ES2237635T3 - Deposito de gran capacidad con purificador de gas integrado y dos valvulas. - Google Patents

Deposito de gran capacidad con purificador de gas integrado y dos valvulas.

Info

Publication number
ES2237635T3
ES2237635T3 ES02015577T ES02015577T ES2237635T3 ES 2237635 T3 ES2237635 T3 ES 2237635T3 ES 02015577 T ES02015577 T ES 02015577T ES 02015577 T ES02015577 T ES 02015577T ES 2237635 T3 ES2237635 T3 ES 2237635T3
Authority
ES
Spain
Prior art keywords
hole
fluid
container
orifice
fluid communication
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
ES02015577T
Other languages
English (en)
Inventor
Ronald Martin Pearlstein
Benjamin Lee Hertzler
Lawrence Paul Jarrett
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Air Products and Chemicals Inc
Original Assignee
Air Products and Chemicals Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Air Products and Chemicals Inc filed Critical Air Products and Chemicals Inc
Application granted granted Critical
Publication of ES2237635T3 publication Critical patent/ES2237635T3/es
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C13/00—Details of vessels or of the filling or discharging of vessels
    • F17C13/005—Details of vessels or of the filling or discharging of vessels for medium-size and small storage vessels not under pressure
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P95/00—Generic processes or apparatus for manufacture or treatments not covered by the other groups of this subclass
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C9/00—Methods or apparatus for discharging liquefied or solidified gases from vessels not under pressure
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2201/00—Vessel construction, in particular geometry, arrangement or size
    • F17C2201/01—Shape
    • F17C2201/0104—Shape cylindrical
    • F17C2201/0109—Shape cylindrical with exteriorly curved end-piece
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2201/00—Vessel construction, in particular geometry, arrangement or size
    • F17C2201/03—Orientation
    • F17C2201/035—Orientation with substantially horizontal main axis
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2203/00—Vessel construction, in particular walls or details thereof
    • F17C2203/06—Materials for walls or layers thereof; Properties or structures of walls or their materials
    • F17C2203/0602—Wall structures; Special features thereof
    • F17C2203/0612—Wall structures
    • F17C2203/0614—Single wall
    • F17C2203/0617—Single wall with one layer
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2205/00—Vessel construction, in particular mounting arrangements, attachments or identifications means
    • F17C2205/03—Fluid connections, filters, valves, closure means or other attachments
    • F17C2205/0302—Fittings, valves, filters, or components in connection with the gas storage device
    • F17C2205/0323—Valves
    • F17C2205/0326—Valves electrically actuated
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2205/00—Vessel construction, in particular mounting arrangements, attachments or identifications means
    • F17C2205/03—Fluid connections, filters, valves, closure means or other attachments
    • F17C2205/0302—Fittings, valves, filters, or components in connection with the gas storage device
    • F17C2205/0323—Valves
    • F17C2205/0335—Check-valves or non-return valves
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2205/00—Vessel construction, in particular mounting arrangements, attachments or identifications means
    • F17C2205/03—Fluid connections, filters, valves, closure means or other attachments
    • F17C2205/0302—Fittings, valves, filters, or components in connection with the gas storage device
    • F17C2205/0341—Filters
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2223/00—Handled fluid before transfer, i.e. state of fluid when stored in the vessel or before transfer from the vessel
    • F17C2223/01—Handled fluid before transfer, i.e. state of fluid when stored in the vessel or before transfer from the vessel characterised by the phase
    • F17C2223/0107—Single phase
    • F17C2223/0115—Single phase dense or supercritical, i.e. at high pressure and high density
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2223/00—Handled fluid before transfer, i.e. state of fluid when stored in the vessel or before transfer from the vessel
    • F17C2223/01—Handled fluid before transfer, i.e. state of fluid when stored in the vessel or before transfer from the vessel characterised by the phase
    • F17C2223/0107—Single phase
    • F17C2223/0123—Single phase gaseous, e.g. CNG, GNC
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2223/00—Handled fluid before transfer, i.e. state of fluid when stored in the vessel or before transfer from the vessel
    • F17C2223/01—Handled fluid before transfer, i.e. state of fluid when stored in the vessel or before transfer from the vessel characterised by the phase
    • F17C2223/0146—Two-phase
    • F17C2223/0153—Liquefied gas, e.g. LPG, GPL
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2223/00—Handled fluid before transfer, i.e. state of fluid when stored in the vessel or before transfer from the vessel
    • F17C2223/04—Handled fluid before transfer, i.e. state of fluid when stored in the vessel or before transfer from the vessel characterised by other properties of handled fluid before transfer
    • F17C2223/042—Localisation of the removal point
    • F17C2223/043—Localisation of the removal point in the gas
    • F17C2223/045—Localisation of the removal point in the gas with a dip tube
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2250/00—Accessories; Control means; Indicating, measuring or monitoring of parameters
    • F17C2250/06—Controlling or regulating of parameters as output values
    • F17C2250/0605—Parameters
    • F17C2250/0636—Flow or movement of content
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2265/00—Effects achieved by gas storage or gas handling
    • F17C2265/01—Purifying the fluid
    • F17C2265/012—Purifying the fluid by filtering
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2270/00—Applications
    • F17C2270/05—Applications for industrial use
    • F17C2270/0518—Semiconductors

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)
  • Separation By Low-Temperature Treatments (AREA)
  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)

Abstract

Un aparato (10) para suministrar un producto gaseoso purificado, que comprende: un contenedor (12) substancialmente horizontal, que está adaptado para contener un suministro de un fluido, teniendo dicho contenedor un eje longitudinal substancialmente horizontal, al menos una pared interior, un primer extremo, un segundo extremo opuesto a dicho primer extremo, un orificio de salida adyacente a dicho primer extremo, un orificio de entrada espaciado aparte de dicho orificio de salida y una parte interior abierta para contener dicho fluido entre dicha al menos una pared interior y dichos primero y segundo extremos, siendo al menos parte de dicho interior abierta un espacio de vapor (18), un medio de purificación (15) dispuesto en al menos una porción de dicho tubo hueco alargado (14) entre dicho primer orificio y dicho segundo orificio; un medio de control de entrada (38) en comunicación de fluido con dicho orificio de entrada y adaptado para suministrar dicho fluido a dicho orificio de entrada; y medios de control de salida (36) en comunicación de fluido con dicho orificio de salida y adaptados para controlar el suministro de dicho producto gaseoso desde dicho orificio de salida, caracterizado porque un tubo hueco alargado (14) está dispuesto en dicha parte interior abierta de dicho contenedor horizontal (12), teniendo dicho tubo hueco alargado un primer orificio, un segundo orificio espaciado aparte de dicho primer orificio, y un eje interno entre el primero y segundo orificios, estando dicho primer orificio en comunicación de fluido con dicho orificio de salida y estado dicho segundo orificio en comunicación de fluido con dicho espacio de vapor (18), donde una porción de dicho eje interno adyacente a dicho segundo orificio está en un ángulo mayor que cero grados con relación a dicho eje longitudinal substancialmente horizontal.

Description

Depósito de gran capacidad con purificador de gas integrado y dos válvulas.
Antecedentes de la invención
La invención se refiere a sistemas de suministro de productos químicos y, en particular, a un aparato y método para suministrar un producto gaseoso purificado que es suficientemente puro para uso en la industria electrónica, tal como para la fabricación y para el procesamiento de semiconductores. No obstante, la invención no está limitada a esas aplicaciones y puede tener otros usos, tales como procesos comerciales que utilizan gas de alta pureza desde depósitos o cilindros de gas comprimido o licuado.
Los fabricantes de semiconductores requieren gases y productos químicos de alta pureza para procesos de producción para evitar defectos en la fabricación de dispositivos semiconductores. Las etapas de procesamiento típicas incluyen el uso de disolventes de limpieza para la preparación inicial de obleas, decapado húmedo, deposición de vapor químico y similares. La presencia de cantidades muy pequeñas de impurezas en cualquier etapa puede dar lugar a contaminación del agua, que puede conducir a la reducción del rendimiento del dispositivo semiconductor o que es necesario raspar el chip.
A medida que continúan reduciéndose los tamaños característicos de los semiconductores, se plantean cada vez más demandas sobre la pureza requerida de los gases y los productos químicos utilizados para producir dispositivos semiconductores. Como un medio para incrementar los rendimientos, las instalaciones de fabricación de semiconductores ("fabs") requieren que los gases de procesos cumplan las especificaciones de partículas menores que 0,02 micras y las especificaciones de metales del orden de una parte por billón o menos. Se prevé que las normas de la industria sean cada vez más estrictas en el futuro, a medida que continúan reduciéndose los tamaños característicos de los semiconductores.
Los grados electrónicos de los gases de procesos han sido suministrados a los fabricantes de semiconductores en cilindros o tanques. Sin embargo, a medida que las especificaciones relacionadas con las concentraciones de impurezas son cada vez más estrictas, resulta más difícil suministrar gases de pureza suficiente para procesamiento de semiconductores. Incluso la preparación especial de los cilindros o contenedores a través de pulido y cocido de las superficies interiores no produce una pureza suficiente. Por lo tanto, se han empleado purificadores en el punto de uso para eliminar contaminantes y para elevar la pureza de los gases de suministro.
Muchos sistemas de la técnica anterior purifican el gas después de que ha salida del contenedor a granel utilizando un purificador externo. Un inconveniente de este método es que la tubería entre el contenedor de gas a granel y el purificador externo no está protegido en tales sistemas. Además, puesto que se requiere que el purificador externo resista una presión significativa del gas, puede ser muy costoso.
Algunos gases son suministrados en cilindros de gas licuado grandes horizontales, tales como cilindros "Y". Ejemplos incluyen HCl, Cl_{2}, y SF_{6}. Se requiere que los purificadores externos grandes cumplan de una manera consistente y fiable los requerimientos de pureza de los procesos que utilizan estos gases. Además de ser costosos, estos purificadores requieren una impronta considerable en el diseño de la instalación.
Además, la tubería entre el cilindro y el purificador no está protegida frente a los efectos perjudiciales de la corrosión por humedad cuando está presente humedad en el gas. Esto es particularmente significativo debido a que las porciones de alta presión del sistema de tubería son más vulnerables a la corrosión, puesto que la presión parcial de la humedad es máxima en este punto en un sistema de distribución.
Para intentar abordar el problema, han sido aplicados varios métodos con purificadores en-depósito. Aunque los purificadores en-depósito, diseñados para eliminar contaminantes procedentes de gases comprimidos o gases licuados por cilindros a alta presión se conocen desde hace mucho tiempo, como se conoce en la patente U.S. Nº 1.821.549 (Horner y col.), los problemas se mantienen y los purificadores en-depósito de la técnica anterior no cumplen los requerimientos actuales y futuros de pureza de la industria electrónica.
La patente U.S. 5.409.526 (Zheng y col.) describe un aparato para purificar gases suministrados desde cilindros de gases verticales. El purificador incorporado enseñado por Zheng y col., funciona bien para cilindros verticales. Sin embargo, no se puede utilizar un purificador de tubo recto en cilindros horizontales de gases licuados, debido a que el tubo se puede sumergir por debajo del nivel del líquido, conduciendo a resultados impredecibles y potencialmente adversos durante la retirada del producto.
Además, existen inconvenientes de la válvula enseñada por Zheng y col, que utiliza una válvula individual de doble orificio tanto para llenar como para vaciar el cilindro. La válvula utiliza una conexión individual externa y la válvula de desviación de dos pasos comunica el flujo que procede de la conexión externa o bien con: (a) el orificio de relleno del cilindro o (b) el orificio de extracción de gas. Un inconveniente es que un cliente o usuario debe tener una válvula de dos orificios. Además de ser costosa, la disponibilidad de estas válvulas es limitada a veces.
La patente U.S. Nº 5.980.599 (Chris, y col.) describe un purificador en-depósito que utiliza un cuerpo purificador desplazable. La disposición de este purificador está también limitada al uso en cilindros verticales, y el purificador tendría problemas similares con cilindros horizontales de gas licuado como se describe anteriormente para el purificador incorporado de Zheng y col.
La solicitud de patente europea EP-A-1 037 269 describe un aparato para suministrar un gas de proceso semiconductor cargado en un depósito de gas de gran capacidad a una planta en la que se utiliza el gas, después de la reducción de la presión del gas. El cilindro de gas horizontal está compuesto esencialmente por una porción cilíndrica y por porciones hemisféricas formadas en los extremos de la porción cilíndrica, respectivamente. El cilindro de gas tiene un orificio de carga del gas en una porción hemisférica y un orificio de descarga de gas en la otra porción hemisférica, estando ambos orificios en alineación con el eje horizontal de la porción cilíndrica. Una válvula de carga y una unidad de descarga de gas que tiene al menos una válvula de depósito de gas y una válvula reductora de la presión están conectadas al orificio de carga de gas y al orificio de descarga de gas, respectivamente. El cilindro de gas está alojado junto con la válvula de carga y la unidad de descarga de gas en un contenedor.
Si desea conseguir un aparato y un método para suministrar un producto gaseoso purificado a partir de un contenedor horizontal que tiene un purificador incorporado, especialmente un producto gaseoso que se puede utilizar en la fabricación de dispositivos semiconductores.
Se desea, además, tener un aparato y un método para suministrar un producto gaseoso purificado a partir de un contenedor horizontal que tiene un purificador incorporado que cumple requerimientos estrictos de pureza, tales como los requerimientos para procesos de fabricación de semiconductores.
Además, se desea todavía tener un aparato y un método más fiables para suministrar un producto gaseoso de alta pureza para uso en la industria electrónica, tal como para procesos de fabricación de semiconductores, a partir de un contenedor horizontal utilizando válvulas de orificio individual para llenar el contenedor con fluido y para extraer el producto gaseoso.
Se desea también tener un aparato y un método para suministrar productos gaseosos de alta pureza que solucionan las dificultades e inconvenientes de la técnica anterior para proporcionar resultados mejores y más ventajosos.
Breve resumen de la invención
La invención es un aparato y un método para suministrar un producto gaseoso purificado. Existen varias formas de realización y variaciones del aparato y del método.
Una primera forma de realización del aparato incluye cuatro elementos. El primer elemento es un contenedor substancialmente horizontal adaptado para contener un suministro de un fluido. El contenedor tiene un eje longitudinal substancialmente horizontal, al menos una pared interior, un primer extremo, un segundo extremo opuesto al primer extremo, y un orificio de salida adyacente al primer extremo, un orificio de entrada espaciado desde el orificio de salida y una parte interior abierta para contener el fluido entre la al menos una pared interior y el primero y segundo extremos. Al menos parte de la parte interior abierta es un espacio de vapor. El segundo elemento característico es un tubo hueco alargado dispuesto en la parte interior abierta del contenedor horizontal. El tubo hueco alargado tiene un primer orificio, un segundo orificio alargado separado del primer orificio, y un eje interno entre el primero y segundo orificios. El primer orificio está en comunicación de fluido con el orificio de salida y el segundo orificio está en comunicación de fluido con el espacio de vapor. Una porción del eje interno adyacente al segundo orificio está en un ángulo mayor que cero grados con relación al eje longitudinal substancialmente horizontal. El tercer elemento es un medio de purificación que está dispuesto en al menos una porción del tubo hueco entre el primer orificio y el segundo orificio. El cuarto orificio es un medio de control de entrada en comunicación de fluido con el orificio de entrada y adaptado para controlar el suministro de fluido al orificio de entrada. El quinto elemento es un medio de control de salida en comunicación de fluido con el orificio de salida y adaptado para controlar el suministro del producto gaseoso desde el orificio de salida.
Existen varias variaciones de la primera forma de realización del aparato. En una variación, el producto gaseoso se utiliza en la fabricación de un dispositivo semiconductor. En otra variación, el fluido es seleccionado a partir de un grupo que consta de un gas comprimido, un gas comprimido licuado y un fluido supercrítico. Todavía en otra variación, el medio de purificación comprende al menos una capa de un material seleccionado a partir de un grupo que está constituido por al menos un catalizador, al menos un adsorbente y al menos una mezcla de ellos. Todavía en otra variación, el ángulo es aproximadamente 45 grados (45º). Todavía en otra variación, el medio de control de entrada comprende al menos una válvula de un orificio y el medio de control de salida comprende al menos una válvula de un orificio.
Existen también formas de realización alternativas del aparato. Varias de estas formas de realización son similares a la primera forma de realización del aparato, pero incluyen un elemento o característica adicional. Por ejemplo, una segunda forma de realización del aparato incluye un primer filtro dispuesto en el espacio de vapor y en comunicación de fluido con el segundo orificio. Una tercera forma de realización del aparato incluye un segundo filtro adyacente al primer orificio y en comunicación de fluido con el tubo hueco alargado.
Una cuarta forma de realización es un aparato para suministrar un producto gaseoso purificado para ser utilizado en la fabricación de un dispositivo semiconductor. El aparato de esta forma de realización incluye siete elementos. El primer elemento es un contenedor substancialmente horizontal que tiene una forma substancialmente cilíndrica adaptada para contener un suministro de un líquido que tiene una superficie de líquido substancialmente horizontal. El contenedor tiene un eje substancialmente longitudinal, una pared interior, una pared exterior, un primer extremo, un segundo extremo opuesto al primer extremo, un orificio de salida adyacente al primer extremo, un orificio de entrada espaciado separado del orificio de salida, y una parte interior abierta para contener el líquido entre la pared interior y el primero y segundo extremos. Al menos parte del interior abierto es un espacio de vapor por encima de la superficie de líquido. El segundo elemento característico es un tubo hueco alargado que está dispuesto en la parte interior abierta del contenedor horizontal. El tubo hueco alargado tiene un primer orificio y un segundo orificio espaciado separado del primer orificio. El primer orificio está en comunicación de fluido con el orificio de salida y el segundo orificio está en comunicación de fluido con el espacio de vapor. Una primera porción del tubo próxima al primer orificio está substancialmente paralela al eje longitudinal substancialmente horizontal. Una segunda porción del tubo distante del primer orificio está en un ángulo mayor que cero grados con relación al eje longitudinal substancialmente horizontal. Un tercer elemento es un medio de purificación que está dispuesto al menos en una porción del tubo hueco alargado entre el primer orificio y el segundo orificio. El medio de purificación comprende al menos una capa de un material seleccionado a partir de un grupo que está constituido por al menos un catalizador, al menos un adsorbente, y al menos una mezcla de los mismos. El cuarto elemento es un primer filtro dispuesto en el espacio de vapor y en comunicación de fluido con el segundo orificio. El quinto elemento es un segundo filtro adyacente al primer orificio y en comunicación con el tubo hueco alargado. El sexto elemento es una primera válvula de orificio individual en comunicación de fluido con el primer orificio y adaptado para controlar el suministro de una fuente del líquido hasta el orificio de entrada. El séptimo elemento es una segunda válvula de un solo orificio en comunicación de fluido con el orificio de salida y adaptado para controlar el suministro del producto gaseoso desde el orificio de salida.
Una quinta forma de realización del aparato es similar a la cuarta forma de realización, pero incluye un índice que se puede observar visualmente sobre la pared exterior del contenedor y/o sobre una superficie exterior de al menos una de las primera y segunda válvulas de orificio individual. El índice designa una colocación deseada del contenedor en una posición deseada predeterminada. Cuando el contenedor está colocado aproximadamente en la posición deseada predeterminada, el segundo orificio está localizado en el espacio de vapor. De una manera preferida, la posición deseada proporciona una distancia perpendicular entre la superficie del líquido substancialmente horizontal y el segundo orificio en o substancialmente cerca de una distancia perpendicular máxima que se puede alcanzar entre la superficie del líquido y el segundo orificio.
Como con el aparato, existen varias formas de realización y variaciones de método para suministrar un producto gaseoso purificado. La primera forma de realización del método incluye etapas múltiples. La primera etapa es para proporcionar un contenedor substancialmente horizontal adaptado para contener un suministro del fluido. El contenedor tiene un eje longitudinal substancialmente horizontal, al menos una pared interior, un primer extremo, un segundo extremo opuesto al primer extremo, un orificio de salida adyacente al primer extremo, un orificio de entrada espaciado aparte del primer orificio de salida, y una parte interior abierta para contener el fluido entre la al menos una pared interior y el primero y segundo extremos. Al menos parte del interior abierto es un vapor. La segunda etapa característica consiste en proporcionar un tubo hueco alargado dispuesto en el interior abierto del contenedor horizontal. El tubo hueco alargado tiene un primer orificio, un segundo orificio espaciado aparte del primer orificio y un eje interno entre el primero y segundo orificios. El primer orificio está en comunicación de fluido con el orificio de salida y el segundo orificio está en comunicación de fluido con el espacio de vapor. Una porción del eje interno adyacente al segundo orificio está en un ángulo mayor que cero grados con relación al eje substancialmente horizontal. La tercera etapa consiste en proporcionar un medio de purificación dispuesto el al menos una porción del tubo hueco alargado entre el primer orificio y el segundo orificio. La cuarta etapa consiste en introducir una corriente del fluido en el orificio de entrada. La quinta etapa consiste en extraer una corriente del producto gaseoso purificado desde el orificio de salida.
Existen diversas variaciones de la primera forma de realización del método. En una variación, el producto gaseoso se utiliza en la fabricación de un dispositivo semiconductor. En otra variación, el fluido es seleccionado a partir de un grupo que consta de un gas comprimido, un gas comprimido licuado y un fluido supercrítico. Todavía en otra variación, el medio de purificación incluye al menos una capa de un material seleccionado a partir de un grupo que consta de al menos un catalizador, al menos un adsorbente y al menos una mezcla de los mismos. Todavía en otra variación, el ángulo es aproximadamente 45 grados (45º). Todavía en otra variación, el medio de control de entrada incluye al menos una válvula de un orificio y el medio de control de salida incluye al menos una válvula de un orificio.
Existen también formas de realización alternativas del método. Varias de estas formas de realización son similares a la primera forma de realización del aparato, pero incluyen una etapa adicional. Por ejemplo, una segunda forma de realización del método incluye la etapa de proporcionar un primer filtro dispuesto en el espacio de vapor y en comunicación de fluido con el segundo orificio. Una tercera forma de realización del método incluye la etapa adicional de proporcionar un segundo filtro adyacente al primer orificio y en comunicación de fluido con el tubo hueco
alargado.
En una cuarta forma de realización del método, el producto gaseoso es utilizado en la fabricación de un dispositivo semiconductor y el método incluye múltiples etapas. La primera etapa consiste en proporcionar un contenedor substancialmente horizontal que tiene una forma substancialmente cilíndrica adaptada para contener un suministro de un líquido que tiene una superficie de líquido substancialmente horizontal. El contenedor tiene un eje longitudinal substancialmente horizontal, una pared interior, una pared exterior, un primer extremo, un segundo extremo opuesto al primer extremo, un orificio de salida adyacente al primer extremo, un orificio de entrada espaciado separado del orificio de salida, y una parte interior abierta para contener el líquido entre la pared interior y el primero y segundo extremos. Al menos parte del interior abierto es un espacio de vapor por encima de la superficie de líquido. La segunda etapa característica consiste en proporcionar un tubo hueco alargado que está dispuesto en la parte interior abierta del contenedor horizontal. El tubo hueco alargado tiene un primer orificio y un segundo orificio espaciado separado del primer orificio y un eje interno entre el primero y segundo orificios. El primer orificio está en comunicación de fluido con el orificio de salida y el segundo orificio está en comunicación de fluido con el espacio de vapor. Una primera porción del tubo próxima al primer orificio está substancialmente paralela al eje longitudinal substancialmente horizontal. Una segunda porción del tubo distante del primer orificio está en un ángulo mayor que cero grados con relación al eje longitudinal substancialmente horizontal. Una tercera etapa consiste en proporcionar un medio de purificación que está dispuesto al menos en una porción del tubo hueco alargado entre el primer orificio y el segundo orificio. El medio de purificación comprende al menos una capa de un material seleccionado a partir de un grupo que está constituido por al menos un catalizador, al menos un adsorbente, y al menos una mezcla de los mismos. La cuarta etapa consiste en proporcionar un primer filtro dispuesto en el espacio de vapor y en comunicación de fluido con el segundo orificio. La quinta etapa consiste en proporcionar un segundo filtro adyacente al primer orificio y en comunicación con el tubo hueco alargado. La sexta etapa consiste en introducir una corriente de una fuente de líquido dentro del orificio de entrada. (La fuente del líquido puede ser gaseosa, líquida o un fluido de dos fases, o cualquier combinación de las mismas).La séptima etapa consiste en extraer una corriente del producto gaseoso purificado desde el orificio de
salida.
Una quinta forma de realización del método es similar a la cuarta forma de realización, pero incluye una etapa adicional. La etapa adicional consiste en proporcionar un índice que se puede observar visualmente sobre la pared exterior del contenedor y/o sobre una superficie exterior de al menos una de las primera y segunda válvulas de orificio individual. El índice designa una colocación deseada del contenedor en una posición deseada predeterminada. Cuando el contenedor está colocado aproximadamente en la posición deseada predeterminada, el segundo orificio está localizado en el espacio de vapor. De una manera preferida, la posición deseada proporciona una distancia perpendicular entre la superficie del líquido substancialmente horizontal y el segundo orificio en o substancialmente cerca de una distancia perpendicular máxima que se puede alcanzar entre la superficie del líquido y el segundo orificio.
Breve descripción de varias vistas de los dibujos
A continuación se describe la invención a modo de ejemplo con referencia al dibujo que se acompaña, en el que:
La figura 1 es una ilustración esquemática de una forma de realización de la invención.
Descripción detallada de la invención
La invención es un aparato 10 y un método para suministrar un producto gaseoso purificado desde un contenedor horizontal 12, tal como el cilindro horizontal mostrado en la figura 1, utilizando una válvula de un orificio. Esto se realiza utilizando una válvula 38 separada para llenar el contenedor horizontal y una válvula 36 separada para extraer el producto gaseoso purificado, como se muestra en la figura 1.
Con referencia a la figura 1, la presente invención utiliza un tubo purificador 14 incorporado localizado dentro de un contenedor horizontal 12, tal como el cilindro horizontal mostrado. El medio (medios) de purificación 15 pueden ser a base de catalizadores o de adsorbentes o alguna combinación de los mismos, incluyendo múltiples adsorbentes y catalizadores. Si se utilizan múltiples adsorbentes o catalizadores, éstos se pueden mezclar de una manera homogénea o se pueden depositar en múltiples capas de diferentes medios de purificación dentro del tubo. El purificador incorporado está diseñado de tal manera que el fluido en el contenedor puede ser un gas comprimido, un gas comprimido licuado o un fluido supercrítico.
Cuando el fluido es un gas comprimido licuado, el tubo purificador 14 incorporado está configurado de tal manera que no actúa como un sifón para retirar líquido más que vapor. Para evitar un efecto de sifón de este tipo, el tubo está orientado de tal manera que la entrada del tubo se extiende por encima del nivel del líquido 16, de manera que la entrada abierta del tubo solamente se comunica con el espacio de vapor 18 por encima del nivel del líquido. En una forma de realización preferida, el tubo se dobla hacia arriba aproximadamente en un ángulo de 45 grados y termina dentro de aproximadamente 1 pulgada de la pared interior del contenedor 12.
Como resultado de la flexión del tubo 14 en un ángulo, tiene al menos dos porciones. Por ejemplo, puede tener una primera porción paralela al eje longitudinal horizontal del contenedor y una segunda porción en un ángulo con respecto al eje longitudinal horizontal del contenedor, siendo el ángulo mayor que cero grados, y de una manera preferida de aproximadamente 45º.
Con preferencia, cada porción del tubo tiene una configuración substancialmente uniforme que está substancialmente simétrica alrededor de un "eje interno" que corresponde a una línea central de cada porción del tubo. Sin embargo, los técnicos en la materia reconocerán que son posibles otros dispositivos. Por ejemplo, el tubo podría doblarse en más que un punto, dando lugar a más de dos porciones. Además, el tubo no tiene que ser substancialmente uniforme o substancialmente simétrico alrededor de un "eje interno", en cuyo caso el eje interno sería una línea imaginaria continua ("eje") dentro del tubo que se extiende desde un extremo del tubo hasta el otro extremo, pero no correspondería a una línea central individual (sino que se extendería más bien a través del tubo). Los técnicos en la materia reconocerán que el contenedor no tiene que tener una configuración uniforme simétrica alrededor del eje longitudinal horizontal del contenedor, aunque tal configuración es preferida en una forma de realización preferida.
La función principal del tubo purificador 14 consiste en extraer producto de vapor desde el espacio de vapor 18 y en impedir la entrada de líquido en la corriente de gas. En una forma de realización preferida, el tubo está soldado a un tapón esférico (no mostrado), en el que está enroscada la válvula de salida 36.
Con referencia de nuevo a la figura 1, el fluido entra por un extremo del contenedor 12 a través de un orificio de entrada, donde el flujo de fluido es controlado por una válvula de entrada 38. Un filtro 30 está localizado en la entrada del tubo purificador 14. El filtro actúa como una pantalla de retención para contener el medio purificador 15 y como un acolchado antivaho rudimentario para evitar una exposición grande o excesiva del medio de purificación al líquido debido a las salpicaduras del líquido durante el transporte y manipulación. Un segundo filtro 32 en la salida del tubo purificador está incluida para eliminar las partículas eventuales del gas que abandona el medio de purificación. El producto gaseoso purificado es extraído desde un orificio de salida del contenedor 12 desde el que el flujo de producto es controlado por la válvula de salida 36.
En una forma de realización preferida, el contenedor 12 es un depósito cilíndrico. No obstante, los técnicos en la materia reconocerán que el contenedor puede tener una forma distinta a la cilíndrica. El contenedor y/o una o ambas válvulas (36, 38) pueden estar marcadas por algún tipo de marcación (por ejemplo, una coloración, una flecha, una indentación) u otros medios, para que un operador coloque de una manera preferida el contenedor en una posición para asegurar que la entrada del tubo y el filtro 30 del tubo purificador 14 están orientados siempre de tal manera que la entrada del tubo está por encima del nivel del líquido 16.
El purificador incorporado elimina las impurezas introducidas en el tubo 14 desde el espacio de vapor 18. Puede eliminar impurezas individuales o múltiples, elementos o compuestos no deseados que podrían estar presentes en el fluido de entrada, o impurezas aportadas por el contenedor 12 o por el método y aparato de llenado. El medio de purificación 15 tiene una vida final, pero puede ser regenerado o substituido, dependiendo de su composición y de la aplicación particular.
El medio de purificación 15 es un material que elimina de forma selectiva las impurezas del producto de gas. El medio de purificación se puede producir a partir de varios materiales y se puede disponer como un conjunto de material múltiple a través de colocación en capas o mezcla en función del producto de gas y de las impurezas que se desea eliminar. Su tamaño de partículas variará también dependiendo del requerimiento del substrato y de la aplicación del producto de gas.
Después de que el vapor ha sido extraído desde el espacio de vapor 18 pasa a través de la pantalla 30, luego pasa a través de una frita (no se muestra), que es retenida por un anillo elástico (no se muestra) y entre en el medio de purificación 15 para eliminar las impurezas no deseadas. El vapor extraído desde el espacio de vapor puede contener impurezas en una concentración de pocas partes por millón, que será reducida a pocas partes por billón o hasta un nivel no detectable después de encontrarse con el medio de purificación. Un elemento de compresión (no se muestra) aplica una fuerza mecánica ligera sobre el medio de purificación para reducir al mínimo la fluidización durante los eventos de alto flujo y la deposición durante el transporte. La frita sirve para retener el medio de purificación en el tubo 14.
Después de pasar a través del medio de purificación 15, el vapor se encuentra con el segundo filtro 32, que retiene el medio de purificación en el extremo de salida del tubo 14 y filtra el producto gaseoso antes de que llegue a la válvula de salida 36 para suministrarlo a un sistema de distribución de gas (no se muestra) a través de la conexión 42.
Una válvula de retención 26 opcional aguas arriba de la válvula de salida 36 previene el flujo de retorno a través del purificador incorporado. Si se desea, la válvula de retención se puede incluir con el conjunto de válvula de salida 19.
Utilizando una válvula de un orificio para la válvula de salida 36, el tamaño del tubo 14 puede ser mayor que el tamaño posible si se utilizase una válvula de dos orificios. Como resultado, se puede utilizar una cantidad mayor de medio de purificación 15 en el tubo. Además, un tubo de diámetro mayor incrementa el par en voladizo admisible del tubo, permitiendo de esta manera un tubo de purificación más largo. El impacto doble de un tubo de diámetro mayor más una longitud mayor del tubo puede conducir a un volumen significativamente mayor del lecho y, por lo tanto, a una vida útil más larga del lecho purificador.
Aunque se ilustra y se describe aquí con referencia a ciertas formas de realización específicas, la presente invención no está destinada, sin embargo, a estar limitada a los detalles mostrados. En su lugar, se pueden realizar diversas modificaciones en los detalles dentro del alcance de las reivindicaciones.

Claims (22)

1. Un aparato (10) para suministrar un producto gaseoso purificado, que comprende:
un contenedor (12) substancialmente horizontal, que está adaptado para contener un suministro de un fluido, teniendo dicho contenedor un eje longitudinal substancialmente horizontal, al menos una pared interior, un primer extremo, un segundo extremo opuesto a dicho primer extremo, un orificio de salida adyacente a dicho primer extremo, un orificio de entrada espaciado aparte de dicho orificio de salida y una parte interior abierta para contener dicho fluido entre dicha al menos una pared interior y dichos primero y segundo extremos, siendo al menos parte de dicho interior abierta un espacio de vapor (18),
un medio de purificación (15) dispuesto en al menos una porción de dicho tubo hueco alargado (14) entre dicho primer orificio y dicho segundo orificio;
un medio de control de entrada (38) en comunicación de fluido con dicho orificio de entrada y adaptado para suministrar dicho fluido a dicho orificio de entrada; y
medios de control de salida (36) en comunicación de fluido con dicho orificio de salida y adaptados para controlar el suministro de dicho producto gaseoso desde dicho orificio de salida,
caracterizado porque
un tubo hueco alargado (14) está dispuesto en dicha parte interior abierta de dicho contenedor horizontal (12), teniendo dicho tubo hueco alargado un primer orificio, un segundo orificio espaciado aparte de dicho primer orificio, y un eje interno entre el primero y segundo orificios, estando dicho primer orificio en comunicación de fluido con dicho orificio de salida y estado dicho segundo orificio en comunicación de fluido con dicho espacio de vapor (18), donde una porción de dicho eje interno adyacente a dicho segundo orificio está en un ángulo mayor que cero grados con relación a dicho eje longitudinal substancialmente horizontal.
2. Un aparato según la reivindicación 1, en el que dicho medio de purificación 15 comprende al menos una capa de un material seleccionado a partir de un grupo de consta de al menos un catalizador, al menos un adsorbente y al menos una mezcla de ellos.
3. Un aparato según la reivindicación 1, en el que dicho fluido está seleccionado a partir de un grupo que consta de un gas comprimido, un gas comprimido, un gas comprimido licuado, y un fluido supercrítico.
4. Un aparato según la reivindicación 1, en el que dicho ángulo tiene aproximadamente 45 grados (45º).
5. Un aparato según la reivindicación 1, que comprende, además, un primer filtro (30) dispuesto en dicho espacio de vapor y en comunicación de fluido con dicho segundo orificio.
6. Un aparato según la reivindicación 5, que comprende un segundo filtro adyacente a dicho primer orificio (32) y en comunicación de fluido con dicho tubo hueco alargado.
7. Un aparato según la reivindicación 1, en el que dichos medios de control de entrada comprenden al menos una válvula de un orificio (38) y dichos medios de control de salida comprenden al menos una válvula de un orificio (36).
8. Un aparato según la reivindicación 1, en el que dicho producto gaseoso se utiliza en la fabricación de un dispositivo semiconductor.
9. Un aparato (10) según la reivindicación 1, para suministrar un producto gaseoso purificado que debe utilizarse en la fabricación de un dispositivo semiconductor, en el que el fluido de la reivindicación 1 es un líquido, en el que dicho tubo hueco alargado tiene una primera porción de dicho tubo próxima a dicho primer orificio que está substancialmente paralela a dicho eje longitudinal substancialmente horizontal y una segunda porción de dicho tubo distante de dicho primer orificio está en un ángulo mayor que cero grados con relación a dicho eje longitudinal substancialmente horizontal, en el que dicho medio de purificación comprende al menos una capa de un material seleccionado a partir de un grupo que consta de al menos un catalizador, al menos un adsorbente, y al menos una mezcla de ellos y que comprende, además,
un primer filtro (30) dispuesto en dicho espacio de vapor y en comunicación de fluido con dicho segundo orificio;
un segundo filtro (32) adyacente a dicho primer orificio y en comunicación de fluido con dicho tubo hueco alargado (14);
y en el que los medios de control de entrada son
una primera válvula (38) de un orificio en comunicación de fluido con dicho orificio de entrada y adaptada para controlar el suministro de una fuente de dicho líquido a dicho orificio de entrada;
y en el que los medios de control de salida son
una segunda válvula de un orificio (36).
10. Un aparato según la reivindicación 9, que comprende, además, un índice visualmente observable sobre dicha pared exterior de dicho contenedor (12) o sobre una superficie exterior de al menos una de dichas primera y segunda válvulas (36, 38) de un orificio, designando dicho índice una colocación deseada de dicho contenedor (12) en una posición deseada predeterminada, por lo que dicho segundo orificio está localizado en dicho espacio de vapor (18) cuando dicho contenedor (12) está colocado aproximadamente en dicha posición deseada predeterminada.
11. Un aparato según la reivindicación 10, en el que dicha colocación deseada proporciona una distancia perpendicular entre dicha superficie de líquido substancialmente horizontal y dicho segundo orificio en o substancialmente en la proximidad de una distancia perpendicular máxima que se puede alcanzar entre dicha superficie de líquido y dicho segundo orificio.
12. Un método para suministrar un producto gaseoso purificado, que comprende:
proporcionar un contenedor (12) substancialmente horizontal, que está adaptado para contener un suministro de un fluido, teniendo dicho contenedor un eje longitudinal substancialmente horizontal, al menos una pared interior, un primer extremo, un segundo extremo opuesto a dicho primer extremo, un orificio de salida adyacente a dicho primer extremo, un orificio de entrada espaciado aparte de dicho orificio de salida y una parte interior abierta para contener dicho fluido entre dicha al menos una pared interior y dichos primero y segundo extremos, siendo al menos parte de dicho interior abierta un espacio de vapor
(18),
proporcionar un medio de purificación (15) dispuesto en al menos una porción de dicho tubo hueco alargado (14) entre dicho primer orificio y dicho segundo orificio;
introducir una corriente de dicho fluido en dicho orificio de entrada; y
extraer una corriente de dicho producto gaseoso purificado desde dicho orificio de salida
caracterizado porque
un tubo hueco alargado (14) está dispuesto en dicha parte interior abierta de dicho contenedor horizontal (12), teniendo dicho tubo hueco alargado un primer orificio, un segundo orificio espaciado aparte de dicho primer orificio, y un eje interno entre el primero y segundo orificios, estando dicho primer orificio en comunicación de fluido con dicho orificio de salida y estado dicho segundo orificio en comunicación de fluido con dicho espacio de vapor (18), donde una porción de dicho eje interno adyacente a dicho segundo orificio está en un ángulo mayor que cero grados con relación a dicho eje longitudinal substancialmente horizontal.
13. Un método según la reivindicación 12, en el que dicho medio de purificación comprende al menos una capa de un material seleccionado a partir de un grupo de consta de al menos un catalizador, al menos un adsorbente y al menos una mezcla de ellos.
14. Un método según la reivindicación 12, en el que dicho fluido está seleccionado a partir de un grupo que consta de un gas comprimido, un gas comprimido, un gas comprimido licuado, y un fluido supercrítico.
15. Un método según la reivindicación 12, en el que dicho ángulo tiene aproximadamente 45 grados (45º).
16. Un método según la reivindicación 12, que comprende, la etapa adicional de proporcionar un primer filtro (30) dispuesto en dicho espacio de vapor y en comunicación de fluido con dicho segundo orificio.
17. Un método según la reivindicación 16, que comprende la etapa adicional de proporcionar un segundo filtro (32) adyacente a dicho primer orificio y en comunicación de fluido con dicho tubo hueco alargado.
18. Un método según la reivindicación 12, en el que dichos medios de control de entrada comprenden al menos una válvula de un orificio (38) y dichos medios de control de salida comprenden al menos una válvula de un orificio (36).
19. Un método según la reivindicación 12, en el que dicho producto gaseoso se utiliza en la fabricación de un dispositivo semiconductor.
20. Un método según la reivindicación 12, para suministrar un producto gaseoso purificado que debe utilizarse en la fabricación de un dispositivo semiconductor, en el que el fluido de la reivindicación 12 es un líquido, en el que dicho tubo hueco alargado tiene una primera porción de dicho tubo próxima a dicho primer orificio que está substancialmente paralela a dicho eje longitudinal substancialmente horizontal y una segunda porción de dicho tubo distante de dicho primer orificio está en un ángulo mayor que cero grados con relación a dicho eje longitudinal substancialmente horizontal, en el que dicho medio de purificación comprende al menos una capa de un material seleccionado a partir de un grupo que consta de al menos un catalizador, al menos un adsorbente, y al menos una mezcla de ellos y que comprende, además, las etapas de:
proporcionar un primer filtro (30) dispuesto en dicho espacio de vapor y en comunicación de fluido con dicho segundo orificio;
proporcionar un segundo filtro (32) adyacente a dicho primer orificio y en comunicación de fluido con dicho tubo hueco alargado (14);
21. Un método según la reivindicación 20, que comprende la etapa adicional de proporcionar un índice visualmente observable sobre dicha pared exterior de dicho contenedor (12) o sobre una superficie exterior de al menos una de dichas primera y segunda válvulas (36, 38) de un orificio, designando dicho índice una colocación deseada de dicho contenedor (12) en una posición deseada predeterminada, por lo que dicho segundo orificio está localizado en dicho espacio de vapor (18) cuando dicho contenedor (12) está colocado aproximadamente en dicha posición deseada predeterminada.
22. Un método según la reivindicación 21, en el que dicha colocación deseada proporciona una distancia perpendicular entre dicha superficie de líquido substancialmente horizontal y dicho segundo orificio en o substancialmente en la proximidad de una distancia perpendicular máxima que se puede alcanzar entre dicha superficie de líquido y dicho segundo orificio.
ES02015577T 2001-07-17 2002-07-12 Deposito de gran capacidad con purificador de gas integrado y dos valvulas. Expired - Lifetime ES2237635T3 (es)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/906,987 US6557591B2 (en) 2001-07-17 2001-07-17 Bulk gas built-in purifier with dual valve bulk container
US906987 2001-07-17

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ES2237635T3 true ES2237635T3 (es) 2005-08-01

Family

ID=25423352

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
ES02015577T Expired - Lifetime ES2237635T3 (es) 2001-07-17 2002-07-12 Deposito de gran capacidad con purificador de gas integrado y dos valvulas.

Country Status (9)

Country Link
US (1) US6557591B2 (es)
EP (1) EP1278005B1 (es)
KR (1) KR100498078B1 (es)
AT (1) ATE289037T1 (es)
DE (1) DE60202908T2 (es)
DK (1) DK1278005T3 (es)
ES (1) ES2237635T3 (es)
PT (1) PT1278005E (es)
TW (1) TW536421B (es)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6932945B2 (en) * 2001-06-19 2005-08-23 Air Products And Chemicals, Inc. Adsorbent based gas delivery system with integrated purifier
BRPI0512224A (pt) * 2004-06-18 2008-02-19 Boc Group Inc dispositivo de filtração para administração de gases armazenados
US7160359B2 (en) * 2004-07-02 2007-01-09 Air Products And Chemicals, Inc. Built in purifier for reactive gases
US7396381B2 (en) * 2004-07-08 2008-07-08 Air Products And Chemicals, Inc. Storage and delivery systems for gases held in liquid medium
US7648682B2 (en) * 2004-07-08 2010-01-19 Air Products And Chemicals, Inc. Wick systems for complexed gas technology
FR2878312B1 (fr) * 2004-11-22 2007-03-30 Air Liquide Procede de remplissage d'un recipient de fluide sous pression a entree et sortie separees
JP7011509B2 (ja) * 2018-03-27 2022-01-26 日本精線株式会社 ガスフィルタ及びこれを具えたガス供給装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1821549A (en) 1927-01-15 1931-09-01 E K Medical Gas Lab Inc Apparatus for dehydrating and purifying gases
US4032311A (en) * 1976-06-01 1977-06-28 Dacor Corporation Tank filter
JPS5953202B2 (ja) * 1980-09-02 1984-12-24 松下電器産業株式会社 水素ガス精製装置
JPH0649561B2 (ja) * 1986-02-03 1994-06-29 三菱重工業株式会社 高純度水素ガス精製方法
FR2659030B1 (fr) * 1990-03-02 1993-01-08 Air Liquide Enceinte et installation d'absorption pour separation des melanges gazeux.
US5254144A (en) * 1992-08-19 1993-10-19 Pyropower Corporation Method and appartus for separating particulate material from combustible gases
US5391358A (en) * 1992-08-21 1995-02-21 Praxair Technology, Inc. Gas purification system
GB9220975D0 (en) 1992-10-06 1992-11-18 Air Prod & Chem Apparatus for supplying high purity gas
JPH07289843A (ja) * 1994-04-26 1995-11-07 Babcock Hitachi Kk 排ガス浄化方法および装置
US5980599A (en) 1998-03-27 1999-11-09 Uop Llc In-tank purifier with bypass for filling
EP1037269A4 (en) 1998-09-03 2007-05-02 Taiyo Nippon Sanso Corp FEEDING DEVICE FOR BIG MERGE OF A PROCESSING GAS FOR SEMICONDUCTORS

Also Published As

Publication number Publication date
DE60202908D1 (de) 2005-03-17
TW536421B (en) 2003-06-11
DE60202908T2 (de) 2006-03-16
KR100498078B1 (ko) 2005-07-01
US20030015250A1 (en) 2003-01-23
EP1278005A1 (en) 2003-01-22
ATE289037T1 (de) 2005-02-15
PT1278005E (pt) 2005-04-29
EP1278005B1 (en) 2005-02-09
KR20030007207A (ko) 2003-01-23
DK1278005T3 (da) 2005-03-07
US6557591B2 (en) 2003-05-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ES2399457T3 (es) Aparato para tratar gas
US6453924B1 (en) Fluid distribution system and process, and semiconductor fabrication facility utilizing same
ES2405842T3 (es) Método y disposición en una columna de carga
CN100476273C (zh) 用于压力容器的失效保护排气阀
ES2686075T3 (es) Procedimiento y aparato para contacto gas/fluido mejorado
US6402949B1 (en) Portable water filtration system
US20020108670A1 (en) High purity chemical container with external level sensor and removable dip tube
CN102019248A (zh) 摆动喷嘴单元以及具有摆动喷嘴单元的基板处理装置
US20090014243A1 (en) Breather-sampling-filler assembly for liquid reservoirs/systems
CN105531203A (zh) 用于填充和分配液体的设备和方法
CN101654171A (zh) 十字吹扫阀和容器组件
US20020178911A1 (en) Process and apparatus for removing particles from high purity gas systems
ES2264829A1 (es) Destilador para liquidos, procedimiento de destilacion de liquidos y equipo para la depuracion de aguas residuales que incluye dicho destilador.
KR100822140B1 (ko) 가스 정화 장치
EP1278005B1 (en) Bulk gas built-in purifier with dual valve bulk container
US6325116B1 (en) Adapter for providing fluid control between a canteen and a face mask fluid tube
US20020070153A1 (en) Liquid dispenser with closed gravity filter and air breathing system
US3782549A (en) Filter and aerator device
KR100824162B1 (ko) 유해 가스 제거 장치
ES2233076T3 (es) Metodo y sistema de limpieza basados en fluido.
US6805848B2 (en) Built-in purifier for horizontal liquefied gas cylinders
AR029982A1 (es) Una planta para purificar agua contaminada por gotitas de liquidos hidrocarbonados
ES2579427T3 (es) Dispositivo y procedimiento para el tratamiento de agua de calefacción
CN1286647A (zh) 高压石英玻璃鼓泡安瓿及其组件
CN1114777C (zh) 用于压力容器的失效保护排气阀