DK3140636T3 - Overflade brydningsindeks billederhvervelsessystem og fremgangsmåde - Google Patents

Overflade brydningsindeks billederhvervelsessystem og fremgangsmåde Download PDF

Info

Publication number
DK3140636T3
DK3140636T3 DK15723825.4T DK15723825T DK3140636T3 DK 3140636 T3 DK3140636 T3 DK 3140636T3 DK 15723825 T DK15723825 T DK 15723825T DK 3140636 T3 DK3140636 T3 DK 3140636T3
Authority
DK
Denmark
Prior art keywords
region
lattice
grating
refractive index
light
Prior art date
Application number
DK15723825.4T
Other languages
English (en)
Inventor
Anders Kristensen
Martin Dufva
Christoph Vannahme
Original Assignee
Univ Danmarks Tekniske
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Univ Danmarks Tekniske filed Critical Univ Danmarks Tekniske
Application granted granted Critical
Publication of DK3140636T3 publication Critical patent/DK3140636T3/da

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/75—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated
    • G01N21/77—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated by observing the effect on a chemical indicator
    • G01N21/7703—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated by observing the effect on a chemical indicator using reagent-clad optical fibres or optical waveguides
    • G01N21/774—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated by observing the effect on a chemical indicator using reagent-clad optical fibres or optical waveguides the reagent being on a grating or periodic structure
    • G01N21/7743—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated by observing the effect on a chemical indicator using reagent-clad optical fibres or optical waveguides the reagent being on a grating or periodic structure the reagent-coated grating coupling light in or out of the waveguide
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02—Details
    • G01J3/0205—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows
    • G01J3/0245—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows using an optical amplifier of light, e.g. doped fiber
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/12—Generating the spectrum; Monochromators
    • G01J3/18—Generating the spectrum; Monochromators using diffraction elements, e.g. grating
    • G01J3/1895—Generating the spectrum; Monochromators using diffraction elements, e.g. grating using fiber Bragg gratings or gratings integrated in a waveguide
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/28—Investigating the spectrum
    • G01J3/2823—Imaging spectrometer
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/41—Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length
    • G01N21/4133—Refractometers, e.g. differential
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
    • G02B6/1225—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths comprising photonic band-gap structures or photonic lattices
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/35—Non-linear optics
    • G02F1/39—Non-linear optics for parametric generation or amplification of light, infrared or ultraviolet waves
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/08004—Construction or shape of optical resonators or components thereof incorporating a dispersive element, e.g. a prism for wavelength selection
    • H01S3/08009—Construction or shape of optical resonators or components thereof incorporating a dispersive element, e.g. a prism for wavelength selection using a diffraction grating
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02—Details
    • G01J3/06—Scanning arrangements arrangements for order-selection
    • G01J2003/064—Use of other elements for scan, e.g. mirror, fixed grating
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/75—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated
    • G01N21/77—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated by observing the effect on a chemical indicator
    • G01N2021/7769—Measurement method of reaction-produced change in sensor
    • G01N2021/7776—Index
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/75—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated
    • G01N21/77—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated by observing the effect on a chemical indicator
    • G01N2021/7769—Measurement method of reaction-produced change in sensor
    • G01N2021/7789—Cavity or resonator
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/06—Construction or shape of active medium
    • H01S3/063—Waveguide lasers, i.e. whereby the dimensions of the waveguide are of the order of the light wavelength
    • H01S3/0632—Thin film lasers in which light propagates in the plane of the thin film
    • H01S3/0635—Thin film lasers in which light propagates in the plane of the thin film provided with a periodic structure, e.g. using distributed feed-back, grating couplers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/16—Solid materials
    • H01S3/168—Solid materials using an organic dye dispersed in a solid matrix
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
    • H01S3/2383—Parallel arrangements
    • H01S3/2391—Parallel arrangements emitting at different wavelengths

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Claims (16)

1. Overflade brydningsindeks billederhvervelsessystem (100) til karakterisering af en prøve omfattende: - en gitterindretning (1) til at modtage prøven, indretningen omfatter mindst en første gitterregion (2) med en første gitterbredde langs en tværgående retning, og en anden gitterregion (4) med en anden gitterbredde i den tværgående retning, det første gitterregion (2) og den anden gitterregion (4) er tilgrænsende i den tværgående retning, hvor den første gitterregion (2) har en gitterperiode Ai i en langsgående retning, den langsgående retning er ortogonal til den tværgående retning, og den anden gitterregion (4) har en gitterperiode Λ2 i den langsgående retning, en gitterperiodeafstand ΔΑ = Λι -Λ2 er endelig, de første og anden gitterperioder er valgt til at tilvejebringe optiske resonanser for lys respektivt i et første bølgelængdebånd og et andet bølgelængdebånd, lys er emitteret, transmitteret, eller reflekteret i en uden-for-planet retning, i forhold til et plan defineret af den langsgående retning og den tværgående retning, hvor det første bølgelængdebånd og det andet bølgelængdebånd er mindst delvist ikke-overlappende i bølgelængde, - en lyskilde (130) til at illuminere mindst en del af den første gitterregion (2) og en del af den anden gitterregion (4) samtidigt med lys ved et illuminationsbølgelængdebånd, - et billeddannelsessystem (110) til billeddannelse af det emitterede, transmitterede eller reflekterede lys fra delen af den første gitterregion (2) og delen af den anden gitterregion (4), hvilket billeddannelsessystem omfatter et optisk element (114), konfigureret til at fokusere lys i en første tværgående retning og til at være invariant i en ortogonal tværgående retning, det optiske element (114) er orienteret således at den langsgående retning af gitterindretningen (1) er orienteret til at falde sammen med en invariant retning af det optiske element (114), og et billeddannende spektrometer (136) omfattende en indgangsspalte med en langsgående retning orienteret til at falde sammen med den invariante retning af det optiske element, det billeddannende spektrometer omfatter yderligere en 2-dimensional-billedsensor (139).
2. Overflade brydningsindeks billederhvervelses-system (100) ifølge krav 1, hvor det optiske element (114) er en cylindrisk linse.
3. Overflade brydningsindeks billederhvervelsessystem (100) ifølge krav 1, hvor det optiske element (114) er et buet spejl.
4. Overflade brydningsindeks billederhvervelsessystem (100) ifølge et hvilket som helst af de foregående krav, hvor gitterindretningen (1) omfatter flere strukturerede regioner, herunder den første gitterregion (2) og den anden gitterregion (4), såsom et antal strukturerede regioner i intervallet 2-100, eller 10-80, eller endog 20-50, hvor hver af gitterregionerne er indrettet til at tilvejebringe optiske resonanser for lys respektivt i tilsvarende bølgelængdebånd, lys er emitteret, transmitteret, eller reflekteret i uden-for-planet retningen, de tilsvarende bølgelængdebånd er mindst delvist ikke-overlappende.
5. Overflade brydningsindeks billederhvervelsessystem (100) ifølge et hvilket som helst af de foregående krav, hvor den første strukturerede region og/eller den anden strukturerede region er konfigureret som en anden ordens distribueret Bragg reflektor, DBR, for at tilvejebringe den optiske resonans.
6. Overflade brydningsindeks billederhvervelsessystem (100) ifølge et hvilket som helst af de foregående krav, hvor gitterindretningen (1) omfatter et lys-emitterende materiale med et emissionsspektrum, hvor første den strukturerede region og den anden strukturerede region er konfigureret således at det første bølgelængdeområde og det andet bølgelængdeområde mindst delvist falder indenfor emissionsspektret af det lysemitterende materiale.
7. Overflade brydningsindeks billed-erhvervelsessystem (100) ifølge krav 6, hvor gitterperiodeafstanden ΔΛ mellem to tilgrænsende gitterregioner er i intervallet 0,05nm-10nm, såsom i intervallet 0,lnm-5nm, eller endog i intervallet 0,5nm-2nm.
8. Overflade brydningsindeks billed-erhvervelsessystem (100) ifølge et hvilket som helst af kravene 6-7, hvor det lysemitterende materiale er eller omfatter et farvestof-doteret materiale, såsom en farvestof-doteret polymer.
9. Overflade brydningsindeks billed-erhvervelsessystem (100) ifølge et hvilket som helst af kravene 1-5, hvor gitterindretningen (1) er en passiv struktur til at reflektere eller udsende lys i bølgelængdeområderne.
10. Overflade brydningsindeks billed-erhvervelsessystem (100) ifølge krav 9, hvor gitterperiodeafstanden ΔΛ mellem to tilgrænsende gitterregioner er i intervallet 0,5nm-500nm, såsom ca. 5nm-200nm, eller endog i intervallet lOnm-lOOnm.
11. Overflade brydningsindeks billed-erhvervelsessystem (100) ifølge et hvilket som helst af kravene 9-10, hvilket system (100) yderligere omfatter et optisk forstærkningsmateriale og en første kavitet-endereflektor, og hvor gitterindretningen (1) er indrettet som en anden kavitet-endereflektor, forstærkningsmaterialet er anbragt mellem den første kavitet-endereflektor og den anden kavitet-endereflektor i en ekstern-kavitet laserkonfiguration.
12. Overflade brydningsindeks billed-erhvervelsessystem (100) ifølge et hvilket som helst af de foregående krav, hvilket system (100) er eller omfatter et mikroskopsystem.
13. Fremgangsmåde til erhvervelse af et overflade brydningsindeks billede af en prøve, hvilken fremgangsmåde omfatter at: - tilvejebringe en gitterindretning (1) til at modtage prøven, hvilken indretning omfatter mindst en første gitterregion (2) med en første gitterbredde langs en tværgående retning, og en anden gitterregion (4) med en anden gitterbredde i den tværgående retning, den første gitterregion (2) og den anden gitterregion (4) er tilgrænsende i tværgående retning, hvor den første gitterregion (2) har en gitterperiode Λι i en langsgående retning, den langsgående retning er ortogonal til tværretningen, og den anden gitterregion (4) har en gitterperiode Λ2 i den langsgående retning, en gitterperiodeafstand ΔΛ = Λι - Λ2 er endelig, hvor de første og anden gitterperioder er valgt til at tilvejebringe optiske resonanser for lys respektivt i et første bølgelængdebånd og et andet bølgelængdebånd, lys er emitteret, transmitteret, eller reflekteret i en uden-for-planet retning, i et forhold til et plan defineret af den langsgående retning og den tværgående retning, hvor det første bølgelængdebånd og det andet bølgelængdebånd er mindst delvist ikke-overlappende i bølgelængde, - positionere prøven der skal karakteriseres på gitterindretningen (1) for at komme i kontakt med den første (2) og/eller den anden gitterregion (4), - illuminere mindst en del af den første gitterregion (2) og en del af den anden gitterregion (4) samtidigt med lys ved et illuminationsbølgelængdebånd, - afbilde det emitterede, transmitterede eller reflekterede lys fra delen af den første gitterregion (2) og delen af den anden gitterregion (4) med et billeddannelsessystem (110) til et 2-dimensionelt rå-billede, hvilket billeddannelsessystem omfatter et optisk element (114), konfigureret til at fokusere lys i en første tværgående retning og til at være invariant i en ortogonal tværgående retning, det optiske element (114) er orienteret således at den langsgående retning af gitterindretningen er orienteret til at falde sammen med en invariant retning af det optiske element, og et billeddannende spektrometer (136) omfattende en indgangsspalte med en langsgående retning orienteret til at falde sammen med den invariante retning af det optiske element, det billeddannende spektrometer (136) yderligere omfattende en 2-dimensionel billedsensor (139), orienteret langs den langsgående retning af indgangsspalten, - behandle det 2-dimensionelle rå-billede for at opnå en 2-dimensionel afbildning af brydningsindeksændring af prøven ved gitterregionerne, ved at anvende at hver række af pixel i rå-billedet vinkelret på den langsgående retning af indgangsspalten indeholder spektralt opløste resonanstoppe for hver gitterregion, hver resonanstop svarer til en position langs den tværgående retning af gitterindretningen, og positionerne i råbilledet langs den langsgående retning svarer til positioner langs den langsgående retning af gitterindretningen.
14. Fremgangsmåden ifølge krav 13, hvor trinnet at behandle billedet omfatter at følge ændringer i spektrale positioner af resonanstoppene for at tilvejebringe et tidsopløst billede af brydningsindeksændringer i prøven.
15. Fremgangsmåden ifølge krav 13 eller 14, hvor behandling af det 2-dimensionelle rå-billede omfatter: - for hver række af pixels vinkelret på den langsgående retning af indgangsspalten, detektere toppositioner i pixel for resonanstoppene i rækken associeret med hver gitterregion, - omdanne hver topposition i pixels til en topbølgelængdeværdi for resonans, - beregne et bølgelængdeskift for hver af topbølgelængdeværdierne for resonans i forhold til referencetop-værdier svarende til gitterindretningen uden prøven er til stede, og - beregne brydningsindeksværdier fra bølgelængdeskift.
16. Fremgangsmåden ifølge krav 15, hvor at finde toppositionen i pixels for hver af gitterregionerne omfatter at: - finde en toppixel som en pixel med en højeste intensitetsværdi indenfor et område af pixels associeret med den gitterregion, - beregne toppositionen i pixel fra et område af pixels rundt om toppixelen under anvendelse af en numerisk fremgangsmåde, såsom massemidtpunkts-beregning eller en Lorentz-tilnærmelse.
DK15723825.4T 2014-05-08 2015-05-08 Overflade brydningsindeks billederhvervelsessystem og fremgangsmåde DK3140636T3 (da)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP14167484 2014-05-08
PCT/DK2015/050121 WO2015169324A1 (en) 2014-05-08 2015-05-08 A surface refractive index scanning system and method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DK3140636T3 true DK3140636T3 (da) 2019-04-15

Family

ID=50687291

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DK15723825.4T DK3140636T3 (da) 2014-05-08 2015-05-08 Overflade brydningsindeks billederhvervelsessystem og fremgangsmåde

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10088428B2 (da)
EP (1) EP3140636B1 (da)
DK (1) DK3140636T3 (da)
WO (1) WO2015169324A1 (da)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3308199B1 (en) * 2015-06-12 2023-06-07 Danmarks Tekniske Universitet Photothermal modification of plasmonic structures
CN105486405A (zh) * 2016-01-12 2016-04-13 天津纳正科技有限公司 一种可调焦式光谱仪
US10697892B2 (en) 2016-01-26 2020-06-30 Danmarks Tekniske Universitet Cuvette and method for measuring refractive index in a spectrophotometer
CN112924416B (zh) * 2021-01-26 2022-02-18 华中科技大学 测量分布反馈激光器纵向光场分布的装置及其测量方法
WO2022207794A1 (en) 2021-03-31 2022-10-06 Copenhagen Nanosystems Aps Cuvette with biorecognition elements and method for measuring refractive index in a spectrophotometer
US20240183712A1 (en) * 2021-06-18 2024-06-06 Technische Universiteit Eindhoven A spectral sensing system
GB202211312D0 (en) * 2022-08-03 2022-09-14 Univ York Interferometric optical sensor system and method
KR102904711B1 (ko) * 2022-11-01 2025-12-24 아주대학교산학협력단 핀홀 스캐닝을 이용한 현미경 분광 분석 장치 및 방법
CN116223446B (zh) * 2022-11-15 2026-01-06 之江实验室 折射率测量装置及折射率测量方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5276321A (en) * 1991-04-15 1994-01-04 Geophysical & Environmental Research Corp. Airborne multiband imaging spectrometer
US7023544B2 (en) * 2000-10-30 2006-04-04 Sru Biosystems, Inc. Method and instrument for detecting biomolecular interactions
US8938141B2 (en) * 2004-07-30 2015-01-20 University Of Connecticut Tunable resonant leaky-mode N/MEMS elements and uses in optical devices
EP1862795A1 (en) * 2006-05-10 2007-12-05 ABB Schweiz AG Bulk Material Analyzer System
US7737392B2 (en) * 2006-11-09 2010-06-15 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Photonic crystal sensors with integrated fluid containment structure, sample handling devices incorporating same, and uses thereof for biomolecular interaction analysis
US8268637B2 (en) 2008-01-11 2012-09-18 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Label-free biosensors based upon distributed feedback laser
US20100008826A1 (en) * 2008-07-10 2010-01-14 Sru Biosystems, Inc. Biosensors featuring confinement of deposited material and intra-well self-referencing
US20110267623A1 (en) * 2009-11-02 2011-11-03 Matejka Steven R Multi-Wavelength Reference Microplate For Label-Independent Optical Reader
US8619260B2 (en) * 2009-11-02 2013-12-31 Corning Incorporated Multi-grating biosensor for label-independent optical readers

Also Published As

Publication number Publication date
EP3140636B1 (en) 2018-12-26
EP3140636A1 (en) 2017-03-15
WO2015169324A1 (en) 2015-11-12
US10088428B2 (en) 2018-10-02
US20170269002A1 (en) 2017-09-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DK3140636T3 (da) Overflade brydningsindeks billederhvervelsessystem og fremgangsmåde
CN102713542B (zh) 用于非标记光阅读器的可调光源
US9927299B2 (en) Spectral reading using synchronized LED sources
JP5296310B2 (ja) 検体情報取得
US12281941B2 (en) System and method for hyperspectral imaging in highly scattering media by the spectral phasor approach using two filters
JP4909285B2 (ja) 共鳴導波路回折格子センサに呼び掛けるための単一モード（ｓｍ）ファイバ光読取器システム及び方法
US9829435B2 (en) External cavity laser biosensor arrangements
US9217710B2 (en) Method of simultaneous frequency-sweeping lifetime measurements on multiple excitation wavelengths
JP2019520574A (ja) ハイパースペクトルイメージング方法および装置
TWI756306B (zh) 光學特性測定裝置及光學特性測定方法
JP2007509351A (ja) 共鳴導波路回折格子のスペクトル多重化のための光読取りシステム及び方法
JP2007171179A (ja) 検知対象光伝搬
US10620124B2 (en) Optical analysis device and biomolecular analysis device
US20170052118A1 (en) Multiplexed excitation emission matrix spectroscopy
JP2013501242A (ja) 光学走査を用いたラベル非依存光学読取システム及びラベル非依存光学読取方法
KR101602353B1 (ko) 고출력 비표지 세포 분석 시스템 및 그 구동방법
Chen et al. Fast spectral surface plasmon resonance imaging sensor for real-time high-throughput detection of biomolecular interactions
JP4640797B2 (ja) 生体分子相互作用測定装置及び測定方法
US8049883B2 (en) Wavelength tracker for swept wavelength sensor interrogation system
US10753868B2 (en) Sensor and associated methods
Cano-Velázquez et al. Beyond Spectral Resolution in Nanophotonic Sensing: Picometer-Level Precision with Multispectral Readout
JP4867011B2 (ja) 屈折率センサおよび屈折率測定装置
WO2019167408A1 (ja) ライトシート顕微鏡及び試料観察方法
Chaudhery et al. Angle-scanning photonic crystal enhanced fluorescence microscopy
CN119173798A (zh) 用于使用镜面针孔阵列对多于一个样品平面同时采样的技术