EP0048407A1 - Hochenergielaser des TEA-Typs mit laser-achsparallel angeordneten Vorionisierungsstäben - Google Patents

Hochenergielaser des TEA-Typs mit laser-achsparallel angeordneten Vorionisierungsstäben Download PDF

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EP0048407A1
EP0048407A1 EP81107155A EP81107155A EP0048407A1 EP 0048407 A1 EP0048407 A1 EP 0048407A1 EP 81107155 A EP81107155 A EP 81107155A EP 81107155 A EP81107155 A EP 81107155A EP 0048407 A1 EP0048407 A1 EP 0048407A1
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laser
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discharge
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Hans-Jürgen Dr. Cirkel
Reinhard Müller
Willi Bette
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Kraftwerk Union AG
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Kraftwerk Union AG
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    • H01S3/0384—Auxiliary electrodes, e.g. for pre-ionisation or triggering, or particular adaptations therefor

Definitions

  • the invention relates to a high-energy laser of the TEA type according to the preamble of claim 1.
  • the present invention also deals with the problem of achieving the largest possible and homogeneous discharge cross section perpendicular to the optical axis and to the longitudinal direction of the electrodes in TEA lasers. This should be done by suitable shaping of the electrodes and by using an effective pre-ionization unit. As has been found, with the known TEA excimer lasers, the discharge still tends to be split into several individual areas, albeit the laser electrodes with mushroom-shaped cross section have already brought about an improvement.
  • the object of the invention is to further improve the known TEA lasers, in particular TEA excimer lasers, in relation to the largest possible and homogeneous discharge cross section. This is of particular importance because the focus of use of the TEA lasers is shifting more and more to the industrial area and questions of economy and thus the efficiency and optical energy of a single pulse are coming to the fore.
  • the object is achieved in a high-energy laser of the type mentioned by the features specified in the characterizing part of claim 1.
  • Advantageous further developments are described in the subclaims.
  • the advantages that can be achieved with the invention can be seen primarily in the fact that the laser-parallel alignment of the mushroom cap, mushroom stem and the rod-shaped auxiliary electrode enables a very uniform preionization and thus also main discharge to be achieved without the discharge being split up into individual regions.
  • the high-energy laser of the TEA type shown in FIG. 1 (TEA laser means "transversely excited atmospheric pressure laser”) is constructed in such a way that in the gas space 1 between the two, which extend parallel to the optical axis 2 of the laser and are at a distance a1 from one another Electrodes of the laser or discharge tube 3, the most homogeneous, arc-free capacitor discharge possible.
  • the approximately rectangular housing 3a of the laser designated as a whole by L is composed of ceramic walls 3a1, 3a2, 3a3 and 3a4, which preferably consist of a high-purity Al 2 O 3 ceramic, in a gas-tight manner.
  • the laser gas has a composition such as. B. is described in the earlier application P 29 32 781.9.
  • the electrodes E1, E2 each protrude into the discharge space 1 with a mushroom handle 4 serving for power supply and a mushroom hat 5 serving for power distribution and with connecting lugs 6 which pass through the walls 3a1, 3a2 to the outside.
  • rod-shaped auxiliary electrodes H11, H12 are arranged directly adjacent to the mushroom cap 5 of the electrode E1 and H21, H22 directly adjacent to the mushroom cap 5 of the electrode E2 between the electrodes E1, E2. They each have a rollover distance a2 from the electrodes.
  • a flashover takes place between the enveloping dielectric of the auxiliary electrodes H11, H12, H21, H22 and the associated electrodes E1 and E2.
  • the UV light emitted by the sparks ionizes the gas enclosed by electrodes E1 and E2.
  • the electrodes E1, E2 with their mushroom hats 5 face each other in mirror symmetry, and with the mushroom hats 5 the two auxiliary electrode pairs H11, H12 and H21, H22 also face each other in mirror symmetry. This arrangement is particularly advantageous for achieving the largest possible and homogeneous discharge cross-section.
  • the auxiliary electrodes generally designated H have a rod-shaped inner conductor 7, z. B. of copper, and this inner conductor 7 enveloping in cross-section annular dielectric 8, preferably also a high-purity BaTi0 3 -, SrTi0 3 -, A1 2 0 3 - or BeO ceramic. These auxiliary electrodes H are attached at their ends in a suitable manner to end walls of the laser chamber 3 (not shown) (FIG. 1).
  • the laser electrodes E1, E2, ie the mushroom hats 5 and the mushroom stems 4, are traversed by cooling channels 9 which preferably extend parallel to the optical axis 2 of the laser and through which a suitable cooling liquid, for. B. water is pumped.
  • the inner conductor 7 of the auxiliary electrodes H can also be a liquid conductor which is pumped through the ceramic tube 8 by a circulation system for simultaneous cooling.
  • Fig. 2 shows the formation of perforated mushroom hats 5 'as mesh electrodes, which consist of perforated sheet metal for this purpose.
  • the auxiliary electrodes H are arranged within the recesses 10 formed by the mushroom hat 5 1 and the mushroom stem 4.
  • the hat 5 of the electrodes E1, E2 is preferably designed as a Chang or Rogowski profile, as is known from the literature for electrodes of constant, homogeneous surface field strength.
  • the mushroom and auxiliary electrode double arrangement shown is particularly advantageous if it is also possible in principle to design only one of the electrodes E1, E2 as a mushroom electrode.
  • 4 for generating the ignition and discharge pulses is a so-called Blümlein circuit.
  • the pulse generator P has a high-voltage supply HV, the voltage of which can be applied to the first charging capacitance C1 via a low-inductance switch S.
  • Parallel to this capacitance C1 is the series connection of the second charging capacitance C2 and the laser electrode paths E1-E2, a high-resistance resistor R being connected in parallel and connected to ground potential, which is high-resistance compared to the resistance value of the ignited plasma.
  • a high-resistance resistor R being connected in parallel and connected to ground potential, which is high-resistance compared to the resistance value of the ignited plasma.
  • the same switching elements have the same reference numerals, differs from the circuit of FIG. 4 in particular in that the second switching capacitance is parallel to the laser discharge path E1-E2 and that the first switching capacitance C1 in series with the low-inductance Switch S and thus the high voltage supply is switched.

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Abstract

Bei einem Hochenergielaser des TEA-Typs, insbesondere TEA-Excimerlaser, mit Anregung durch möglichst homogene, lichtbogenfreie Kondenstorentladung im Gasraum (1) zwischen mindestens zwei parallel zur optischen Achse des Lasers sich erstreckenden und mit Abstand einander gegenüberliegenden Elektroden (E1, E2) eines Entladungsrohres (L) ragt mindestens eine der Elektroden (E1, E2) mit einem der Stromzuführung dienenden Pilzstiel (4) und dem der Stromverteilung dienenden Pilzhut (5) in den Entladungsraum (1). Zur Vorionisierung des Entladungsraumes (1) ist zwischen oder benachbart zu den Elektroden (E1, E2) mindestens eine stabförmige Hilfselektrode (H), bestehend aus einem Innenleiter (7) und einem diesen umhüllenden Dielektrikum (8), achsparallel und mit Überschlagsabstand (a2) zu einer der Elektroden (E1, E2) angeordnet.

Description

  • Die Erfindung bezieht sich auf einen Hochenergielaser des TEA-Typs gemäß Oberbegriff des Anspruchs 1.
  • In der älteren Anmeldung P 29 32 781.9 vom 13.08.1979 (1) ist bereits ein Anregungssystem für schnelle gepulste Entladung, insbesondere ein Hochenergielaser des TEA-Typs, vorgeschlagen worden, der sich durch eine sehr geringe Eigeninduktivität bei hoher Schaltkapazität auszeichnet. Die Form der Laserelektroden ist jedoch allenfalls als angenähert pilzförmig zu bezeichnen. Im Querschnitt pilzförmige Laserelektroden sind bekannt durch die Zeitschrift "Electronics Letters", 25. März 1971, Band 7, Seiten 141, 142 (2), ferner durch die Zeitschrift "Applied Physics Letters", Band 29 vom 01.12.1976, Seiten 707 bis 709 (3). Es ist auch aus (2) bekannt, den Laserelektroden ein sogenanntes Rogowski-Profil zu geben, um eine verbesserte Feldverteilung und Entladungshomogenität zu erzielen. Dem gleichen Zweck dient das sogenannte Chang-Profil, vgl. Zeitschrift "The Review of Scientific Instruments", Band 44, vom April 1973, Seiten 405 bis 407 (4).
  • Die vorliegende Erfindung befaßt sich auch mit dem Problem, bei TEA-Lasern einen möglichst großen und homogenen Entladungsquerschnitt senkrecht zur optischen Achse und zu der Längsrichtung der Elektroden zu erzielen. Dies soll durch eine geeignete Formgebung der Elektroden und durch den Einsatz einer effektiven Vorionisierungseinheit geschehen. Wie festgestellt wurde, tendiert bei den bekannten TEA-Excimer-Lasern die Entladung immer noch dazu, in mehrere Einzelbereiche aufgespalten zu werden, wenn auch die Laserelektroden mit pilzförmigem Querschnitt schon eine Verbesserung gebracht haben. Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die bekannten TEA-Laser, insbesondere TEA-Excimer-Laser, im bezug auf einen möglichst großen und homogenen Entladungsquerschnitt noch weiter zu verbessern. Dem kommt deshalb besondere Bedeutung zu, weil sich der Einsatzschwerpunkt der TEA-Laser mehr und mehr in den industriellen Bereich verlagert und so Fragen der Wirtschaftlichkeit und damit des Wirkungsgrades und der optischen Energie eines Einzelimpulses immer stärker in den Vordergrund treten.
  • Erfindungsgemäß wird die gestellte Aufgabe bei einem Hochenergielaser der eingangs genannten Art durch die im Kennzeichen des Anspruchs 1 angegebenen Merkmale gelöst. Vorteilhafte Weiterbildungen sind in den Unteransprüchen beschrieben. Die mit der Erfindung erzielbaren Vorteile sind vor allem darin zu sehen, daß durch die laserachsparallele Ausrichtung von Pilzhut, Pilzstiel und der stabförmigen Hilfselektrode sich eine sehr gleichmäßige Vorionisierung und damit auch Hauptentladung erreichen läßt, ohne daß Einzelbereichaufspaltung der Entladung auftritt.
  • Im folgenden wird anhand der mehrere Ausführungsbeispiele darstellenden Zeichnung die Erfindung noch näher erläutert. Es zeigt in vereinfachter, schematischer Darstellung:
    • Fig. 1 ein Laserrohr im Querschnitt mit zwei, je ein Vorionisierungs-Hilfselektrodenpaar aufweisenden, einander spiegelsymmetrisch gegenüberliegenden pilzförmigen Laserelektroden;
    • Fig. 2 eine Variante für die Laserelektrodenausführung mit aus Lochblech bestehendem Netzelektroden-Pilzhut;
    • Fig. 3 eine stabförmige Hilfselektrode im Querschnitt;
    • Fig. 4 eine Impulsschaltung zur Erzeugung der Vorionisierungs- und Hauptentladungs-Impulse in Form einer Blümlein-Schaltung, und
    • Fig. 5 eine Impulsschaltung in Form einer Charge-Transfer-Schaltung zur Erzeugung der Zündimpulse.
  • Der in Fig. 1 dargestellte Hochenergielaser des TEA-Typs (TEA-Laser bedeutet "transversely excited atmospheric pressure laser") ist so aufgebaut, daß im Gasraum 1 zwischen den beiden parallel zur optischen Achse 2 des Lasers sich erstreckenden und mit Abstand a1 einander gegenüberliegenden Elektroden des Laser- bzw. Entladungsrohres 3 eine möglichst homogene, lichtbogenfreie Kondensatorentladung stattfindet. Das etwa rechteckige Gehäuse 3a des als Ganzes mit L bezeichneten Lasers ist aus Keramikwänden 3a1, 3a2, 3a3 und 3a4, die vorzugsweise aus einer hochreinen Al2O3-Keramik bestehen, gasdicht zusammengesetzt. Das Lasergas hat eine Zusammensetzung, wie sie z. B. in der älteren Anmeldung P 29 32 781.9 beschrieben ist. Die Elektroden E1, E2 ragen jeweils mit einem der Stromzuführung dienenden Pilzstiel 4 und einem der Stromverteilung dienenden Pilzhut 5 in den Entladungsraum 1 und mit durch die Wände 3a1, 3a2 hindurchgeführten Anschlußfahnen 6 nach außen. Zur Vorionisierung des Entladungsraumes 1 sind zwischen den Elektroden E1, E2 stabförmige Hilfselektroden H11, H12 unmittelbar benachbart zum Pilzhut 5 der Elektrode E1 und H21, H22 unmittelbar benachbart zum Pilzhut 5 der Elektrode E2 angeordnet. Sie weisen jeweils zu den Elektroden einen überschlagabstand a2 auf. Unmittelbar vor dem Zünden des Lasers findet ein Uberschlag zwischen dem umhüllenden Dielektrium der Hilfselektroden H11, H12, H21, H22 und dem zugeordneten Elektroden E1 bzw. E2 statt. Das von den Funken emittierte UV-Licht ionisiert das von den Elektroden E1 und E2 eingeschlossene Gas. Wie ersichtlich, stehen sich die Elektroden E1, E2 mit ihren Pilzhüten 5 spiegelsymmetrisch gegenüber, und mit den Pilzhüten 5 stehen sich auch die beiden Hilfselektrodenpaare H11, H12 und H21, H22 spiegelsymmetrisch gegenüber. Diese Anordnung ist zur Erzielung eines möglichst großen und homogenen Entladungsquerschnittes besonders vorteilhaft.
  • Die generell mit H bezeichneten Hilfselektroden weisen gemäß Fig. 3 einen stabförmigen Innenleiter 7, z. B. aus Kupfer, auf und ein diesen Innenleiter 7 umhüllendes im Querschnitt kreisringförmiges Dielektrikum 8, vorzugsweise auch eine hochreine BaTi03-, SrTi03-, A1203- oder BeO-Keramik. Diese Hilfselektroden H sind an ihren Enden auf geeignete Weise an nicht dargestellten Stirnwänden der Laserkammer 3 (Fig. 1) befestigt. Die Laserelektroden El, E2, d. h. die Pilzhüte 5 und die Pilzstiele 4, sind von vorzugsweise parallel zur optischen Achse 2 des Lasers sich erstreckenden Kühlkanälen 9 durchzogen, durch die eine geeignete Kühlflüssigkeit, z. B. Wasser, gepumpt wird. Beim Innenleiter 7 der Hilfselektroden H kann es sich auch um einen flüssigen Leiter handeln, der durch ein Umwälzsystem zur gleichzeitigen Kühlung durch das Keramikrohr 8 gepumpt wird.
  • Fig. 2 zeigt die Ausbildung durchbrochener Pilzhüte 5' als Netzelektroden, die hierzu aus Lochblech bestehen. Die Hilfselektroden H sind dabei innerhalb der von Pilzhut 51 und Pilzstiel 4 gebildeten Nischen 10 angeordnet. Beim Zündvorgang kann dabei die durch den Funkenüberschlag zwischen Hilfselektroden H und Pilzhut 5' erzeugte UV-Strahlung durch die Netzöffnungen 11 in den Entladungsraum zwischen den Hauptelektroden E1, E2 eindringen und diesen ionisieren.
  • Bei der gezündeten Gasentladung (Pumpen des Lasers) muß der Stromimpuls durch den Stiel 4 des Pilzes zur Mitte des Pilzhutes fließen und kann sich dann erst im Hut 5 verteilen. Bevorzugt wird der Hut 5 der Elektroden El, E2 als Chang- oder Rogowski-Profil ausgebildet, wie es aus der Literatur für Elektroden konstanter homogener Oberflächenfeldstärke bekannt ist. Die dargestellte Pilz-und Hilfselektroden-Doppelanordnung ist besonders vorteilhaft, wenn es auch grundsätzlich möglich ist, nur eine der Elektroden E1, E2 als Pilz-Elektrode auszubilden. Die Impulsschaltung nach Fig. 4 zur Erzeugung der Zünd- und Entladungsimpulse ist eine sogenannte Blümlein-Schaltung. Der Impulsgenerator P weist eine Hochspannungsversorgung HV auf, deren Spannung über einen niederinduktiven Schalter S an die erste Ladekapazität C1 gelegt werden kann. Parallel zu dieser Kapazität C1 liegt die Reihenschaltung der zweiten Ladekapazität C2 und der Laserelektrodenstrecken E1-E2, wobei zu letzterer ein hochohmiger Widerstand R parallelgeschaltet und an Erdpotential gelegt ist, der hochohmig im Vergleich zum Widerstandswert des gezündeten Plasmas ist. Wie man sieht, liegen am Erdpotential auch die zweiten Pole des Schalters S und der SchaltkaDazität C1. ferner die Laserelektrode E2 und die der cesenüberliedenden Laserelektrode zugeordneten Hilfselektroden H11, H12. Die Hilfselektroden H21, H22 sind dagegen mit der gegenüberliegenden Laserelektrode E1 leitend verbunden.
  • Die Charge-Transfer-Schaltung nach Fig. 5, gleiche Schaltelemente tragen gleiche Bezugszeichen, unterscheidet sich von der Schaltung nach Fig. 4 insbesondere dadurch, daß die zweite Schaltkapazität parallel zur Laserentladungsstrecke E1-E2 liegt und daß die erste Schaltkapazität C1 in Reihe zum niederinduktiven Schalter S und damit der Hochspannungsversorgung geschaltet ist.
  • Bei beiden Schaltungen wird durch Schließen des Hochspannungsschalters S, der eine Funkenstrecke oder ein Thyratron sein kann, eine schlagartige Hochspannungsentladung zunächst über die Hilfselektroden und dann über die Laserelektroden ausgelöst, dessen Impulsdauer, -Höhe und Phasenlage sich aus den induktiven, kapazitiven und ohmschen Werten der Schaltelemente sowie Zuleitungen ergeben.

Claims (9)

1. Hochenergielaser des TEA-Typs, insbesondere TEA-Excimer- laser, mit Anregung durch möglichst homogene, lichtbogenfreie Kondensatorentladung im Gasraum zwischen mindestens zwei parallel zur optischen Achse des Lasers sich erstreckenden und mit Abstand einander gegenüberliegenden Elektroden eines Entladungsrohres, von denen mindestens eine von pilzförmigem Querschnitt ist, dadurch gekennzeichnet , daß mindestens eine der Elektroden (E1, E2) mit einem der Stromzuführung dienenden Pilzstiel (4) und dem der Stromverteilung dienenden Pilzhut (5) in den Entladungsraum (1) ragt und daß zur Vorionisierung des Entladungsraumes (1) zwischen oder benachbart zu den Elektroden (E1, E2) mindestens eine stabförmige Hilfselektrode (H), bestehend aus einem Innenleiter (7) und einen diesen umhüllenden Dielektrikum (8), achsparallel und mit Dberschlagsabstand (a2) zu einer der Elektroden (E1, E2) angeordnet ist.
2. Laser nach Anspruch 1, wobei sich' zwei pilzförmige Elektroden mit ihren Pilzhüten einander zugewandt, spiegelsymmetrisch gegenüberstehen, dadurch gekennzeichnet , daß jedem oder nur einem Pilzhut (5) je zwei Hilfselektroden (H) zugeordnet sind.
3. Laser nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet , daß die Elektroden (El, E2) von laser-achsparallel verlaufenden Kühlkanälen (9) durchdrungen sind.
4. Laser nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet , daß die Pilzhüte als Netzelektroden (5') ausgeführt sind und hierzu aus Lochblech bestehen.
5. Laser nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Hilfselektroden (H) innerhalb der von Pilzhut (5') und Pilzstiel (4) gebildeten Nischen (10) angeordnet sind.
6. Laser nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet , daß die Innenleiter (7) der Hilfselektroden (H) zylindrisch und von einem hohlzylindrischen Dielektrikum (8) umgeben sind.
7. Laser nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet , daß die pilzförmigen Elektroden (E1, E2) ein Chang- oder Rogowski-Profil aufweisen.
8. Laser nach Anspruch 1 oder 6, dadurch gekennzeichnet , daß das hochspannungsfeste Dielektrikum der Hilfselektroden (H) aus hochreinem BaTiO3, SrTiO3, Al2O3 oder BeO besteht.
9. Laser nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet , daß der Innenleiter (7) der Hilfselektroden bzw. Vorionisierungsstäbe jeweils innerhalb einer Blümlein- oder Charge-Transfer-Schaltung mit der ihm gegenüberliegenden Elektrode (E1 bzw. E2) leitend verbunden ist.
EP81107155A 1980-09-22 1981-09-10 Hochenergielaser des TEA-Typs mit laser-achsparallel angeordneten Vorionisierungsstäben Withdrawn EP0048407A1 (de)

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DE (1) DE3035730A1 (de)
IL (1) IL63897A0 (de)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0057762A3 (de) * 1981-02-06 1982-12-08 Kraftwerk Union Aktiengesellschaft Verfahren zur Erzeugung von Laserstrahlen im 16 Mikron-Wellenlängen-Bereich
FR2519812A2 (fr) * 1982-01-14 1983-07-18 Comp Generale Electricite Laser a gaz excite par decharge de condensateurs
EP0092231A1 (de) * 1982-04-19 1983-10-26 Kraftwerk Union Aktiengesellschaft Anregungskreis für Lasersysteme, insbesondere für TE-Hochenergielaser, mit Einstellung der Vorionisierung
EP0074586A3 (en) * 1981-09-14 1986-03-12 Kraftwerk Union Aktiengesellschaft Te-type laser, particularly for high energy output
US4613971A (en) * 1983-04-15 1986-09-23 Siemens Aktiengesellschaft Transversely excited gas laser
US4718072A (en) * 1983-12-29 1988-01-05 Enea - Comitato Nazionale Per La Ricerca E Lo Sviluppo Della Energia Nucleare E Delle Energie Alternative Corona discharge preionizer for gas laser
EP0267593A3 (de) * 1986-11-10 1989-09-27 Commission of the European Communities Laser
US4905250A (en) * 1987-11-13 1990-02-27 The European Atomic Energy Community Pre-ionizing electrode arrangement for a gas discharge laser
GB2225483A (en) * 1988-11-28 1990-05-30 Marconi Gec Ltd Pre-ionization in electrical discharge apparatus
EP0361357A3 (de) * 1988-09-27 1990-10-03 Yazaki Corporation Entladungsröhre
EP0407837A3 (en) * 1989-07-14 1991-08-07 Yazaki Corporation Gas-filled discharge tube
EP0407975A3 (en) * 1989-07-14 1992-05-27 Yazaki Corporation Gas-filled discharge tube and high tension cable device

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3126375C2 (de) * 1981-07-03 1986-11-13 Kraftwerk Union AG, 4330 Mülheim Transversal angeregter Hochenergielaser
DE3232024A1 (de) * 1982-04-16 1983-10-20 Kraftwerk Union AG, 4330 Mülheim Anordnung zur anpassung von pulsformenden netzwerken an die erfordernisse des anregungskreises eines te-hochenergielasersystems
DE3232225C2 (de) * 1982-04-19 1986-11-20 Kraftwerk Union AG, 4330 Mülheim Vorrichtung zur Erzeugung schneller gepulster Kondensator-Entladungen in einem Laser
DE3314157A1 (de) * 1982-04-19 1983-12-08 Kraftwerk Union AG, 4330 Mülheim Anregungskreis fuer lasersysteme, insbesondere fuer te-hochenergielaser, mit einstellung der vorionisierung
DE3335690C2 (de) * 1983-09-30 1986-03-27 Lambda Physik GmbH, 3400 Göttingen Vorrichtung zum Erzeugen von Hochleistungs-Hochspannungsimpulsen hoher Wiederholfrequenz
JPS61137380A (ja) * 1984-12-10 1986-06-25 Toshiba Corp 横励起形ガスレ−ザ発振装置
JPS61168276A (ja) * 1985-01-21 1986-07-29 Mitsubishi Electric Corp 無声放電式ガスレ−ザ装置
JPS61170087A (ja) * 1985-01-23 1986-07-31 Mitsubishi Electric Corp 無声放電式ガスレ−ザ装置
JPH06105807B2 (ja) * 1986-05-08 1994-12-21 三菱電機株式会社 レ−ザ励起装置
DE3621005C2 (de) * 1986-06-23 1993-12-09 Lambda Physik Gmbh Schaltung für eine autonome Vorionisierung in einem gepulsten Gaslaser
WO1989002176A1 (en) * 1987-08-31 1989-03-09 Acculase, Inc. Improved rare gas-halogen excimer laser
EP0532751B1 (de) * 1991-02-08 1995-05-03 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Mit transversaler entladung gepumpter pulslaser
US6456643B1 (en) 1999-03-31 2002-09-24 Lambda Physik Ag Surface preionization for gas lasers
US6650679B1 (en) 1999-02-10 2003-11-18 Lambda Physik Ag Preionization arrangement for gas laser
US6757315B1 (en) 1999-02-10 2004-06-29 Lambda Physik Ag Corona preionization assembly for a gas laser
US6671302B2 (en) 2000-08-11 2003-12-30 Lambda Physik Ag Device for self-initiated UV pre-ionization of a repetitively pulsed gas laser

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2042615A1 (de) * 1969-08-29 1971-04-01 Mini Of National Defense Of He Queranregungssystem fur einen Mole kulargaslaser
CA1016641A (en) * 1975-02-28 1977-08-30 Michel Blanchard Driving circuit for double discharge grid tea co2 lasers
DE2932781A1 (de) * 1979-08-13 1981-02-26 Kraftwerk Union Ag Anregungssystem fuer schnelle gepulste entladung

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2120191A5 (de) * 1970-03-23 1972-08-18 Comp Generale Electricite
US4150343A (en) * 1975-01-10 1979-04-17 Lasag Ag Method for generating laser pulses by means of a gas laser and apparatus for carrying out the method
NL7701389A (nl) * 1977-02-10 1978-08-14 Stichting Fund Ond Material Gaslaseropstelling.
DE2737226B2 (de) * 1977-08-18 1979-06-28 Eltro Gmbh, Gesellschaft Fuer Strahlungstechnik, 6900 Heidelberg TEA-Laser-Verstärker

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2042615A1 (de) * 1969-08-29 1971-04-01 Mini Of National Defense Of He Queranregungssystem fur einen Mole kulargaslaser
CA1016641A (en) * 1975-02-28 1977-08-30 Michel Blanchard Driving circuit for double discharge grid tea co2 lasers
DE2932781A1 (de) * 1979-08-13 1981-02-26 Kraftwerk Union Ag Anregungssystem fuer schnelle gepulste entladung
EP0024576B1 (de) * 1979-08-13 1984-07-25 Kraftwerk Union Aktiengesellschaft Vorrichtung zur Erzeugung schneller gepulster Entladungen in einem Laser, insbesondere an Hochenergielasern

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
IEEE Journal of Quantum Electronics, Band 15, Nr. 9, September 1979, seiten 60D-61D New York, U.S.A. K. HOHLA et al.: "UV Laser Operation of F2 in a Fast Discharge Device" * seite 60D; figur 1 * *
IEEE Journal of Quantum Electronics, Band 8, Nr. 8, August 1972, seiten 721-723 New York, U.S.A. T.Y. CHANG et al.: "A Simple Selfmode-Locked Atmospheric Pressure C02 Laser" * figuren 1,3; rechte spalte, zeilen 16-18 * *

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0057762A3 (de) * 1981-02-06 1982-12-08 Kraftwerk Union Aktiengesellschaft Verfahren zur Erzeugung von Laserstrahlen im 16 Mikron-Wellenlängen-Bereich
EP0074586A3 (en) * 1981-09-14 1986-03-12 Kraftwerk Union Aktiengesellschaft Te-type laser, particularly for high energy output
FR2519812A2 (fr) * 1982-01-14 1983-07-18 Comp Generale Electricite Laser a gaz excite par decharge de condensateurs
EP0084340A3 (en) * 1982-01-14 1983-08-03 Compagnie Generale D'electricite Societe Anonyme Dite: Gas laser excited by capacitor discharge
EP0092231A1 (de) * 1982-04-19 1983-10-26 Kraftwerk Union Aktiengesellschaft Anregungskreis für Lasersysteme, insbesondere für TE-Hochenergielaser, mit Einstellung der Vorionisierung
WO1983003720A1 (fr) * 1982-04-19 1983-10-27 Kraftwerk Union Ag Circuit d'excitation d'un systeme laser, en particulier pour laser te a haute energie, avec reglage de la pre-ionisation
EP0122597B1 (de) * 1983-04-15 1991-02-20 Siemens Aktiengesellschaft Transversal angeregter Gaslaser
US4613971A (en) * 1983-04-15 1986-09-23 Siemens Aktiengesellschaft Transversely excited gas laser
US4718072A (en) * 1983-12-29 1988-01-05 Enea - Comitato Nazionale Per La Ricerca E Lo Sviluppo Della Energia Nucleare E Delle Energie Alternative Corona discharge preionizer for gas laser
EP0267593A3 (de) * 1986-11-10 1989-09-27 Commission of the European Communities Laser
US4905250A (en) * 1987-11-13 1990-02-27 The European Atomic Energy Community Pre-ionizing electrode arrangement for a gas discharge laser
EP0361357A3 (de) * 1988-09-27 1990-10-03 Yazaki Corporation Entladungsröhre
GB2225483A (en) * 1988-11-28 1990-05-30 Marconi Gec Ltd Pre-ionization in electrical discharge apparatus
GB2225483B (en) * 1988-11-28 1992-10-21 Marconi Gec Ltd Electrical discharge apparatuses
EP0407837A3 (en) * 1989-07-14 1991-08-07 Yazaki Corporation Gas-filled discharge tube
EP0407975A3 (en) * 1989-07-14 1992-05-27 Yazaki Corporation Gas-filled discharge tube and high tension cable device
US5166574A (en) * 1989-07-14 1992-11-24 Yazaki Corporation High-tension cable device

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CA1159937A (en) 1984-01-03
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AU539326B2 (en) 1984-09-20
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