Procédé d'impression d'une structure stable photoinduite en champ proche, et pointe de fibre optique pour sa mise en oeuvre.
La présente invention concerne un procédé d'impression d'une structure stable en relief dans un matériau comprenant un composé photosensible, par irradiation dudit matériau à partir d'une ou plusieurs sources lumineuses localisées de dimension inférieure à la longueur d'onde de ladite irradiation.
Le développement croissant des puissances de traitement des ordinateurs et la généralisation des échanges d'information rend nécessaire de disposer de moyens permettant d'accroître la densité de stockage sur les supports d'informations.
D'une manière générale, l'information sur les supports usuels est imprimée sous forme de motifs répétitifs obtenus par modification d'indice ou par modification topographique locale. Un des problèmes majeurs est d'augmenter la résolution de l'impression.
Il est déjà connu de réaliser des modifications topographiques de surface, par exemple dans des matériaux sol/gels hybrides contenant des groupes azobenzène.
Dans la thèse « microscopie optique en champ proche. Réponse optique à l'échelle submicronique » du 22 janvier 1999 de Philippe Bertrand, accessible à la bibliothèque universitaire de l'Ecole Polytechnique, 91128 Palaiseau, France, il est décrit une expérimentation dans laquelle une structure topographique a été photoinduite dans une couche sol/gel, en utilisant comme source de lumière une fibre optique dont la pointe a été obtenue par étirement séquentiel à chaud et non attaquée dans l'acide.
La structure inscrite est constituée de lettres elles-mêmes constituées de plots de 15 nm de hauteur et de 40 nm par 40 nm de côté.
Un résultat similaire est décrit dans l'article intitulé « films sol-gels photochromiques contenant des dérivés dithiényléthènes et azobenzènes : de la conception des composants optiques à l'enregistrement optique de données. » Mol.Cryst. Liq. Cryst, 2000, vol 344, pp 77-82.
D'une manière générale, ces deux documents soulignent qu'il semble exclu que cette modification topographique provienne d'un simple effet thermique, comme on avait pu le constater dans d'autres documents de l'art antérieur (« Near- field magnetooptics and high density data storage » (magnéto-optique en champ proche et stockage haute densité de données) .E.Betzig et al;
Apρl.Phys.Letters, vol. 61 (2) pp. 142-144 (1992), dans la mes re où la polarisation de la lumière joue un rôle sur la déformation de la surface de la couche, et pas seulement l'intensité de la source lumineuse.
Les deux premiers documents ci-dessus font état de résultats préliminaires et le procédé qu'ils décrivent succinctement présente l'inconvénient de manquer de reproductibilité.
En effet, pour une inscription lisible, le procédé doit permettre, d'une part, de maîtriser parfaitement la géométrie des motifs inscrits, d'autre part d'éviter toute altération de la structure de la couche en périphérie des motifs, et précisément dans la zone séparant deux motifs.
Par ailleurs, il serait souhaitable d'obtenir des motifs présentant un relief sensiblement identique.
Une trop grande fluctuation de l'altitude des motifs pourrait en effet compromettre la lecture de l'infoπnation. Enfin, il serait souhaitable de contrôler et en particulier d'augmenter le relief, c'est à dire la hauteur des motifs, sans altérer la résolution du réseau imprimé, tout en gardant la stabilité de l'impression dans le temps.
L'invention a donc pour objet de fournir un procédé amélioré d'impression locale, en particulier résolvant les problèmes ci-dessus. Le procédé selon l'invention est un procédé d'impression locale d'une structure stable en relief comprenant une étape d'émission d'ondes lumineuses de polarisation appropriée sur une couche d'un matériau comprenant un composé photosensible capable d'induire une modification topographique de ladite couche sous l'effet desdites ondes lumineuses, et se caractérise en ce que l'on émet lesdites ondes lumineuses de polarisation appropriée sur ladite couche à travers une ouverture de dimension maximale inférieure ou égale à 100 nm, périphériquement délimitée par une zone opaque empêchant une propagation des ondes lumineuses en dehors de ladite ouverture, ladite couche présentant une surface située à une distance inférieure ou égale à 100 nm de ladite ouverture. La zone opaque précitée limite les fuites de lumière. Elle permet de délimiter une ouverture véritablement localisée pour l'émission lumineuse et d'en contrôler les dimensions. Le champ électromagnétique est ainsi confiné au voisinage de la surface à imprimer et l'on contrôle parfaitement les dimensions du motif imprimé et la résolution d'un réseau constitué de tels motifs.
Compte tenu des dimensions de l'ouverture précitée et de son positionnement par rapport à la couche de matériau photosensible, le procédé permet d'imprimer la structure par une irradiation lumineuse en champ proche.
Comme cela est connu, par irradiation lumineuse en champ proche, on entend une irradiation par les composantes du champ électromagnétique dont l'amplitude décroît exponentiellement avec la distance à la source lumineuse générant le champ.
Il est par ailleurs tout à fait surprenant de constater que l'ouverture ainsi localement délimitée permet de conserver la polarisation de la lumière émise à travers celle-ci.
Préférentiellement, ladite ouverture a une dimension inférieure ou égale à 60 nm, et mieux encore, une dimension comprise entre 40 et 60 nm.
Selon un mode de réalisation préféré de l'invention, lesdites ondes lumineuses de polarisation appropriée émises à travers ladite ouverture sont transmises par une fibre optique comportant une portion terminale présentant la forme générale d'une pointe à l'extrémité de laquelle se situe ladite ouverture.
Plus précisément, l'extrémité de la pointe présente la foπne d'un_cône tronqué, délimité par une face globalement plane et une surface périphérique et l'ouverture constitue la face globalement plane du cône tronqué, tandis que la zone opaque est la surface périphérique du cône.
Préférentiellement, la portion terminale de la fibre optique présente la propriété de conserver les caractéristiques de polarisation des ondes lumineuses propagatives.
Pour cela, la portion terminale de la fibre optique a été obtenue par étirement séquentiel à chaud.
La suite de la description se réfère aux dessins annexés. Les figures 1 à 6 représentent des extrémités de fibre optique observées par microscope électronique à balayage (TV1EB) à différentes étapes du procédé selon l'invention. La figure 7 représente schématiquement le dispositif utilisé pour la mise en œuvre du procédé d'impression selon l'invention.
La figure 8 montre une vue de dessus d'un réseau obtenu selon l'invention. La figure 9 représente une vue en coupe d'une structure en relief imprimée en surface d'une couche comprenant un matériau photosensible. La préparation de fibres optiques utilisables pour la mise en œuvre du procédé va maintenant être décrite plus en détail.
Le principe général de l'amincissement d'une fibre optique par étirage à chaud est dérivé de celui développé pour les micropipettes de biologie. Il consiste à chauffer localement, par absorption d'un rayonnement infrarouge d'un laser CO2, une fibre optique maintenue en tension. Au-delà d'une certaine température, la zone chauffée de la fibre s'étire et s'amincit. Il en résulte, dans certaines conditions, la rupture de la fibre et la formation d'une pointe.
L'étirement séquentiel à chaud permet de contrôler la morphologie de la pointe in-situ, au cours de sa formation. Dans ce but, l'étirage à chaud de la fibre s'effectue en une séquence d'étapes de chauffage-refroidissement qui sont contrôlées par la mesure de l'allongement et de l'amincissement de la fibre.
L'étirement séquentiel consiste à chauffer la fibre optique par une série
(typiquement une centaine) d'impulsion laser de durée variable, commandées par système électronique. L'impulsion numéro n, de durée τn, produit un étirement
Δln. Entre deux impulsions, un délai est ménagé pour permettre le refroidissement de la fibre. La procédure se décompose en quatre phases :
- La phase 1 consiste à définir les conditions initiales de l'étirement.
- La phase 2 réalise un amincissement de la fibre par étapes constantes et assure une morphologie conique de la pointe.
- La phase 3 prépare avec précision le diamètre de la fibre pour la formation de la pointe.
- La phase 4 n'est constituée que d'une seule impulsion laser dont la durée est telle qu'elle assure la rupture de la fibre et la formation de la pointe.
Au cours de la phase 1, la durée des impulsions laser est incrémentée de Δτi tant que l'allongement provoqué par une impulsion ne dépasse pas un certain seuil Δlτ. Lorsqu' après l'impulsion numéro i, un étirement Δli, supérieur au seuil Δlτ , est mesuré, la phase 1 se termine et les conditions initiales de l'étirage sont définies. La durée Tj de cette impulsion est choisie comme temps de référence τre pour définir l'échelle des temps de l'ensemble du processus; c'est la durée d'impulsion nécessaire pour étirer, de la longueur ΔlIs la fibre de diamètre initial typique Di = 125 μm. Le seuil d'étirement est un paramètre ajustable dont la valeur typique choisie est Δ^ = 3μm. Dans les conditions de fonctionnement décrites ci-dessus, pour un laser CO2 de puissance 14 W, délivrant un faisceau de diamètre 2 mm, et pour la valeur indiquée de Δ . (+ 3 μm), la valeur de la durée d'impulsion de référence est typiquement τref = 50 ms. La valeur de l'incrément ΔτT de la durée des impulsions est choisie pour être petite devant la valeur de τref : Δτi = 1 ms.
La phase 2 correspond à un régime d'amincissement au cours duquel on souhaite maintenir constant l'étirement que produit chaque impulsion. Le premier paramètre que l'on définit est la consigne c'est-à-dire la valeur Δlc de l'étirement que l'on souhaite obtenir. Il s'agit alors, pour l'impulsion numéro n de choisir la valeur de τn, qui produira l'étirement Δln= Δlc. Il est clair que, au fur et à mesure que la fibre s'amincit, la durée de l'impulsion nécessaire pour obtenu- une valeur fixée de l'étirement diminue. Ainsi, τn sera nécessairement inférieur à i.
La décroissance de la durée des impulsions est contrôlée de manière itérative. Pour déterminer la durée de la nième impulsion du laser, on définit d'abord la durée τn° dont l'écart à τn-ι est identique à celui entre τn_ι et τn_2. o τn-2 - Vι~ r τn
(1)
Ensuite, on détermine la durée effective τn de la nième impulsion en ajoutant à τn° une correction qui tient compte, d'une part, de l'écart à la consigne mesuré lors de l'impulsion n-1 et, d'autre part, de la pente avec laquelle l'étirement (ou l'écart à la consigne) varie entre les impulsions n-2 et n-1 τ„=τn° + Cr δvn = τπ° + Cr[(Δlc - Δln_ - (Δln-1 - Δln.2)] / Δlc (2)
C'est cette correction, dont la valeur dépend de la mesure de l'effet produit par les impulsions précédentes, qui donne au processus un caractère rétroactif. La valeur de la correction dépend du coefficient Cr. Ce coefficient joue le rôle d'un gain de rétroaction appliqué au signal d'erreur δvn . Sa valeur est choisie pour maintenir le signal d'erreur le plus faible possible, c'est-à-dire pour maintenir Δln le plus proche possible de Δlc. La consigne Δlc et le coefficient de rétroaction Cr sont aussi des paramètres ajustables. Dans les conditions de fonctionnement décrites ci-dessus, leurs valeurs respectives sont typiquement Δlc = 3 μm et Cr = 1,3 ms. La phase 2 se termine lorsque la valeur de la durée d'impulsion calculée d'après l'équation 2 devient inférieure à ατref.
Le coefficient α est un paramètre ajustable dont la valeur typique est 0,45. A ce stade, l'amincissement de la fibre a permis d'atteindre un diamètre D2 par pas δD2 (les valeurs typiques de D2 et δD2 dans les conditions de fonctionnement décrites ci-dessus sont respectivement : 20 μm et -1,5 μm). Il est alors nécessaire de poursuivre le processus par pas plus fins de manière à préparer avec la plus
grande précision possible le diamètre de la fibre qui permettra la formation de l'extrémité de la pointe avec les caractéristiques géométriques désirées.
On définit alors la phase 3 pendant laquelle la durée des impulsions décroît par paliers. Durant cette phase, ce n'est plus seulement la mesure de l'allongement de la fibre qui est utilisé pour déterminer la valeur des paliers mais aussi le diamètre D3 mesuré in situ à l'aide d'un microscope. Tant que l'amincissement de la fibre (c'est-à-dire la variation δDn du diamètre de la fibre) est inférieur au seuil δD3 = 0,5 μm et que l'étirement δln de la fibre est inférieur au seuil δls = 1 μm, la procédure se poursuit sans changer la durée de l'impulsion. II est à noter que le choix de la valeur du seuil δD3 = 0,5 μm est directement lié à la résolution ultime du microscope utilisé pour mesurer le diamètre de la fibre.
Compte tenue des contraintes instrumentales, cette résolution peut difficilement être améliorée, et ne peut en aucun cas être très inférieure à 0,5 μm. La valeur seuil de l'allongement (1 μm) est déterminé arbitrairement comme étant une valeur typique correspondant à l'amincissement seuil. Le passage d'un palier à l'autre se produit donc lorsque l'une des valeurs mesurées, l'amincissement ou l'étirement de la fibre, dépasse la valeur seuil. Lorsque la fibre atteint un diamètre D3, la phase 3 se termine. D3 est un paramètre ajustable. Dans les conditions de fonctionnement décrites ci-dessus, sa valeur typique est D3 = 15 μm.
Le principe de rétroaction change à nouveau pour la phase 4. La durée de la dernière impulsion n'est pas fixée d'après le résultat des impulsions précédentes. La vitesse d'étirement Ve de la fibre est mesurée en permanence. Tant que le laser ne chauffe pas la fibre, Ve est nulle. La commande électronique de l'alimentation du laser déclenche l'impulsion qui n'est interrompue que lorsque Ve dépasse un certain seuil Ves. Le seuil de vitesse d'étirement est un paramètre ajustable dont la valeur typique choisie, d'après les conditions de fonctionnement décrites ci-dessus, pour former les pointes souhaitées, est Ves = 0,002m.s-l. La pointe obtenue suite à cette dernière impulsion, visualisée par MEB sur la figure 1 et grossie d'un facteur de 50000, a la forme d'un cône tronqué dont l'extrémité à un diamètre D4 compris entre 0,5 μm et 1 μm. Les valeurs de l'angle « au sommet » θ correspondantes sont comprises entre 40° et 60°.
D4 et θ sont reportés sur la figure 2, sur laquelle la fibre est la même que celle de la figure 1.
Les valeurs précises pour la fibre des figures 1 et 2 sont θ = 48° et D4 = 700 nm.
Par cette procédure d'amincissement, la fibre se sépare en deux pointes identiques. L'une de ces deux pointes jumelles est utilisée comme pointe-témoin, l'autre sera utilisée pour fabriquer la fibre optique selon l'invention, ou nano- sonde.
Après l'étirement séquentiel à chaud, la portion terminale de la fibre optique subit une attaque chimique isotrope préférentiellement par un acide, en particulier par l'acide fluorhydrique. L'étape d'attaque chimique, peut être vue comme la dernière étape du processus rétroactif : on mesure l'état d'avancement du procédé et, en fonction du résultat de cette mesure, on ajuste le traitement chimique que l'on fait subir à la pointe. Cette dernière étape a pour particularité de ne pas modifier la forme générale de la pointe, mais elle permet d'ajuster précisément la taille de son extrémité. Au terme de l'étirement, la taille et la forme de la pointe préformée, qui caractérisent l'état d'avancement du procédé, sont mesurées sur des clichés de MEB de la pointe-témoin.
L'attaque chimique complémentaire d'une pointe préformée par amincissement séquentiel à chaud est basée sur trois principes : - L'attaque chimique est isotrope et conserve donc la forme de cône tronqué de la pointe: le diamètre de la face supérieure du cône tronqué (le diamètre de l'ouverture de la sonde) peut être réduit de la valeur D4 à la valeur D choisie sans que l'angle au sommet de la pointe, θ, soit changé ;
- La vitesse d'attaque chimique peut être ajustée indépendamment des autres paramètres du procédé en choisissant la concentration de la solution d'acide fluorhydrique ;
- Le temps d'attaque chimique nécessaire pour obtenir le diamètre final désiré ne dépend que de la vitesse d'attaque chimique et des valeurs de D4 et θ (mesurées sur la pointe-témoin). Si l'on définit e comme étant l'épaisseur à dissoudre et la vitesse d'attaque linéaire ou vitesse d'attaque dans la direction normale à la surface V=de/dt, le temps d'attaque t nécessaire pour obtenir la valeur D finale pour l'ouverture est [cos(θ/2)(D4-D)/2V[l-sin(θ/2)] .
La figure 3 représente l'extrémité d'une pointe observée par MEB (grossissement 50000) avant attaque chimique et la figure 4 représente la même pointe après attaque dans HF 12 % à 25°C.
On voit que l'attaque chimique est isotrope et conserve la forme de cône tronqué des pointes préformées. De plus, l'attaque complémentaire n'affecte pas de façon mesurable, à cette échelle, la rugosité de la surface. Il semble même que certaines irrégularités soient «gommées ». Dans l'étape suivante, on rend opaque la surface périphérique du cône.
Cette étape est préférentiellement effectuée par dépôt d'au moins une couche métallique.
Toutes les techniques de dépôt sont possibles dès lors que la technique de dépôt utilisée n'affecte pas la géométrie de l'extrémité de la pointe préformée. Préférentiellement le dépôt est effectué sous vide.
La nature des métaux utilisés ainsi que 1 'épaisseur correspondante déposée sont variables et doivent être telles qu'il ne subsiste pas de passage pour la lumière, et que toute fuite de lumière hors de l'ouverture constituée par la face globalement plane du cône tronqué est empêchée. En général, l'épaisseur totale de la (ou des) couche(s) métallique(s) varie de
50 à 200 nm.
Préférentiellement, on dépose une première couche à base de chrome puis une couche à base d'aluminium.
Dans ce cas, la couche à base de chrome présente une épaisseur de 2 à 20 nm et la couche à base d'aluminiiim une épaisseur de 50 à 180 nm.
Typiquement, l'évaporation est pratiquée sous vide secondaire à partir de filaments métalliques chauffés par effet Joule.
Dans l'enceinte d'évaporation, l'extrémité de la pointe est située à une distance adaptée, par exemple 20 cm, au dessus des filaments métalliques. Pour que la face supérieure du cône tronqué que forme l'extrémité de la pointe ne reçoive pas de métal, c'est à dire pour que l'ouverture de la sonde soit préservée, la pointe est généralement légèrement inclinée vers le haut, par exemple d'un angle de 15° par rapport à l'horizontale.
Afin d'obtenir un dépôt homogène, la pointe suit pendant l'évaporation, deux mouvements de rotation :
- une rotation autour de son axe ;
- une rotation azimutale autour de la verticale, c'est à dire suivant l'axe porté par la direction moyenne du flux d'évaporation.
La fibre optique obtenue en final est une fibre optique utilisable comme sonde de champ proche comportant une portion terminale possédant la forme générale d'une pointe dont l'extrémité présente la forme d'un cône tronqué
délimité par une surface périphérique opaque et une face globalement plane d'une dimension maximale de 100 nm, définissant une ouverture pour le passage d'ondes lumineuses, ladite portion terminale conservant les propriétés de polarisation des ondes lumineuses propagatives. La figure 5 montre une vue inclinée d'une telle fibre, amincie, attaquée chimiquement et métallisée comme indiqué précédemment, grossie 20000 fois et la figure 6 montre une vue de face de la même fibre, grossie 103920 fois.
La figure 5 montre que le traitement de métallisation n'a pas affecté la géométrie globale de l'extrémité de la pointe. Sur la figure 6, l'ouverture de la sonde est observable.
Son diamètre est de l'ordre de 50 nm. On aperçoit nettement, en périphérie de l'ouverture, le dépôt effectué qui se présente sous forme d'îlots compacts de taille moyenne de 100 nm. Une augmentation des vitesses d'évaporation métallique mentionnées précédemment peut permettre d'obtenir un dépôt plus régulier.
La couche métallique obtenue supprime toute fuite de lumière hors de l'ouverture.
Une telle pointe est prête pour être utilisée dans le procédé d'impression selon l'invention. Les structures stables en relief sont imprimées dans des couches d'un matériau comprenant un composé photosensible et présentant généralement une épaisseur inférieure à 50 nm.
Un composé photosensible préférentiel est un composé subissant une isomérisation sous l'effet d'ondes lumineuses appropriées. Préférentiellement, ce composé photosensible est un composé subissant une isomérisation cis/trans ou trans/cis sous l'effet d'ondes lumineuses de polarisation appropriée, en particulier un composé photochromique comprenant un groupe azobenzène.
Le composé photosensible est préférentiellement attaché par une liaison covalente avec le matériau de la couche dans laquelle on imprime la structure stable en relief.
Préférentiellement, la liaison covalente se fait par l'intermédiaire d'une chaîne à propriétés flexibilisantes, et plus particulièrement, la chaîne à propriétés fiexibilisantes comprend au moins un groupe uréthane. Le matériau particulièrement recommandé pour la couche dans laquelle on imprime la structure comporte une matrice polysiloxane.
La matrice polysiloxane est préférentiellement obtenue par voie sol/gel à partir d'une composition d'hydrolysats de précurseurs silanes.
Les précurseurs silanes sont bien connus dans l'état de l'art et comportent une ou plusieurs fonctions hydrolysables tels que Si-O-Alkyle, Si-Ci. Une classe recommandée est constituée par les alcoxysilanes, en particulier les époxyalkoxysilanes tels que le y-glycidoxypropyl triméthoxysilane, l'époxycyclohexyl triméthoxysilane, ainsi que par les alkoxysilanes suivants :
3-aminopropyltriéthoxysilane, 3-aminopropyltriméthoxysilane, 3- aminopropylméthyldiéthoxysilane, méthyltriméthoxysilane, éthyltriéthoxysilane, vinyltriéthoxysilane, phényltriéthoxysilane, diméthyldiéthoxysilane, tétraéthoxysilane.
Les alkoxysilanes particulièrement recommandés sont les tétraalkoxysilanes, et en particulier le tétraéthoxysilane (TEOS). Ces alkoxysilanes jouent le rôle d'agents réticulants tétrafonctionnels et permettent l'accroissement de la rigidité de la structure.
Les molécules photochromiques de la famille des azobenzènes étant peu solubles dans les matrices de type sol/gel, on utilise préférentiellement une molécule dont le groupe azobenzène a été greffé sur une chaîne organique terminée par un alcoxyde de silicium. La composition polymérisable comprend donc préférentiellement un hydrolysat d'au moins un précurseur de formule (I) :
A-Z-B dans, laquelle
A représente un groupe azobenzène ou un dérivé substitué de celui-ci, Z est une chaîne hydrocarbonée divalente interrompue par au moins un groupe uréthane,
B est un groupement -Si R(3.n)(X)n, n varie de 2 à 3, dans laquelle X représente un groupe hydrolysable tel
R et R,' identiques ou différents, désignent un groupement alkyle de 1 à 4 atomes de carbone,
et un hydrolysat d'au moins un précurseur de formule R(4.a) Si(X)a dans laquelle a varie de 2 à 4 et X a la même signification que ci-dessus. Préférentiellement, R' désigne C2H5 et a = 4 et n = 3.
Le précurseur azobenzène préféré a pour formule :
et sera désigné par la suite par Si-DRl. Afin d'inhiber la formation d'agrégats et donner une liberté de mouvement au composé photochromique, la composition peut également comprendre un hydrolysat d'un précurseur de formule (II) A'-Z'-B' dans laquelle :
A' est un groupement hydrocarboné cyclique comportant éventuellement un hétéroatome intracy clique
Z' est une chaîne hydrocarbonée divalente comprenant au moins un groupement uréthane,
B' est un groupement de formule -Si R(3-n) Xn, dans laquelle X, R et n ont la même signification que dans la formule (I) ci-dessus. Le précurseur préféré empêchant la formation d'agrégats est un trialkoxysilane comprenant une unité carbazole :
Il sera par la suite désigné par Si-K.
Le procédé d'hydrolyse des silanes hydrolysables est classique et connu de l'homme de l'art.
On peut se référer, par exemple aux brevets FR 2.702.486, FR 2.704.581 ou US 4.211.823.
On peut, par exemple, mélanger les silanes de départ et effectuer l'hydrolyse du mélange. Des catalyseurs tels que des acides minéraux ou organiques peuvent être utilisés.
On préfère en outre utiliser, pour l'hydrolyse, une quantité d'eau au moins stoechiométrique, c'est à dire une quantité molaire en eau correspondant au nombre de moles de fonction susceptibles d'engendrer des groupements silanols. Des cosolvants organiques tels que le THF(tétrahydrofurane) peuvent être utilisés.
Suivant un mode recommandé,
A. On réalise une hydrolyse complète d'un mélange d'alcoxydes de silicium, préalablement mis en solution dans un solvant organique des alcoxydes, par une solution aqueuse acide de pH égal à 1 ;
B. Afin de mieux maîtriser l'évolution du sol pendant l'étape de condensation, et avant la mise en forme des échantillons, on diminue l'acidité du sol en neutralisant partiellement l'acide nécessaire à l'hydrolyse par addition d'une base ; C. Le sol est ensuite déposé sur un substrat par technique de centrifugation.
Le film peut être ensuite séché à température ambiante ou soumis à un traitement thermique, par exemple par chauffage de 50 à 120°C, pendant 5 à 30 minutes.
Au terme du dépôt, on obtient un film de faible épaisseur prêt à être utilisé.
L'impression d'une structure stable s'effectue en positionnant, au moyen d'un dispositif approprié, l'ouverture d'une pointe de fibre obtenue selon le procédé décrit précédemment, dans le voisinage immédiat de la surface de la couche comprenant le matériau photosensible, à une distance inférieure à 100 nm, et préférentiellement à une distance inférieure à 50 nm, et mieux encore inférieure à 10 nm.
On injecte alors un faisceau lumineux dans la pointe de fibre et on irradie pendant un temps nécessaire pour obtenir la modification topographique locale. La modification topographique locale résulte directement de l'étape d'irradiation et ne nécessite pas d'étape supplémentaire de révélation, comme on peut le voir dans certains documents de l'art antérieur.
Typiquement, les conditions générales d'irradiation sont : puissance de sortie, au niveau de l'ouverture en extrémité de pointe: 0,1 à lnW (nano att), le temps d'irradiation variant de 1 à 30 secondes. L'un des avantages du procédé selon l'invention est qu'il permet d'effectuer un contrôle précis de la hauteur des plots inscrits en fonction du temps d'irradiation et/ou de la puissance des ondes lumineuses émises sur la couche de matériau comprenant le composé photosensible.
L'invention concerne également un procédé d'impression d'une figure stable représentée par des plots en relief dans une couche d'un matériau comprenant un composé photosensible capable d'induire une modification topographique de ladite couche sous l'effet d'ondes lumineuses émises au travers d'au moins une ouverture telle que définie précédemment, qui se caractérise en ce que a) on imprime un premier plot suivant le procédé décrit ci-dessus, b) on procède à un déplacement latéral contrôlé de ladite ouverture, c) on imprime un autre plot en opérant comme à l'étape a) ci dessus, d) on répète les opérations b) et c) de façon à couvrir de plots une surface correspondant à ladite figure.
Généralement, les plots obtenus présentent une hauteur d'au moins 3 nm, préférentiellement de 10 à 50 nm, et une dimension latérale sensiblement identique à la dimension de l'ouverture et deux plots consécutifs sont éloignés de
moins de 200 nm, préférentiellement, de moins de 100 nm, et mieux encore, de moins de 50 nm.
Pour couvrir plus rapidement des surfaces importantes, on peut utiliser avantageusement un masque, constitué par une surface opaque, généralement parallèle à la surface à imprimer, et percée d'une ou plusieurs ouvertures présentant les caractéristiques décrites précédemment. L' invention présente de nombreux avantages :
En particulier outre ceux déjà précités, l'invention permet d'obtenir des réseaux de plots dont la fluctuation d'altitude, dans la zone d'inscription, reste inférieure à leur hauteur moyenne, ce qui n'avait pu être obtenu dans les réseaux de l'art antérieur.
L'invention trouve des applications dans les domaines les plus divers tels que le stockage d'information sur disques, les marquages fins, biotechnologie, l'électronique moléculaire. Une application particulièrement intéressante se situe dans le domaine des lentilles ophtalmiques.
Il est en effet possible de réaliser des réseaux microstructures , de pas inférieur à 200 nm, pour réaliser des revêtements anti-reflets.
Un tel réseau peut être imprimé directement sur la surface du verre ophtalmique, ou sur la surface d'une partie de moule et transféré lors du moulage du verre.
Une autre application possible est l'impression de marques distinctives, tel qu'un logo, invisible à l'oeil nu, et permettant d'identifier l'origine du verre.
Une autre application possible consiste à effectuer des marquages discrets pour le repérage des verres stockés ou lors de leur processus de fabrication. Les exemples suivant illustrent la présente invention. EXEMPLE 1 :
1) Fabrication d'une fibre optique selon l'invention On fabrique une fibre optique comportant une portion terminale présentant la forme générale d'une pointe dont l'extrémité présente la forme d'un cône tronqué à partir d'une fibre optique monomode commercialisée par la société 3M et présentant les caractéristiques suivantes :
- diamètre de la fibre, incluant sa couverture plastique de protection 250 micromètres, - diamètre de la fibre dénudée : 125micromètres,
- diamètre du cœur : 3,7 micromètres,
- profil des propriétés optiques entre coeur et gaine : type saut d'indice,
- longueur d'onde de coupure : 460 nm.
Cette fibre est soumise à un étirement séquentiel à chaud en suivant le procédé général décrit précédemment avec les paramètres suivants
- phase I
- seuil d'étirement Δlχ = 3 micromètres
- puissance laser CO2 : 14 watts
- diamètre du faisceau laser: de l'ordre de 2 mm - valeur de la durée d'impulsion de référence τref : 50 ms
- valeur de l'incrément Δτi = 1 ms
- Phase II
- Δlc - 3 micromètres
- Cr = 1,3 ms - α = 0,45
- Phase III
- D3 = 15 micromètres
- Phase IV
- Le seuil de vitesse d'étirement est Ves = 0,002 m.s"1 Le dispositif d'étirement séquentiel qui a été utilisé est décrit plus particulièrement dans la thèse de Philippe Bertrand du 22 janvier 1999, citée précédemment.
Succinctement, la fibre optique est maintenue par pincement entre deux rails, qui coulissent horizontalement sur des cages à billes. Les extrémités des rails sont reliés l'une à l'autre par un fil qui est guidé par des poulies et auquel est suspendu un poids libre, ou tout moyen permettant d'assurer une tension fixe.
Le dispositif comprend un laser dont l'alimentation est ajustée par une commande TTL ainsi qu'un dispositif permettant de mesurer l'allongement de la fibre.
Un microscope équipé d'une caméra permet de visualiser la fibre au cours de l'étirage.
Les caractéristiques de la pointe préformée de la fibre obtenue après étirement séquentiel à chaud sont les suivantes : Diamètre de l'ouverture : 477 nm
Angle de cône: 46°
La pointe est ensuite nettoyée 3 minutes dans un mélange sulfochromique placé dans un bac à ultrasons, puis rincée trois minutes dans de l'eau distillée (toujours dans un bac à ultrasons).
Elle est ensuite soumise à une attaque chimique par de l'acide fluorhydrique HF 12 % massique pendant une durée de 2 mn 30 secondes. Puis elle est rincée dans de l'eau distillée et séchée avec de l'isopropanol.
On procède alors à une étape de métallisation consistant à déposer des couches de chrome et d'aluminium par évaporation sous vide secondaire à partir de filaments métalliques chauffés par effet Joule sur la périphérie de la pointe de fibre.
La première couche est une couche d'accrochage de Chrome de 10 nm d'épaisseur déposé sur l'ensemble de la circonférence de la pointe. Le Chrome est évaporé avec une vitesse de 0,23 nm/s. Toujours par évaporation, on dépose ensuite une couche d'aluminium de 100 nm d'épaisseur, à une vitesse d'évaporation de 1,82 nm/s.
La pointe est maintenue en rotation pendant le dépôt des couches
- vitesse de rotation azimutale : 1 tour/sec
- vitesse de rotation axiale : 5 tours/sec
On obtient alors la fibre optique prête à l'emploi. La taille de l'ouverture de la pointe de fibre est de l'ordre de 55 nm. 2}
Fabrication des échantillons photosensibles L'échantillon est une couche mince déposée sur un substrat de verre. La couche est obtenue par voie sol/gel. 2.1 - Préparation du sol Les réactifs de départ sont les suivants :
- 0,207 g de Si-DRI, soit 3,68 x 10"4 mole;
- 0,307 g de Si-K, soit 7,37 x 10'Vole ;
- 1,2 cm3 de THF, ou tétrahydrofuranne, solvant organique des alcoxydes utilisés ; - 0,041 cm3 de TEOS, soit 1,84 x 10"4 mole ;
- 0,093 cm3, soit 5,15 x 10"3 mole, de solution aqueuse à pH=l, ajusté par addition d'acide chlorhydrique.
Les composé Si-DRI, puis le composé Si-K, qui se présentent sous forme de poudre, sont pesés dans un pilulier. On ajoute ensuite à l'air libre le solvant (THF), et la solution est homogénéisée par agitation magnétique.
Puis, le TEOS ainsi que l'eau acidifiée sont additionnés, et le mélange est replacé sous agitation magnétique à l'abri de la lumière pendant deux heures.
Au terme de l'hydrolyse, on neutralise le milieu en ajoutant 0,0987 cm3 de pyridine soit 1,22 x 10" mole
A Afin de diminuer la viscosité du sol formé, on incorpore 0,5 cm de solvant (THF).
On réalise ensuite une filtration du sol (diamètre des pores du filtre: 0,45 μm), puis on ajoute un tensioactif à 2,5 %o en masse.
Le sol est ensuite prêt à être déposé (solution mère de concentration notée C0).
2.2 - Dépôt des couches :
Les dépôts sont effectués par centrifugation sur substrats de verre (lames de microscope préalablement nettoyées), pendant une durée de 20 s.
Au cours de la rotation, le processus de condensation se poursuit, le solvant s'évapore, et il reste au final une couche mince dont l'épaisseur dépend de la vitesse de rotation et de la concentration du sol utilisé. L'épaisseur varie typiquement entre 10 nm et environ 1 μm ; elle est déterminée grâce à un profilomètre.
Ajustement de l'épaisseur de la couche : Un dépôt de la solution mère avec une vitesse de rotation de 3000 tours/mn permet d'obtenir un échantillon d'environ 1 μm d'épaisseur.
Pour obtenir des couches d'épaisseurs inférieures, on procède à la dilution de la solution mère et on augmente la vitesse de centrifugation.
Le tableau ci-dessous donne la correspondance entre la dilution de la solution mère et l'épaisseur de l'échantillon obtenu pour une vitesse de rotation fixée à 6000 tours/mn.
Les mesures d'épaisseur sont effectuées après avoir placé l'échantillon fraîchement déposé dix minutes à l'étuve à 100°C pour achever le processus de condensation et évaporer le solvant résiduel.
L'échantillon correspondant à E est utilisé pour la suite de la mise en œuvre du procédé de l'invention.
3 - Inscription de structures stables en relief Dispositif utilisé Le dispositif utilisé est représenté en figure 7.
On utilise un laser Argon-Krypton(l) à la longueur d'onde de 568, 2 nm (raie jaune du Krypton) générant un faisceau laser(3).
En sortie du laser(l) une densité optique(2) ou filtre neutre G4, d'épaisseur 2 mm, est insérée. Le faisceau laser (3) traverse la densité optique (2) puis est réfléchie par un miroir(4), traverse une lame quart d'onde(5) qui transforme la polarisation rectiligne verticale issue du laser(l) en une polarisation circulaire, elle-même envoyée sur un filtre polariseur (6). Le filtre(6) est typiquement un polariseur Polaroid modèle HN22.
En sortie du polariseur(6), le faisceau contacte un miroir (7) qui le dirige vers une lentille de focalisation (8) (f = 10 mm).
Le faisceau va ensuite être injecté dans une fibre optique (10), préparé lors de l'étape 1 ci dessus et présentant une extrémité (11) ayant une pointe amincie et métallisée périphériquement:
En sortie de lentille, le faisceau traverse un connecteur (9) correspondant à l'extrémité non modifiée de la fibre optique (10).
La fibre optique (10) traverse une tête de microscope (12) contenant deux tubes piézoélectriques non représentés qui permettent d'assurer le déplacement, dans les 3 directions de l'espace, de l'extrémité (11) de la pointe de fibre optique amincie et métallisée périphériquement (10). Un tel système piézoélectrique est décrit précisément dans la thèse de
Philippe Bertrand précitée.
Le faisceau lumineux issu de l'ouverture , non représentée, à l'extrémité (11) de la pointe de fibre traverse alors l'échantillon (13) préparé lors de l'étape 2) ci-dessus. Puis le faisceau lumineux est collecté par un objectif de microscope (14) typiquement un objectif Zeiss, « Epiplan » LD20x/0.40 et détectée par un photomultiplicateur (16), typiquement Hamamatsu R943 Ga-As 10 étages, équipé d'un analyseur de polarisation (15). Inscription d'un réseau L'échantillon est disposé comme indiqué dans la figure 7 à une distance de
5 nm de la pointe de fibre (11).
Au préalable, on effectue un premier balayage pour contrôler la propreté de la surface de la couche sur laquelle va être inscrit le réseau.
Pour cela , l'ouverture à l'extrémité de la pointe est maintenue à une distance de 5 nm et l'on effectue un balayage dans un plan.
Une surface de 2μm destinée à être imprimée est alors contrôlée. Ensuite, en agissant sur le système piézo-électrique, on positionne la pointe au dessus d'un point déterminé de la surface balayée(position d'origine).
On effectue ensuite un déplacement de la pointe dans deux directions x, y perpendiculaires, dans un plan parallèle à la surface de la couche, et en maintenant l'ouverture à une distance de 5 nm de la surface de la couche.
On imprime une première ligne de plots en injectant, pendant deux secondes pour chaque plot, un faisceau lumineux donnant une puissance en sortie de pointe, au niveau de l'ouverture, de 170 pW. Entre chaque impulsion lumineuse, la pointe est déplacé suivant l'axe x d'une distance de 116 nm.
Après l'impression de la première ligne, la pointe est disposée à nouveau à sa position d'origine et l'on effectue ensuite un déplacement suivant l'axe y de 136 mn, puis on imprime une nouvelle ligne de plots.
L'opération est répétée jusqu'à l'obtention du réseau sur l'ensemble de la surface à imprimer.
Sur le réseau final, les plots inscrits ont en moyenne une hauteur de 5 nm et une largeur à mi-hauteur de 55 nm.
Le réseau inscrit est représenté en figure 8.
80 plots sont inscrits dans une zone de 1 μm , sans asservissement de la puissance lumineuse et on constate que la fluctuation d'altitude est de 4 nm pour une hauteur moyenne des plots de 5 nm.
Le plot central a volontairement été oublié de manière à montrer que l'inscription de l'ensemble des plots ne perturbe pas la zone centrale non illuminée. EXEMPLE 2 :
On imprime un réseau de plots suivant le procédé décrit dans l'exemple 1, avec un déplacement de 200 mn de la pointe, suivant l'axe x, entre chaque impression, et en augmentant le temps d'irradiation (de 5 à 35 secondes par pas de 5 secondes) pour une puissance moyenne en sortie de pointe fixée. La figure 9 représente la vue en coupe du réseau obtenu, suivant l'une des lignes du réseau de plots.
On constate que la hauteur des plots est directement proportionnelle au temps d'irradiation.