ES2237003T3 - Procedimiento para la deposicion galvanica de precipitados de cinc y/o de precipitados de aleaciones de cinc. - Google Patents

Procedimiento para la deposicion galvanica de precipitados de cinc y/o de precipitados de aleaciones de cinc.

Info

Publication number
ES2237003T3
ES2237003T3 ES99117272T ES99117272T ES2237003T3 ES 2237003 T3 ES2237003 T3 ES 2237003T3 ES 99117272 T ES99117272 T ES 99117272T ES 99117272 T ES99117272 T ES 99117272T ES 2237003 T3 ES2237003 T3 ES 2237003T3
Authority
ES
Spain
Prior art keywords
electrolyte
added
zinc
precipitates
alkoxylate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
ES99117272T
Other languages
English (en)
Inventor
Thomas Helden
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LPW Chemie GmbH
Original Assignee
LPW Chemie GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LPW Chemie GmbH filed Critical LPW Chemie GmbH
Application granted granted Critical
Publication of ES2237003T3 publication Critical patent/ES2237003T3/es
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/565—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of zinc
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/22—Electroplating: Baths therefor from solutions of zinc

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

Procedimiento de electrodeposición para revestimientos de zinc de gran brillo sobre metal consiste en utilizar un electrolito de ácido acuoso que contiene una sal de zinc y un compuesto aromático heterocíclico especialmente N-alquil-piridina, como compuestos aromáticos heterocíclicos abrillantadores con al menos un nitrógeno alquilado como heteroátomo (I) se utilizan como agentes abrillantadores en un procedimiento para la electrodeposición de superficies metálicas con zinc y/o aleación de zinc a partir de un electrolito de ácido acuoso que contiene sal(es) de zinc y un abrillantador o abrillantadores.

Description

Procedimiento para la deposición galvánica de precipitados de cinc y/o de precipitados de aleaciones de cinc.
La invención se refiere a un procedimiento para la deposición galvánica de precipitados de cinc y/o de precipitados de aleación de cinc sobre una superficie metálica, en el que se trabaja con un electrolito ácido acuoso que contiene al menos una sal de cinc, así como al menos un agente abrillantador.
En la práctica, se conocen distintos procedimientos para deposición galvánica de precipitados de cinc o precipitados de aleación de cinc. Al respecto, son también conocidos los correspondientes electrolitos de cinc o electrolitos de aleación de cinc ácidos. El recubrimiento de superficies metálicas se realiza generalmente a causa de la buena actividad protectora de la corrosión de las capas de cinc o de aleación de cinc. A menudo, es además deseable que las capas de cinc o de aleación de cinc presenten una superficie brillante y, por tanto, cumplan también fines decorativos. Para ello, se añaden a los electrolitos agentes abrillantadores que, dado el caso interaccionando con otros componentes electrolíticos, producen el brillo de las capas de cinc o de aleación de cinc. En los procedimientos conocidos en la práctica del tipo mencionado al comienzo, se utilizan como agentes abrillantadores compuestos carbonílicos aromáticos, especialmente benzalacetona o benzofenona, así como o-clorobenzaldehído. Los agentes abrillantadores se usan convencionalmente en solución alcohólica, especialmente metanólica. A causa de la fácil inflamabilidad y también toxicidad de estas soluciones, son necesarias medidas de precaución especiales en la preparación, transporte y almacenamiento de las soluciones. Esto es desventajosamente complicado. Además, los agentes abrillantadores se utilizan también en disolventes de alto punto de ebullición, como por ejemplo butilglicol, que sin embargo son desventajosos fisiológicamente. Puesto que la solubilidad en agua de los agentes abrillantadores conocidos mencionados es muy baja, estos agentes abrillantadores deben solubilizarse con ayuda de altas concentraciones de reticulantes en los electrolitos acuosos. También esto es complicado y
costoso.
En cambio, la invención se basa en el problema técnico de proporcionar un procedimiento del tipo mencionado al comienzo que trabaje con agentes abrillantadores solubles en agua, y que produzca de modo sencillo y funcional un brillo óptimo de las capas de cinc y aleación de cinc.
Para resolver este problema técnico, la invención muestra un procedimiento para deposición galvánica de precipitados de cinc y/o precipitados de aleación de cinc sobre una superficie metálica, en el que se trabaja con un electrolito ácido acuoso que contiene al menos una sal de cinc, así como al menos un agente abrillantador, en el que se añade al electrolito como agente abrillantador al menos un compuesto aromático heterocíclico con al menos un átomo de nitrógeno alquilado como heteroátomo, en el que al menos se añade un tensioactivo no ionógeno del grupo de "alcoxilato de alquilo, alcoxilato de arilo, alcoxilato de alquilarilo" y/o en el que se añade al menos un tensioactivo aniónico del grupo de "alcoxilato de alquilo sulfatado y/o sulfonado, alcoxilato de arilo sulfatado y/o sulfonado, alcoxilato de alquilarilo sulfatado y/o sulfonado". Los compuestos aromáticos heterocíclicos se denominan también heteroaromáticos. Según la invención, el compuesto aromático heterocíclico utilizado presenta al menos un átomo de nitrógeno como heteroátomo, al que está unido un grupo alquilo. Al respecto, se trata de compuestos aromáticos heterocíclicos N-alquilados. Los usados como agentes abrillantadores pueden también presentar varios átomos de nitrógeno alquilados como heteroátomos. Se encuentra dentro del marco de la invención que los grupos alquilo unidos al átomo de nitrógeno puedan ser de cadena lineal, ramificada o cíclica. Los grupos alquilo pueden contener también dobles enlaces y/o triples enlaces. Según una forma de realización de la invención, los átomos de hidrógeno de los grupos alquilo están sustituidos por grupos funcionales. Así, los átomos de hidrógeno de los grupos alquilo pueden estar sustituidos por grupos hidroxilo y/o grupos éter y/o grupos carboxilo y/o grupos éster y/o átomos de halógeno y/o grupos sulfonato y/o anillos aromáticos y/o grupos
amino.
Se encuentra dentro del marco de la invención que el compuesto aromático heterocíclico utilizado como agente abrillantador presente otros heteroátomos además de uno o varios átomos de nitrógeno alquilados. A este respecto, puede tratarse de átomos de nitrógeno no alquilados a los que puede unirse también un átomo de hidrógeno, según las relaciones de enlace. A este respecto, puede tratarse también, sin embargo, de otros heteroátomos, como átomos de oxígeno o azufre. Según una forma de realización de la invención, el compuesto aromático heterocíclico puede presentar al menos otro átomo de nitrógeno como heteroátomo, al que no está unido ningún grupo alquilo. Se encuentra dentro del marco de la invención que a los átomos de carbono del compuesto aromático heterocíclico estén unidos otros sustituyentes en lugar de átomos de hidrógeno. Por ejemplo, pueden estar unidos a estos átomos de carbono grupos alquilo y/o grupos éter y/o grupos carboxilo y/o átomos de halógeno y/o grupos sulfonato y/o grupos amino y/o grupos hidroxilo. Según una forma de realización de la invención, se utiliza como compuesto aromático heterocíclico un sistema de anillo condensado que contiene anillos aromáticos y/o no aromáticos. En esta forma de realización, puede presentar únicamente un anillo o pueden presentar varios anillos o pueden presentar todos los anillos, respectivamente, al menos un
heteroátomo.
Preferiblemente, se añade al electrolito como compuesto aromático heterocíclico al menos un heteroaromático N-alquilado de 5 miembros de anillo y/o al menos un heteroaromático N-alquilado de 6 miembros de anillo. Estos heteroaromáticos de 5 miembros de anillo y/o heteroaromáticos de 6 miembros de anillo son especialmente adecuados como agentes abrillantadores para precipitados de cinc y/o de aleación de cinc. Según una forma de realización preferida, que tiene una especial importancia en el marco de la invención, se añade como compuesto aromático heterocíclico al menos una piridina N-alquilada. Se prefiere la adición de cloruro de N-hexadecilpiridinio como agente abrillantador. Se prefiere además el uso de cloruro de dodecilpiridinio y/o 3-carboxilato de N-bencilpiridinio. A este respecto, ha de indicarse que se encuentra dentro del marco de la invención que el compuesto aromático heterocíclico pueda utilizarse en forma de una sal cuaternaria como agente abrillantador. Entonces, el electrolito presenta un anión inorgánico u orgánico coordinado que es convenientemente compatible con los componentes electrolíticos convencionales. Preferiblemente, se trata a este respecto de iones halogenuro, iones sulfato, iones hidrogenosulfato, iones tetrafluoroborato o iones acetato. Generalmente, se encuentran también dentro del marco de la invención, por ejemplo, pirroles N-alquilados y/o pirazoles N-alquilados y/o imidazoles N-alquilados y/o quinolinas N-alquiladas como agentes abrillantadores.
Según una forma de realización preferida de la invención, se utiliza el compuesto aromático heterocíclico a una concentración de 0,001 g/l a 100 g/l, preferiblemente de 0,005 g/l a 10 g/l, referida al electrolito. Se encuentra dentro del marco de la invención utilizar, además del compuesto aromático heterocíclico, otros agentes abrillantadores conocidos. La concentración total de agente abrillantador añadida al electrolito asciende en este caso de 0,001 g/l a 100 g/l, preferiblemente de 0,005 g/l a 10 g/l, referida al electrolito.
Para la deposición de precipitados de cinc y/o precipitados de aleación de cinc, son conocidos diferentes tipos de electrolito. Para la deposición de precipitados de cinc se utiliza preferiblemente un electrolito de cinc basado en cloruro de cinc. El electrolito de cinc contiene de 5 g/l a 500 g/l de sal de cinc, preferiblemente de 50 g/l a 150 g/l de sal de cinc, preferiblemente cloruro de cinc. Para la deposición de aleaciones de cinc-cobalto, el electrolito contiene una sal de cinc, preferiblemente cloruro de cinc, así como una sal de cobalto, preferiblemente cloruro de cobalto. A este respecto, la sal de cinc se utiliza en una cantidad de 5 g/l a 500 g/l, preferiblemente de 50 g/l a 150 g/l, y la sal de cobalto en una cantidad preferiblemente de 0,01 g/l a 150 g/l, preferiblemente de 1 g/l a 50 g/l. Para la deposición de aleaciones de cinc-níquel, se utiliza una sal de cinc, preferiblemente cloruro de cinc, así como una sal de níquel, preferiblemente cloruro de níquel, en el electrolito. La concentración de sal de cinc en el electrolito asciende a este respecto de 5 g/l a 500 g/l, preferiblemente de 50 g/l a 150 g/l, y la concentración de sal de níquel en el electrolito asciende de 0,01 g/l a 150 g/l, preferiblemente de 1 g/l a 50 g/l. El electrolito se ajusta preferiblemente a acidez débil. El electrolito presenta convenientemente un valor de pH de 4 a 6. Se encuentra dentro del marco de la invención que el electrolito contenga una sal conductora adecuada. Como sal conductora se utilizan preferiblemente cloruro de amonio y/o cloruro de potasio y/o cloruro de sodio. El electrolito contiene la sal conductora convenientemente en una cantidad de 5 g/l a 250 g/l.
Según una forma de realización preferida de la invención, se añade al electrolito al menos un tensioactivo. Preferiblemente, se selecciona una concentración de tensioactivo de 0,001 g/l a 100 g/l, preferiblemente de 0,5 g/l a 20 g/l, referida respectivamente al electrolito. Según una forma de realización de la invención, se añade al electrolito al menos un tensioactivo no ionógeno del grupo de "alcoxilato de alquilo, alcoxilato de arilo, alcoxilato de alquilarilo". Según otra forma de realización de la invención, se añade al electrolito al menos un tensioactivo aniónico del grupo de "alcoxilato de alquilo sulfatado y/o sulfonado, alcoxilato de arilo sulfatado y/o sulfonado, alcoxilato de alquilarilo sulfatado y/o sulfonado". El al menos un tensioactivo añadido al electrolito funciona también como los denominados agentes abrillantadores. Preferiblemente, el electrolito contiene además al menos un poliglicol, que preferiblemente se utiliza junto con al menos un tensioactivo en el electrolito.
Se encuentra dentro del marco de la invención que se añada al electrolito al menos una sustancia del grupo de "ácidos carboxílicos aromáticos, ácidos hidroxicarboxílicos y derivados de los ácidos anteriormente mencionados". Derivado de los ácidos significa aquí también una sal de los ácidos. Preferiblemente, se añaden al electrolito ácido benzoico y/o ácido nicotínico y/o ácido salicílico, o al menos un derivado de los ácidos anteriormente mencionados. Los ácidos y/o derivados mencionados anteriormente están convenientemente contenidos a una concentración de 1 g/l a 50 g/l en el electrolito. Las sustancias mencionadas sirven para mejorar la deposición en un intervalo de densidad de corriente lo más amplio posible.
Se encuentra dentro del marco de la invención que para la mejora de la deposición puedan utilizarse alcoholes aromáticos polihidroxílicos, a cuyos átomos de carbono pueden estar unidos, en lugar de hidrógeno, grupos éter, sulfonato o formilo, así como ácidos carboxílicos alifáticos que pueden portar como sustituyentes grupos hidroxi, mercapto, amino o halógeno, así como los alcoxilatos de estos compuestos.
La invención se basa en el reconocimiento de que en los compuestos aromáticos heterocíclicos utilizados según la invención se trata de sustancias que son notablemente adecuadas como agentes abrillantadores para la deposición galvánica de precipitados de cinc y/o precipitados de aleación de cinc. Estos compuestos son convencionalmente agentes abrillantadores totalmente solubles en agua, de modo que pueden evitarse las desventajas descritas con respecto a las medidas conocidas anteriormente. Especialmente, no son necesarias para los compuestos aromáticos heterocíclicos según la invención las altas concentraciones de humectantes en el electrolito necesarias para los agentes abrillantadores conocidos. Al respecto, los agentes abrillantadores según la invención pueden introducirse de manera sencilla en la solución de electrolito y efectuar no obstante una deposición funcional de capas de cinc o capas de aleación de cinc brillantes. Como resultado, se caracteriza el procedimiento según la invención por sus medidas poco complicadas y poco costosas.
A continuación, se ilustrará la invención mediante ejemplos de realización. El ejemplo de realización 1 se refiere a un procedimiento según el estado de la técnica. Los ejemplos de realización 2 a 4 se refieren al procedimiento según la invención.
Ejemplo de realización 1
Se añadió a una celda envolvente un electrolito de la siguiente composición: Zn^{2+} 35 g/l (como ZnCl_{2}), KCl 235 g/l, H_{3}BO_{3} 25 g/l, benzoato de sodio 4 g/l, Lutensol ON 110 (BASF) 6 g/l y Lutensit AP 14 (BASF) 2 g/l. A un valor de pH de 5,6, se recubrió a una temperatura de entre 20 y 30ºC con aireación una chapa de acero con una densidad de corriente de 2 A durante 10 minutos. El precipitado era claro, aunque sin brillo.
Ejemplo de realización 2
Se añadió adicionalmente 1-(3-sulfopropil)piridiniobetaína 0,5 g/l a un electrolito correspondiente al ejemplo de realización 1. El precipitado depositado en las mismas condiciones que el ejemplo de realización 1 mostró brillo en el intervalo de altas densidades de corriente.
Ejemplo de realización 3
Se añadió cloruro de dodecilpiridinio 0,05 g/l a un electrolito según el ejemplo de realización 1. Se comprobó un intervalo de brillo ampliado respecto al ejemplo de realización 2.
Ejemplo de realización 4
Se añadió 3-carboxilato de N-bencilpiridinio 0,1 g/l a un electrolito correspondiente al ejemplo de realización 1. Después del recubrimiento, la chapa de acero completa muestra, excepto en pequeños intervalos de densidad de corriente muy alta o muy baja, un brillo óptimo.

Claims (7)

1. Procedimiento para la deposición galvánica de precipitados de cinc y/o precipitados de aleación de cinc sobre una superficie metálica,
en el que se trabaja con un electrolito ácido acuoso que contiene al menos una sal de cinc, así como al menos un agente abrillantador,
en el que se añade al electrolito como agente abrillantador al menos un compuesto aromático heterocíclico con al menos un átomo de nitrógeno alquilado como heteroátomo,
en el que se añade al menos un tensioactivo no ionógeno del grupo de "alcoxilato de alquilo, alcoxilato de arilo, alcoxilato de alquilarilo", y/o
en el que se añade al menos un tensioactivo aniónico del grupo de "alcoxilato de alquilo sulfatado y/o sulfonado, alcoxilato de arilo sulfatado y/o sulfonado, alcoxilato de alquilarilo sulfatado y/o sulfonado".
2. Procedimiento según la reivindicación 1, caracterizado porque se añade como compuesto aromático heterocíclico al menos un heteroaromático de 5 miembros de anillo y/o al menos un heteroaromático de 6 miembros de anillo.
3. Procedimiento según la reivindicación 2, caracterizado porque se añade como compuesto aromático heterocíclico al menos una piridina N-alquilada.
4. Procedimiento según una de las reivindicaciones 1 a 3, caracterizado porque el compuesto aromático heterocíclico se utiliza a una concentración de 0,001 g/l a 100 g/l, preferiblemente de 0,005 g/l a 10 g/l, referida al electrolito.
5. Procedimiento según una de las reivindicaciones 1 a 4, caracterizado porque se añade al electrolito al menos un tensioactivo.
6. Procedimiento según la reivindicación 5, caracterizado porque se selecciona una concentración de tensioactivo de 0,001 g/l a 100 g/l, preferiblemente de 0,5 g/l a 20 g/l, referida al electrolito.
7. Procedimiento según una de las reivindicaciones 1 a 6, caracterizado porque se añade al electrolito un poliglicol.
ES99117272T 1998-09-15 1999-09-02 Procedimiento para la deposicion galvanica de precipitados de cinc y/o de precipitados de aleaciones de cinc. Expired - Lifetime ES2237003T3 (es)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19842098 1998-09-15
DE19842098 1998-09-15

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ES2237003T3 true ES2237003T3 (es) 2005-07-16

Family

ID=7880955

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
ES99117272T Expired - Lifetime ES2237003T3 (es) 1998-09-15 1999-09-02 Procedimiento para la deposicion galvanica de precipitados de cinc y/o de precipitados de aleaciones de cinc.

Country Status (4)

Country Link
EP (1) EP0987349B1 (es)
AT (1) ATE286547T1 (es)
DE (2) DE59911392D1 (es)
ES (1) ES2237003T3 (es)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10146559A1 (de) * 2001-09-21 2003-04-10 Enthone Omi Deutschland Gmbh Verfahren zur Abscheidung einer Zink-Nickel-Legierung aus einem Elektrolyten
CN105210164B (zh) 2013-03-13 2019-02-19 南特能源公司 用于包括金属燃料的电化学电池的杂离子芳族添加剂
US9269998B2 (en) 2013-03-13 2016-02-23 Fluidic, Inc. Concave gas vent for electrochemical cell
BR112019000713B1 (pt) 2016-07-22 2023-04-25 Nantenergy, Inc Célula eletroquímica e método de conservar umidade dentro de uma célula eletroquímica
CN109565097A (zh) 2016-07-22 2019-04-02 南特能源公司 电化学电池的除雾系统
WO2020006419A1 (en) 2018-06-29 2020-01-02 Form Energy Inc. Metal air electrochemical cell architecture
EP3815172A4 (en) 2018-06-29 2022-03-09 Form Energy, Inc. ROLLER DIAPHRAGM SEAL
WO2020264344A1 (en) 2019-06-28 2020-12-30 Form Energy Inc. Device architectures for metal-air batteries
WO2021226399A1 (en) 2020-05-06 2021-11-11 Form Energy, Inc. Decoupled electrode electrochemical energy storage system

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3822194A (en) * 1971-06-28 1974-07-02 Du Pont Acid zinc electroplating
US3823076A (en) * 1972-05-23 1974-07-09 Du Pont Zinc electroplating additive
US3769184A (en) * 1972-05-23 1973-10-30 Du Pont Acid zinc electroplating
CA1134317A (en) * 1978-01-16 1982-10-26 Sylvia Martin Zinc electroplating bath
EP0037634A1 (en) * 1980-02-28 1981-10-14 Albright & Wilson Limited Zinc plating baths and additives therefor
US5417840A (en) * 1993-10-21 1995-05-23 Mcgean-Rohco, Inc. Alkaline zinc-nickel alloy plating baths

Also Published As

Publication number Publication date
DE59911392D1 (de) 2005-02-10
EP0987349B1 (de) 2005-01-05
ATE286547T1 (de) 2005-01-15
EP0987349A1 (de) 2000-03-22
DE19941765A1 (de) 2000-03-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ES2267469T3 (es) Una solucion para electrodeposito de una aleacion estaño/cobre brillante.
US4565610A (en) Bath and process for plating lead and lead/tin alloys
US4599149A (en) Process for electroplating tin, lead and tin-lead alloys and baths therefor
US4070256A (en) Acid zinc electroplating bath and process
US4013523A (en) Tin-gold electroplating bath and process
US4118289A (en) Tin/lead plating bath and method
WO2017170370A1 (ja) アルミニウム合金の陽極酸化皮膜用封孔処理液、濃縮液及び封孔処理方法
SE435399B (sv) Sett och bad for cyanidfri zinkelektropletering
DE1066068B (de) Elektrolyt zur galvanischen Abscheidung spiegelglänzender, eingeebneter, duktiler Nickelniederschläge
US5374455A (en) Process for sealing aluminum oxide films
US4251331A (en) Baths and additives for the electroplating of bright zinc
EP0987349B1 (de) Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Zinkniederschlägen und/oder Zinklegierungsniederschlägen
US4170526A (en) Electroplating bath and process
US6238542B1 (en) Water soluble brighteners for zinc and zinc alloy electrolytes
US4107004A (en) Trivalent chromium electroplating baths and method
US4422908A (en) Zinc plating
SE7812869L (sv) Surt zinkelektropleteringsforfarande och komposition
US6730209B2 (en) Solder electroplating bath including brighteners having reduced volatility
US20030024822A1 (en) Process for the deposition of a silver-tin alloy
GB1496337A (en) Stable solutions of fluorescent brighteners
FI62347C (fi) Galvaniseringsbad
US5438140A (en) Production of nickelized shaped articles
GB2103247A (en) Electrolyte for use in the electrodeposition of bright tin coatings
US4411744A (en) Bath and process for high speed nickel electroplating
ES2402688T3 (es) Procedimiento para la deposición electrolítica de cobre