DK162182B - Fremgangsmaade til fremstilling af et moenstret fotopolymerovertraek paa en trykvalse samt trykvalse fremstillet derved - Google Patents
Fremgangsmaade til fremstilling af et moenstret fotopolymerovertraek paa en trykvalse samt trykvalse fremstillet derved Download PDFInfo
- Publication number
- DK162182B DK162182B DK148886A DK148886A DK162182B DK 162182 B DK162182 B DK 162182B DK 148886 A DK148886 A DK 148886A DK 148886 A DK148886 A DK 148886A DK 162182 B DK162182 B DK 162182B
- Authority
- DK
- Denmark
- Prior art keywords
- photopolymer
- layer
- light
- intermediate layer
- portions
- Prior art date
Links
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 11
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 86
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 34
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 30
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 24
- 238000002386 leaching Methods 0.000 claims description 5
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 3
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 3
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 3
- -1 silver halide Chemical class 0.000 description 3
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- GSJBKPNSLRKRNR-UHFFFAOYSA-N $l^{2}-stannanylidenetin Chemical compound [Sn].[Sn] GSJBKPNSLRKRNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000001131 transforming effect Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/24—Curved surfaces
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/095—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer
- G03F7/0952—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer comprising silver halide or silver salt based image forming systems, e.g. for camera speed exposure
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Description
i
DK 162182 B
Den foreliggende opfindelse angår en fremgangsmåde til fremstilling af et mønstret fotopolymerovertræk på en trykvalse, ved hvilken et lysfølsomt, sømløst mellemlag, som kan fjernes, anbragt på fotopolymerlaget i 5 tæt klæbende kontakt dermed belyses og eventuelt fremkaldes i et første trin i alt væsentligt til dannelse af et ønsket mønstret opakt billede i mellemlaget, hvorpå fotopolymerlaget belyses gennem billedet dannet i mellemlaget, hvorefter de opake dele af mellemlaget og de 10 opløselige dele af fotopolymerlaget fjernes.
Ved en kendt fremgangsmåde af denne type anbringes den mønstrede film med kanterne stødende sammen eller overlappende omkring trykvalsen overtrukket med et fotopolymerlag, hvorpå det hele omvikles med en tynd transparent folie. Der 15 frembringes derpå et vakuum under folien, således at den mønstrede film presses mod fotopolymerovertrækket under ensartet tryk. Derefter foretages belysning, hvorefter omviklingsfolien og den mønstrede film fjernes.
Der fremstilles derefter en mønstret trykvalse ved bort-20 vaskning af de opløselige dele af fotopolymerovertrækket, som findes efter belysningen.
I tilfælde af en fotohærdende polymer er disse dele de ubelyste dele.
I tilfælde af en fotonedbrydelig polymer er disse dele 25 imidlertid de belyste dele.
Det er endvidere kendt at foretage afrulning af den mønstrede film langs en roterende valse belagt med et fotopoly-merlag og at foretage belysning ved kontaktoverfladen gennem en spalte.
30 Ved denne kendte fremgangsmåde optræder der såvel i tilfælde af fotohærdende som fotonedbrydelige fotopolymerovertræk fejl i mønstret på kontaktstedet på mønstret, 2
DK 162182 B
hvilket resulterer i en forringelse af det færdige tryk på dette sted.
I tilfælde af en fotohærdelig polymer og en mønstret film med overlappende kanter dannes der buler i en vis udstræk-5 ning i fotopolymerlaget, som stadig er noget elastisk inden belysningen, på stedet for overlapningen, og disse buler fikseres i de belyste dele ved hærdningen.
I tilfælde af en mønstret film med sammenstødende kanter vil lyset blive spredt eller reflekteret ved kanten som 10 følge af de transparente dele af mønstret i den mønstrede film, hvorved der sker ufuldstændig lystransmission på dette sted. På den anden side vil der på stedet med kanten ikke desto mindre blive transmitteret noget lys gennem de dele, hvor det ikke er hensigten, at der skal transmitteres 15 lys (dvs. sort) fra mønstret i den mønstrede film.
Såvel i tilfælde af fotohærdende som fotonedbrydelig fotopolymer optræder fænomenet ved den sammenstødende kant, at i tilfælde af hårde dele vil noget materiale ikke desto mindre blive vasket bort, og i tilfælde af bløde dele, 20 som kan vaskes bort, fjernes en mindre mængde.
I tilfælde af mønstrede film, som ikke kan afrulles, og spaltebelysning, sker der altid en dobbeltbelysning ved samlingen af mønstret på grund af spaltebredden af belysningsspalten, hvilket bevirker, at hældningsdannel- 25 sen mellem belyste og ubelyste dele af polymerlaget påvirkes, og der dannes uregelmæssigheder som følge af hældningsdannelsen for en enkel belysning i resten af mønstret for både fotohærdelige og fotonedbrydelige fotopoly-merovertræk.
30 Det er formålet med opfindelsen at tilvejebringe en fremgangsmåde til fremstilling af en mønstret trykvalse med fotopolymerovertræk uden en længdezone med afvigelser eller uregelmæssigheder med hensyn til højde, dybde og hældnings- 3
DK 162182 B
dannelse ved mønsterdannelsen.
Dette opnås ifølge opfindelsen ved, at fotopolymerlaget består af et relativt tykt, bøjeligt fotopolymerlag, medens belysningen i det første trin gennemføres gen-5 nem en mønstret film, som er anbragt omkring mellemlaget, hvorpå den mønstrede film efter det første trin fjernes og belysningen af fotopolymerlaget udsættes, indtil sammentrykte dele af fotopolymerlaget har antaget den oprindelige tilstand.
10 Ved et relativt tykt, bøjeligt fotopolymerlag forstås et bøjeligt fotopolymerlag med en tykkelse på fra 1-10 mm, fortrinsvis fra 2-5 mm.
På denne måde dannes et fotopolymerovertræksmønster på en trykvalse.
15 Til dannelse af den ønskede billedinformation i det sømløse mellemlag uden væsentlig omdannelse af de dele af fotopoly-merovertrækket, som findes under det sømløse mellemlag, kan det være tilrådeligt at anbringe et lysfilterlag mellem det lysfølsomme mellemlag og overfladen af fotopolymerlaget.
20 På denne måde er det muligt at sikrer at der under den første belysning kun dannes et billede i det lysfølsomme mellemlag.
Lysfilterlaget anbringes hensigtsmæssigt uden søm på overfladen af fotopolymerlaget.
25 Det lysfølsomme mellemlag kan eksempelvis være baseret på en diazoforbindelse, et sølvhalogenid eller en lysfølsom polymer og kan påføres ved sprøjtning, sprederovertrækning eller overføringsbelægning.
Det lysfølsomme mellemlag er hensigtsmæssigt betydeligt 30 mere følsomt over for en given belysning end fotopolymer- 4
DK 162182 B
laget.
Der opnås særligt gode resultater, når der anvendes lys af forskellig bølgelængde til belysningen i det første trin og i det andet trin.
5 Lys af samme bølgelængde kan også anvendes til belysningen i det første og det andet trin, men i dette tilfælde er mellemlaget meget mere følsomt for lyset af en given bølgelængde end fotopolymerlaget.
Opfindelsen angår også en trykvalse med et mønstret foto-10 polymerovertræk dannet ved belysning af fotopolymerover-trækket gennem en mønstret film presset mod fotopolymer-overtrækket efterfulgt af fjernelse af den mønstrede film og af opløselige dele af fotopolymerovertrækket, og trykvalsen ifølge opfindelsen er ejendommelig ved, at foto-15 polymerovertrækket dannet efter udvaskning ikke har en længdezone af uopløselige fotopolymerdele med en lavere fri højde og/eller med forskellige sidebredder end andre sammenlignelige uopløselige fotopolymerdele.
I dette tilfælde skal der ved frihøjde forstås afstanden 20 mellem den øverste overflade i de uopløselige polymerdele og overfladen af en naboforsænkning.
Da der ikke forekommer uopløselige fotopolymerdele med en topoverflade, der ikke ligger på en cylinderoverflade, som indbefatter overfladerne af de andre uopløselige 25 fotopolymerdele, opnås et væsentligt bedre trykresultat med en trykvalse af denne type, end det er tilfældet med de kendte trykvalser.
Når der anvendes et fotonedbrydeligt fotopolymerovertræk, forekommer overfladerne af de uopløselige fotopolymerdele 30 på en cylinderoverflade, medens der ved siden af disse fotopolymerdele næsten altid forekommer et polymerlag af den samme tykkelse i forsænkningerne. Dette bevirker lige- 5
DK 162182 B
ledes et bedre trykresultat.
Det samme gælder for fotopolymerdele, som alle har praktisk taget samme sidebredde.
Opfindelsen forklares nærmere i det følgende under hen-5 visning til tegningen, hvor fig. 1 viser et tværsnit af en trykvalse under fremstillingsprocessen , fig. 2 viser en trykvalse med fotopolymerbelægning af den fotohærdelige type og en forsænket del af 10 fotopolymerovertrækket, fig. 3 viser det samme fotopolymerovertræk, efter at det har antaget den oprindelige tilstand, fig. 4 viser et tværsnit af et fotopolymerovertræk af den fotohærdelige type med lysfølsomt mellem-15 lag og en mønstret film, hvis kanter støder sammen, fig. 5 viser en del af overfladen af trykvalsen med hærdede dele af fotopolymerlaget efter udvaskning, fig. 6a viser de hærdede dele af fotopolymerlaget i til-20 fælde af en trykvalse ifølge opfindelsen fremstil let ved fremgangsmåden ifølge opfindelsen, fig. 6b viser de samme hærdede dele frembragt ved dobbeltbelysning, fig. 7a viser en del af trykvalsens overflade ved anvendel-25 se af en mønstret film, hvis kanter støder sammen, dannet uden anvendelse af et lysfølsomt mellemlag med en fotonedbrydelig polymer, og fig. 7b viser den samme overflade frembragt med et lysfølsomt mellemlag.
30 I fig. 1 er vist en metaltrykvalse 1 forsynet med et fotopolymerovertræk af den fotohærdelige type 2 påført i ensartet tykkelse.
På overfladen af fotopolymerovertrækket 2 er anbragt et sømløst, lysfølsomt mellemlag 3 bestående af en sølvhalogenid- 6
DK 162182 B
emulsion påført ved hjælp af en spreder. Lysfølsomheden af dette sølvhalognidemulsionslag er ca. 100 gange så stor som lysfølsomheden af fotopolymerovertrækket. Der anvendes sædvanligvis lysfølsomme mellemlag, hvis lysfølsomhed er 5 ca. 3 til 200 gange større end lysfølsomheden af fotopolymerovertrækket .
Omkring trykvalsen 1 med fotopolymerovertrækket 2 og det lyslysfølsomme mellemlag 3 er anbragt en mønstret film 4, hvis kanter 7 og 8 overlapper hinanden under dannelse af 10 overlapningsområder 4a og 4b. Det hele er omviklet ved et lag transparent folie 5 af et plastmateriale, f.eks. poly-vinylchlorid, hvorpå der er·frembragt et vakuum under folielaget 5. Som følge heraf presses den mønstrede film 4 mod overfladen af det noget elastiske fotopolymerovertræk 15 2. På stedet med de overlappende dele 4a og 4b vil dette bevirke en nedsænkning 6 i fotopolymerlaget.
Hvis det lysfølsomme mellemlag 3 ikke var anvendt ville belyste dele af det fotohærdelige fotopolymerlag i det nedsænkede område blive hærdet, hvilket ville resulterer 20 i, at nedsænkningerne vill blive fikseret lokalt i en smal længdezone over mønstrets bredde (se overflade 14 i fig. 5) .
Ved anvendelse af det lysfølsomme mellemlag 3 overføres der under belysningen stort set kun et billede af den mønstrede 25 film til det lysfølsomme lag 3. Efter fjernelse af den mønstrede film og omviklingsfolien 5 forekommer en tilstand som vist i fig. 2, hvor det lysfølsomme mellemlag 3 har belyste dele 13 og ubelyste dele 15 i overensstemmelse med mønstret, idet mønstret, afhængigt af typen af det lysf01-30 somme lag, allerede er dannet eller forekommer som latent billede, der bliver synligt efter fremkaldelse.
Efter kort tid vil den forsænkede del 6 af det fotohærdelige fotopolymerlag have antaget den oprindelige til- 7
DK 162182 B
stand, hvorved man opnår den i fig. 3 viste tilstand.
Der foretages derpå belysning for anden gang, hvorved dele 10 af fotopolymerlaget 2 hærdes. Efter fjernelse af det lysfølsomme lag og ikke-hærdede dele af fotopolymerlaget 5 fås en trykvalse med et mønster dannet fra de hærdede dele 10 af fotopolymerlaget.
I fig.4 er vist en anden udførelsesform, hvor kanterne 7 og 8 på den mønstrede film 4 støder sammen uden overlapning. I dette tilfælde optræder der ingen forsænkning af 10 det elastiske fotohærdelige fotopolymerlag 2, men som følge af spredningen, vil fotopolymerdelene, som skal belyses i området med de sammenstødende kanter, blive mindre belyst end andre dele, som udsættes for den samme mængde lys. Ved udvaskning af fotopolymerlaget vil disse poly-15 merdele i området med de sammenstødende kanter også udvaskes i nogen grad, således at dele med en mindre højde end andre dele fremkommer i dette område (se overflade 14 i fig. 5).
I tilfælde af et fotonedbrydeligt fotopolymerlag vil dele, 20 som skal belyses på stedet med den sammenstødende kant, også blive belyst for lidt, hvilket bevirker, at udvaskningen forløber til en mindre dybde. Dette er vist i fig.
7a, hvor 17 angiver de ubelyste dele og 18 angiver belyste dele, når der ikke anvendes et lysfølsomt mellemlag.
25 Fig. 7b viser resultatet, hvis et lysfølsomt mellemlag rent faktisk anvendes.
I begge de ovennævnte tilfælde bevirker anvendelsen af det lysfølsomme mellemlag 3 den store fordel, at disse ulemper kan undgås.
30 Som anført ovenfor er det kendt at fremstille en trykvalse med et mønster ved at rotere valsen med fotopolymerlaget og afrulle den mønstrede del langs den roterende valse, 8
DK 162182 B
medens der foretages belysning gennem en spalte. På mønstrets samlingssted vil der altid foregå en dobbelt belysning under disse omstændigheder som følge af spaltebredden. I fig. 6a er vist en fotopolymerlagdel 10 hærd-5 net ved en enkelt belysning med sider 11 og 12, hvis hældning er temmelig stor. Med en dobbeltbelysning af den samme fotopolymerlagdel fås en hærdet 10' med £ider 11' og 12', hvis hældning er mere svag, således at der opnås en større sidebredde sammenlignet med den i fig. 6a viste 10 udførelsesform. Dette undgås ved anvendelse af et lysfølsomt mellemlag i overensstemmelse med opfindelsen.
Opfindelsen forklares nærmere i det efterfølgende eksempel.
Eksempel På en trykvalse 1 med en diameter på 50 cm anbringes et 15 fotopolymerovertrækslag 2 af f.eks. "Cyrel" (Dupont) ved sprederbelægning eller ved omvikling af en folie af dette materiale, som derpå sammensmeltes og nøjagtig tilpasses til opnåelse af den korrekte diameter og afrundethed.
På fotopolymerlaget anbringes et lag sølvemulsion som 20 lysfølsomt mellemlag 3.
Omkring det hele anbringes derpå en mønstret film 4 på den i fig. 1 viste måde, og derpå en omviklingsfolie 5 af polyvinylchlorid, hvorefter der foretages evakuering under omviklingsfolien 5, således at den mønstrede film 25 presses mod fotopolymerovertrækket med lysfølsomt lag.
Der foretages først belysning med lys med en bølgelængde på 400-440 nm.
Omviklingsfolien 5 og den mønstrede film 4 fjernes derpå, hvorefter det lysfølsomme mellemlag 3 fremkaldes, hvorved 30 der dannes et billede svarende til billedet på den mønstrede film.
DK 162182 B
9
Efter henstand i nogen tid, eventuelt i kombination med en varmebehandling, er sømmen forsvundet fra fotopolymer-overtrækket 2, og der foretages belysning for anden gang med en bølgelængde på 340-380 nm.
5 De tilbageblevne områder af det oprindeligt påførte lysfølsomme mellemlag 3 og de ubelyste dele af fotopolymer-laget fjernes derpå til en vis dybde ved udvaskning.
For at begrænse virkningen af den første belysning til stort set det lysfølsomme mellemlag 3, kan der med for-10 del anbringes et filterlag af en tinuvin-forbindelse (Ciba-Geigy), som absorberer ultraviolet lys, mellem mellemlaget 3 og fotopolymerovertrækket 2.
Claims (6)
1. Fremgangsmåde til fremstilling af et mønstret fotopolymerovertræk på en trykvalse (1), ved hvilken et lysfølsomt, sømløst mellemlag (3), som kan fjernes, på-5 ført på fotopolymerlaget (2) og fastklæbet tæt dertil belyses og eventuelt fremkaldes i et første trin i alt væsentligt til dannelse af et ønsket mønstret opakt billede i mellemlaget (3), hvorpå fotopolymerlaget (2) belyses gennem billedet dannet i mellemlaget (3), hvorefter 10 de opake dele af mellemlaget (3) og de opløselige dele af fotopolymerlaget (2) fjernes, kendetegnet ved, at fotopolymerlaget (2) består af et relativt tykt, bøjeligt fotopolymerlag, at belysningen i det første trin foretages gennem en mønstret film (4), som er anbragt 15 omkring mellemlaget (3), at den mønstrede film (4) fjernes efter gennemførelsen af det første trin, og at belysningen af fotopolymeren udsættes, indtil de nedsænkede dele af fotopolymerlaget (2) har antaget den oprindelige tilstand.
2. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, at der til belysningen i det første og det andet trin anvendes lys af forskellig bølgelængde.
3. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, at der til belysningen i det første trin og det andet trin anvendes lys i samme bølgelængdeområde.
4. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, at det lysfølsomme mellemlag er mere følsomt over for lys af en vis bølgelængde end fotopolymerovertrækket (2).
5. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, at der anbringes et lysfilterlag (16), der fortrinsvis er sømløst, mellem det lysfølsomme mellemlag (3) og polymerovertrækkets (2) overflade. DK 162182 B
6. Trykvalse (1) med mønstret fotopolymerovertræk dannet ved fremgangsmåden ifølge krav 1-5, kendetegnet ved, at det efter udvaskning fremkomne fotopolymerovertræk ikke indeholder en længdezone 5 af uopløselige fotopolymerdele med en lavere frihøjde og/eller med en anden sidebredde end andre sammenlignelige uopløselige fotopolymerdele.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8500992A NL8500992A (nl) | 1985-04-03 | 1985-04-03 | Werkwijze voor het vormen van een gedessineerde fotopolymeerbekleding op een drukwals alsmede drukwals met gedessineerde fotopolymeerbekleding. |
| NL8500992 | 1985-04-03 |
Publications (4)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DK148886D0 DK148886D0 (da) | 1986-04-02 |
| DK148886A DK148886A (da) | 1986-10-04 |
| DK162182B true DK162182B (da) | 1991-09-23 |
| DK162182C DK162182C (da) | 1992-03-02 |
Family
ID=19845787
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DK148886A DK162182C (da) | 1985-04-03 | 1986-04-02 | Fremgangsmaade til fremstilling af et moenstret fotopolymerovertraek paa en trykvalse samt trykvalse fremstillet derved |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5041359A (da) |
| EP (1) | EP0197601B1 (da) |
| JP (1) | JPS61230152A (da) |
| AU (1) | AU590876B2 (da) |
| CA (1) | CA1296561C (da) |
| DE (1) | DE3664825D1 (da) |
| DK (1) | DK162182C (da) |
| ES (1) | ES8708067A1 (da) |
| FI (1) | FI82779C (da) |
| NL (1) | NL8500992A (da) |
| NZ (1) | NZ215656A (da) |
| ZA (1) | ZA862477B (da) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5278027A (en) * | 1989-03-08 | 1994-01-11 | R. R. Donnelley | Method and apparatus for making print imaging media |
| DE3925455A1 (de) * | 1989-08-01 | 1991-02-14 | Robert Hanus | Belichtungsvorrichtung zum belichten eines metallkaschierten basismaterials |
| JP3553929B2 (ja) * | 1990-05-21 | 2004-08-11 | ナシュア コーポレイション | 光拡散性材料を製造する方法 |
| GB9016488D0 (en) * | 1990-07-27 | 1990-09-12 | Zed Instr Ltd | Printing cylinder |
| US6756181B2 (en) | 1993-06-25 | 2004-06-29 | Polyfibron Technologies, Inc. | Laser imaged printing plates |
| US6916596B2 (en) | 1993-06-25 | 2005-07-12 | Michael Wen-Chein Yang | Laser imaged printing plates |
| DE4339010C2 (de) * | 1993-06-25 | 2000-05-18 | Pt Sub Inc | Photohärtbares Erzeugnis für Druckplatten |
| DE4341567C2 (de) * | 1993-12-07 | 2000-11-02 | Heidelberger Druckmasch Ag | Verfahren und Vorrichtung zum reversiblen Beschreiben eines Druckformträgers innerhalb einer Offsetdruckmaschine |
| NL9402239A (nl) * | 1994-12-29 | 1996-08-01 | Raytech Sprl | Werkwijze voor het aanbrengen van een patroon aan een oppervlak van een niet-vlak, in het bijzonder cilindrisch, substraat. |
| US5798019A (en) * | 1995-09-29 | 1998-08-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Methods and apparatus for forming cylindrical photosensitive elements |
| US6801723B2 (en) * | 2002-12-02 | 2004-10-05 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Image-forming device having a patterned roller and a method for providing traceability of printed documents |
| EP1694731B1 (en) * | 2003-09-23 | 2012-03-28 | University Of North Carolina At Chapel Hill | Photocurable perfluoropolyethers for use as novel materials in microfluidic devices |
| MXPA06006738A (es) * | 2003-12-19 | 2006-08-31 | Univ North Carolina | Metodos para fabricar micro- y nano-estructuras aisladas utilizando litografia suave o de impresion. |
| US9040090B2 (en) | 2003-12-19 | 2015-05-26 | The University Of North Carolina At Chapel Hill | Isolated and fixed micro and nano structures and methods thereof |
| US20050170287A1 (en) * | 2004-01-30 | 2005-08-04 | Kanga Rustom S. | Photosensitive printing sleeves and method of forming the same |
| AU2005220150A1 (en) * | 2004-02-13 | 2005-09-15 | The University Of North Carolina At Chapel Hill | Functional materials and novel methods for the fabrication of microfluidic devices |
| EP1853967A4 (en) * | 2005-02-03 | 2009-11-11 | Univ North Carolina | Low surface area polymer material for use in liquid crystal displays |
| WO2007133235A2 (en) * | 2005-08-08 | 2007-11-22 | Liquidia Technologies, Inc. | Micro and nano-structure metrology |
| EP2537657A3 (en) | 2005-08-09 | 2016-05-04 | The University of North Carolina At Chapel Hill | Methods and materials for fabricating microfluidic devices |
| US20100151031A1 (en) * | 2007-03-23 | 2010-06-17 | Desimone Joseph M | Discrete size and shape specific organic nanoparticles designed to elicit an immune response |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE635636A (da) * | 1962-08-01 | |||
| GB1187980A (en) * | 1966-10-28 | 1970-04-15 | Ilford Ltd | Presensitised Lithographic Plates. |
| GB1325875A (en) * | 1969-08-13 | 1973-08-08 | Bkt Displays Ltd | Composition of gravure printing plates |
| AT326703B (de) * | 1971-10-07 | 1975-12-29 | Zimmer Peter | Verfahren zur herstellung von druckformen |
| DE2306278A1 (de) * | 1973-02-08 | 1974-08-15 | Agfa Gevaert Ag | Kameraempfindliche photomasken |
| DE2517711A1 (de) * | 1975-04-22 | 1976-11-04 | Johannes Ruediger | Kombinationsbeschichtete druckplatten, vorzugsweise fuer flach- und hochdruckformen zum zwecke der belichtungszeitverkuerzung und der moeglichkeit, positive durchsichtsvorlagen auch auf negativdruckplatten bei positiver bildwiedergabe im druck zu belichten |
| DE2842440C2 (de) * | 1978-09-29 | 1987-01-08 | Du Pont de Nemours (Deutschland) GmbH, 4000 Düsseldorf | Verfahren zur Kantenverbindung lichthärtbarer, thermoplastischer, elastomerer Druckplatten |
| US4268609A (en) * | 1979-07-16 | 1981-05-19 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Process for preparing photosensitive lithographic printing plate precursor |
| NL7908327A (nl) * | 1979-11-14 | 1981-06-16 | Stork Screens Bv | Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een gedessineerde drukwals. |
| DE3125564C2 (de) * | 1981-06-29 | 1984-08-30 | Du Pont de Nemours (Deutschland) GmbH, 4000 Düsseldorf | Verfahren zur Verbesserung der Druckqualität von Hochdruckformen |
-
1985
- 1985-04-03 NL NL8500992A patent/NL8500992A/nl not_active Application Discontinuation
-
1986
- 1986-04-01 DE DE8686200544T patent/DE3664825D1/de not_active Expired
- 1986-04-01 EP EP86200544A patent/EP0197601B1/en not_active Expired
- 1986-04-02 ES ES554082A patent/ES8708067A1/es not_active Expired
- 1986-04-02 CA CA000505649A patent/CA1296561C/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-04-02 NZ NZ215656A patent/NZ215656A/xx unknown
- 1986-04-02 DK DK148886A patent/DK162182C/da not_active IP Right Cessation
- 1986-04-03 FI FI861442A patent/FI82779C/fi not_active IP Right Cessation
- 1986-04-03 ZA ZA862477A patent/ZA862477B/xx unknown
- 1986-04-03 JP JP61077500A patent/JPS61230152A/ja active Granted
- 1986-04-03 AU AU55637/86A patent/AU590876B2/en not_active Ceased
-
1987
- 1987-08-03 US US07/081,606 patent/US5041359A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NZ215656A (en) | 1988-09-29 |
| JPH0325770B2 (da) | 1991-04-08 |
| US5041359A (en) | 1991-08-20 |
| DE3664825D1 (en) | 1989-09-07 |
| NL8500992A (nl) | 1986-11-03 |
| FI82779B (fi) | 1990-12-31 |
| JPS61230152A (ja) | 1986-10-14 |
| CA1296561C (en) | 1992-03-03 |
| FI861442A0 (fi) | 1986-04-03 |
| EP0197601B1 (en) | 1989-08-02 |
| ES8708067A1 (es) | 1987-09-01 |
| DK162182C (da) | 1992-03-02 |
| DK148886D0 (da) | 1986-04-02 |
| FI82779C (fi) | 1991-04-10 |
| DK148886A (da) | 1986-10-04 |
| EP0197601A1 (en) | 1986-10-15 |
| AU5563786A (en) | 1986-10-09 |
| FI861442L (fi) | 1986-10-04 |
| ES554082A0 (es) | 1987-09-01 |
| ZA862477B (en) | 1986-12-30 |
| AU590876B2 (en) | 1989-11-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DK162182B (da) | Fremgangsmaade til fremstilling af et moenstret fotopolymerovertraek paa en trykvalse samt trykvalse fremstillet derved | |
| RU2554935C2 (ru) | Светочувствительный слоистый полимер и его термическая обработка | |
| US5760880A (en) | Laser apparatus | |
| US4291118A (en) | Relief imaging liquids | |
| US4339472A (en) | Method for fabricating gravure printing cylinders with synthetic resin surface | |
| JP4575951B2 (ja) | フレキソ印刷要素の熱現像装置及び方法 | |
| JPS6321182B2 (da) | ||
| NZ243818A (en) | Producing an embossing die in roll form for embossing at least one side of a flat material | |
| JP2013511745A (ja) | 感光性印刷要素のためのキャリアシート | |
| JP5827750B2 (ja) | 積層フレキソ印刷スリーブ及びその製造方法 | |
| US2316148A (en) | Process for printing means | |
| US4115119A (en) | Shallow relief photopolymer printing plate and methods | |
| JP2012508396A (ja) | フレキソ印刷要素の熱現像装置及び方法 | |
| KR890012517A (ko) | 인쇄회로에 도포하기 위한 중합체 물질 형성공정 | |
| JPS62502364A (ja) | プリント基板への光マスク位置合せ装置 | |
| JPS6321889B2 (da) | ||
| EP0004375B1 (en) | Process for pre-conditioning a film and apparatus for carrying out the process | |
| JPS631578B2 (da) | ||
| JP3219331B2 (ja) | 化粧板用賦形型の製造に使用するマスクフィルムの製造方法 | |
| JPS5857100B2 (ja) | 感光材料現像装置 | |
| CN115593082A (zh) | 一种无缝版辊的制作方法 | |
| JPS583540B2 (ja) | カンコウセイジユシバンノ ロコウホウホウ | |
| JPS631579B2 (da) | ||
| JPH02139561A (ja) | パターン形成方法 | |
| JPH07319166A (ja) | スクリーン印刷版の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PBP | Patent lapsed |