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TI Gotham Inc
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Time Inc
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Application filed by Time IncfiledCriticalTime Inc
Publication of ES220888A1publicationCriticalpatent/ES220888A1/es
Photosensitive Polymer And Photoresist Processing
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Abstract
Procedimiento para formara una placa de impresión, que consiste en exponer a energía radiante partes elegidas de una mezcla fotosensible compuesta de una poliamida linear sintética, soluble en una solución reveladora, y de una cantidad menor de un compuesto no saturado, que contiene al menos dos grupos CH subíndice 2= C, uno de los cuales, por lo menos, no es un grupo alilo cuando existen dos grupos alilos, para convertir dicha poliamida en una forma insoluble en las partes expuestas, después de lo cual se extrae por lavado la poliamida soluble no expuesta.
ES0220888A1954-03-261955-03-25UN PROCEDIMIENTO PARA FORMAR PLACAS DE IMPRESIoN
ExpiredES220888A1
(es)