
DK148216C (da) 1985-09-23
SE7706787L (sv) 1978-01-26
NO772032L (no) 1977-12-13
NO149752B (no) 1984-03-05
SE421827B (sv) 1982-02-01
ES459692A1 (es) 1978-05-01
NL7706418A (nl) 1977-12-13
JPS5738879B2 (da) 1982-08-18
DE2726387C3 (de) 1979-10-18
NL185536B (nl) 1989-12-01
US4048490A (en) 1977-09-13
DK259077A (da) 1977-12-12
AU2602077A (en) 1978-12-14
FR2354510B1 (da) 1982-12-03
IT1078491B (it) 1985-05-08
DE2726387B2 (de) 1979-02-22
DE2726387A1 (de) 1978-03-16
CA1066247A (en) 1979-11-13
NO149752C (no) 1984-06-20
FR2354510A1 (fr) 1978-01-06
AU503995B2 (en) 1979-09-27
BE855595A (fr) 1977-12-12
NL185536C (nl) 1990-05-01
GB1554253A (en) 1979-10-17
ZA773235B (en) 1978-04-26
JPS52152673A (en) 1977-12-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4048490A (en) Apparatus for delivering relatively cold UV to a substrate
KR910005216B1 (ko) 치료용 편광램프
FI110482B (fi) Laite suonivaurioiden hoitoon
AU597289B2 (en) Phototherapy of skin wounds
NO324723B1 (no) Utstyr for fotodynamisk bestraling
JP2005538782A5 (da)
NO963565L (no) Lysfelle
EP1750163A3 (en) Irradiation device for an alignment layer of a liquid crystal cell element
DE202007006046U1 (de) Bräunungsgerät
JPH01309204A (ja) 電磁波集中装置およびその製造方法
AR009975A1 (es) Reflector y luminaria que lo comprende.
KR100944895B1 (ko) 광 치료용 복합 광원 장치
KR102565780B1 (ko) 살균 소독 조명 장치
RU2136332C1 (ru) Излучающая поляризованный свет лечебная лампа для ручного применения
JPS6297845A (ja) 紫外線による物質処理装置
JP2016175025A (ja) 殺菌モジュール用セル及び殺菌モジュール
RU96107480A (ru) Терапевтическая лампа
Rockett et al. XUV conversion efficiency in a low intensity KrF Laser-plasma for projection lithography
US20050180140A1 (en) Intense pulsed light devices
WO2005114265A1 (en) Light flux transformer
US11929248B1 (en) Far-UVC light source with an internal dielectric coating filter arranged on the interior side of electrode
JPH053214Y2 (da)
JPH0233233Y2 (da)
DE1764967C3 (de) Optisches Anregungssystem für optische Molekularverstärker (Laser). Ausscheidung aus: 1293932
RU2014555C1 (ru) Осветитель для фотоотверждения и фотополимеризации композитных материалов

Legal Events

Date Code Title Description
PBP Patent lapsed