ES2103262T3 - Procedimiento de fotoestructuracion. - Google Patents

Procedimiento de fotoestructuracion.

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ES2103262T3 ES90106853T ES90106853T ES2103262T3 ES 2103262 T3 ES2103262 T3 ES 2103262T3 ES 90106853 T ES90106853 T ES 90106853T ES 90106853 T ES90106853 T ES 90106853T ES 2103262 T3 ES2103262 T3 ES 2103262T3
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Michael Dr Rer Nat Sebald
Rainer Dr Rer Nat Leuschner
Recai Dr-Ing Sezi
Siegfried Dr Rer Nat Birkle
Hellmut Dr Ahne
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Siemens AG
Siemens Corp
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Siemens Corp
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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Abstract

SE PROPONE UN PROCEDIMIENTO SIMPLE PARA LA VARIACION DEL ANCHO DE ESTRUCTURAS FOTORESISTENTES MEDIANTE UN TRATAMIENTO DE TALES ESTRUCTURAS DEL TIPO NORMAL CON UN AGENTE QUE CONTIENE UNA COMPONENTE DE ENSANCHAMIENTO Y QUE SE COMBINA CON GRUPOS FUNCIONALES DE LA ESTRUCTURA FOTORESISTENTE. COMO CONSECUENCIA DE ESTA COMBINACION, CRECE EL VOLUMEN DE LA ESTRUCTURA. EL TRATAMIENTO DE ENSANCHAMIENTO SE REALIZA PREFERENTEMENTE CON UNA SOLUCION Y A TEMPERATURAS AMBIENTES, MANEJANDOSE LA AMPLITUD DEL CRECIMIENTO DE VOLUMEN MEDIANTE LA VARIACION DE VARIOS PARAMETROS DIFERENTES.
ES90106853T 1989-04-24 1990-04-10 Procedimiento de fotoestructuracion. Expired - Lifetime ES2103262T3 (es)

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DE3913433 1989-04-24
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