EP2296909B1 - Sicherheitselement mit gerasterter schicht auf einem lichtdurchlässigen substrat - Google Patents

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EP2296909B1
EP2296909B1 EP09761396.2A EP09761396A EP2296909B1 EP 2296909 B1 EP2296909 B1 EP 2296909B1 EP 09761396 A EP09761396 A EP 09761396A EP 2296909 B1 EP2296909 B1 EP 2296909B1
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EP
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layer
security element
substantially opaque
element according
grid elements
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Manfred Heim
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Giesecke and Devrient GmbH
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Publication date
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Definitions

  • the invention relates to a security element comprising at least one light-transmissive substrate on which there is a substantially opaque, screened layer of raster elements.
  • Security elements made of at least one translucent substrate on which there is a substantially opaque, screened layer of raster elements are known from the prior art.
  • EP 1503907 A1 (please refer WO 03/095 228 A1 ) a thin-film element of a reflective, a dielectric and a partially permeable or absorbing layer known.
  • the absorbent layer is vapor-deposited or printed over its entire area and partially removed again by means of ablation methods such as etching, laser ablation or spark erosion.
  • ablation methods such as etching, laser ablation or spark erosion.
  • a partial application of the partially permeable layer by vapor deposition with pattern-shaped vapor deposition masks is possible.
  • the partially transparent layer thus consists of a substantially opaque, screened layer of raster elements.
  • a security feature for a document wherein the security feature consists of a first and a second pattern.
  • the first pattern is in this case arranged on a first surface of the document and consists of a first partial image and a first background pattern.
  • the second pattern consists of a second sub-image and a second background pattern and is disposed on a second surface of the document opposite the first surface.
  • the first pattern and the second pattern create a so-called see-through register: when the first pattern is aligned with the second pattern through the correspondingly sufficiently transparent document, the first field and the second field form a complete image. In turn, disappears the full image if the first pattern is not aligned with the second pattern.
  • EP 0 251 253 A2 there is known a security document comprising a carrier and a hologram mounted on the carrier.
  • a hologram mounted on the carrier.
  • the hologram there may be a display of liquid crystal.
  • the invention has the object of developing a generic security element such that the protection against counterfeiting is further increased.
  • At least one thin, continuous, substantially opaque line which has the shape of at least one alphanumeric character, a graphic or a pattern, is arranged within the essentially opaque, screened layer of raster elements.
  • Such lines have line widths of at least 0.1 mm to 5 mm, preferably from 0.2 mm to 0.7 mm, more preferably about 0.5 mm.
  • the thin, continuous, substantially opaque line can also be formed by a planar area without recess.
  • the security element thus shows, viewed at least from the side of the substantially opaque, screened layer, a different appearance in supervision than in transparency.
  • the security element according to the invention is preferably applied to a data carrier with a light-transmitting, preferably translucent, and particularly preferably transparent region.
  • the data carrier is in particular a value document, such as a banknote, a security, a credit or identity card, a passport, a document, a label, a packaging or another element for product assurance.
  • the light-transmissive region is, for example, a window in the form of a through-opening, which is covered by a light-transmitting, preferably translucent, particularly preferably transparent film.
  • the security element according to the invention is visible from both sides of the data carrier.
  • a light transmittance of at least 90% of the incident light translucent under a light transmittance of less than 90%, preferably between 80% and 20%.
  • a substantially opaque layer has a light transmittance of less than 20%, preferably less than 10% and particularly preferably about 0%.
  • the substantially opaque, screened layer consists of a plurality of raster elements.
  • the raster elements are either recesses in the substantially opaque layer and thus form a kind of negative image or are substantially opaque, pattern elements spaced apart from each other and thus form a kind of positive image.
  • viewing in incident light is illumination of the security element from one side and viewing of the security element from the same side.
  • a reflection in reflected light is thus for example, when the front of the security element is illuminated and also viewed.
  • a reflection in transmitted light in the sense of this invention is a lighting of a security element from one side and a viewing of the security element from another side, in particular the opposite side.
  • a reflection in transmitted light is thus present, for example, when the back of the security element illuminated and the front of the security element is considered. The light thus shines through the security element.
  • the raster elements are arranged stochastically and / or grid-like.
  • a grid according to this invention is a uniform or non-uniform distribution of grid elements, wherein the grid elements are spaced apart.
  • the individual grid elements in arbitrary forms executable. If particular shapes of raster elements are chosen, this may even be an additional security feature, e.g. Raster elements in the form of a text or a micrograph.
  • the proportion of the total area of the plurality of grid elements based on the total area of the security element is 10% to 40%, preferably about 20%.
  • the substantially opaque, screened layer is metal or a printed layer.
  • the surface of the substrate to which the raster elements are applied can be provided, at least in partial regions, with embossed diffractive structures or an embossing lacquer layer with embossed diffractive structures.
  • the metallic raster elements reflect the incident light in this case, so that the diffractive structures form a hologram, sub-wavelength grating or blazed grating or a matt structure.
  • At least one translucent, liquid-crystalline layer can be applied via the substantially opaque, screened layer.
  • At least one optically variable thin-film layer comprising at least one dielectric layer can be applied via the substantially opaque, screened layer.
  • the thin-film layer additionally has at least one partially transparent layer.
  • the thin-film layer additionally has at least one reflective layer.
  • the resulting thin-film layer thus consists of a reflective layer, a middle dielectric layer and a partially transparent layer, wherein in addition the reflective layer or partially transmissive layer lying opposite the raster elements can also have raster elements or recesses.
  • the individual layers of the security element can be printed on a substrate and / or applied by vapor deposition, for example by means of known printing methods or by vacuum deposition, such as sputtering, reactive sputtering, physical vapor deposition or chemical vapor deposition.
  • vapor deposition for example by means of known printing methods or by vacuum deposition, such as sputtering, reactive sputtering, physical vapor deposition or chemical vapor deposition.
  • absorber materials, dielectrics and reflector materials are printed in each case superimposed or overlapping layers on the substrate and / or vapor-deposited.
  • the metals which are suitable for the reflective and semitransparent layer are required in very thin layers with layer thicknesses of about 5 nm to 100 nm.
  • these layers are applied by means of vacuum deposition, wherein the metal in question by means of vacuum a heating device, such as a resistor or an electron beam, is heated and evaporated. The metal then deposits as a thin layer on a film moving across it.
  • the various variants of the vacuum vapor deposition method are also suitable.
  • the transparent dielectric can also be applied in the form of a transparent ink by means of a printing process.
  • extreme care in the coating process is necessary in order to ensure the required layer thickness uniformity, with a tolerance of, for example, ⁇ 2%.
  • the known methods such as washing method, etching, oil ablation, lift-off or laser demetallization are advantageously used.
  • Fig. 1 shows a security element according to the invention from at least one translucent substrate 2, on which there is a substantially opaque, screened layer 1 of raster elements 3 and a thin, continuous, substantially opaque line 4, in side view.
  • the raster elements 3 are circular and / or linear, the circular recesses having a diameter of from 10 microns to 100 microns, preferably from 30 microns to 50 microns, and the line-shaped recesses have a width of 30 microns to 70 microns.
  • Fig. 2 shows the structure according to the invention according to Fig. 1 viewed in transmitted light from the side of the reflective layer 3.
  • a thin, continuous line 4 in the form of a five-pointed star. This line has a width of 0.1 mm to 5 mm, so that the line in transmitted light striking enough. In incident light, it is virtually invisible to a viewer, regardless of its line width. In transmitted light, the viewer thus sees the star and in reflected light no star.
  • Fig. 3 shows the security element according to the invention Fig.1 which, together with two further layers 5 and 6 applied to the grid elements 3 and 4, forms an optically variable thin-film layer.
  • the layer 5 forms a dielectric layer.
  • the layer 6 and the raster elements 3 together with the line 4 form the reflective layer or the partially transparent layer.
  • the layer 6 is either full-surface or in addition, as in Fig. 3 shown, executed in area 7 of raster elements.
  • the security element according to the invention is particularly advantageously combined with known optically active microstructures, such as, for example, diffractive embossed holograms, zero order gratings, refractive microstructures, such as blazed gratings.
  • optically active microstructures such as, for example, diffractive embossed holograms, zero order gratings, refractive microstructures, such as blazed gratings.
  • Exemplary shows Fig. 4 such a combination with a stamping hologram.
  • an embossing lacquer 8 is applied with an embossed structure.
  • the substantially opaque, screened Layer 1 of raster elements 3 together with the thin, continuous, substantially opaque line. 4

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Description

  • Die Erfindung betrifft ein Sicherheitselement aus mindestens einem lichtdurchlässigen Substrat, auf dem sich eine im Wesentlichen opake, gerasterte Schicht aus Rasterelementen befindet.
  • Sicherheitselemente aus mindestens einem lichtdurchlässigen Substrat, auf dem sich eine im Wesentlichen opake, gerasterte Schicht aus Rasterelementen befindet sind aus dem Stand der Technik bekannt.
  • So ist aus EP 1503907 A1 (siehe WO 03/095 228 A1 ) ein Dünnschichtelement aus einer reflektierenden, einer dielektrischen und einer teildurchlässigen bzw. absorbierenden Schicht bekannt. Hierbei wird die absorbierende Schicht vollflächig aufgedampft oder aufgedruckt und mittels Ablationsverfahren wie Ätzen, Laser-Ablation oder Funkenerosion partiell wieder abgetragen. Des Weiteren ist ein partielles Auftragen der teildurchlässigen Schicht durch Bedampfen mit musterförmig gestalteten Bedampfungsmasken möglich. Die teildurchlässige Schicht besteht somit aus einer im Wesentlichen opaken, gerasterten Schicht aus Rasterelementen.
  • Aus EP 1415 828 A1 ist ein Sicherheitsmerkmal für ein Dokument bekannt, wobei das Sicherheitsmerkmal aus einem ersten und einem zweiten Muster besteht. Das erste Muster ist hierbei auf einer ersten Fläche des Dokumentes angeordnet und besteht aus einem ersten Teilbild und einem ersten Hintergrundmuster. Das zweite Muster besteht aus einem zweiten Teilbild und einem zweiten Hintergrundmuster und ist auf einer zweiten Fläche des Dokumentes angeordnet, die der ersten Fläche gegenüberliegt. Das erste Muster und das zweite Muster erzeugen ein sogenanntes Durchsichtsregister: wird das erste Muster durch das entsprechend ausreichend transparente Dokument hindurch auf das zweite Muster ausgerichtet, erzeugen das erste Teilbild und das zweite Teilbild ein vollständiges Bild. Im Gegenzug verschwindet das vollständige Bild, wenn das erste Muster nicht auf das zweite Muster ausgerichtet ist.
  • Aus EP 0 251 253 A2 ist ein Sicherheitsdokument mit einem Träger und einem auf dem Träger angebrachten Hologramm bekannt. Zusätzlich kann sich unterhalb des Hologramms eine Anzeige aus Flüssigkristall befinden.
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein gattungsgemäßes Sicherheitselement derart weiterzubilden, dass der Schutz gegenüber Fälschungen weiter erhöht wird.
  • Diese Aufgabe wird durch die Merkmale der unabhängigen Ansprüche gelöst. Weiterbildungen der Erfindung sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche.
  • Erfindungsgemäß ist innerhalb der im Wesentlichen opaken, gerasterten Schicht aus Rasterelementen mindestens eine dünne, durchgehende, im Wesentlichen opake Linie angeordnet, die die Form mindestens eines alphanumerischen Zeichens, einer Grafik oder eines Musters aufweist. Solche Linien haben Linienbreiten von mindestens 0,1 mm bis 5 mm, vorzugsweise von 0,2 mm bis 0,7 mm, besonders bevorzugt etwa 0,5 mm. Die dünne, durchgehende, im Wesentlichen opake Linie kann auch durch einen flächenhaften Bereich ohne Aussparung gebildet werden.
  • Das Sicherheitselement zeigt damit, mindestens von der Seite der im Wesentlichen opaken, gerasterten Schicht aus betrachtet, in Aufsicht ein anderes Erscheinungsbild als in Durchsicht.
  • Das erfindungsgemäße Sicherheitselement ist bevorzugt auf einem Datenträger mit einem lichtdurchlässigen, bevorzugt transluzenten und besonders bevorzugt transparenten Bereich aufgebracht. Der Datenträger ist hierbei insbesondere ein Wertdokument, wie beispielsweise eine Banknote, ein Wertpapier, eine Kredit- oder Ausweiskarte, ein Pass, eine Urkunde, ein Label, eine Verpackung oder ein anderes Element für die Produktsicherung. Der lichtdurchlässige Bereich ist beispielsweise ein Fenster in Form einer durchgehenden Öffnung, das durch eine lichtdurchlässige, bevorzugt transluzente, besonders bevorzugt transparente Folie abgedeckt ist. Somit ist das erfindungsgemäße Sicherheitselement von beiden Seiten des Datenträgers aus sichtbar.
  • Unter transparent ist hierbei eine Lichtdurchlässigkeit von mindestens 90 % des auftreffenden Lichtes zu verstehen, unter transluzent eine Lichtdurchlässigkeit von unter 90 %, vorzugsweise zwischen 80 % und 20 %. Eine im Wesentlichen opake Schicht hat im Sinne dieser Erfindung eine Lichtdurchlässigkeit von weniger als 20 %, bevorzugt unter 10 % und besonders bevorzugt etwa 0 %.
  • Bevorzugt besteht die die im Wesentlichen opake, gerasterte Schicht aus einer Vielzahl von Rasterelementen. Hierbei sind die Rasterelemente entweder Aussparungen in der im Wesentlichen opaken Schicht und bilden damit eine Art Negativbild oder sind im Wesentlichen opake, voneinander beabstandete Mustergrundelemente und bilden damit eine Art Positivbild.
  • Eine Betrachtung in Auflicht ist im Sinne dieser Erfindung eine Beleuchtung des Sicherheitselements von einer Seite und eine Betrachtung des Sicherheitselements von derselben Seite. Eine Betrachtung in Auflicht liegt somit beispielsweise dann vor, wenn die Vorderseite des Sicherheitselements beleuchtet und auch betrachtet wird.
  • Eine Betrachtung in Durchlicht ist im Sinne dieser Erfindung eine Beleuchtung eines Sicherheitselements von einer Seite und eine Betrachtung des Sicherheitselements von einer anderen Seite, insbesondere der gegenüberliegenden Seite. Eine Betrachtung in Durchlicht liegt somit beispielsweise dann vor, wenn die Rückseite des Sicherheitselements beleuchtet und die Vorderseite des Sicherheitselements betrachtet wird. Das Licht scheint somit durch das Sicherheitselement hindurch.
  • In einer besonders bevorzugten Ausführungsform sind die Rasterelemente stochastisch und/oder rasterartig angeordnet. Ein Raster im Sinne dieser Erfindung ist eine gleichmäßige oder ungleichmäßige Verteilung von Rasterelementen, wobei die Rasterelemente voneinander beabstandet sind.
  • Durch kontinuierliche und ortsabhängige Variation der Dichte oder der Größe der Rasterelemente können dabei im Durchlicht komplexere Strukturen bis hin zu Halbtonbildern erzeugt werden.
  • Hierbei sind die einzelnen Rasterelemente in beliebigen Formen ausführbar. Wenn besondere Formen der Rasterelemente gewählt werden, so kann dies sogar ein zusätzliches Sicherheitsmerkmal darstellen, z.B. Rasterelemente in Form eines Texts oder einer Mikrografik.
  • Der Anteil der Gesamtfläche der Vielzahl von Rasterelementen bezogen auf die gesamte Fläche des Sicherheitselements beträgt 10% bis 40%, bevorzugt etwa 20%.
  • Bevorzugt besteht die im Wesentlichen opake, gerasterte Schicht aus Metall oder aus einer gedruckten Schicht.
  • Besteht die im Wesentlichen opake, gerasterte Schicht aus Metall, kann die Oberfläche des Substrats, auf die die Rasterelemente aufgebracht sind, zumindest in Teilbereichen mit geprägten diffraktiven Strukturen oder einer Prägelackschicht mit eingeprägten diffraktiven Strukturen versehen sein. Die metallischen Rasterelemente reflektieren in diesem Fall das auftreffende Licht, so dass die diffraktiven Strukturen ein Hologramm, Subwellenlängengitter oder geblaztes Gitter oder eine Mattstruktur bilden.
  • Ebenso kann über die im Wesentlichen opake, gerasterte Schicht mindestens eine transluzente, flüssigkristalline Schicht aufgebracht sein.
  • Des Weiteren kann über die im Wesentlichen opake, gerasterte Schicht mindestens eine optisch variable Dünnfilmschicht bestehend aus mindestens einer dielektrischen Schicht aufgebracht sein. Ist die im Wesentlichen opake, gerasterte Schicht aus Rasterelementen als reflektierende Schicht ausgebildet, weist die Dünnfilmschicht zusätzlich mindestens eine teildurchlässige Schicht auf. Ist die im Wesentlichen opake, gerasterte Schicht aus Rasterelementen hingegen als teildurchlässige Schicht ausgebildet, weist die Dünnfilmschicht zusätzlich mindestens eine reflektierende Schicht auf. In beiden Fällen besteht die resultierende Dünnfilmschicht somit aus einer reflektierenden Schicht, einer mittleren dielektrischen Schicht und einer teildurchlässigen Schicht, wobei zusätzlich auch die den Rasterelementen gegenüberliegende reflektierende Schicht bzw. teildurchlässige Schicht Rasterelemente oder Aussparungen aufweisen kann.
  • Als Materialien für die jeweiligen Schichten der interferenzfähigen Dünnfilmschicht werden insbesondere verwendet:
    • für die reflektierende Schicht reflektierende Substanzen, insbesondere Metalle wie Aluminium, Silber oder Kupfer,
    • für die dielektrische Schicht SiO2 (Silizium-Dioxid), ZrO2 (ZirkonDioxid), MgF2 (Magnesium-Difluorid) oder TiO2 (Titan-Dioxid) oder andere transparente Stoffe, wie sehr dünne und extrem gleichmäßig aufgedruckte transparente Lacke,
    • für die teildurchlässige Schicht Chrom und/oder Nickel, Eisen, Silber, Gold, oder Legierungen daraus wie Inconel™ (Ni-Cr-Fe).
  • Weitere Materialien für die jeweiligen Schichten des interferenzfähigen Aufbaus sowie insbesondere deren jeweilige Schichtdicken sind in den Druckschriften WO 01/03945 A1 , US 6,586,098 B1 und US 6,699,313 B2 aufgeführt.
  • Die einzelnen Schichten des Sicherheitselementes können auf ein Substrat aufgedruckt und/oder aufgedampft werden, beispielsweise mittels bekannter Druckverfahren oder mittels Vakuumbedampfung, wie Sputtern, reaktives Sputtern, Physical Vapor Deposition oder Chemical Vapor Deposition. Hierbei werden Absorbermaterialien, Dielektrika und Reflektormaterialien in jeweils übereinanderliegenden oder überlappenden Schichten auf das Substrat aufgedruckt und/oder aufgedampft.
  • Die für die reflektierende und teildurchlässige Schicht in Frage kommenden Metalle werden in sehr dünnen Schichten mit Schichtdicken von etwa 5 nm bis 100 nm benötigt. Bevorzugt werden diese Schichten mittels Vakuumbedampfung aufgebracht, wobei das betreffende Metall im Vakuum mittels einer Heizeinrichtung, beispielsweise einem Widerstand oder einem Elektronenstrahl, aufgeheizt und verdampft wird. Das Metall scheidet sich dann als dünne Schicht auf einer darüber hinweg bewegten Folie ab. Für das Auftragen der dielektrischen Schicht, mit Schichtdicken zwischen 100 nm und 1 µm bieten sich ebenfalls die verschiedenen Varianten der Vakuumaufdampfverfahren an. Um gleichmäßige Farben zu erzeugen, ist es hierbei notwendig die Schichtdicke extrem gleichmäßig zu halten, was insbesondere Sputtern oder auch gut geregelte thermische oder Elektronenstrahlaufdampfverfahren leisten. Alternativ kann das transparente Dielektrikum auch in Form einer transparenten Farbe mittels eines Druckverfahrens aufgebrachte werden. Hierbei ist allerdings äußerste Sorgfalt im Beschichtungsprozess notwendig, um die erforderliche Schichtdickengleichmäßigkeit, mit einer Toleranz von beispielsweise ± 2 %, zu gewährleisten.
  • Für die Strukturierung bzw. Demetallisierung der Schichten werden vorteilhaft die bekannten Verfahren wie Waschverfahren, Ätzen, Öl-Ablation, Lift-Off oder Laserdemetallisierung verwendet.
  • Die Darstellungen in den nachfolgenden Figuren sind des besseren Verständnisses wegen stark schematisiert und spiegeln nicht die realen Gegebenheiten wider. Insbesondere entsprechen die in den Figuren gezeigten Proportionen nicht den in der Realität vorliegenden Verhältnissen und dienen ausschließlich zur Verbesserung der Anschaulichkeit. Des Weiteren sind die in den folgenden Beispielen beschriebenen Ausführungsformen der besseren Verständlichkeit wegen auf die wesentlichen Kerninformationen reduziert. Bei der praktischen Umsetzung können wesentlich komplexere Muster oder Bilder zur Anwendung kommen.
  • Im Einzelnen zeigen die Figuren schematisch:
    • Fig. 1
    ein erfindungsgemäßes Sicherheitselement aus mindestens einem lichtdurchlässigen Substrat, auf dem sich eine im Wesentlichen opake, gerasterte Schicht aus Rasterelementen und eine dünne, durchgehende, im Wesentlichen opake Linie befindet, in Seitenansicht,
    Fig. 2
    das erfindungsgemäße Sicherheitselement aus Fig. 1 in Draufsicht, wobei die dünne, durchgehende, im Wesentlichen opake Linie einen fünfzackigen Stern bildet,
    Fig. 3
    das erfindungsgemäße Sicherheitselement aus Fig. 1, das zusammen mit zwei weiteren Schichten, die auf die im Wesentlichen opake, gerasterte Schicht aus Rasterelementen aufgebracht sind, eine optisch variable Dünnfilmschicht bildet, in Seitenansicht,
    Fig. 4
    ein erfindungsgemäßes Sicherheitselement, bei dem auf einem Substrat einem Prägelack mit Prägestruktur aufgebracht ist, auf dem sich die im Wesentlichen opake, gerasterte Schicht aus Rasterelementen und eine dünne, durchgehende, im Wesentlichen opake Linie befindet, in Seitenansicht.
  • Fig. 1 zeigt ein erfindungsgemäßes Sicherheitselement aus mindestens einem lichtdurchlässigen Substrat 2, auf dem sich eine im Wesentlichen opake, gerasterte Schicht 1 aus Rasterelementen 3 und eine dünne, durchgehende, im Wesentlichen opake Linie 4 befindet, in Seitenansicht.
  • Die Rasterelemente 3 sind kreisförmig und/oder linienförmig ausgeführt, wobei die kreisförmigen Aussparungen einen Durchmesser von 10 Mikrometer bis 100 Mikrometer, bevorzugt von 30 Mikrometer bis 50 Mikrometer, und die linienförmigen Aussparungen eine Breite von 30 Mikrometer bis 70 Mikrometer aufweisen.
  • Fig. 2 zeigt den erfindungsgemäßen Aufbau gemäß Fig. 1 in Durchlicht von der Seite der reflektierenden Schicht 3 aus betrachtet. Innerhalb der Rasterelemente 3 befindet sich eine dünne, durchgehende Linie 4 in Form eines fünfzackigen Sterns. Diese Linie weist eine Breite von 0,1 mm bis 5 mm auf, so dass die Linie im Durchlicht genügend auffällt. Im Auflicht ist sie nahezu unabhängig von ihrer Linienstärke für einen Betrachter nicht zu erkennen. In Durchlicht sieht der Betrachter damit den Stern und in Auflicht keinen Stern.
  • Fig. 3 zeigt das erfindungsgemäße Sicherheitselement aus Fig.1, das zusammen mit zwei weiteren Schichten 5 und 6, die auf die Rasterelemente 3 und die Linie 4 aufgebracht sind, eine optisch variable Dünnfilmschicht bildet. Die Schicht 5 bildet hierbei eine dielektrische Schicht. Die Schicht 6 und die Rasterelemente 3 zusammen mit der Linie 4 bilden die reflektierende Schicht bzw. die teildurchlässige Schicht.
  • Die Schicht 6 ist entweder vollflächig oder zusätzlich, wie in Fig. 3 dargestellt, im Bereich 7 aus Rasterelementen ausgeführt.
  • Besonders vorteilhaft ist das erfindungsgemäße Sicherheitselement mit bekannten optisch aktiven Mikrostrukturen kombiniert, wie beispielsweise diffraktiven Prägehologramme, Zero Order Gratings, Refraktive Mikrostrukturen, wie Blazed Gratings.
  • Beispielhaft zeigt Fig. 4 eine derartige Kombination mit einem Prägehologramm. Auf dem Substrat 2 ist ein Prägelack 8 mit einer Prägestruktur aufgebracht. Auf dem Prägelack 8 befindet sich die im Wesentlichen opake, gerasterte Schicht 1 aus Rasterelementen 3 zusammen mit der dünnen, durchgehenden, im Wesentlichen opaken Linie 4.

Claims (14)

  1. Sicherheitselement aus mindestens einem lichtdurchlässigen Substrat (2), auf dem sich eine im Wesentlichen opake, gerasterte Schicht (1) aus Rasterelementen (3) befindet und das Sicherheitselement, mindestens von der Seite der im Wesentlichen opaken, gerasterten Schicht (1) aus betrachtet, in Aufsicht ein anderes Erscheinungsbild zeigt als in Durchsicht, dadurch gekennzeichnet, dass innerhalb der im Wesentlichen opaken, gerasterten Schicht (1) mindestens eine dünne, durchgehende, im Wesentlichen opake Linie (4) in Form mindestens eines alphanumerischen Zeichens, einer Grafik oder eines Musters angeordnet ist.
  2. Sicherheitselement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die dünne, durchgehende, im Wesentlichen opake Linie (4) eine Breite von mindestens 0,1 mm bis 5 mm, vorzugsweise von 0,2 mm bis 0,7 mm, besonders bevorzugt etwa 0,5 mm aufweist.
  3. Sicherheitselement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die dünne, durchgehende, im Wesentlichen opake Linie (4) durch einen flächenhaften Bereich ohne Aussparung gebildet wird.
  4. Sicherheitselement nach mindestens einem der vorigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die im Wesentlichen opake, gerasterte Schicht (1) aus einer Vielzahl von Rasterelementen (3) besteht, und die Rasterelemente
    - Aussparungen in der im Wesentlichen opaken Schicht (1) sind oder
    - im Wesentlichen opake, voneinander beabstandete Mustergrundelemente sind.
  5. Sicherheitselement nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Rasterelemente (3) beliebige Form haben können und stochastisch und/ oder rasterartig angeordnet sind und/oder in ihrem Durchmesser oder ihrem Abstand zueinander lokal variieren.
  6. Sicherheitselement nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Rasterelemente (3) kreisförmig und/ oder linienförmig ausgeführt sind und kreisförmige Rasterelemente (3) einen Durchmesser von 10 Mikrometer bis 100 Mikrometer, bevorzugt von 30 Mikrometer bis 50 Mikrometer, und linienförmige Rasterelemente (3) eine Breite von 30 Mikrometer bis 70 Mikrometer aufweisen.
  7. Sicherheitselement nach mindestens einem der vorigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Anteil der Gesamtfläche der Rasterelemente (3) bezogen auf die gesamte Fläche des Sicherheitselements 10% bis 40%, bevorzugt etwa 20% beträgt.
  8. Sicherheitselement nach mindestens einem der vorigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die im Wesentlichen opake, gerasterte Schicht (1) aus Metall besteht.
  9. Sicherheitselement nach mindestens einem der vorigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass über die im Wesentlichen opake, gerasterte Schicht (1) mindestens eine optisch variable Dünnfilmschicht bestehend aus mindestens einer dielektrischen Schicht (5) und mindestens einer teildurchlässigen oder reflektierenden Schicht (6) aufgebracht ist.
  10. Sicherheitselement nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass über die im Wesentlichen opake, gerasterte Schicht (1) mindestens eine lichtdurchlässige, flüssigkristalline Schicht aufgebracht ist.
  11. Sicherheitselement nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Oberfläche des Substrats, auf die die im Wesentlichen opake, gerasterte Schicht (1) aus Rasterelementen (3) aufgebracht ist; zumindest in Teilbereichen geprägte difffraktive Strukturen oder eine Prägelackschicht (8) mit eingeprägten diffraktiven Strukturen aufweist.
  12. Verfahren zur Herstellung eines Sicherheitselements nach mindestens einem der vorigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Rasterelemente (3) auf das lichtdurchlässige Substrat (2) aufgedruckt oder aufgedampft werden oder durch Demetallisierung aus einer zumindest in Teilbereichen vollflächig auf das Substrat (2) aufgedampften Schicht erzeugt werden.
  13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass das Aufdampfen der Rasterelemente (3) mittels Vakuumbedampfung, wie Sputtern, reaktives Sputtern, Physical Vapor Deposition oder Chemical Vapor Deposition erfolgt.
  14. Verfahren nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Demetallisierung mittels Waschverfahren, Ätzen, Öl-Ablation, Lift-Off oder Laserdemetallisierung erfolgt.
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