ES2203185T3 - Dispositivo para recubrir sustratos en forma de placa. - Google Patents
Dispositivo para recubrir sustratos en forma de placa.Info
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Abstract
Dispositivo para recubrir sustratos en forma de placa mediante pulverización catódica, que tiene varias cámaras de procesamiento consecutivas, que están limitadas hacia arriba respectivamente por una cubierta de cámara, la cual tiene en cada caso una abertura, que está cubierta por una tapa que lleva al menos un cátodo, y en el que la cámara de procesamiento muestra diafragmas y tuberías de suministro, en especial tuberías de refrigerante, caracterizado porque los diafragmas (17, 27, 28, 29) y tuberías de suministro, en especial tuberías de refrigerante (16), están previstos en un bastidor (10) que penetra en la cámara de procesamiento (1), que puede extraerse hacia arriba desde la abertura (4) y que se apoya con piezas de apoyo (11) y superficies de apoyo (9) de la cubierta de cámara (3), y porque la tapa (5) sobresale de las piezas de apoyo (11) y se asienta desde arriba, de forma directamente hermética, sobre la cubierta de cámara (3).
Description
Dispositivo para recubrir sustratos en forma de
placa.
La invención se refiere a un dispositivo para
recubrir sustratos en forma de placa mediante pulverización
catódica, que tiene varias cámaras de procesamiento consecutivas,
que están limitadas hacia arriba respectivamente por una cubierta de
cámara, la cual tiene en cada caso una abertura, que está cubierta
por una tapa que lleva al menos un cátodo, y en el que la cámara de
procesamiento muestra diafragmas y tuberías de suministro, en
especial tuberías de
\hbox{refrigerante.}
Dispositivos de la clase anterior se utilizan con
frecuencia en la técnica para recubrir sustratos en forma de placa y
son generalmente conocidos. En ellos los cátodos y demás estructuras
internas de cámara, en especial los diafragmas y tuberías de
refrigerante, están instalados fijamente en la cámara de
procesamiento. Esto tiene el inconveniente de que el desmontaje de
partes de la instalación es complicado y conduce a periodos de
parada indeseadamente largos, cuando es necesario desmontar y volver
a montar piezas con fines de limpieza.
La invención se basa en el problema de configurar
un dispositivo de la clase citada al comienzo para recubrir
sustratos en forma de placa, de tal forma que sus cátodos y
estructuras internas puedan desmontarse y volver a montarse lo más
rápidamente posible.
Este problema es resuelto conforme a la invención
por medio de que los diafragmas y tuberías de suministro, en
especial tuberías de refrigerante, están previstos en un bastidor
que penetra en la cámara de procesamiento, que puede extraerse hacia
arriba desde la abertura y que se apoya con piezas de apoyo y
superficies de apoyo de la cubierta de cámara, y de que la tapa
sobresale de las piezas de apoyo y se asienta desde arriba, de forma
directamente hermética, sobre la cubierta de cámara.
Mediante esta configuración se hace posible, con
la tapa y el bastidor, extraer de la cámara de procesamiento todas
las piezas de la estación de recubrimiento hacia arriba y cambiarlas
rápidamente por un segundo bastidor y una segunda disposición de
cátodos, o limpiar rápidamente las piezas desmontadas y, mediante la
introducción del bastidor y de la tapa con los cátodos, volver a
montarlas. Mediante la invención se obtienen por ello periodos de
parada del dispositivo de recubrimiento especialmente cortos. Como
la tapa sobresale de las piezas de apoyo y se asienta directamente
sobre la cubierta de cámara, sólo es necesario obturar ésta con
relación a la cubierta de cámara.
La tapa que lleva los cátodos puede estar
configurada totalmente plana si, conforme a un perfeccionamiento de
la invención, las superficies de apoyo están previstas dentro de la
abertura mediante escalonamientos en el interior de dos regiones
marginales, que delimitan la abertura en cada caso
longitudinalmente. En una configuración de este tipo, el bastidor no
se eleva hacia arriba desde la abertura.
Otro perfeccionamiento ventajoso de la invención
consiste en que el bastidor posee, por un lado longitudinal, un
saliente que encaja por encima de la cámara de procesamiento, con
conexiones de suministro al menos para refrigerante. Mediante esta
configuración puede prescindirse de las conexiones de refrigerante
situadas dentro de la cámara de procesamiento, a separar durante el
desmontaje de piezas de montaje, por medio de lo cual se elimina el
riesgo de una salida de refrigerante dentro de la cámara de
procesamiento, como consecuencia de conexiones no estancas.
Al insertar el bastidor en la cámara de
procesamiento, las conexiones de suministro pueden acoplarse
automáticamente con conexiones de alimentación correspondientes, si
las conexiones de suministro están dirigidas hacia abajo y están
dispuestas, exteriormente en la cámara de procesamiento, conexiones
de alimentación de refrigerante que están alineadas con las
conexiones de suministro del saliente. Las conexiones de
alimentación de refrigerante pueden mostrar válvulas de parada, que
se cierran automáticamente en cuanto el bastidor se eleva y por
tanto es necesario interrumpir el suministro. También las necesarias
conexiones eléctricas y la conexión de gas de procesamiento pueden
conducirse a través de este
saliente.
saliente.
Un sobrecalentamiento de los diafragmas puede
evitarse de forma especialmente sencilla y sin aumentar la
complejidad durante el desmontaje y montaje de los diafragmas,
cuando los diafragmas muestran tubos de agua de refrigeración que
pueden conectarse al refrigerante.
Con ello es especialmente ventajoso que los
diafragmas estén configurados en forma de cajón y muestren regiones
que discurren entre dos rodillos de transporte, cerca de las
superficies laterales de estos rodillos de transporte. Estos
diafragmas refrigerados pueden absorber y evacuar el calor de
radiación de los rodillos de transporte, dispuestos en su
directa
vecindad.
vecindad.
La conexión entre los diafragmas y el
refrigerante dentro del bastidor puede realizarse sin el riesgo de
una entrada de refrigerante en la cámara de procesamiento, en el
caso de fugas en las tuberías de refrigerante, de una forma
especialmente sencilla si, conforme a otro perfeccionamiento de la
invención, el bastidor muestra por el lado del saliente una cámara
de suministro, que está conectada a la atmósfera y cerrada respecto
a la cámara de procesamiento, en la que están dispuestos tubos
flexibles que sirven para conectar el refrigerante a los
diafragmas.
Una corriente secundaria del gas de procesamiento
que pase exteriormente a lo largo del bastidor, en lugar de en la
región de recubrimiento, puede impedirse por medio de que el
bastidor esté obturado mediante juntas aplastadas cerca de los
diafragmas, por su lado inferior, con respecto a un suelo intermedio
de la cámara de procesamiento.
La alimentación del gas de procesamiento puede
realizarse igualmente sin conexiones dentro de la cámara de
procesamiento si, conforme a otro perfeccionamiento de la invención,
la tapa posee tubos de gas para la alimentación del gas de
procesamiento y conexiones de gas, que encajan sobre la cámara de
procesamiento, y si la cámara de procesamiento muestra exteriormente
conexiones de alimentación de gas alineadas con las conexiones de
gas.
Es también favorable que el bastidor esté
acoplado mecánicamente a la tapa de la disposición de cátodos. En
una forma de ejecución de este tipo, con la separación de la
disposición de cátodos se extrae al mismo tiempo el bastidor de la
cámara de procesamiento.
La invención permite diferentes formas de
ejecución. Una de ellas se ha representado en el dibujo y se
describe a continuación. Ésta muestra en
la fig. 1 un corte transversal a través de una
instalación de recubrimiento según la invención,
la fig. 2 una vista frontal de una unidad de
cátodos,
la fig. 3 una vista frontal de un bastidor de la
instalación de recubrimiento,
la fig. 4 una vista lateral de la unidad de
cátodos,
la fig. 5 un corte longitudinal a través de una
región parcial de la instalación de recubrimiento, según se mira en
la dirección de movimiento de los sustratos a recubrir.
La figura 1 muestra un corte transversal a través
de una cámara de procesamiento 1 de una instalación de
recubrimiento. Esta cámara de procesamiento 1 tiene una carcasa de
cámara 2, que está cubierta hacia arriba por medio de una cubierta
de cámara 3. Esta cubierta de cámara 3 muestra una abertura 4, que
está cerrada hacia arriba por medio de una tapa 5 de una disposición
de cátodos 6. Una junta 7 obtura esta tapa 5 con relación a la
cubierta de cámara 3. La cubierta de cámara 3 muestra hacia la
abertura 4 escalonamientos 8, a través de los cuales se producen
superficies de apoyo 9.
En el interior de la cámara de procesamiento 1
está dispuesto un bastidor 10, que se apoya con piezas de apoyo 11
sobre las superficies de apoyo 9 de la abertura 4, de tal modo que
el bastidor 10 no sobresale hacia arriba de la cubierta de cámara 3.
Por medio de esto se consigue que la tapa 5 se apoye directamente
sobre la cubierta de cámara 3.
Como puede reconocerse igualmente en la figura 1,
el bastidor 10 encaja por un lado longitudinal de la cámara de
procesamiento 1 con un saliente 12 sobre su carcasa de cámara 2.
Este saliente 12 muestra conexiones de suministro 13 dirigidas hacia
abajo, que están alineadas con conexiones de alimentación de
refrigerante 14, previstas en el lado exterior de la carcasa de
cámara 2 y, en estado montado del bastidor 10, están unidas entre
sí. Por el lado del saliente 12, el bastidor 10 tiene una cámara de
suministro 15 obturada con relación a la cámara de procesamiento 1,
en la que discurren tuberías de refrigerante 16 que conectan
diafragmas 17 al refrigerante a través de conexiones de suministro
13.
Por debajo de la tapa 5 se han fijado a la misma
tubos de gas 18, que sirven para alimentar el gas de procesamiento.
La alimentación de este gas de proceso se realiza de forma similar a
la del refrigerante a través de una conexión de gas 19, que
sobresale lateralmente de la cámara de procesamiento 1 y allí se
conecta a una conexión de alimentación de gas 20.
La figura 2 muestra la disposición de cátodos 6
como pieza aislada. Ésta muestra por debajo de la tapa 5 un
anticátodo 21.
En la figura 3 se ha representado el bastidor 10
como pieza aislada. Puede reconocerse de nuevo el saliente 12, a
través del cual se produce la alimentación del refrigerante.
De la figura 4 puede deducirse que, en el ejemplo
de ejecución mostrado, la disposición de cátodos 6 lleva en total
dos cátodos 22, 23.
En la figura 5 puede verse que la cámara de
procesamiento 1 muestra por debajo de un suelo intermedio 24
rodillos de transporte 25, 32, por medio de los cuales se trasladan
los sustratos a recubrir a través de las cámaras de procesamiento 1
aisladas. Puede reconocerse que, aparte del diafragma 17 ya
posicionado en la figura 1, están previstos otros diafragmas 27, 28,
29 que muestran, respectivamente, tubos de agua de refrigeración 30,
para poder ser refrigeradas eficazmente a través del refrigerante.
El diafragma 28 está configurado en forma de cajón y muestra, entre
los dos rodillos de transporte 25, 32 contiguos, regiones que
discurren cerca de las superficies laterales de estos rodillos de
transporte 25, 32. Por medio de esto el diafragma 28 se encuentra en
una situación especialmente buena, para absorber calor radiado de
estos rodillos de transporte 25, 32.
Juntas aplastadas 31 obturan el bastidor 10 por
su lado inferior con relación al suelo intermedio 24, de tal manera
que se evitan corrientes secundarias del gas de procesamiento que
sale de los tubos de gas 18.
No se ha representado una forma de ejecución en
la que el bastidor 10 está acoplado mecánicamente a la tapa 5 de la
disposición de cátodos 6. En una forma de ejecución de este tipo
pueden conducirse todas las tuberías de suministro, desde el
bastidor 10 a través de la tapa 5. Tiene la ventaja de que, al
separarse la disposición de cátodos 6, al mismo tiempo se eleva
también el bastidor 10 desde la cámara de
procesamiento 1.
procesamiento 1.
- 1
- Cámara de procesamiento
- 2
- Carcasa de cámara
- 3
- Cubierta de cámara
- 4
- Abertura
- 5
- Tapa
- 6
- Disposición de cátodos
- 7
- Junta
- 8
- Escalonamiento
- 9
- Superficie de apoyo
- 10
- Bastidor
- 11
- Pieza de apoyo
- 12
- Saliente
- 13
- Conexión de suministro
- 14
- Conexión de alimentación de refrigerante
- 15
- Cámara de suministro
- 16
- Tubería de refrigerante
- 17
- Diafragma
- 18
- Tubo de gas
- 19
- Conexión de gas
- 20
- Conexión de alimentación de gas
- 21
- Anticátodo
- 22
- Cátodo
- 23
- Cátodo
- 24
- Suelo intermedio
- 25
- Rodillo de transporte
- 26
- Sustrato
- 27
- Diafragma
- 28
- Diafragma
- 29
- Diafragma
- 30
- Tubos de agua de refrigeración
- 31
- Junta aplastada
- 32
- Rodillo de transporte
Claims (10)
1. Dispositivo para recubrir sustratos en forma
de placa mediante pulverización catódica, que tiene varias cámaras
de procesamiento consecutivas, que están limitadas hacia arriba
respectivamente por una cubierta de cámara, la cual tiene en cada
caso una abertura, que está cubierta por una tapa que lleva al menos
un cátodo, y en el que la cámara de procesamiento muestra diafragmas
y tuberías de suministro, en especial tuberías de refrigerante,
caracterizado porque los diafragmas (17, 27, 28, 29) y
tuberías de suministro, en especial tuberías de refrigerante (16),
están previstos en un bastidor (10) que penetra en la cámara de
procesamiento (1), que puede extraerse hacia arriba desde la
abertura (4) y que se apoya con piezas de apoyo (11) y superficies
de apoyo (9) de la cubierta de cámara (3), y porque la tapa (5)
sobresale de las piezas de apoyo (11) y se asienta desde arriba, de
forma directamente hermética, sobre la cubierta de
\hbox{cámara
(3).} 2. Dispositivo según la reivindicación 1,
caracterizado porque las superficies de apoyo (9) están
previstas dentro de la abertura (4) mediante escalonamientos (8) en
el interior de dos regiones marginales, que delimitan la abertura
(4) en cada caso longitudinalmente.
3. Dispositivo según una de las reivindicaciones
1 ó 2, caracterizado porque el bastidor (10) posee, por un
lado longitudinal, un saliente (12) que encaja por encima de la
cámara de procesamiento (1), con conexiones de suministro (13) al
menos para refrigerante.
4. Dispositivo según la reivindicación 3,
caracterizado porque las conexiones de suministro (13) están
dirigidas hacia abajo y están dispuestas, exteriormente en la cámara
de procesamiento (1), conexiones de alimentación de refrigerante
(14) que están alineadas con las conexiones de suministro (13) del
\hbox{saliente (12).} 5. Dispositivo según al menos una de las
reivindicaciones anteriores, caracterizado porque los
diafragmas (17, 27, 28, 29) muestran tubos de agua de refrigeración
(30) que pueden conectarse al refrigerante.
6. Dispositivo según la reivindicación 5,
caracterizado porque los diafragmas (28) están configurados
en forma de cajón y muestren regiones que discurren entre dos
rodillos de transporte (25, 32), cerca de las superficies laterales
de estos rodillos de transporte.
7. Dispositivo según al menos una de las
reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el bastidor
(10) muestra por el lado del saliente (12) una cámara de suministro
(15), que está conectada a la atmósfera y cerrada respecto a la
cámara de procesamiento (1), en la que están dispuestas las tuberías
de refrigerante (16) que sirven para conectar el refrigerante a los
diafragmas (17, 27, 28, 29).
8. Dispositivo según al menos una de las
reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el bastidor
(10) está obturado mediante juntas aplastadas (31) cerca de los
diafragmas (17, 27, 28, 29), por su lado inferior, con respecto a un
suelo intermedio (24) de la cámara de procesamiento (1).
9. Dispositivo según al menos una de las
reivindicaciones anteriores, caracterizado porque la tapa (5)
posee tubos de gas (18) para la alimentación del gas de
procesamiento y conexiones de gas (19), que encajan sobre la cámara
de procesamiento (1), y porque la cámara de procesamiento (1)
muestra exteriormente conexiones de alimentación de gas (20)
alineadas con las conexiones de gas (19).
10. Dispositivo según al menos una de las
reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el bastidor
(10) está acoplado mecánicamente con la tapa (5) de la disposición
de cátodos (6).
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