DK160154B - Apparat og fremgangsmaade til magnetronkatodeforstoevning - Google Patents

Apparat og fremgangsmaade til magnetronkatodeforstoevning Download PDF

Info

Publication number
DK160154B
DK160154B DK098484A DK98484A DK160154B DK 160154 B DK160154 B DK 160154B DK 098484 A DK098484 A DK 098484A DK 98484 A DK98484 A DK 98484A DK 160154 B DK160154 B DK 160154B
Authority
DK
Denmark
Prior art keywords
cathode
central
cathodes
central cathode
support
Prior art date
Application number
DK098484A
Other languages
English (en)
Other versions
DK160154C (da
DK98484A (da
DK98484D0 (da
Inventor
Harold E Mckelvey
Original Assignee
Boc Group Plc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Boc Group Plc filed Critical Boc Group Plc
Publication of DK98484D0 publication Critical patent/DK98484D0/da
Publication of DK98484A publication Critical patent/DK98484A/da
Publication of DK160154B publication Critical patent/DK160154B/da
Application granted granted Critical
Publication of DK160154C publication Critical patent/DK160154C/da

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/35Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • C23C14/352Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering using more than one target
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • C23C14/044Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks using masks to redistribute rather than totally prevent coating, e.g. producing thickness gradient
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50Substrate holders
    • C23C14/505Substrate holders for rotation of the substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3402Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
    • H01J37/3405Magnetron sputtering

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Cold Cathode And The Manufacture (AREA)
  • Microwave Tubes (AREA)
  • Coating By Spraying Or Casting (AREA)
  • Medicines Containing Material From Animals Or Micro-Organisms (AREA)
  • Curing Cements, Concrete, And Artificial Stone (AREA)
  • Physical Water Treatments (AREA)
  • Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)

Description

DK 160154 B
Den foreliggende opfindelse omhandler et apparat til mag-netronkatodeforstøvning.
Formålet med denne opfindelse er at frembringe et magne-5 tronkatodestøvningsapparat, der gør det muligt samtidigt at belægge et stort antal genstande eller substrater.
Ifølge den foreliggende opfindelse indeholder apparatet et belægningskammer, der kan gøres lufttomt, i hvilket 10 der er fastgjort en central cylindrisk katode, og det er ejendommeligt ved det i den kendetegnende del af krav 1 angivne. Hver af de i apparatet indgående katoder omfatter en rørformet del, på hvis ydre overflade det belægningsmateriale, der skal forstøves, anbringes. I hver af 15 de nævnte katoder er der anbragt magnetenheder for at forøge katodernes virkning, og der cirkuleres kølemedie gennem katoderne. Hver af katoderne roteres, idet magnetenhederne deri forbliver stationære. En genstand- eller substratbæreenhed er fastgjort mellem den centrale 20 katode og hjælpekatoderne og bringes til at dreje omkring den centrale katode i en planetarisk bevægelse, samtidigt med at genstandene eller substraterne, der bæres af bærerenheden, roteres, hvorved alle genstandenes eller substraternes overflader eller arealer belægges med det 25 belægningsmateriale, der sprøjtes fra katoderne.
Opfindelsen omhandler også en fremgangsmåde til samtidig forstøvningsbelægning af et antal af genstande og er ejendommelig ved anvendelsen af en centralt anbragt lang-30 strakt cylindrisk magnetronkatode og et antal cylindriske langstrakte hjælpemagnetronkatoder, der omgiver den nævnte centrale katode i et kammer, der kan evakueres, rotation af hver af de nævnte katoder omkring dens langsgående akse, og at understøtte et antal genstande, der 35 skal belægges, mellem den nævnte centrale katode og de nævnte hjælpekatoder i en vis afstand fra disse, og at rotere genstandene og samtidig dreje genstandene, i
DK 160154B
2 planetagtige baner, omkring den centrale katode og forbi hjælpekatoderne. Den foreliggende opfindelse forklares nærmere i den følgende beskrivelse, i hvilken der henvises til tegningen, af hvilken: j 5 i fig. 1 er et lodret langsgående snit af et forstøvningsapparat, opbygget i overensstemmelse med den foreliggende ! opfindelse, 10 fig· 2 er et detailtværsnit ifølge linierne 2-2 i fig. 1, fig. 3 er et tværsnit gennem apparatet ifølge linierne 3-3 i fig. 1, 15 fig. 4 er et tværsnit gennem den centrale katode ifølge linierne 4-4 i fig. 1, og fig. 5 er et tværsnit gennem en af hjælpekatoderne ifølge linierne 5-5 i fig. 1.
20
Der henvises nu til tegningens fig. 1. Her er vist et evakuerbart belægningskammer 10, der består af en langstrakt cylindrisk væg 11, hvis modstående ender er lukket med endevæggene 12 og 13. Fastgjort centralt i belæg-25 ningskammeret 10 og strækkende sig i dettes langsgående retning, er en central cylindrisk katode 14. Et antal cylindriske hjælpekatoder 15 er anbragt i belægningskammeret, i lige stor afstand omkring den centrale katode 14 og parallelt dermed.
30
Den centrale katode 14 indeholder en langstrakt rørformet del 16, på hvis ydre overflade et lag 17 af det materiale, der skal forstøves, er påført (fig. 4). Den rørformede del 16 er i den ene ende lukket med en hætte 18 og er 35 i den modsatte ende fastgjort til en bæreknægt 19, hvilken bæreknægt er fastgjort til endevæggen 12 med boltene 20. Mellem bæreknægten 19 og væggen 12's modstående 3
DK 160154 B
flader er der anbragt O-ringe 21 eller lignende. Bære-knægtene 19 indeholder en forlængelse 27, der går igennem en åbning i væggen 12. Inden i den rørformede del 16 er der koncentrisk dermed anbragt en anden rørformet del 23, 5 der i den ene ende understøttes af en tap 24, der er roterbart fastgjort i hætten 18, og den modsatte ende understøttes af en aksel 25, der strækker sig gennem bæ-reknægten 19 og endevæggen 12 og er omgivet af en pakning 26. Den inderste rørformede del 23 drives af en motor 27, 10 der er fastgjort på endevæggen 12, via et tandhjul 28, der er tappet på motorakslen 29, og i indgreb med et tandhjul 30, der er tappet på akslen 25's frie ende.
Den centrale katode 14 er indrettet til at blive kølet 15 indvendigt ved cirkulation af et kølemedie, såsom vand, gennem rummet 31, mellem den inderste rørformede del 23 og den yderste rørformede del 16. Kølemediet kan indføres gennem et rør 32, der strækker sig igennem bæreknægten 19, og udtages gennem et rør 33.
20
Den centrale katode 14 er en magnetronkatode, og for at opnå denne virkning er der i den indvendige rørformede del 23 anbragt en magnetenhed, der består af et antal U-formede permanentmagneter 34. Som det er vist i fig. 4, 25 er magneterne anbragt i fire rækker a, b, c og d, der er anbragt i lige stor afstand omkring den rørformede del 23's indre omkreds og strækker sig på langs af denne. Magneternes ben 35 og 36 er i hver række fastgjort til de magnetiske stave 37 og 38 med skruer 39. De ydre overfla-30 der 40 og 41 på stavene 37 og 38, der er i forbindelse med den rørformede del 23's indre overflade, er udformet i overensstemmelse med denne dels krumning. Anvendelsen af magneterne forøger katodens ydeevne ved at forøge sprøjteafsætningshastigheden.
Hver af hjælpekatoderne 15, der omgiver den centrale katode 14, indeholder også en langstrakt cylindrisk del 35
DK 160154 B
4 42, hvorpå der er anbragt et lag af det belægningsmateriale 43, der skal forstøves (fig. 5). I den rørformede del 42 er der anbragt en indvendig rørformet del. Den rørformede del 42 er i den ene ende fastgjort til en 5 bæredel 45 og i sin modsatte ende til en lignende bæredel j 46. Bæredelene 45 og 46 indeholder forlængelser 47 og 48, i der er roterbart fastgjort i lejebukkene 49 og 50, der er fastgjort til belægningskammerets cylindriske væg 11.
10 De rørformede dele 42, der indgår i hjælpekatoderne 15, drives af en motor 51, der understøttes af en bæreknægt 52, der er fastgjort på belægningskammerets cylindriske væg 11. Motoren 51 driver en rem 53, der driver en remskive 54, der er fastgjort til den ydre ende af en aksel 15 55, der går igennem den cylindriske væg 11; til akslen 55 er der fastgjort en snekke 56, der er i indgreb med et snekkehjul 57, der er fastgjort på bæredelen 45's forlængelse 47.
20 Hver af hjælpekatoderne 15 er også indrettet til at blive afkølet indvendigt ved cirkulation af et kølemedie, såsom vand. Dette kølemedium indføres i den ene ende af katoden gennem et rør 59 og træder ud i den modsatte ende gennem et rør 60, hvilket rør går gennem bæredelene henholdsvis 25 45 og 46.
Hjælpekatoderne 15 er også magnetronkatoder, og for at opnå denne virkning er i den rørformede del 44 i hver katode anbragt en magnetenhed, der består af en samling 30 U-formede permanentmagneter 61 (fig. 5). Magneterne 61 er anbragt i to rækker A og B, der strækker sig på langs i den rørformede del. Magneterne 61 i hver række er anbragt på linie med hinanden, idet magneterne i den ene række er anbragt vekselvis med magneterne i den anden række og 35 overlapper disse. Magneternes ben 62 og 63 er i indgreb med, og fastgjort til, magnetiske stænger 64, 65 og 66 med skruer 67. Her er de magnetiske strimlers ydre over-
DK 160154 B
5 flader 68, der er i indgreb med den rørformede del 64, også udformet således, at de følger dennes krumning.
De dele eller de underlag, der skal sprøjtebelægges, bæ-5 res af en roterbar bæreenhed, der omfatter et antal stænger 70, på hvilke genstandene 71 fastholdes ved hjælp af klemmer 72 eller lignende. Den ene ende af hver af stængerne 70 er ikke understøttet, hvorimod den anden ende er udformet med et bryst 73, hvis ene ende 74 er 10 roterbart understøttet i en bøsning 75 i en cirkulær bæreplade 76. Understøtningsstængerne 70 strækker sig parallelt med, og adskilt fra, katoderne 14 og 15 og er anbragt lige langt fra hinanden.
15 Den cirkulære bæreplade 76 understøttes aksialt af en aksel 77, der strækker sig gennem en bøsning 78 i endevæggen 13 og er omgivet af en pakning 79.
Bøsningen 78 omfatter en ringformet flange 80 på den ind-20 vendige side af endevæggen 13, og mellem flangen og endevæggen er der anbragt O-ringe 81 eller andre paknings-organer.
Akslen 77 strækker sig ud over bøsningen 78, og til dens 25 frie ende er der fastgjort et tandhjul 82, der er i indgreb med et tandhjul 83, der er fastgjort på en motor 85's aksel 84, hvilken motor bæres af endevæggen 13 og er indrettet til at dreje akslen 77 og dermed bærepladen 76.
30 I umiddelbar nærhed af bærepladen 76 er der til hver understøtningsstang 70 fastgjort et tandhjul 86, der er i indgreb med et planettandhjul 87, der er fastgjort til endevæggen 13 med skruer 88. Når motoren er i drift, vil bærepladen 76 rotere, hvorved understøtningsstængefne 70 35 drejer omkring den centrale katode 14 i en planetar bane. Samtidig vil understøtningsstængerne drejes omkring deres aksler af tandhjulene 86, der roterer, når de bevæges 6
DK 160154 B
omkring planettandhjulet 87. På denne måde vil de genstande eller underlag, der skal belægges, blive roteret og dreje omkring den centrale katode 14 på en sådan måde, at alle overflader eller arealer, der skal belægges, 5 udsættes for det belægningsmateriale, der sprøjtes fra katoderne 14 og 15. På dette tidspunkt bliver den centrale katode og hjælpekatoderne også drejet. Belægningskammeret 10 er anbragt på understøtninger 89 og 90. Belægningskammerets endevæg 13 er aftageligt fastgjort til den 10 cylindriske væg 11 med boltene 91, og understøtningen 90 er forsynet med manchetter 92 og 93, der er indrettet til at glide langs med glidestave 94, hvorved endevæggen kan bevæges væk, efter at boltene 91 er fjernet, for at. give adgang til belægningskammerets inderside til indføring 15 eller udtagning af de genstande, der behandles.
i
Et katodepotentiale, der er tilstrækkeligt til, at der optræder sprøjtning, overføres til belægningsmaterialet 17 på den centrale katode 14 fra en jævnspændingskilde 20 (ikke vist) gennem en ledning 95, der er fastgjort til en kontakt 96, der er i glidende indgreb med sprøjtematerialet (fig. 4). En lignende glidende elektrisk kontakt 97 kan være forbundet med hver af hjælpekatoderne 15 (fig. 5).
25
Der findes en vakuumpumpe 98, der er indrettet til at bringe trykket i belægningskammeret 10 ned på den ønskede værdi. Skulle det være ønskeligt at indføre gasarter i kammeret, kan dette gøres gennem ledningen 99, der styres 30 af ventilen 100.
35

Claims (8)

1. Magnetronkatodeforstøvningsapparat, der indeholder en 5 central cylindrisk katode (14) i et evakuerbart belægningskammer (10), kendetegnet ved, at der i det nævnte kammer (10), omkring og parallelt med den nævnte centrale katode (14) er anbragt et antal cylindriske hjælpekatoder (15), at der findes organer (27) til at 10 dreje den nævnte centrale katode (14) og hver af de nævnte hjælpekatoder (15) omkring deres længdeakse, at der findes et roterbart bærerorgan (70) for de genstande, der skal belægges, hvilket bærerorgan (70) er anbragt mellem den nævnte centrale katode (14) og de nævnte 15 hjælpekatoder (15), og at der findes organer (85) til at dreje det roterbare bærerorgan (70) omkring den centrale katode (14), samt organer (86) til samtidigt at rotere genstandene, der bæres af det nævnte bærerorgan (70).
2. Magnetronkatodeforstøvningsapparat ifølge krav 1, kendetegnet ved, at bærerorganet omfatte et antal genstandsunderstøtningsdele (70), der er anbragt omkring den nævnte centrale katode (14), og indeholder organer (86) til at rotere de nævnte genstandsunder-25 støtningsdele (70), når bærerorganet drejes omkring den nævnte centrale katode (14).
3. Magnetronkatodeforstøvningsapparat ifølge krav 2, kendetegnet ved, at bærerorganet har en roter-30 bar bærerplade (76), i hvilken genstandsunderstøtningsdelene (70) er roterbart understøttet, og indeholder organer (85), der er indrettet til at rotere den nævnte bærerplade (76), hvorved genstandsunderstøtningsdelene (70) cirkuleres omkring den nævnte centrale katode (14), samt 35 organer (86) til samtidigt at rotere de nævnte genstandsunderstøtningsdele . DK 160154 B 8
4. Magnetronkatodeforstøvningsapparat ifølge krav 1, kendetegnet ved, at det indeholder organer (31, 32, 33, 59, 60), der er indrettet til indvendigt at afkøle den nævnte centrale katode (14) og hver af de 5 nævnte hjælpekatoder (15).
5. Magnetronkatodeforstøvningsapparat ifølge krav 3, kendetegnet ved, at organerne til samtidig rotation af genstandsunderstøtningsdelene (70) omfatter 10 tandhjul (86), der er fastgjort til hver sin understøtningsdel (70), og et planettandhjul (87), der bæres af belægningskammeret (10), og med hvilket tandhjulene (86) på genstandsunderstøtningsdelene (70) er i indgreb, og omkring hvilket de roterer, når de nævnte dele cirkulerer 15 omkring den nævnte centrale katode (14).
6. Magnetronkatodeforstøvningsapparat ifølge krav 5, kendetegnet ved, at genstandsunderstøtningsdelene omfatter et antal stave (70), der i den ene ende 20 roterbart understøttes af bærepladen (76), og som er anbragt i nogen afstand fra og parallelt med den centrale katode (14).
7. Magnetronkatodeforstøvningsapparat ifølge krav 1, 25 kendetegnet ved, at den centrale katode (14), og hver af hjælpekatoderne (15), omfatter en roterbar rørformet del (16, 42), på hvis ydre overflader der er påført et lag af det belægningsmateriale (17, 43), der skal forstøves. 30
7 DK 160154 B
8. Fremgangsmåde til samtidig forstøvningsbelægning af et antal genstande i et apparat, der indeholder en central cylindrisk katode (14) i et evakuerbart belægningskammer (10), kendetegnet ved, at der anvendes en cen- 35 tral langagtig cylindrisk magnetronkatode (14) og et antal langagtige cylindriske hjælpemagnetronkatoder (15), der omgiver den nævnte centrale katode (14) i det eva- Q DK 160154 B y kuerbare belægningskammer, og at hver af disse katoder roterer omkring sin langsgående akse, at et antal genstande (71), der skal belægges, understøttes på en ro-terbar understøtningsdel (70) mellem den central katode 5 (14) og hjælpekatoderne (15), i nogen afstand fra disse, og at disse genstande roteres og samtidig bevæger sig omkring den centrale katode (14) i en planetarbane, hvorved de også bevæges forbi hjælpekatoderne (15). 15 20 25 30 35
DK098484A 1983-03-21 1984-02-24 Apparat og fremgangsmaade til magnetronkatodeforstoevning DK160154C (da)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/477,069 US4417968A (en) 1983-03-21 1983-03-21 Magnetron cathode sputtering apparatus
US47706983 1983-03-21

Publications (4)

Publication Number Publication Date
DK98484D0 DK98484D0 (da) 1984-02-24
DK98484A DK98484A (da) 1984-09-22
DK160154B true DK160154B (da) 1991-02-04
DK160154C DK160154C (da) 1991-07-08

Family

ID=23894398

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DK098484A DK160154C (da) 1983-03-21 1984-02-24 Apparat og fremgangsmaade til magnetronkatodeforstoevning

Country Status (11)

Country Link
US (1) US4417968A (da)
EP (1) EP0119631B1 (da)
JP (1) JPS59179785A (da)
AT (1) ATE40575T1 (da)
AU (1) AU567918B2 (da)
CA (1) CA1225364A (da)
DE (1) DE3476563D1 (da)
DK (1) DK160154C (da)
FI (1) FI76123C (da)
IT (1) IT1173906B (da)
NO (1) NO163414C (da)

Families Citing this family (56)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2106545B (en) * 1981-02-23 1985-06-26 Rimma Ivanovna Stupak Consumable cathode for electric-arc evaporator of metal
US4443318A (en) * 1983-08-17 1984-04-17 Shatterproof Glass Corporation Cathodic sputtering apparatus
US4466877A (en) * 1983-10-11 1984-08-21 Shatterproof Glass Corporation Magnetron cathode sputtering apparatus
DE3580953D1 (de) * 1984-08-31 1991-01-31 Anelva Corp Entladungsvorrichtung.
US4597847A (en) * 1984-10-09 1986-07-01 Iodep, Inc. Non-magnetic sputtering target
US5215639A (en) * 1984-10-09 1993-06-01 Genus, Inc. Composite sputtering target structures and process for producing such structures
DE3503398A1 (de) * 1985-02-01 1986-08-07 W.C. Heraeus Gmbh, 6450 Hanau Sputteranlage zum reaktiven beschichten eines substrates mit hartstoffen
US4647361A (en) * 1985-09-03 1987-03-03 International Business Machines Corporation Sputtering apparatus
US4701251A (en) * 1986-02-03 1987-10-20 Bvt Limited Apparatus for sputter coating discs
US4738761A (en) * 1986-10-06 1988-04-19 Microelectronics Center Of North Carolina Shared current loop, multiple field apparatus and process for plasma processing
US4834860A (en) * 1987-07-01 1989-05-30 The Boc Group, Inc. Magnetron sputtering targets
US4842703A (en) * 1988-02-23 1989-06-27 Eaton Corporation Magnetron cathode and method for sputter coating
US5047131A (en) * 1989-11-08 1991-09-10 The Boc Group, Inc. Method for coating substrates with silicon based compounds
US5096562A (en) * 1989-11-08 1992-03-17 The Boc Group, Inc. Rotating cylindrical magnetron structure for large area coating
US5045166A (en) * 1990-05-21 1991-09-03 Mcnc Magnetron method and apparatus for producing high density ionic gas discharge
US5200049A (en) * 1990-08-10 1993-04-06 Viratec Thin Films, Inc. Cantilever mount for rotating cylindrical magnetrons
US5108574A (en) * 1991-01-29 1992-04-28 The Boc Group, Inc. Cylindrical magnetron shield structure
AU664995B2 (en) * 1991-04-19 1995-12-14 Surface Solutions, Incorporated Method and apparatus for linear magnetron sputtering
DE4126236C2 (de) * 1991-08-08 2000-01-05 Leybold Ag Rotierende Magnetron-Kathode und Verwendung einer rotierenden Magnetron-Kathode
US5338422A (en) * 1992-09-29 1994-08-16 The Boc Group, Inc. Device and method for depositing metal oxide films
US5286361A (en) * 1992-10-19 1994-02-15 Regents Of The University Of California Magnetically attached sputter targets
JPH08506855A (ja) * 1993-01-15 1996-07-23 ザ ビーオーシー グループ インコーポレイテッド 円筒形マグネトロンのシールド構造
US5414588A (en) * 1993-09-20 1995-05-09 The Regents Of The University Of California High performance capacitors using nano-structure multilayer materials fabrication
US5571393A (en) * 1994-08-24 1996-11-05 Viratec Thin Films, Inc. Magnet housing for a sputtering cathode
US5527439A (en) * 1995-01-23 1996-06-18 The Boc Group, Inc. Cylindrical magnetron shield structure
US5882810A (en) * 1996-03-08 1999-03-16 The Dow Chemicalcompany Active layer for membrane electrode assembly
US6436252B1 (en) 2000-04-07 2002-08-20 Surface Engineered Products Corp. Method and apparatus for magnetron sputtering
DE10145201C1 (de) * 2001-09-13 2002-11-21 Fraunhofer Ges Forschung Einrichtung zum Beschichten von Substraten mit gekrümmter Oberfläche durch Pulsmagnetron-Zerstäuben
DE10221112B4 (de) * 2002-05-03 2008-04-03 Fhr Anlagenbau Gmbh Verfahren zur Herstellung eines metallisch glänzenden Schichtsystems auf einem Substrat und Verwendung des Verfahrens
US20050224343A1 (en) * 2004-04-08 2005-10-13 Richard Newcomb Power coupling for high-power sputtering
EP1594153B1 (de) * 2004-05-05 2010-02-24 Applied Materials GmbH & Co. KG Beschichtungsvorrichtung mit grossflächiger Anordnung von drehbaren Magnetronkathoden
US20060065524A1 (en) * 2004-09-30 2006-03-30 Richard Newcomb Non-bonded rotatable targets for sputtering
US20060096855A1 (en) * 2004-11-05 2006-05-11 Richard Newcomb Cathode arrangement for atomizing a rotatable target pipe
US20060278521A1 (en) * 2005-06-14 2006-12-14 Stowell Michael W System and method for controlling ion density and energy using modulated power signals
US20060278524A1 (en) * 2005-06-14 2006-12-14 Stowell Michael W System and method for modulating power signals to control sputtering
WO2007003488A1 (en) * 2005-06-30 2007-01-11 Bekaert Advanced Coatings A module for coating both sides of a substrate in a single pass
CA2626915A1 (en) * 2005-10-24 2007-05-03 Soleras Ltd. Cathode incorporating fixed or rotating target in combination with a moving magnet assembly and applications thereof
US7842355B2 (en) * 2005-11-01 2010-11-30 Applied Materials, Inc. System and method for modulation of power and power related functions of PECVD discharge sources to achieve new film properties
US20070095281A1 (en) * 2005-11-01 2007-05-03 Stowell Michael W System and method for power function ramping of microwave liner discharge sources
US8236152B2 (en) * 2006-11-24 2012-08-07 Ascentool International Ltd. Deposition system
TWI377264B (en) * 2007-02-05 2012-11-21 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Sputtering device
US8083911B2 (en) * 2008-02-14 2011-12-27 Applied Materials, Inc. Apparatus for treating a substrate
EP2091067A1 (en) * 2008-02-14 2009-08-19 Applied Materials, Inc. Apparatus for treating a substrate
US8182662B2 (en) * 2009-03-27 2012-05-22 Sputtering Components, Inc. Rotary cathode for magnetron sputtering apparatus
CZ304905B6 (cs) 2009-11-23 2015-01-14 Shm, S.R.O. Způsob vytváření PVD vrstev s pomocí rotační cylindrické katody a zařízení k provádění tohoto způsobu
TW201137144A (en) * 2010-04-29 2011-11-01 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Sputtering device and cleaning method for sputtering target
TW201139712A (en) * 2010-05-12 2011-11-16 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Sputtering device
CN102296273B (zh) * 2010-06-24 2013-06-05 上海子创镀膜技术有限公司 一种真空磁控溅射镀膜用旋转阴极驱动系统
TWI480403B (zh) * 2010-10-26 2015-04-11 Hon Hai Prec Ind Co Ltd 鍍膜裝置
TW201217568A (en) * 2010-10-26 2012-05-01 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Deposition device
US20130032476A1 (en) * 2011-08-04 2013-02-07 Sputtering Components, Inc. Rotary cathodes for magnetron sputtering system
EP2839053B1 (en) * 2012-04-16 2017-05-31 The Timken Company Method and table assembly for applying coatings to spherical components
EP2746424B1 (de) * 2012-12-21 2018-10-17 Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon Verdampfungsquelle
CN103290382B (zh) * 2013-05-15 2015-09-09 宁波韵升股份有限公司 一种真空镀膜机行星式工件架
CN112281127A (zh) * 2020-10-30 2021-01-29 湘潭宏大真空技术股份有限公司 用于磁控溅射镀膜机的承载装置
US12467129B2 (en) * 2022-11-09 2025-11-11 Battelle Savannah River Alliance, Llc Sputtering apparatus and related systems and methods for sputtering substrates

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2476592A (en) * 1944-12-13 1949-07-19 Fruth Hal Frederick Cathodic deposition apparatus
GB1147318A (en) * 1968-02-22 1969-04-02 Standard Telephones Cables Ltd Improvements in r.f. cathodic sputtering systems
US3897325A (en) * 1972-10-20 1975-07-29 Nippon Electric Varian Ltd Low temperature sputtering device
JPS49125285A (da) * 1973-04-06 1974-11-30
US3901784A (en) * 1973-11-15 1975-08-26 United Aircraft Corp Cylindrical rf sputtering apparatus
MX145314A (es) * 1975-12-17 1982-01-27 Coulter Systems Corp Mejoras a un aparato chisporroteador para producir pelicula electrofotografica
US4126530A (en) * 1977-08-04 1978-11-21 Telic Corporation Method and apparatus for sputter cleaning and bias sputtering
US4356073A (en) * 1981-02-12 1982-10-26 Shatterproof Glass Corporation Magnetron cathode sputtering apparatus
JPS6037188B2 (ja) * 1981-08-27 1985-08-24 三菱マテリアル株式会社 スパツタリング装置

Also Published As

Publication number Publication date
IT8420158A0 (it) 1984-03-20
ATE40575T1 (de) 1989-02-15
DE3476563D1 (de) 1989-03-09
FI841119A0 (fi) 1984-03-20
FI76123C (fi) 1988-09-09
NO163414B (no) 1990-02-12
DK160154C (da) 1991-07-08
US4417968A (en) 1983-11-29
CA1225364A (en) 1987-08-11
EP0119631A2 (en) 1984-09-26
AU2515684A (en) 1984-09-27
AU567918B2 (en) 1987-12-10
EP0119631B1 (en) 1989-02-01
DK98484A (da) 1984-09-22
JPS59179785A (ja) 1984-10-12
DK98484D0 (da) 1984-02-24
IT1173906B (it) 1987-06-24
EP0119631A3 (en) 1986-03-12
IT8420158A1 (it) 1985-09-20
FI841119A7 (fi) 1984-09-22
NO841073L (no) 1984-09-24
NO163414C (no) 1990-05-23
FI76123B (fi) 1988-05-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DK160154B (da) Apparat og fremgangsmaade til magnetronkatodeforstoevning
US4356073A (en) Magnetron cathode sputtering apparatus
US4022939A (en) Synchronous shielding in vacuum deposition system
US4233937A (en) Vapor deposition coating machine
US4422916A (en) Magnetron cathode sputtering apparatus
US10711349B2 (en) Apparatus for treating and/or coating the surface of a substrate component
US3799110A (en) Device for vacuum coating
JP2012512321A5 (da)
US4151059A (en) Method and apparatus for sputtering multiple cylinders simultaneously
US3407783A (en) Vapor deposition apparatus
GB1194428A (en) Process and Apparatus for Surface Coating Glass and Other Materials
US20020062791A1 (en) Table
US4051010A (en) Sputtering apparatus
KR102899543B1 (ko) 피처리 작업편을 고정하기 위한 이동가능 작업편 캐리어 디바이스
US7153367B2 (en) Drive mechanism for a vacuum treatment apparatus
EP3095126B1 (en) Endblock for rotatable target with electrical connection between collector and rotor at pressure less than atmospheric pressure
CN101988187B (zh) 一种真空磁控溅射彩镀设备
CN208378979U (zh) 一种蒸发源位置的可调节结构
KR100192129B1 (ko) 초 고진공용 복합 회전운동 전달장치를 이용한 펄스형 레이저증착장치의 타겟고정부
JP3391415B2 (ja) 真空脱脂洗浄装置
KR100261205B1 (ko) 이온 플레이팅 장치
GB2144453A (en) Apparatus for forming thin films in vacuum
CN115896727A (zh) 立式pvd双面沉积硅片装载装置

Legal Events

Date Code Title Description
PBP Patent lapsed