EP1423679A2 - Verfahren und vorrichtung zur unterdrückung von lichtabsorption, lichtstreuung und kontamination bei wellenlängen unterhalb von 200nm - Google Patents

Verfahren und vorrichtung zur unterdrückung von lichtabsorption, lichtstreuung und kontamination bei wellenlängen unterhalb von 200nm

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EP1423679A2
EP1423679A2 EP02779421A EP02779421A EP1423679A2 EP 1423679 A2 EP1423679 A2 EP 1423679A2 EP 02779421 A EP02779421 A EP 02779421A EP 02779421 A EP02779421 A EP 02779421A EP 1423679 A2 EP1423679 A2 EP 1423679A2
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EP
European Patent Office
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gas
vacuum chamber
purge gas
vacuum
beam path
Prior art date
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Withdrawn
Application number
EP02779421A
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English (en)
French (fr)
Inventor
Angela Duparre
Stefan Gliech
Gunther Notni
Jörg STEINERT
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fraunhofer Gesellschaft zur Foerderung der Angewandten Forschung eV
Original Assignee
Fraunhofer Gesellschaft zur Foerderung der Angewandten Forschung eV
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Publication date
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    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
    • G01N21/15—Preventing contamination of the components of the optical system or obstruction of the light path
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
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    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
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    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2201/00—Features of devices classified in G01N21/00
    • G01N2201/02—Mechanical
    • G01N2201/023—Controlling conditions in casing
    • G01N2201/0233—Gas purge

Definitions

  • the invention relates to a method and a device for avoiding the absorption of light of wavelengths less than 200 nm in optical beam paths with simultaneous suppression of light scattering and contamination in the beam path.
  • Areas of application are e.g. the measurement of scattered light, reflection and transmission and ellipsometry at 157 nm and 193 nm, as well as imaging systems, VUV microscopy and lithography systems at 157 nm.
  • a gas e.g. nitrogen or helium
  • nitrogen or helium which does not absorb at the wavelength of use
  • the absorption in air or other gases is reduced according to the pressure range used.
  • the residual pressure in the vacuum chamber can thus be below the boiling pressures of other compounds or molecules that had previously deposited on the surfaces of the vacuum chamber and are then increasingly in the gas phase in the vacuum system.
  • These compounds or molecules are therefore in a much higher concentration than at normal pressure in the vacuum chamber and, because of the low residual pressure, have a much larger free path. They are therefore deposited much more frequently on optical functional surfaces of the beam path and can thus lead to contamination, which can additionally be formed into deposits by irradiation with the wavelength of use.
  • the contamination and in particular the deposits can lead to increased absorption in the beam path and, due to stray light, to a deterioration in the imaging behavior or the beam shape.
  • the present invention is therefore based on the object of improving beam paths for wavelengths below 200 nm with reduced absorption in such a way that stray light is suppressed at the same time and contamination or deposits are avoided.
  • Claim 9 specifies a device according to the invention for solving the problem.
  • At least a partial vacuum is generated in at least one part of an optical beam path and, at the same time or subsequently, a predetermined amount or a predetermined flow of purge gas, such as. B. N 2 or He, the beam path.
  • a purge gas can be used to reduce the scattering of light, so that a lower light absorption at a given purge gas pressure. tion coefficient than would have water vapor and oxygen at the same partial pressure.
  • a flushing gas is to be used for the method according to the invention, which is present at the application wavelength, at the pressure present in the part of the beam path which is at least partially evacuated and brought to subatmospheric pressure with at least one flushing gas and over the path length of the at least partially evacuated and with at least one flushing gas part of the beam path brought under atmospheric pressure has a total absorption of at most 50%, preferably of 20%, preferably of 10% or even 5%.
  • the advantage of the method according to the invention lies in the fact that a lower absorption is brought about by means of vacuum, but the additional use of purging gas does not result in contamination on the surfaces of the vacuum system, the partial suction pressures of which are above the vacuum pressure as it would be without purging gas go into the gas phase.
  • the free path length of contaminating gas molecules is also reduced.
  • the purge gas only needs to be added in small amounts (that is, to such an extent that a subatmospheric pressure remains in the beam path treated in this way), so that the scattering on the purge gas is reduced.
  • the flushing gas inlet and vacuum connection should advantageously be located on the opposite ends or opposite sides of the beam path.
  • a flushing gas pressure is generated by a pumping process and a simultaneous addition of flushing gas, which pressure should be so low that the light scattering on the flushing gas molecules lengang not negatively affected.
  • the gas pressure is so low that the absorption in the gas atmosphere in the beam path does not exceed the above-mentioned limits.
  • the permanent supply of purge gas in connection with the simultaneous pumping advantageously results in a purge gas flow in the beam path, which significantly reduces the concentration of the compounds or molecules in the gas phase, which are the cause of contamination and deposits.
  • This procedure also allows the beam path treated in this way to be evacuated to total pressures below the boiling pressures of contaminants, since these are increasingly removed in the gas phase by the purge gas flow. As a result, the concentration of these compounds or molecules is kept at a low level in spite of the low pressure in the beam path, which results in a reduction in contamination and deposits.
  • the invention can be used in any type of beam paths with wavelengths less than 200 nm (in particular 157 nm and 193 nm).
  • FIG. 1 shows a schematic representation of an exemplary embodiment of an optical beam path for measuring scattered light which lies in two vacuum chambers and through which flushing gas flows.
  • An exemplary system in which this invention is used is a measuring system for determining the total scattered light at 157 nm and 193 nm
  • Fig. 1 shows the structure of the vacuum system of this measuring system schematically.
  • the vacuum system consists of a first vacuum chamber (1) and a second vacuum chamber (2). These vacuum chambers are connected by a gas-tight, lockable connecting element.
  • a light beam with a wavelength of 157 nm is first guided into the first vacuum chamber (1).
  • the first vacuum chamber (1) is used for beam preparation.
  • the light beam is adapted to the respective requirements with regard to energy density and diameter as well as beam shape.
  • the jet then enters the second vacuum chamber (2).
  • the second vacuum chamber (2) is used to measure stray light.
  • the signal detection takes place by means of a Coblentz ball arranged in the chamber (not shown). First of all, the absorption of light at these wavelengths must be avoided.
  • the interior of the two vacuum chambers (1, 2) is at least partially evacuated by means of a pump system (3, 4) of absorbing or scattering gases.
  • the pump system consists of a high vacuum pump (3) and a backing pump (4).
  • the high vacuum pump (3) is connected to the measuring chamber via a gas-tight, lockable connection to the vacuum system and evacuates at least some of the gases in the vacuum system via a gas-tight, lockable discharge line into a fore-vacuum pump (3).
  • the forevacuum pump (3) is connected to the measuring chamber via a further gas-tight, closable discharge line with the vacuum system.
  • the backing pump (3) is also connected to the jet processing chamber via a further gas-tight, closable discharge line.
  • both vacuum chambers are evacuated via the high vacuum pump.
  • the direct feed lines of the forevacuum pump to the vacuum chambers are closed, so that those of the forevacuum pump (3) only pumps gas from the high vacuum pump.
  • a defined small flow of nitrogen via the feed line (5) and / or the feed line (6) into the two chambers (1, 2) can be added simultaneous pumping with the pump system (3, 4) are added.
  • the pump system (3, 4)
  • This goal can be Vacuum pressure less than 10 2 Pa, at which the purge gas contributes more than a fifth to the vacuum pressure.
  • the pressure can be measured by the pressure controls or pressure gauges (8, 9) and the supply of purge gas can be regulated via the valves (10, 11).

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Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Reduktion der gasbedingten Lichtabsorption beziehungsweise Lichtstreuung und/oder Kontamination bei Einsatz von Licht einer Einsatzwellenlänge unterhalb von 200 nm in optischen Strahlengängen. Dies wird erreicht, indem die im Strahlengang befindlichen Gase zumindest teilweise auf einen unteratmosphärischen Druck evakuiert werden und gleichzeitig oder darauffolgend ein Spülgas in den Strahlengang eingeleitet wird, der trotz dieser Spülgaseinleitung auf einem unteratmosphärischen Druck verbleibt, wobei die Gesamtabsorption in den so behandelten Strahlengang höchstens 50 % aufweist.

Description

Verfahren und Vorrichtung zur Unterdrückung von Lichtabsorption, Lichtstreuung und Kontamination bei Wellenlängen unterhalb von 200nm
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Vermeidung der Absorption von Licht von Wellenlängen kleiner als 200 nm in optischen Strahlengängen bei gleichzeitiger Unterdrückung von Licht- streuung und Kontamination in dem Strahlengang.
Einsatzgebiete sind z.B. die Messung von Streulicht, Reflexion und Transmission und die Ellipsometrie bei 157 nm und 193 nm, sowie abbildende Systeme, VUV- Mikroskopie und der Lithographie dienende Systeme bei 157 nm.
Beim Einsatz von Wellenlängen unter 200 nm nimmt die Absorption an Luft, insbesondere am Wasserdampf und Sauerstoff, sehr stark zu, so dass Strahlengänge mit Wellenlängen kleiner 190 nm nicht mehr in Luftatmo- Sphäre betrieben werden können.
Zur Vermeidung der Luftabsorption gibt es zwei Lösungsansätze. Bei der ersten Variante wird dem Strah- lengang ein Gas (z.B. Stickstoff oder Helium), das bei der Einsatzwellenlänge nicht absorbiert, bei leichtem Überdruck zugeführt.
Der andere Lösungsansatz besteht im Evakuieren des Strahlenganges und dem Arbeiten im Vakuum, wie z. B. durch P. Kadhkoda, H. Blaschke, J. Kohlhaas, D. Ri- stau, „Investigations of transmittance and reflectan- ce in the DUV/VUV spectral ränge", Proc . SPIE 4099, 311-318 (2000) beschrieben.
Wird ein Strahlengang bei Wellenlängen kleiner 200 nm benötigt, der die Anforderung sowohl hinsichtlich der Unterdrückung der Lichtstreuung als auch der gleichzeitigen Unterdrückung von Kontaminationen und Abla- gerungen erfüllen muss, haben beide Lösungsansätze zur Vermeidung der Luftabsorption entscheidende Nachteile. Bei der Verwendung von Gasen entsteht an den Molekülen der Gase LichtStreuung, die als Störlicht die Eigenschaften des Strahlenganges z.B. hinsicht- lieh Abbildungsverhalten und Strahlform negativ beeinflussen kann.
Beim Arbeiten im Vakuum wird die Absorption an Luft oder an anderen Gasen entsprechend dem verwendeten Druckbereich vermindert. Der Restdruck in der Vakuumkammer kann somit unterhalb der Siededrücke von anderen Verbindungen oder Molekülen liegen, die sich vorher an den Oberflächen der Vakuumkammer abgelagert hatten und sich dann verstärkt in der Gasphase in der Vakuumanlage befinden. Diese Verbindungen oder Moleküle liegen somit in einer weit höheren Konzentration als bei Normaldruck in der Vakuumkammer vor und haben aufgrund des geringen Restdruckes eine wesentlich größere freie Weglänge. Somit lagern sie sich wesentlich häufiger auch auf optischen Funktionsoberflächen des Strahlenganges ab und können somit zu Kontaminationen führen, die sich zusätzlich durch Bestrahlung mit der Einsatzwellenlänge in Ablagerungen umformen können. Die Kontamination und insbesondere die Ablagerungen können zu einer erhöhten Absorption im Strahlengang und durch Störlicht bedingt zu einer Verschlechterung des Abbildungsverhaltens bzw. der Strahlform führen.
Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, Strahlengänge für Wellenlängen unterhalb von 200 nm mit verringerter Absorption so zu verbessern, daß gleichzeitig Streulicht unterdrückt wird und Kontaminationen bzw. Ablagerungen vermieden werden.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß in verfahrenstechnischer Hinsicht durch Anspruch 1 gelöst. Anspruch 9 gibt eine erfindungsgemäße Vorrichtung zur Lösung der Aufgabe an.
Vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen ergeben sich aus den Unteransprüchen.
Erfindungsgemäß wird in zumindest einem Teil eines optischen Strahlenganges zumindest ein Teil-Vakuum erzeugt und gleichzeitig oder darauffolgend eine vorbestimmte Menge oder ein vorbestimmter Fluß von Spülgas, wie z. B. N2 oder He, dem Strahlengang zugeführt. In vielen Fällen kann zur Reduzierung der LichtStreuung ein Spülgas verwendet werden, daß bei gegebenem Spülgasdruck einen geringeren Lichtabsorp- tionskoeffizienten aufweist als Wasserdampf und Sauerstoff bei demselben Partialdruck aufweisen würde. Allgemein ist für das erfindungsgemäße Verfahren ein Spülgas einzusetzen, das bei der Einsatzwellenlänge, bei dem in dem zumindest teilweise evakuierten und mit mindestens einem Spülgas auf unteratmosphärischen Druck gebrachten Teil des Strahlenganges vorhandenen Druck und über die Weglänge des zumindest teilweise evakuierten und mit mindestens einem Spülgas auf un- teratmosphärischen Druck gebrachten Teiles des Strah- lenganges eine Gesamtabsorption von höchstens 50%, vorzugsweise von 20 %, vorzugsweise von 10% oder gar 5 % aufweist. Der Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens liegt darin, daß mittels Vakuum eine geringe- re Absorption herbeigeführt wird, aber durch die zusätzliche Verwendung von Spülgas Kontaminationen an den Oberflächen des VakuumsySterns, deren Partialsie- dedrücke oberhalb des Vakuuumdruckes, wie er ohne Spülgas bestände, liegen, nicht in die Gasphase über- gehen. Die freie Weglänge von kontaminierenden Gasmolekülen wird außerdem verringert. Gleichzeitig braucht aber, verglichen mit dem entsprechendem Stand der Technik, das Spülgas nur in geringen Mengen ( , daß heißt zu einem solchen Maße, daß ein unteratmosphäri- scher Druck in dem so behandelten Strahlengang verbleibt, ) zugesetzt werden, so daß die Streuung am Spülgas reduziert ist.
Um das Verfahren optimal einsetzen zu können, sollten sich Spülgaseinlass und Vakuumanschluss vorteilhafterweise an den entgegengesetzten Enden beziehungsweise gegenüberliegenden Seiten des Strahlenganges befinden. Dann wird erfindungsgemäß durch einen Abpumpvorgang und eine gleichzeitige Spülgaszugabe ein Spülgasdruck erzeugt, der so gering sein soll, dass die Lichtstreuung an den Spülgasmolekülen den Strah- lengang nicht negativ beeinflusst. Der Gasdruck ist also so gering, daß die Absorption an der Gasatmosphäre im Strahlengang die oben genannten Grenzen nicht überschreitet. Durch die permanente Zufuhr von Spülgas in Verbindung mit dem gleichzeitigen Abpumpen entsteht vorteilhafterweise ein Spülgasfluss im Strahlengang, der die Konzentration der in der Gasphase befindenden Verbindungen oder Moleküle, die Ursache für Kontaminationen und Ablagerungen sind, deutlich verringert. Dieses Vorgehen erlaubt auch ein Evakuieren des so behandelten Strahlenganges auf Gesamtdrücke unterhalb der Siededrücke von Kontaminationen, da diese in der Gasphase durch den Spülgasfluß verstärkt abtransportiert werden. Dadurch wird die Konzentration dieser Verbindungen oder Moleküle trotz des geringen Druckes im Strahlengang kontinuierlich auf einem geringen Niveau gehalten, was eine Verringerung der Kontaminationen und Ablagerungen zur Folge hat.
Durch das dem vorgestellten Verfahren zugrunde liegende gleichzeitige Abpumpen des Strahlenganges und der Zufuhr von geringen Mengen von Spülgas ist es möglich, sowohl die Lichtstreuung als auch Kontamina- tionen und Ablagerungen bei Einsatz von Wellenlängen kleiner 200 nm zu minimieren. Dies konnte mit den anderen Lösungswegen nicht erreicht werden, da dort nur entweder die Lichtstreuung durch starkes Vakuum oder die Kontaminationen und Ablagerungen durch Gaszufuhr bei leichtem Überdruck unterdrückt werden.
Die Erfindung kann in jeder Art von Strahlengängen mit Wellenlängen kleiner 200 nm (insbesondere 157 nm und 193 nm) eingesetzt werden.
Weitere Einzelheiten, Merkmale und Vorteile der vor- liegenden Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden schematischen Darstellung und dem folgenden Ausführungsbeispiel. Es zeigt:
Fig. 1 Schematische Darstellung eines Ausführungs- beispiels eines optischen Strahlenganges zur Messung von Streulicht der in zwei Vakuumkammern liegt und mit Spülgas durchströmt wird.
Ausführungsbeispiel
Ein beispielhaftes System, in dem diese Erfindung eingesetzt wird, ist ein Messsystem zur Bestimmung des totalen Streulichts bei 157 nm und 193 nm. In
Fig. 1 wird der Aufbau der Vakuumanlage dieses Messsystems schematisch dargestellt. Die Vakuumanlage besteht aus einer ersten Vakuumkammer (1) und einer zweiten Vakuumkammer (2) . Diese Vakuumkammern sind durch ein gasdichtes, verschließbares Verbindungselement verbunden. Ein Lichtstrahl mit einer Wellenlänge von 157 nm wird zunächst in die erste Vakuumkammer (1) geleitet. Die erste Vakuumkammer (1) dient der Strahlaufbereitung. In dieser Strahlauf ereitungskam- mer wird der Lichtstrahl an die jeweiligen Anforderungen hinsichtlich Energiedichte und Durchmesser sowie Strahlform angepasst. Der Strahl gelangt dann in die zweite Vakuuumkammer (2). Die zweite Vakuuumkam- mer (2) dient der Messung von Streulicht. In dieser Messkammer erfolgt die Signaldetektion mittels einer in der Kammer angeordneten Coblentzkugel (nicht abgebildet) . Zunächst gilt es die Absorption von Licht bei diesen Wellenlängen zu vermeiden. Um außerdem ein möglichst geringes Untergrundsignal zu erhalten, ist es notwendig, die Streuuung an den Spülgasmolekülen zu unterdrücken und gleichzeitig die Kontamination durch Restgase gering zu halten. Dies wird erreicht, indem das Innere der beiden Vakuumkammern (1, 2) zumindest teilweise mit Hilfe eines Pumpsystems (3, 4) von absorbierenden oder streuenden Gasen evakuiert wird. Das Pumpsystem besteht aus einer Hochvakuumpumpe (3) und Vorvakuumpumpe (4). Die Hochvakuumpumpe (3) ist an die Meßkammer über eine gasdichte, verschließbare Verbindung mit dem Vakuumsystem verbunden und evakuiert zumindest ein Teil der Gase im Vakuu - System über eine gasdichte, verschließbare Ableitung in eine VorVakuumpumpe (3) . Die Vorvakuumpumpe (3) ist mit der Meßkammer über eine weitere gasdichte, verschließbare Ableitung mit dem Vakuumsystem verbunden. Die Vorvakuumpumpe (3) ist außerdem mit der Strahlaufbereitungskammer über eine weitere gasdichte, verschließbare Ableitung verbunden. In diesem Ausführungsbeispiel werden beide Vakuumkammern über die Hochvakuumpumpe evakuiert. Die direkten Zuleitungen der Vorvakuumpumpe zu den Vakuumkammern sind ver- schlössen, so daß die der Vorvakuumpumpe (3) lediglich von der Hochvakuumpumpe Gas abpumpt. Um Kontamination durch Restgase gering zu halten, ohne dabei die Lichtstreuung zu stark zu erhöhen, kann eine definiert kleiner Fluß von Stickstoff über die Zulei- tung (5) und/oder die Zuleitung (6) in die beiden Kammern (1, 2) bei gleichzeitigem Abpumpen mit dem Pumpsystem (3, 4) zugegeben werden. Im Ausführungsbeispiel in Fig. 1 ist nur die Zuleitung zur ersten der Strahlenaufbereitung dienenden Vakuumkammer (1) geöffnet. Somit kann ein konstant kleiner Spülgas- durchfluss 7 (in Abb. 1 hervorgehoben eingezeichnet) durch beide Vakuumkammern bis hin zur Hochvakuumpumpe erreicht werden, der sowohl die Anforderungen an die Unterdrückung der Streuung an Spülgasmolekülen als auch die an die Minimierung von Kontaminationen und
Ablagerungen erfüllt. Dieses Ziel läßt sich durch ein Vakuumdruck kleiner als 102 Pa, bei dem das Spülgas mehr als ein Fünftel zum Vakuumdruck beiträgt erreichen. Der Druck läßt sich durch die Druckkontrollen bzw. Druckmesser (8, 9) messen und die Zufuhr an Spülgas ist über die Ventile (10, 11) regelbar.

Claims

Patentansprüche
1. Verfahren zur Reduktion der gasbedingten Lichtabsorption beziehungsweise Lichtstreuung und/oder Kontamination bei Einsatz von Licht einer Einsatzwellenlänge unterhalb von 200 nm in optischen Strahlengängen, bei dem die im Strah- lengang befindlichen Gase zumindest teilweise evakuiert werden und gleichzeitig oder darauffolgend in den Strahlengang mindestens ein Spülgas derart eingeleitet wird, daß der Gasdruck zumindest in einem Teil des Strahlenganges un- terhalb des atmosphärischen Druckes bleibt, wobei das Spülgas bei der Einsatzwellenlänge und über die Weglänge des so behandelten, also des zumindest teilweise evakuierten und mit dem Spülgas auf einen unteratmosphärischen Druck ge- brachten, Teiles des Strahlenganges eine gasbedingte Gesa tabsorption von höchstens 50 % aufweist .
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der zumindest teilweise evakuierte Be- reich vom Spülgas in einem kontinuierlichen Fluß durchströmt wird.
3. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentration des Spülgases in Abhängigkeit von der Kon- zentration der in der Vakuumkammer verbliebenen
Restgase so eingestellt wird, daß Lichtstreuung am Spülgas und Kontamination gleichzeitig reduziert werden.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Spülgas in einem Bereich von 20 nm um die Einsatzwellenlänge über die Weglänge des zumindest teilweise evakuierten und mit Spülgas auf den unteratmosphärischen Druck gebrachten Teiles des Strahlenganges eine gasbedingte Gesamtabsorption von höchstens 50 % aufweist.
5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprü- ehe, dadurch gekennzeichnet, daß das Spülgas bei
Wellenlängen unterhalb von 200 nm über die Weglänge des zumindest teilweise evakuierten und mit Spülgas auf den unteratmosphärischen Druck gebrachten Teiles des Strahlenganges eine gasbe- dingte Gesamtabsorption von höchstens 50 % aufweist.
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Strahlengang auf einen Vakuumdruck kleiner als 102 Pa evakuiert wird, wobei die Spülgase zu mehr als einem Fünftel zu dem Vakuumdruck beitragen.
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß als Spülgas Stickstoff und/oder Helium verwendet werden.
8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Spülgas bei der Einsatzwellenlänge einen geringeren Lichtab- sorptionskoeffizienten als Sauerstoff und Was- serdampf bei einem dem Spülgasdruck äquivalenten Druck aufweist.
9. Vorrichtung mit einem mindestens in einer Vakuumkammer angeordneten optischen Strahlengang mit einer an der Vakuumkammer angeordneten Spülgas- Zuleitung und einer Gasableitung, dadurch gekennzeichnet, daß durch die Gasableitung die Vakuumkammer zumindest teilweise evakuierbar ist und gleichzeitig oder nachfolgend durch die Spülgaszuleitung der Vakuumkammer mindestens ein
Spülgas derart zuführbar ist, daß der Gasdruck zumindest in einem Teil des Strahlenganges unterhalb des atmosphärischen Druckes bleibt, wobei das Spülgas bei der Einsatzwellenlänge über die Weglänge des zumindest teilweise evakuierbaren und mit Spülgas auf einen unteratmosphärischen Druck bringbaren Teiles des Strahlenganges eine gasbedingte Gesamtabsorption von höchstens 50 % aufweist.
10. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Vakuumkammer evakuierbar und gleichzeitig mit Spülgas kontinuierlich durchströmbar ist.
11. Vorrichtung nach Anspruch 9 oder 10, dadurch ge- kennzeichnet, daß die Konzentration des Spülgases in Abhängigkeit des von der Konzentration der in der Vakuumkammer verbliebenen Restgase so einstellbar ist, daß Lichtstreuung am Spülgas und Kontamination gleichzeitig reduziert werden.
12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß das Spülgas in einem Bereich von 20 nm um die Einsätzwellenlänge über die Weglänge des zumindest teilweise evakuierbaren und mit Spülgas auf einen unteratmosphäri- sehen Druck bringbaren Teiles des Strahlenganges eine gasbedingte Gesamtabsorption von höchstens 50 % aufweist.
13. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß das Spülgas bei Wellenlängen unterhalb von 200 nm über die Weglänge des zumindest teilweise evakuierbaren und mit Spülgas auf einen unteratmosphärischen Druck bringbaren Teiles des Strahlenganges eine gasbedingte Gesamtabsorption von höchstens 50 % aufweist .
14. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden An- Sprüche 9 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Strahlengang auf einen Vakuumdruck kleiner als 102 Pa evakuierbar ist, wobei die Spülgase zu mehr als einem Fünftel zu dem Vakuumdruck beitragen.
15. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 14 mit einem in mindestens einer spülbaren Vakuumkammer liegenden, optischen Strahlengang, dadurch gekennzeichnet, daß das in der Vakuumkammer vorhandene Gasgemisch sich aus Spülgas mit einem geringeren Lichtabsorptionskoeffizienten als Sauerstoff bei einer Wellenlänge unter 200 nm und Restgasen in einem die Lichtstreuung am Spülgas und die Konzentration an kontaminierenden Gasen minimierenden Verhältnis zusammensetzt und einen Druck kleiner als 102 Pa aufweist.
16. Vorrichtung nach einem der Anspruch 9 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Vakuumkammer mindestens eine gasdichte, mit einem Ventil verschließbare Zuleitung und mindestens eine gas- dichte, mit einem Ventil verschließbare Ableitung aufweist.
17. Vorrichtung nach einem der Anspruch 9 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß eine das Spülgas enthaltene Gasflasche über mindestens eine der gasdichten Zuleitungen an die Vakuumkammer anschließbar ist.
18. Vorrichtung nach einem der Anspruch 9 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß ein System aus Vakuumpumpen über mindestens eine der gasdichten Ableitungen an die Vakuumkammer anschließbar ist.
19. Vorrichtung nach vorhergehenden Anspruch, dadurch gekennzeichnet, daß das System aus Vakuum- pumpen eine Hochvakuumpumpe und eine der Hochvakuumpumpe über eine gasdichte, mit einem Ventil verschließbare vorgeschalteten Vorvakuumpumpe aufweist.
20. Vorrichtung nach vorhergehenden Anspruch, da- durch gekennzeichnet, daß eine gasdichte, über
Ventil verschließbare Ableitung zwischen Hochvakuumpumpe und Vakuumkammer und eine gasdichte, über Ventil verschließbare Ableitung zwischen Vorvakuumpumpe und Vakuumkammer angeordnet ist.
21. Vorrichtung nach vorhergehenden Anspruch, dadurch gekennzeichnet, daß der Innenraum einer zweiten Vakuumkammer mit dem Innenraum der Vakuumkammer über eine gasdichte, verschließbare Verbindungseinheit, mit einer der Stickstoffzu- fuhr dienenden gasdichte, mit einem Ventil verschließbaren Zuleitung und einer mit einer gasdichten, mit einem Ventil verschließbaren Ableitung zur VorVakuumpumpe verbunden ist.
22. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 18 bis 21, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens eine der
Vakuumpumpen ölfrei ist und/oder einen Ölab- scheider zwischen Vakuumpumpe und Vakuumkammer aufweist .
23. Vorrichtung nach Anspruch 16 oder 17 und einem der Ansprüche 18 bis 22, dadurch gekennzeichnet, daß die Ableitungen zu den Vakuumpumpen und die Spülgaseinleitung zum Vakuumsystem an gegenüber- liegenden Seiten des optischen Strahlenganges angebracht sind.
24. Vorrichtung nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Vakuumkammer der Aufbereitung eines Lichtstrahls und die zweite Vaku- umkammer der Messung von optischen Eigenschaften dient .
25. Verwendung einer Vorrichtung oder eines Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 24 in einem optisch abbildenden System.
26. Verwendung einer Vorrichtung oder eines Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 24 zur Durchführung von lithographischen Verfahren.
27. Verwendung einer Vorrichtung oder eines Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 24 zur Durchführung von Streulicht essung, Reflexionsmessungen und Transmissionsmessungen.
28. Verwendung einer Vorrichtung oder eines Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 24 zur Durchführung von Ellipsometrie bei Wellenlängen kleiner 200 nm.
29. Verwendung einer Vorrichtung oder eines Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 24 zur Durchführung von Ellipsometrie bei Wellenlängen von 157nm und/oder 193nm.
30. Verwendung einer Vorrichtung oder eines Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 24 für ein VUV-Mikroskop bei Wellenlängen kleiner als 200 nm.
EP02779421A 2001-09-25 2002-09-25 Verfahren und vorrichtung zur unterdrückung von lichtabsorption, lichtstreuung und kontamination bei wellenlängen unterhalb von 200nm Withdrawn EP1423679A2 (de)

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DE102022102292A1 (de) 2022-02-01 2023-05-04 Asml Netherlands B.V. Verfahren zum betrieb einer vakuumkammer und vakuumkammer hierfür

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4114276C2 (de) * 1991-05-02 1996-09-19 Spectro Analytical Instr Gasgefülltes UV-Spektrometer
DE4237268A1 (en) * 1991-12-09 1993-06-17 Nanometrics Inc Improving optical measurement stability in UV appts. for determining material characteristics - flushing optically disturbing gas, e.g. ozone produced by oxidation, from optical path using inert gas

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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