EP2242087A3 - Ionenquelle zum Erzeugen eines Partikelstrahls, Elektrode für eine Ionenquelle sowie Verfahren zum Einleiten eines zu ionisierenden Gases in eine Ionenquelle - Google Patents

Ionenquelle zum Erzeugen eines Partikelstrahls, Elektrode für eine Ionenquelle sowie Verfahren zum Einleiten eines zu ionisierenden Gases in eine Ionenquelle Download PDF

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EP2242087A3 EP10155569A EP10155569A EP2242087A3 EP 2242087 A3 EP2242087 A3 EP 2242087A3 EP 10155569 A EP10155569 A EP 10155569A EP 10155569 A EP10155569 A EP 10155569A EP 2242087 A3 EP2242087 A3 EP 2242087A3
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Abstract

Eine Ionenquelle (2) zum Erzeugen eines Partikelstrahls umfasst eine Plasmakammer (4) und eine Elektrode (8) die sich zur Plasmakammer (4) erstreckt. Ein zu ionisierendes Gas wird über eine Gasleitung in die Ionenquelle (2) eingeleitet, wobei die Gasleitung (6) sich über die gesamte Länge der Elektrode (8) parallel zur Elektrode (8) erstreckt, so dass das Gas in unmittelbarer Nähe eines Eingangs (4) der Plasmakammer (4) aus der Gasleitung (6) hinausströmt.
EP10155569A 2009-04-16 2010-03-05 Ionenquelle zum Erzeugen eines Partikelstrahls, Elektrode für eine Ionenquelle sowie Verfahren zum Einleiten eines zu ionisierenden Gases in eine Ionenquelle Withdrawn EP2242087A3 (de)

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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5502717B2 (ja) * 2010-12-20 2014-05-28 株式会社東芝 重粒子線治療用重粒子イオン発生装置
US9117617B2 (en) * 2013-06-24 2015-08-25 Agilent Technologies, Inc. Axial magnetic ion source and related ionization methods
US11602039B2 (en) * 2018-12-20 2023-03-07 Mécanique Analytique Inc Electrode assemblies for plasma discharge devices
CN119342673B (zh) * 2024-10-21 2025-10-14 上海科技大学 一种兼容近常压光电子能谱的等离子体喷枪装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0200651A1 (de) * 1985-04-29 1986-11-05 Centre National De La Recherche Scientifique (Cnrs) Dreielektrodenionenquelle mit einer einzigen Hochfrequenzionisationskammer und mit multipolarer magnetischer Umschliessung
US4782235A (en) * 1983-08-12 1988-11-01 Centre National De La Recherche Scientifique Source of ions with at least two ionization chambers, in particular for forming chemically reactive ion beams
US20030137249A1 (en) * 2002-01-24 2003-07-24 Alps Electric Co., Ltd. Plasma processing apparatus capable of performing uniform plasma treatment by preventing drift in plasma discharge current
US20050116653A1 (en) * 2002-03-26 2005-06-02 Minakov Valeriy I. Plasma electron-emitting source

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE753327C (de) * 1937-03-25 1954-09-27 Licentia Gmbh Verfahren zur Justierung einer Entladungsroehre zur Erzeugung schneller Ionen (Kanalstrahlrohr)
DE1202849B (de) * 1958-07-17 1965-10-14 Varian Associates Steckverbindung
JPS5956342A (ja) * 1982-09-24 1984-03-31 Toshiba Corp ホロ−陰極放電装置
US4785220A (en) * 1985-01-30 1988-11-15 Brown Ian G Multi-cathode metal vapor arc ion source
JPH0277851U (de) * 1988-12-03 1990-06-14
JPH05128977A (ja) * 1991-11-07 1993-05-25 Japan Steel Works Ltd:The イオン生成方法及びイオン源
JPH06139978A (ja) * 1992-10-29 1994-05-20 Japan Steel Works Ltd:The パルス駆動型の電子サイクロトロン共振イオン源
GB9224745D0 (en) * 1992-11-26 1993-01-13 Atomic Energy Authority Uk Microwave plasma generator
JPH09270233A (ja) * 1996-03-29 1997-10-14 Nissin Electric Co Ltd 同軸型ｅｃｒプラズマ発生装置
JP2965293B1 (ja) * 1998-11-10 1999-10-18 川崎重工業株式会社 電子ビーム励起プラズマ発生装置
US6806651B1 (en) * 2003-04-22 2004-10-19 Zond, Inc. High-density plasma source
WO2005038849A1 (en) * 2003-10-15 2005-04-28 Saintech Pty Ltd Ion source with modified gas delivery
US7750575B2 (en) * 2004-04-07 2010-07-06 Zond, Inc. High density plasma source

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4782235A (en) * 1983-08-12 1988-11-01 Centre National De La Recherche Scientifique Source of ions with at least two ionization chambers, in particular for forming chemically reactive ion beams
EP0200651A1 (de) * 1985-04-29 1986-11-05 Centre National De La Recherche Scientifique (Cnrs) Dreielektrodenionenquelle mit einer einzigen Hochfrequenzionisationskammer und mit multipolarer magnetischer Umschliessung
US20030137249A1 (en) * 2002-01-24 2003-07-24 Alps Electric Co., Ltd. Plasma processing apparatus capable of performing uniform plasma treatment by preventing drift in plasma discharge current
US20050116653A1 (en) * 2002-03-26 2005-06-02 Minakov Valeriy I. Plasma electron-emitting source

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US20100264825A1 (en) 2010-10-21

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