EP1149700B1 - Dosiersystem für eine Beschichtungseinheit in einer Druckmaschine - Google Patents

Dosiersystem für eine Beschichtungseinheit in einer Druckmaschine Download PDF

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EP1149700B1
EP1149700B1 EP01109264A EP01109264A EP1149700B1 EP 1149700 B1 EP1149700 B1 EP 1149700B1 EP 01109264 A EP01109264 A EP 01109264A EP 01109264 A EP01109264 A EP 01109264A EP 1149700 B1 EP1149700 B1 EP 1149700B1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
roller
dosing system
plating device
coating fluid
plating
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
EP01109264A
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
EP1149700A3 (de
EP1149700A2 (de
Inventor
Peter Dipl.-Ing Hummel
Robert Dipl.-Ing. Ortner
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Manroland AG
Original Assignee
MAN Roland Druckmaschinen AG
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Filing date
Publication date
Application filed by MAN Roland Druckmaschinen AG filed Critical MAN Roland Druckmaschinen AG
Publication of EP1149700A2 publication Critical patent/EP1149700A2/de
Publication of EP1149700A3 publication Critical patent/EP1149700A3/de
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Publication of EP1149700B1 publication Critical patent/EP1149700B1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
    • B41F23/00—Devices for treating the surfaces of sheets, webs, or other articles in connection with printing
    • B41F23/08—Print finishing devices, e.g. for glossing prints

Definitions

  • the invention relates to a metering system for a coating unit, in particular for a coating unit, in a printing press according to the preamble of the main claim.
  • a dosing system of this kind is out DE 34 27 898 C1 known and used in particular in a coating unit.
  • the metering system has a forme cylinder, which is in functional connection with an applicator roller.
  • the application roller is associated with a metering roller and in the nip formed by the two rollers, the coating fluid is fed from above via a feed tube.
  • a separating element with communication openings can be inserted into the filled nip.
  • a dipping roller immersed in a paint reservoir is functionally connected to a dosing roller.
  • the metering roller leads the paint to a rubber-coated applicator roll, which acts as a forme cylinder.
  • a metering system is known in which the scooping roller immersed in the reservoir is drivable in reverse operation, wherein the scoop roller a scraper is employed as an additional metering.
  • a metering system which is formed by a forme cylinder, a screened applicator roll and a chamber doctor blade system operatively connected to this applicator roll.
  • the invention is based on the object to provide a metering system of the type mentioned that with little effort a uniform, stable guidance of a coating fluid, such as paint, achieved on at least one roller surface and noticeably improved the print quality.
  • a coating fluid such as paint
  • leading roller after tearing (shearing) of the coating fluid in a contact zone, such as a nip
  • a contact zone such as a nip
  • an uneven surface topography of the coating fluid such as paint before, which is characterized by peaks or crests and valleys of the coating fluid (eg paint tips, paint dome, paint valleys) on the lateral surface of a coating fluid leading roller.
  • a first advantage of the invention is based on the fact that in the case of an uneven surface topography (peaks, crests and valleys) of coating fluid, eg paint, which results from a preceding tearing off of the coating fluid, at least one plating device carrying the coating fluid is assigned to at least one plating device on the circumferential side.
  • the plating device causes a shape change (plastic shaping) of the peaks and valleys within the present surface structure of the coating fluid.
  • the change in shape represents a micro-reshaping of the surface structure of the coating fluid.
  • the tips slide into the valleys, ie slipping processes that effect the plastic shaping occur within the coating fluid layer layer, so that an approximately flat surface topography can be achieved in a defined layer thickness. It is advantageous in the case of plastic shaping by a plating device that the coating fluid is not subject to any shearing action (shearing or dicing action), since a shearing action in turn leads to an undesired tearing off of coating fluid and thus to an uneven surface topography.
  • the achieved by the plating relatively flat surface topography of coating fluid causes density fluctuations on the substrate are significantly reduced, so that the print / gloss or sealing quality is noticeably improved.
  • the result is a flat surface topography of the coating fluid on the lateral surface of the respective roller over the roll width, before the roller comes into contact with a subsequent contact zone (eg, a further cleavage site).
  • this uneven surface topography of the coating fluid is advantageously clearly leveled on the associated roller so that a uniform surface topography for uniform, stable coating fluid guidance in the metering system can be achieved.
  • the parameters which change during the printing process such as printing speed, temperature, amount of coating fluid, hydrodynamic pressure in the metering system and the viscosity of the coating fluid, are perceptibly reduced according to the invention by the use of at least one plating device as possible disturbance variables.
  • the plating device according to the invention is not limited to a roller of the metering system. Rather, the arrangement of plating is also in other, the coating fluid color leading rollers of a dosing realized. In this case, at least one plating device is preferably assigned to each roller. Alternatively, several plating can be arranged to form a roll.
  • the plating device serves to provide a relatively flat surface topography on the lateral surface of an associated, the coating fluid-carrying roller. In the area of the plating device a tearing off of coating fluid on the lateral surface of the corresponding roller is to be avoided, since otherwise again uneven surface topographies arise.
  • the formation of the plating device is not limited to one or more mechanical plating device (s) having one or more plating elements.
  • a compressed air or blowing air can be used on the outer surface of the roll carrying the coating fluid or an ultrasonic vibration system directed onto the coating fluid in order to achieve a plastic shaping.
  • a coating unit of a sheet-fed rotary printing press consists essentially of a sheet guiding cylinder 1 (printing cylinder), which transports the sheet material in the conveying direction 6, a forme cylinder 2 which can be brought into contact with the sheet guiding cylinder 1 and which has a printing form, e.g. a flexographic printing plate or a blanket, and a metering system 5.
  • the metering system 5 preferably has at least one circulation system for the circulation of coating fluid.
  • the metering system 5 is formed by a screened applicator roll 3 and a chamber doctor blade system 4 operatively connected to this applicator roll 3, wherein the applicator roll 3 is in functional connection with the forme cylinder 2 in a contact zone 13.
  • the metering system 5 is formed as a two-roll mill with an application roller 3 coupled to the forme cylinder 2 in the contact zone 13 and a metering roller 7.
  • the rollers 3, 7 form a common nip 12 with a reservoir 8 of a coating fluid fed from above.
  • the dosing system 5 as a scoop roller unit with an application roller 3 coupled to the forme cylinder 2 in the contact zone 13 and a scoop roller 9 immersed in a reservoir 10 for the coating fluid.
  • the scoop roller 9 is in contact with the applicator roller 3 in a roller nip 12.
  • At least the application roller 3 of the dosing system 5 is at least one plating device 11 after the contact zone 13 and / or a nip 12, in which or in which a demolition or a cleavage of coating fluid is carried out on the lateral surface of the jacket surface of the Application roller 3 adjustable and preferably assigned adjacent abettable.
  • the plating device 11 extends substantially parallel over a full roll width of the applicator roll third
  • a tearing or splitting of coating fluid is carried out at least one plating 11 on the lateral surface of the applicator roll 3 is parallel to and off arranged.
  • the plating device 11 is associated with the application roller 3, which is preferably in functional connection with a chamber doctor blade system 4.
  • the applicator roller 3 has a screening and the chamber doctor blade system 4 has in the interior of the chamber on a further plating 11, which on the applicator roller 3 on and off.
  • the plating device 11 is by means of a force F to the lateral surface of the applicator roll 3, alternatively also a metering or scooping roller 7.9, on or off.
  • a force F to the lateral surface of the applicator roll 3, alternatively also a metering or scooping roller 7.9, on or off.
  • the plating device 11 is preferably a uniform surface pressure over the roll width of the applicator roll 3 and the metering or scooping roller 7.9, on the after the contact zone 13 remaining (residual) coating fluid applied.
  • the plating device 11 in its direction tangent or secant on the lateral surface on or off.
  • Such a plating device 11 is preferably by a formed over the roll width, in the direction of rotation of the applicator roll 3, preferably tangentially (alternatively secant) positively employed plating element 14 which is detachably received in a holder 15 and extends in the axial direction over the entire roll width, at least parallel to the outer surface of the applicator roll 3 ,
  • the holder 15 of the plating element 14 is preferably mounted on both sides in a frame-mounted pivot 16, preferably pivotally mounted about the axis of the rotary joint 16.
  • the plating element 14 or the plating device 11 is in functional connection by means of at least one, preferably adjustable compression spring supported on the frame side.
  • the plating element 14 is preferably loaded by a force F.
  • a pneumatically actuated working cylinder or other means F generating means can be used instead of the compression spring.
  • the plating element 14 alternatively the plating device 11, by use of its own weight with the associated roller 3,7,9, at least with the applicator roller 3, in functional connection, without a shear effect on the lateral surface or the remaining coating fluid to produce
  • the plating device 11 is also arranged with a minimum distance to the lateral surface of the roller 3, 7, 9, at least to the application roller 3, in order to achieve a flat surface topography.
  • the plating element 14 ends with its free end preferably on a surface normal (tangent point or secant point) of the associated roller 3, 7, 9, at least the applicator roller 3.
  • the plating element leads 14 tangentially in the direction of rotation of the applicator roll 3 slightly beyond the lateral surface, wherein a tearing of coating fluid is to be avoided.
  • a free end of the plating element 14 ends at a slight distance from the lateral surface of the roller 3, 7, 9, at least the applicator roller 3.
  • the plating device 11 levels the uneven surface topography of the residual coating fluid remaining on the jacket surface of the applicator roller 3 after the contact zone 13 (applicator roller 3 and forme cylinder 2) before the remaining coating fluid comes into contact with the coating fluid newly supplied in the chamber doctor blade system 4 or nip 12.
  • a plating device 11 is not limited to an applicator roller 3 with or without screening. Rather, the arrangement of plating devices 11 can also be realized on other parts of the dosing system 5. Preferably, the arrangement of further plating devices 11 (in addition to at least one plating device 11 on the application roller 3) in the metering roller 7 or the scoop roller 9 can be realized.
  • the arrangement and design of the respective plating device 11 is analogous to that of the applicator roller 3 associated plating 11th
  • an arrangement of at least one attachable or detachable plating device 11 on the metering roller 7 or the scoop roller 9 in its direction of rotation can be realized.
  • at least one plating 11 of the applicator roll 3 and the applicator roller 3 is operatively connected to a metering roller 7 and the two rollers 3.7 form a nip 12 for receiving a reservoir 8 of coating fluid.
  • a further plating device is arranged parallel to the outer surface of the metering roller 7 and can be lowered.
  • At least one plating 11 of the applicator roll 3 is assigned and the applicator roll 3 is operatively connected to a scoop roller 9 immersed in a reservoir 10 and the two rollers 3.9 form a nip 12.
  • the respective plating device 11 in its direction tangent-shaped or secant to the lateral surface of the respective roller 7,9 on and off arranged.
  • a plating device 11 is also arranged within the chamber of the chamber doctor blade system 4 in addition to the plating 11 on the applicator roll 3.
  • the plating device 11 preferably supports the filling of the wells of the screened application roller 3 and prevents the penetration of air bubbles into the wells.
  • the plating device 11 may also be arranged immersed in the reservoir 8.
  • a calming of the flow in the reservoir 8 or nip 12 can be achieved.
  • the mode of action is as follows: Depending on the metering system 5 used, the supplied coating fluid, for example a lacquer, is located in the chamber doctor blade system 4 or in the nip 12. In the direction of rotation of the application roller 3, the coating fluid is metered onto the lateral surface and fed to the contact zone 13. In this contact zone 13 takes place on the principle of color separation (paint cleavage) a tear of coating fluid, so that a layer of defined thickness of the coating fluid remains as residual coating fluid on the applicator roll 3 and a film of coating fluid in a defined layer thickness is transferred to the forme cylinder 2.
  • the supplied coating fluid for example a lacquer
  • the remaining coating fluid is present as an uneven surface topography in the form of peaks, crests and valleys on the lateral surface of the applicator roller 3.
  • the application roller 3 now passes the preferably tangent-shaped or secant-type plating device 11, which effects the change in shape (plastic shaping) of the tips, crests and valleys.
  • the plating device 11 is "floating" by the weight or with a defined force on the lateral surface (with coating fluid) or is arranged at a slight distance from the lateral surface to achieve a flat surface topography.
  • the object according to the invention is based on the fact that in the direction of rotation of a roller 3, 7, 9 carrying a coating fluid, before and / or after a contact zone 13 or a nip 12 in which the coating fluid on the outer surface of these rollers 3, 7.9 is leveled by at least one plating device 11.
  • a leveling of the coating fluid preferably paint, can thus be carried out before the contact zone 13 or the nip 12.

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Inking, Control Or Cleaning Of Printing Machines (AREA)
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Description

  • Die Erfindung betrifft ein Dosiersystem für eine Beschichtungseinheit, insbesondere für ein Lackwerk, in einer Druckmaschine nach dem Oberbegriff des Hauptanspruches.
    • [Stand der Technik]
  • Ein Dosiersystem dieser Art ist aus DE 34 27 898 C1 bekannt und insbesondere in einem Lackwerk einsetzbar. Das Dosiersystem weist einen Formzylinder auf, der mit einer Auftragwalze in Funktionsverbindung ist. Der Auftragwalze ist eine Dosierwalze zugeordnet und in den von beiden Walzen gebildeten Walzenspalt wird von oben über ein Zuführrohr das Beschichtungsfluid eingespeist. Um Verwirbelungen, Lufteinschlüsse bzw. uneinheitliche Auftragsmengen zu vermeiden, ist in den gefüllten Walzenspalt ein Trennelement mit Kommunikationsöffnungen einsetzbar.
  • Aus DE 33 24 096 A1 ist ein weiteres Dosiersystem bekannt. Eine in einen Lackvorratsbehälter eintauchende Schöpfwalze ist mit einer Dosierwalze in Funktionsverbindung. Die Dosierwalze führt den Lack einer gummibeschichteten Auftragwalze zu, welche als Formzylinder fungiert.
    Gemäß DE 39 41 571 A1 ist ein Dosiersystem bekannt, bei dem die in den Vorratsbehälter eintauchende Schöpfwalze im Reversebetrieb antreibbar ist, wobei zur Schöpfwalze ein Rakel als zusätzliche Dosierstelle angestellt ist.
  • Weiterhin ist aus DE 43 11 834 A1 ein Dosiersystem bekannt, das durch einen Formzylinder, eine gerasterte Auftragwalze und einem mit dieser Auftragwalze in Funktionsverbindung stehendem Kammerrakelsystem gebildet ist.
  • Bei diesen Dosiersystemen ist es nachteilig, dass in Kontaktzonen in denen eine Spaltung des Beschichtungsfluides, beispielsweise eine Lackspaltung, erfolgt nach dieser Spaltung eine unebene Oberflächentopographie auf der entsprechenden Walze vorliegt.
    • [Aufgabe der Erfindung]
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zu Grunde, ein Dosiersystem der eingangs genannten Art zu schaffen, dass mit geringem Aufwand eine gleichmäßige, stabile Führung eines Beschichtungsfluides, beispielsweise Lack, auf zumindest einer Walzenoberfläche erreicht und die Druckqualität spürbar verbessert.
  • Die Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die Ausbildungsmerkmale des unabhängigen Anspruches gelöst. Weiterbildungen ergeben sich aus den abhängigen Ansprüchen.
  • Es wurde gefunden, dass auf der Mantelfläche einer ein Beschichtungsfluid, beispielsweise Lack, führenden Walze nach dem Abreißen (Abscheren) des Beschichtungsfluides in einer Kontaktzone, z.B. einem Walzenspalt, keine gleichmäßige Verteilung des Beschichtungsfluides - über die Walzenbreite betrachtet - vorliegt. Auf der entsprechenden Walze liegt eine unebene Oberflächentopographie des Beschichtungsfluides, z.B. Lack, vor, welche durch Spitzen bzw. Kuppen und Täler des Beschichtungsfluides (z.B. Lackspitzen, Lackkuppen, Lacktäler) auf der Mantelfläche einer das Beschichtungsfluid führenden Walze charakterisiert ist.
    Beispielsweise liegt bei einer Auftragwalze, nach der Spaltung des Beschichtungsfluides (Auftrennen der Beschichtungsfluidschicht) in einer Kontaktzone mit einem Formzylinder durch Abreißen des Beschichtungsfluides, z.B. Lack, insbesondere beim fadenförmigen Abreißen, keine gleichmäßige Verteilung des Beschichtungsfluides über die Walzenbreite betrachtet vor, sondern eine unebene Oberflächentopographie des restlichen Beschichtungsfluides, z.B. des Restlackes, auf der Mantelfläche der Auftragwalze.
  • Ein erster Vorteil der Erfindung ist darin begründet, dass bei einer unebenen Oberflächentopographie (Spitzen, Kuppen und Täler) von Beschichtungsfluid, z.B. Lack, welche aus einem vorhergegangenen Abreißen des Beschichtungsfluides resultiert, wenigstens einer das Beschichtungsfluid führenden Walze zumindest eine Plattiereinrichtung umfangsseitig zugeordnet ist. Die Plattiereinrichtung bewirkt eine Formänderung (plastische Formgebung) der Spitzen bzw. Kuppen und der Täler innerhalb der vorliegenden Oberflächenstruktur des Beschichtungsfluides. Die Formänderung stellt eine Mikroumformung der Oberflächenstruktur des Beschichtungsfluides dar. Bei einer derartigen Formänderung der Oberflächenstruktur des Beschichtungsfluides gleiten die Spitzen bzw. Kuppen in die Täler, d.h. innerhalb der Schicht des Beschichtungsfluidgefüges erfolgen Abgleitvorgänge, die die plastische Formgebung bewirken, so dass eine annähernd ebene Oberflächentopographie in einer definierten Schichtdicke erzielbar ist.
    Vorteilhaft bei der plastischen Formgebung durch eine Plattiereinrichtung ist es, dass das Beschichtungsfluid keiner Abscherwirkung (Scher- bzw. Zerteilwirkung) unterliegt, da eine Abscherwirkung wiederum zu einem ungewollten Abreißen von Beschichtungsfluid und damit zu einer unebenen Oberflächentopographie führt.
  • Die mittels der Plattiereinrichtung erzielte relativ ebene Oberflächentopographie von Beschichtungsfluid bewirkt, dass Dichteschwankungen auf dem Bedruckstoff deutlich reduzierbar sind, so dass die Druck-/ Glanz- bzw. Versiegelungsqualität spürbar verbessert ist. Im Ergebnis liegt eine ebene Oberflächentopographie des Beschichtungsfluides auf der Mantelfläche der jeweiligen Walze über die Walzenbreite vor, ehe die Walze mit einer nachfolgenden Kontaktzone (z.B. einer weiteren Spaltstelle) in Kontakt kommt.
  • Mit einer derartigen Plattiereinrichtung, die bevorzugt in Drehrichtung einer Walze an- und abstellbar angeordnet ist, ist diese unebene Oberflächentopographie des Beschichtungsfluides in vorteilhafter Weise deutlich auf der zugeordneten Walze eingeebnet, so dass eine gleichmäßige Oberflächentopographie für eine gleichmäßige, stabile Beschichtungsfluidführung im Dosiersystem erzielbar ist.
  • Von Vorteil ist ebenso, dass insbesondere die sich während des Druckvorganges ändernden Parameter, wie beispielsweise Druckgeschwindigkeit, Temperatur, Beschichtungsfluidmenge, hydrodynamischer Druck im Dosiersystem sowie die Viskosität des Beschichtungsfluides, erfindungsgemäß durch den Einsatz wenigstens einer Plattiereinrichtung als mögliche Störgrößen spürbar reduziert sind.
  • Ein weiterer Vorteil besteht darin, dass die erfindungsgemäße Plattiereinrichtung nicht auf eine Walze des Dosiersystemes beschränkt ist. Vielmehr ist die Anordnung von Plattiereinrichtungen auch bei weiteren, das Beschichtungsfluid farbführenden Walzen eines Dosiersystems realisierbar. Hierbei ist bevorzugt jeweils zumindest eine Plattiereinrichtung einer Walze zugeordnet. Alternativ sind auch mehrere Plattiereinrichtungen zu einer Walze anordbar.
  • Mit der Einebnung von Farbe bzw. Lack auf der Mantelfläche einer Walze wird eine homogene Schicht von Beschichtungsfluid geschaffen, die besser dosierbar ist.
  • Die Plattiereinrichtung dient der Schaffung einer relativ ebenen Oberflächentopographie auf der Mantelfläche einer zugeordneten, das Beschichtungsfluid führenden Walze. In dem Bereich der Plattiereinrichtung ist ein Abreißen von Beschichtungsfluid auf der Mantelfläche der entsprechenden Walze zu vermeiden, da sonst wiederum unebene Oberflächentopographien entstehen. Die Ausbildung der Plattiereinrichtung ist nicht auf eine oder mehrere mechanische Plattiereinrichtung(en) mit einem oder mehreren Plattierelement(en) beschränkt.
    Beispielsweise ist zur Erzielung einer ebenen Oberflächentopographie ein Druckluft bzw. Blasluft auf die Mantelfläche der das Beschichtungsfluid führenden Walze einbringendes Luftrakel oder ein auf das Beschichtungsfluid gerichtetes Ultraschallschwingsystem einsetzbar, um eine plastische Formgebung zu erzielen.
    • [Beispiele]
  • Die Erfindung soll an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert werden. Dabei zeigen schematisch:
    • Fig. 1
    die Anordnung eines Dosiersystems mit Kammerrakelsystem,
    Fig. 2
    die Anordnung eines Dosiersystems als Zweiwalzenwerk,
    Fig. 3
    die Anordnung eines Dosiersystems als Schöpfwalzenwerk.
  • Ein Lackwerk einer Bogenrotationsdruckmaschine besteht im Wesentlichen aus einem Bogenführungszylinder 1 (Druckzylinder), der das Bogenmaterial in Förderrichtung 6 transportiert, einem mit dem Bogenführungszylinder 1 in Kontakt bringbaren Formzylinder 2, der eine Druckform, z.B. eine Flexodruckform oder ein Gummituch, trägt, und einem Dosiersystem 5. Das Dosiersystem 5 weist bevorzugt wenigstens ein Kreislaufsystem für den Umlauf von Beschichtungsfluid auf.
  • In einer Ausbildung gemäß Fig. 1 ist das Dosiersystem 5 durch eine gerasterte Auftragwalze 3 und ein mit dieser Auftragwalze 3 in Funktionsverbindung stehendes Kammerrakelsystem 4 gebildet, wobei die Auftragwalze 3 mit dem Formzylinder 2 in einer Kontaktzone 13 in Funktionsverbindung ist.
  • In einer weiteren Ausbildung gemäß Fig. 2 ist das Dosiersystem 5 als Zweiwalzenwerk mit einer mit dem Formzylinder 2 in der Kontaktzone 13 gekoppelten Auftragwalze 3 und einer Dosierwalze 7 gebildet. Die Walzen 3,7 bilden einen gemeinsamen Walzenspalt 12 mit einem Reservoir 8 eines von oben eingespeisten Beschichtungsfluids.
  • In einer weiteren Ausbildung ist gemäß Fig. 3 das Dosiersystem 5 als Schöpfwalzenwerk mit einer mit dem Formzylinder 2 in der Kontaktzone 13 gekoppelten Auftragwalze 3 und einer in einen Vorratsbehälter 10 für das Beschichtungsfluid eintauchenden Schöpfwalze 9. Die Schöpfwalze 9 ist mit der Auftragwalze 3 in einem Walzenspalt 12 in Kontakt.
  • Zumindest der Auftragwalze 3 des Dosiersystems 5 ist in Drehrichtung an deren Mantelfläche wenigstens eine Plattiereinrichtung 11 nach der Kontaktzone 13 und/oder einem Walzenspalt 12, in der bzw. in dem ein Abriss bzw. eine Spaltung von Beschichtungsfluid erfolgt ist, an die Mantelfläche der Auftragwalze 3 anstellbar und bevorzugt abstellbar benachbart zugeordnet. Die Plattiereinrichtung 11 erstreckt sich dabei im wesentlichen parallel über eine volle Walzenbreite der Auftragwalze 3.
  • In einer weiteren Ausbildung ist in Drehrichtung der Auftragwalze 3 vor einer Kontaktzone 13 oder einem Walzenspalt 12 in der / in dem ein Abreißen oder eine Spaltung von Beschichtungsfluid erfolgt wenigstens eine Plattiereinrichtung 11 an die Mantelfläche der Auftragwalze 3 parallel an- und abstellbar angeordnet ist.
  • Die Plattiereinrichtung 11 ist der Auftragwalze 3 zugeordnet, welche bevorzugt mit einem Kammerrakelsystem 4 in Funktionsverbindung ist. Bevorzugt weist die Auftragwalze 3 eine Rasterung auf und das Kammerrakelsystem 4 weist im Inneren der Kammer eine weitere Plattiereinrichtung 11 auf, welche an die Auftragwalze 3 an- und abstellbar ist.
  • Bevorzugt ist die Plattiereinrichtung 11 dabei mittels einer Kraft F an die Mantelfläche der Auftragwalze 3, alternativ auch einer Dosier- oder Schöpfwalze 7,9, an- bzw. abstellbar. Mittels der Plattiereinrichtung 11 ist bevorzugt eine gleichmäßige Flächenpressung über die Walzenbreite der Auftragwalze 3 bzw. der Dosier- oder Schöpfwalze 7,9, auf das nach der Kontaktzone 13 verbliebene (restliche) Beschichtungsfluid aufbringbar.
  • In einer bevorzugten Ausbildung ist in Drehrichtung der Auftragwalze 3, alternativ der Dosier- oder Schöpfwalze 7,9, die Plattiereinrichtung 11 in ihrer Richtung tangenten- oder sekantenförmig an deren Mantelfläche an- bzw. abstellbar.
  • Eine derartige Plattiereinrichtung 11 ist bevorzugt durch ein sich über die Walzenbreite erstreckendes, in Drehrichtung der Auftragwalze 3, bevorzugt tangential (alternativ sekantenförmig) positiv angestelltes Plattierelement 14 gebildet, welches in einer Halterung 15 lösbar aufgenommen ist und sich in Achsrichtung über die gesamte Walzenbreite, wenigstens parallel zur Mantelfläche der Auftragwalze 3, erstreckt. Die Halterung 15 des Plattierelementes 14 ist bevorzugt in einem im Gestell angeordneten Drehgelenk 16 beidseitig gelagert, vorzugsweise um die Achse des Drehgelenkes 16 schwenkbar gelagert.
  • In einer bevorzugten Ausbildung ist das Plattierelement 14 bzw. die Plattiereinrichtung 11 mittels wenigstens einer gestellseitig abgestützten, bevorzugt einstellbaren Druckfeder in Funktionsverbindung. Insbesondere das Plattierelement 14 ist bevorzugt durch eine Kraft F belastet. Alternativ sind statt der Druckfeder ein beispielsweise pneumatisch beaufschlagbarer Arbeitszylinder oder sonstige die Kraft F erzeugende Mittel einsetzbar. Ebenso ist je nach Anordnung das Plattierelement 14, alternativ die Plattiereinrichtung 11, durch Ausnutzung des Eigengewichtes mit der zugeordneten Walze 3,7,9, zumindest mit der Auftragwalze 3, in Funktionsverbindung, ohne eine Abscherwirkung auf der Mantelfläche bzw. dem restlichen Beschichtungsfluid zu erzeugen. In einer weiteren Ausbildung ist die Plattiereinrichtung 11 (alternativ das Plattierelement 14) auch mit einem minimalen Abstand zur Mantelfläche der Walze 3,7,9, zumindest zur Auftragwalze 3, angeordnet, um eine ebene Oberflächentopographie zu erzielen.
  • Das Plattierelement 14 endet mit seinem freien Ende bevorzugt auf einer Oberflächennormalen (Tangentenpunkt bzw. Sekantenpunkt) der zugeordneten Walze 3,7,9, zumindest der Auftragwalze 3. In einer weiteren Ausbildung führt das Plattierelement 14 tangential in Drehrichtung der Auftragwalze 3 geringfügig über deren Mantelfläche hinaus, wobei ein Abreißen von Beschichtungsfluid zu vermeiden ist. Alternativ endet ein freies Ende des Plattierelementes 14 in einem geringfügigen Abstand zur Mantelfläche der Walze 3,7,9, zumindest der Auftragwalze 3.
  • Die Plattiereinrichtung 11 ebnet die unebene Oberflächentopograhie des auf der Mantelfläche der Auftragwalze 3 nach der Kontaktzone 13 (von Auftragwalze 3 und Formzylinder 2) verbliebenen restlichen Beschichtungsfluid ein, bevor das restliche Beschichtungsfluid mit dem im Kammerrakelsystem 4 oder Walzenspalt 12 neu zugeführten Beschichtungsfluid in Kontakt kommt.
  • Der Einsatz einer Plattiereinrichtung 11 ist nicht auf eine Auftragwalze 3 mit oder ohne Rasterung beschränkt. Vielmehr ist die Anordnung von Plattiereinrichtungen 11 auch an weiteren Teilen des Dosiersystems 5 realisierbar. Bevorzugt ist die Anordnung von weiteren Plattiereinrichtungen 11 (zusätzlich zu wenigstens einer Plattierungseinrichtung 11 an der Auftragwalze 3) bei der Dosierwalze 7 bzw. der Schöpfwalze 9 realisierbar.
    Die Anordnung und Ausbildung der jeweiligen Plattiereinrichtung 11 ist analog zu der der Auftragwalze 3 zugeordneten Plattiereinrichtung 11.
  • Unter diesem Aspekt ist - je nach Ausbildung des Dosiersystems 5 - neben der Anordnung der Plattiereinrichtung 11 an der Auftragwalze 3 zusätzlich eine Anordnung wenigstens einer an- bzw. abstellbaren Plattiereinrichtung 11 an der Dosierwalze 7 bzw. der Schöpfwalze 9 in deren Drehrichtung realisierbar.
    Dabei ist wenigstens eine Plattiereinrichtung 11 der Auftragwalze 3 zugeordnet und die Auftragwalze 3 ist mit einer Dosierwalze 7 in Funktionsverbindung und die beiden Walzen 3,7 bilden einen Walzenspalt 12 zur Aufnahme eines Reservoirs 8 von Beschichtungsfluid. In Weiterbildung ist nach dem Walzenspalt 12 in Drehrichtung der Dosierwalze 7 eine weitere Plattiereinrichtung an die Mantelfläche der Dosierwalze 7 parallel an- und abstellbar angeordnet.
  • In einer Ausbildung ist zumindest eine Plattiereinrichtung 11 der Auftragwalze 3 zugeordnet und die Auftragwalze 3 ist mit einer in einen Vorratsbehälter 10 eintauchenden Schöpfwalze 9 in Funktionsverbindung und die beiden Walzen 3,9 bilden einen Walzenspalt 12. In einer Weiterbildung ist in Drehrichtung der Schöpfwalze 9 vor dem Walzenspalt 12 eine Plattiereinrichtung 11 an die Mantelfläche der Schöpfwalze 9 parallel an- und abstellbar angeordnet.
    Dabei ist in Drehrichtung der Dosierwalze 7 oder der Schöpfwalze 9 die jeweilige Plattiereinrichtung 11 in ihrer Richtung tangentenförmig oder sekantenförmig an die Mantelfläche der jeweiligen Walze 7,9 an- und abstellbar angeordnet.
  • In der Ausbildung mit Kammerrakelsystem 4 ist zusätzlich zur Plattiereinrichtung 11 an der Auftragwalze 3 eine Plattiereinrichtung 11 auch innerhalb der Kammer des Kammerrakelsystems 4 angeordnet. Bevorzugt unterstützt die Plattiereinrichtung 11 in dieser Ausbildung das Befüllen der Näpfchen der gerasterten Auftragwalze 3 und verhindert das Eindringen von Luftblasen in die Näpfchen.
  • In einer weiteren Ausbildung ist neben der Anordnung der Plattiereinrichtung 11 zumindest an der Auftragwalze 3 zusätzlich eine weitere Plattiereinrichtung 11 der Auftragwalze 3 zugeordnet und in Drehrichtung dieser Auftragwalze 3 nach der Kontaktzone 13 mit dem Formzylinder 2 und vor dem Walzenspalt 12 angeordnet. Weist das jeweilige Dosiersystem 5 einen Walzenspalt 12 mit angestautem Beschichtungsfluid als Reservoir 8 (Fig. 2) auf, so kann die Plattiereinrichtung 11 auch in das Reservoir 8 eintauchend angeordnet sein. Damit ist zusätzlich eine Beruhigung des Strömung im Reservoir 8 bzw. Walzenspalt 12 erzielbar.
  • Die Wirkungsweise ist wie folgt: Je nach eingesetztem.Dosiersystem 5 befindet sich im Kammerrakelsystem 4 oder im Walzenspalt 12 das zugeführte Beschichtungsfluid, beispielsweise ein Lack.
    In Drehrichtung der Auftragwalze 3 wird das Beschichtungsfluid auf die Mantelfläche dosiert aufgetragen und der Kontaktzone 13 zugeführt. In dieser Kontaktzone 13 erfolgt nach dem Prinzip der Farbspaltung (Lackspaltung) ein Abriss von Beschichtungsfluid, so dass eine Schicht definierter Dicke des Beschichtungsfluides als restliches Beschichtungsfluid auf der Auftragwalze 3 verbleibt und ein Film von Beschichtungsfluid in definierter Schichtdicke auf den Formzylinder 2 übertragen wird.
  • In Drehrichtung nach der Kontaktzone 13 liegt das restliche Beschichtungfluid als unebene Oberflächentopographie in Form von Spitzen, Kuppen sowie Tälern auf der Mantelfläche der Auftragwalze 3 vor. In Drehrichtung passiert nun die Auftragwalze 3 die bevorzugt tangentenförmig bzw. sekantenförmig an- und abstellbare Plattiereinrichtung 11, welche die Formänderung (plastische Formgebung) der Spitzen, Kuppen sowie der Täler bewirkt. Die Plattiereinrichtung 11 liegt durch das Eigengewicht oder mit einer definierten Kraft "schwimmend" auf der Mantelfläche (mit Beschichtungsfluid) auf oder ist in einem geringfügigen Abstand zur Mantelfläche zur Erzielung einer ebenen Oberflächentopographie angeordnet.
  • Der erfindungsgemäße Gegenstand geht davon aus, dass in Drehrichtung einer ein Beschichtungsfluid führenden Walze 3,7,9 vor und/oder nach einer Kontaktzone 13 oder einem Walzenspalt 12 in der ein Abriss bzw. eine Spaltung erfolgt das Beschichtungsfluid auf der Mantelfläche dieser Walzen 3,7,9 mittels wenigstens einer Plattiereinrichtung 11 geebnet wird. Je nach Ausbildung des Dosiersystems 5 ist damit auch vor der Kontaktzone 13 bzw. dem Walzenspalt 12 ein Einebnen des Beschichtungsfluides, vorzugsweise Lack, durchführbar.
    • [Bezugszeichenliste]
    • 1
    Bogenführungszylinder
    2
    Formzylinder
    3
    Auftragwalze
    4
    Kammerrakelsystem
    5
    Dosiersystem
    6
    Förderrichtung
    7
    Dosierwalze
    8
    Reservoir
    9
    Schöpfwalze
    10
    Vorratsbehälter
    11
    Plattiereinrichtung
    12
    Walzenspalt
    13
    Kontaktzone
    14
    Plattierelement
    15
    Halterung
    16
    Drehgelenk
    F
    Kraft

Claims (17)

  1. Dosiersystem für eine Beschichtungseinheit, insbesondere für ein Lackwerk, in einer Druckmaschine, mit wenigstens einem Formzylinder und einer mit dem Formzylinder in Funktionsverbindung stehenden Auftragwalze als Teil des Dosiersystems und zumindest einer Zuführung für ein Beschichtungsfluid,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass in Drehrichtung der Auftragwalze (3) nach einer Kontaktzone (13) mit dem Formzylinder (2) oder einem Walzenspalt (12), in der / in dem ein Abreißen oder eine Spaltung von Beschichtungsfluid erfolgt ist, zum Einebnen des auf der Auftragwalze (3) verbliebenen, restlichen Beschichtungsfluides vor der erneuten Zuführung des Beschichtungsfluides wenigstens eine Plattiereinrichtung (11) an die Mantelfläche der Auftragswalze (3) parallel an- und abstellbar angeordnet ist, wobei durch die Plattiereinrichtung eine plastische Formgebung der auf der Auftragwalze vorliegenden Oberflächenstruktur des Beschichtungsfluides derart erzielbar ist, dass sich eine annähernd ebene Oberflächentopographie in einer definierten Schichtdicke ergibt.
  2. Dosiersystem nach Anspruch 1,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass in Drehrichtung der Auftragwalze (3) auch vor der Kontaktzone (13) mit dem Formzylinder (2) oder dem Walzenspalt (12) in der / in dem ein Abreißen oder eine Spaltung von Beschichtungsfluid erfolgt wenigstens eine Plattiereinrichtung (11) an die Mantelfläche der Auftragswalze (3) parallel an- und abstellbarangeordnet ist.
  3. Dosiersystem nach wenigstens Anspruch 1,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass in Drehrichtung der Auftragwalze (3) die Plattiereinrichtung (11) tangentenförmig oder sekantenfömig an die Mantelfläche der Auftragwalze (3) an- und abstellbar angeordnet ist.
  4. Dosiersystem nach wenigstens Anspruch 1,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass eine Plattiereinrichtung (11) der Auftragwalze (3) zugeordnet ist, welche mit einem Kammerrakelsystem (4) in Funktionsverbindung ist.
  5. Dosiersystem nach wenigstens Anspruch 1 und 4,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass die Auftragwalze (3) eine Rasterung aufweist und das Kammerrakelsystem (4) im Inneren der Kammer eine weitere Plattiereinrichtung (11) aufweist, welche an die Auftragwalze (3) an- und abstellbar ist.
  6. Dosiersystem nach wenigstens Anspruch 1,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass eine Plattiereinrichtung (11) der Auftragwalze (3) zugeordnet ist, dass die Auftragwalze (3) mit einer Dosierwalze (7) in Funktionsverbindung ist und die Walzen (3,7) einen Walzenspalt (12) zur Aufnahme eines Reservoirs (8) von Beschichtungsfluid bilden.
  7. Dosiersystem nach Anspruch 6,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass in Drehrichtung der Dosierwalze (7) nach dem Walzenspalt (12) eine Plattiereinrichtung (11) an die Mantelfläche der Dosierwalze (7) parallel an- und abstellbar angeordnet ist.
  8. Dosiersystem nach wenigstens Anspruch 1,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass eine Plattiereinrichtung (11) der Auftragwalze (3) zugeordnet ist und dass die Auftragwalze (3) mit einer in einen Vorratsbehälter (10) eintauchenden Schöpfwalze (9) in Funktionsverbindung ist und die Walzen (3,9) einen Walzenspalt (12) bilden.
  9. Dosiersystem nach Anspruch 8,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass in Drehrichtung der Schöpfwalze (9) vor dem Walzenspalt (12) eine Plattiereinrichtung (11) an die Mantelfläche der Schöpfwalze (9) parallel an- und abstellbar angeordnet ist.
  10. Dosiersystem nach wenigstens Anspruch 6 und 8,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass in Drehrichtung der Dosierwalze (7) oder der Schöpfwalze (9) die jeweilige Plattiereinrichtung (11) in ihrer Richtung tangentenförmig oder sekantenfömig an die Mantelfläche der jeweiligen Walze (7,9) an- und abstellbar angeordnet ist.
  11. Dosiersystem nach wenigstens Anspruch 1,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass die Plattiereinrichtung (12) mittels einer Kraft (F) an die Mantelfläche der Walze (3,7,9) anstellbar ist.
  12. Dosiersystem nach wenigstens Anspruch 1,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass mittels der Plattiereinrichtung (12) eine gleichmäßige Flächenpressung über die Breite der Walze (3,7,9) aufbringbar ist.
  13. Dosiersystem nach wenigstens Anspruch 1,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass die Plattiereinrichtung (12) in Drehrichtung der Walze (3,7,9) ein Plattierelement (14) aufweist, welches sich über die gesamte Walzenbreite erstreckt und in einer Halterung (15) lösbar angeordnet ist.
  14. Dosiersystem nach Anspruch 13,
    dadurch gekennzeichnet
    dass die Halterung (15) in einem gestellfesten Drehgelenk (16) beidseitig gelagert ist.
  15. Dosiersystem nach Anspruch 13,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass das Plattierelement (14) mit einer gestellseitig abgestützen Druckfeder in Funktionsverbindung ist.
  16. Dosiersystem nach Anspruch 13,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass ein freies Ende des Plattierelementes (14) tangentenförmig oder sekantenförmig an der Mantelfläche einer Walze (3,7,9,) in einem Tangenten- oder Sekantenpunkt endet.
  17. Dosiersystem nach Anspruch 13,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass ein freies Ende des Plattierelementes (14) in einem geringfügigen Abstand zur Mantelfläche der Walze (3,7,9) endet.
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