ES2304145T3 - Procedimiento y dispositivo para realizar espectrometria de emision. - Google Patents
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Abstract
Procedimiento para realizar espectrometría de emisión, en especial, espectrometría de emisión láser, en la que se enfoca automáticamente un rayo láser con impulsos sobre una pieza a trabajar para generar un plasma inducido por láser, en la que se detecta la radiación emitida por el láser y con el espectro de emisión se realiza un análisis elemental, caracterizado porque, antes de la generación del plasma, además de determinar la distancia entre la óptica de autoenfoque y la superficie de la pieza a trabajar, se determinan los parámetros geométricos adicionales P1, P2 ... PN de un lugar potencial de medición sobre la superficie de la pieza a trabajar, y sólo se realiza un análisis elemental para los lugares potenciales de medición sobre los que se encuentra, como mínimo, uno de los parámetros geométricos adicionales dentro de un intervalo de tolerancias [T1...T2] predefinido.
Description
Procedimiento y dispositivo para realizar
espectrometría de emisión.
La invención se refiere a un procedimiento y a
un dispositivo para el análisis multi-elemental
cuantitativo y cualitativo de objetos a medir móviles mediante
espectrometría de emisión, preferentemente, espectrometría de
emisión láser.
En la espectrometría de emisión láser, la
concentración de cada elemento químico en una muestra se determina
generando, mediante un rayo láser enfocado, un plasma sobre la
superficie del objeto a medir, y determinando la concentración del
elemento observado en la muestra mediante la utilización de las
emisiones del plasma inducido por láser específicas del
elemento.
En la figura 1 se muestran las magnitudes
relevantes para la generación del plasma inducido por láser sobre la
superficie del objeto a medir. Una óptica de enfoque (1) enfoca un
rayo láser de impulsos (2) en la dirección de propagación (3) sobre
un elemento de superficie (4) del objeto a medir. El sistema de
coordenadas está elegido de forma que la dirección de propagación
(3) del rayo láser (2) es paralela y opuesta al eje (z). La normal
(5) al elemento de superficie (4) forma un ángulo \alpha entre el
eje (z) y el eje del rayo láser. El punto de penetración (6) de la
dirección de propagación (3) en el elemento de superficie (4) es el
centro de la proyección (7) de la sección transversal del rayo
láser sobre el elemento de superficie (4). La distancia entre el
plano focal (8) del rayo láser (2) y el punto de penetración (6) se
designa con la referencia \Deltas. Cuando el plano focal (8),
visto desde la óptica de enfoque, está detrás del punto de
penetración (6), el valor de \Deltas es positivo. Generalmente se
elige un valor de \Deltas positivo. La distancia entre la óptica
de enfoque (1) y el punto de penetración (6) se designa con la letra
(d).
La emisión del plasma inducido por láser en el
lugar (6) es recogida por la óptica de recepción de la unidad de
detección (9) y se conduce a un espectrómetro. La unidad de
detección del espectrómetro determina, para una cantidad de tiempo
definida, la emisión integrada en el tiempo de las líneas
espectrales emitidas. Sobre la base de las emisiones de las líneas
espectrales emitidas, integradas por segmentos de tiempo, se
determina luego mediante una función de calibrado la concentración
de cada elemento analizado en la muestra. Para ello, es conocido el
cálculo de la magnitud de entrada de la función de calibrado a
partir de la relación entre la emisión de una línea de análisis
observada y una combinación de emisiones de otras líneas espectrales
o una señal medida representativa de la emisión total del
plasma.
La espectrometría de emisión láser se puede
realizar, a elección, con una óptica de enfoque de distancia focal
fija o variable.
En la espectrometría de emisión láser con óptica
de enfoque de distancia focal fija, el objeto a medir debe estar
posicionado con una precisión de pocos milímetros, a fin de
conseguir, mediante un calibrado previo, un resultado cuantitativo
de la concentración de elementos analizados en el material del
objeto a medir. Cuando se modifica la posición de la muestra
respecto al punto focal fijo del rayo láser o se modifica la
inclinación del elemento de superficie (4), cambia el ángulo
espacial detectado de la emisión del plasma debido al cambio de la
distancia entre la superficie de la muestra y la posición fija de la
óptica de recepción de la unidad de detección (9) o debido a que el
objeto a medir oculta parcialmente el plasma inducido por láser.
Esta modificación se puede compensar en parte, analizando la
relación entre la señal medida de la línea de emisión y una
combinación de otras señales de emisión de líneas y una señal
proporcional a la emisión total del plasma observado. Este
procedimiento se denomina "referenciación" o "normalización
interna".
Otro error sistemático se produce por una
característica modificada de la emisión del plasma inducido por
láser. Por ello, es difícil o imposible obtener un resultado
cuantitativo de las concentraciones de elementos a analizar en el
material del objeto a medir, o bien la concentración medida de los
elementos a analizar adolece de errores.
Esta última causa de errores puede ser subsanada
en parte utilizando una unidad de autoenfoque combinada con un
láser de impulsos de intervalo de repetición fijo, tal como dan a
conocer M. Stepputat y otros, en VDI-Berichte,
1667, 35-40 (2002). Los autores proponen determinar
en la unidad de autoenfoque la distancia a la superficie de la
muestra mediante un sensor de triangulación de láser y ajustar a
esta distancia el punto focal del láser de análisis. En esta
configuración, el rayo láser de la unidad de triangulación y el rayo
láser del láser de análisis están dispuestos coaxialmente.
La invención tiene por objeto subsanar el
problema técnico mediante un procedimiento y un dispositivo de mayor
precisión de medida, destinados a la espectrometría de emisión, en
especial la espectrometría de emisión láser, en concreto, para el
análisis espectrométrico de objetos en movimiento.
La solución de este problema técnico se realiza
mediante las características de las reivindicaciones independientes.
En las reivindicaciones dependientes se presentan
perfeccionamientos ventajosos.
Según la invención, se ha reconocido que este
problema técnico se puede resolver mediante un procedimiento en el
que, antes de la generación del plasma, además de la distancia (d)
entre la óptica de autoenfoque y la superficie de la pieza a
trabajar, se determinan los parámetros geométricos adicionales P1,
P2 ... PN de un lugar potencial de medición sobre la superficie de
la pieza, y sólo se lleva a cabo un análisis elemental para los
lugares potenciales de medición en los que, como mínimo, uno de los
parámetros geométricos adicionales está dentro de un intervalo de
tolerancias [T1 ... T2] predeterminado.
La solución propuesta se basa en el
descubrimiento de que, según el estado de la técnica, también se
detectan sobre el objeto a medir lugares de medición cuya
superficie, desde el punto de vista de la geometría, no es adecuada
para una medición cuantitativa. Una medición lo más precisa posible
requiere que la composición geométrica del lugar de medición sea en
gran medida idéntica a la utilizada para el registro de la curva de
calibrado. Si la curva de calibrado se ha medido con los parámetros
geométricos P1, P2 ... PN, sólo cumplirá con exactitud su función
deseada si durante la medición de un objeto de medida, además de los
parámetros fijos tales como, en especial, los parámetros del láser,
están presentes los mismos parámetros geométricos.
Por ello, como aproximación a esta situación
óptima, se propone que, en una primera etapa, se predefina una zona
de tolerancias [T1 ... T2] para los parámetros geométricos P1, P2
... PN que represente del mejor modo posible los correspondientes
parámetros geométricos presentes durante la medición de calibrado.
Dicho de otra manera, los parámetros geométricos predeterminados,
en lo referente a su tipo e intervalo de tolerancias, se deben
corresponder con los parámetros geométricos con los que se ha
registrado la curva de calibrado. La amplitud del intervalo de
tolerancias depende de las exigencias de precisión de la
determinación de concentraciones de cada aplicación y de las
limitaciones impuestas por los componentes utilizados.
En una segunda etapa, se miden los mismos
parámetros geométricos P1, P2 ... PN en lugares potenciales de
medición de la pieza a trabajar.
De todas maneras, el funcionamiento de
autoenfoque la distancia (d) entre la óptica de autoenfoque y la
superficie de la pieza a trabajar se determina de modo continuo en
forma de parámetro geométrico. Según la presente invención, sólo se
lleva a cabo un análisis elemental para los lugares potenciales de
medición en los que, como mínimo, uno de los parámetros geométricos
adicionales está dentro de un intervalo de tolerancias [T1 ... T2]
predeterminado.
Preferentemente, uno de los parámetros
geométricos es la distancia (d) entre la óptica de enfoque y la
superficie de la pieza a trabajar. También esta distancia (d)
debería estar dentro de un intervalo de tolerancias definido
mediante la medición de calibrado, y se debe destacar que el
intervalo de tolerancias del parámetro (d) es independiente de la
zona dentro de la cual funciona de modo fiable el dispositivo de
autoenfoque.
También es ventajoso determinar en forma de
parámetro geométrico la inclinación \alpha de la superficie de la
pieza a trabajar respecto al eje del rayo láser en el lugar
potencial de medición. Mediante el ajuste de este parámetro dentro
de un intervalo de tolerancias, se tiene expresamente en cuenta que
el espectro de emisión del plasma depende de la inclinación en el
lugar de la medición. Teniendo en cuenta sistemáticamente esta
relación de dependencia se consigue el aumento deseado de la
precisión de medida.
Según lo expuesto anteriormente, los parámetros
geométricos relevantes (d) y \alpha deberían estar dentro de un
intervalo de tolerancias:
d_{u} \leq d
\leq
d_{o}
-\alpha_{máx}
\leq \alpha \leq
\alpha_{máx}
De esta manera, estos parámetros definen un
espacio de proceso dentro del cual se lleva a cabo la espectrometría
de emisión. Naturalmente, en caso necesario se puede aplicar esta
forma de proceder a un mayor número de parámetros geométricos.
Para comprobar que los lugares de medición
realmente presentan parámetros geométricos dentro del espacio de
medición, se prevé determinar mediante una procedimiento de
triangulación, antes de la inducción del plasma, el perfil
superficial de, como mínimo, una zona parcial de la superficie de la
pieza a trabajar, y calcular los parámetros geométricos adicionales
a partir de dicho perfil superficial. Para los parámetros
geométricos relevantes, los valores reales determinados de esta
manera se comparan con los valores teóricos prefijados, o se
comprueba que, como mínimo, un parámetro geométrico del lugar de
medición se encuentra dentro del intervalo de tolerancias
predefinido. La precisión de la medición aumenta considerablemente
cuando todos los parámetros geométricos están dentro del intervalo
de tolerancias.
Para hacer posible una selección automática de
puntos de medición adecuados, se han previsto medios para la
medición de la superficie de las muestras que también funcionan
transversalmente respecto a la dirección de desplazamiento del
objeto a medir. Por ejemplo, en el procedimiento según la invención,
se puede determinar la distancia (d) entre el elemento de
superficie (4) y la óptica de enfoque (1), mediante una unidad de
triangulación (17), según muestra la figura 4a. La figura 4b muestra
esquemáticamente la disposición de los puntos de superficie (15)
determinados del objeto a medir. Una unidad de triangulación (17)
mide, de forma simultánea o sucesiva, las distancias verticales
(s1), (s2), (s3), etc., entre un plano de referencia y puntos de
medición discretos (15) situados sobre la superficie del objeto a
medir. La unidad de triangulación se puede realizar, por ejemplo,
mediante un sensor de intersección luminosa, una unidad de
triangulación multipunto o varios sensores de triangulación. La
distancia (DT) entre las líneas (14) y (14') viene determinada por
el intervalo entre mediciones de la unidad de triangulación y por
la velocidad de la superficie del objeto a medir (4'). El recorrido
de la superficie de la muestra (4') entre los puntos de medición de
la triangulación (15) se determina mediante interpolación.
De lo anteriormente expuesto se desprende que el
procedimiento según la invención, se puede utilizar ventajosamente
para la inspección de objetos en movimiento. Así pues, es posible
realizar mediciones de piezas que se desplazan sobre una cinta
pasando por delante del láser de análisis, por ejemplo, chatarra de
aluminio o desechos eléctricos.
La medición se realiza de modo que sólo se lleva
a cabo un análisis elemental en los lugares potenciales de medición
en los que, como mínimo, uno de los parámetros geométricos
adicionales está dentro de un intervalo de tolerancias [T1 ... T2]
predeterminado. Para ello, se pueden desechar los datos de lugares
de medición no adecuados, o bien solamente se induce plasma en los
lugares cuyos parámetros geométricos predeterminados se encuentran
dentro del intervalo de tolerancias. En este último caso, cuando no
existe un lugar de medición adecuado, es ventajoso emitir sólo un
impulso de bombeo y no un impulso láser. De esta manera, se aumenta
la estabilidad térmica del láser.
También se puede prever que el rayo láser se
desvíe transversalmente respecto a la dirección de movimiento del
objeto a medir. De esta manera se pueden elegir, no sólo lugares
potenciales de medición en la dirección de avance del láser de
análisis, sino también lugares de emisión perpendiculares a dicha
dirección de avance. Esto aumenta el número de puntos de medición
aprovechables sobre la superficie del objeto a medir, con lo que
aumenta la precisión y la fiabilidad del análisis y de la
identificación.
En especial cuando se trata de objetos a medir
pequeños y que se desplazan rápidamente en relación con el rayo
láser, existe el riesgo de que se encuentren en total pocos puntos
de medición adecuados. En este caso, el resultado de la medición
adolece de un considerable error estadístico. Para aumentar la
precisión de la medición, en una forma de realización preferente de
la invención se propone aplicar el rayo láser con un intervalo
entre impulsos \DeltaT variable.
El intervalo entre impulsos se puede elegir,
inicialmente, de forma que para una velocidad relativa mayor entre
el láser de análisis y el objeto a medir el intervalo entre impulsos
se reduzca, y que aumente para una velocidad relativa menor.
También se puede elegir un menor intervalo entre impulsos para
objetos a medir pequeños, a fin de aumentar la probabilidad de
poder realizar una medición. El número mayor de posibles mediciones
que se consigue de esta forma mejora la precisión estadística del
resultado del análisis.
Cuando se emplea la variación de impulsos, el
intervalo entre impulsos se elige de forma que es de dentro de una
zona de tolerancias [\DeltaT_{min} ... \DeltaT_{máx}]
predeterminada. Esto aumenta la fiabilidad y la estabilidad del
sistema.
El intervalo de tiempo entre dos impulsos láser
se designa \DeltaT y habitualmente es constante. Sin embargo, en
un sistema láser se puede variar dentro de un intervalo limitado.
Las posibles restricciones de la regulación del intervalo entre
impulsos y, con ello, de la frecuencia de repetición momentánea del
láser de análisis, pueden deberse, por ejemplo, a una mayor
dispersión de la energía de los impulsos, a una modificación de la
estabilidad térmica del láser de análisis y a la consecuente
modificación del perfil o de la dirección de los rayos, o bien a
que se superen los valores límites de la electrónica de bombeo para
la generación de impulsos de bombeo del medio láser.
La variación de impulsos se realiza
ventajosamente de forma que, cuando un dispositivo de detección
adecuado, por ejemplo, una barrera óptica, una unidad de
triangulación o un dispositivo similar, detecta un objeto a medir,
se selecciona para el láser de análisis un intervalo entre impulsos
menor que cuando no se detecta ningún objeto a medir. Esta forma de
proceder hace que se realice el mayor número posible de mediciones
cuando hay presente un objeto, lo cual aumenta la precisión
estadística de la medición. En cambio, cuando el láser de análisis
no detecta ningún objeto a medir, se aumenta el intervalo entre
impulsos, lo que mejora el rendimiento térmico del láser.
Cuando se captan parámetros geométricos
adicionales y solamente se realiza una medición en los lugares en
los que, como mínimo, uno de los parámetros geométricos adicionales
se encuentra dentro de un intervalo de tolerancias predeterminado,
del modo antes descrito, si el láser de análisis detecta una
posición de medición adecuada se selecciona un intervalo entre
impulsos menor que cuando no se detecta ninguna posición de medición
adecuada. Se designa como posición de medición adecuada una
posición de medición cuyos parámetros geométricos predeterminados
están dentro del espacio de proceso seleccionado por el usuario. Por
ello, el procedimiento óptimo es seleccionar, inicialmente, el
intervalo entre impulsos \DeltaT_{m\text{í}n} para el primer
caso, y \DeltaT_{máx} para el segundo caso.
No obstante, también se debe tener en cuenta que
cuando se irradia durante un tiempo prolongado con el láser a
intervalos entre impulsos \DeltaT_{m\text{í}n} o con frecuencia
de repetición máxima, la carga térmica del láser es muy elevada.
Por ello, para asegurar la estabilidad sistema es necesario ajustar
el intervalo medio entre impulsos \DeltaT al valor teórico
\DeltaT_{teórico}, para lo cual se pueden utilizar los
procedimientos de regulación conocidos. Es decir, que el intervalo
promedio entre impulsos \DeltaT_{medio} varía alrededor del
valor teórico \DeltaT_{teórico}.
Igualmente, se ha previsto que cuando no hay
ningún objeto a medir en la posición de medición, el intervalo
entre impulsos se regule al valor teórico \DeltaT_{teórico} del
sistema láser mediante procedimientos de regulación conocidos. El
valor teórico \DeltaT_{teórico} es el intervalo entre impulsos
especificado para el funcionamiento con una frecuencia de
repetición constante. Sin embargo, cuando un objeto a medir se
encuentra en la posición de medición, se selecciona el intervalo
entre impulsos individualmente para cada impulso. El intervalo
entre impulsos se ajusta siempre dentro de una zona
[\DeltaT_{m\text{í}n}, \DeltaT_{máx}] específica para el
sistema y la aplicación, que también depende de los intervalos entre
impulsos de los impulsos emitidos con anterioridad. Para cada
intervalo entre impulsos \DeltaT se determinan nuevamente, los
valores límite posibles \DeltaT_{m\text{í}n} y
\DeltaT_{máx}, o bien se ajusta el intervalo entre impulsos
individualmente para cada impulso. Para ello, se utilizan los
valores límite \DeltaT_{m\text{í}n} y \DeltaT_{máx}, que
dependen del aparato, para cada intervalo entre impulsos \DeltaT,
así como el intervalo medio entre impulsos \DeltaT_{medio,N} de
los últimos "N" impulsos generados por el láser. Los intervalos
entre impulsos \DeltaT de los impulsos láser siempre se eligen de
forma que el intervalo medio entre impulsos \DeltaT_{medio,N} de
los últimos "N" impulsos siempre tenga un valor situado en la
zona [\DeltaT_{medio,N}^{m\text{í}n},
\DeltaT_{medio,N}^{máx}]. En resumen, esto se puede describir
mediante las expresiones siguientes:
Cuando un objeto a medir se encuentra en la
posición de medición, los valores de \DeltaT_{m\text{í}n} y
\DeltaT_{máx} se determinan según las reglas siguientes:
- \DeltaT_{m\text{í}n =}\DeltaT_{g}^{m\text{í}n} para \DeltaT_{medio,N \ >} \DeltaT_{medio,N}^{m\text{í}n}
- \DeltaT_{m\text{í}n =}\DeltaT_{g}^{máx} para \DeltaT_{medio,N} \leq \DeltaT_{medio,N}^{m\text{í}n}
- \DeltaT_{máx =}\DeltaT_{g}^{máx} para \DeltaT_{medio,N} < \DeltaT_{medio,N}^{máx}
- \DeltaT_{máx =}\DeltaT_{g}^{m\text{í}n} para \DeltaT_{medio,N} \geq \DeltaT_{medio,N}^{máx}
\vskip1.000000\baselineskip
La limitación de los intervalos entre impulsos
\DeltaT posibles antes descrita hace que no sea posible medir
cualquier punto de la superficie de la muestra cuando un objeto a
medir se desplaza por delante del sistema de análisis a una
velocidad (v) constante en una dirección perpendicular a la
dirección (3) de propagación de los rayos. Como contraste, se
obtiene la trama de posibles zonas de medición (10) y (10') en la
superficie (4') de la muestra, representada en la figura 2. La
longitud (MX) de una zona de medición (10') depende de las
limitaciones de los intervalos entre impulsos \DeltaT. La
distancia (11) entre el último punto de incidencia (12) del láser de
análisis (19) en la zona de medición (10) y el comienzo de la
siguiente zona de medición (10') viene dada por el intervalo entre
impulsos mínimo ajustable \DeltaT_{m\text{í}n} y la velocidad
(v) del objeto a medir, y es v x \DeltaT_{m\text{í}n}. De forma
análoga, el final de la zona de medición (10') está a una distancia
(13) de la posición de medición (12) igual al producto del intervalo
entre impulsos \DeltaT_{máx} máximo ajustable por la velocidad
(v) del objeto a medir, o sea, v x \DeltaT_{máx}.
La figura 3 muestra como ejemplo la zona de
medición (10') en el plano (yz) en forma rectangular. La altura de
la zona de medición (10') en la dirección (z) se designa (MZ) y
viene dada por las distancias regulables mínima y máxima (d_{u})
y (d_{o}) entre el punto de penetración (6) y la óptica de enfoque
(1). El ancho (MY) de la zona de medición (10') está determinado por
el ángulo \gamma de desviación de rayos máximo ajustable con la
óptica de enfoque y por la distancia (d_{u}) mínima ajustable,
como límite del intervalo de enfoque (MZ). El ancho (MY) se elige de
forma que para cada coordenada (y) dentro de (MY) y dentro del
ángulo máximo \gamma de desviación de rayos, se pueda llegar
hasta cualquier posición vertical (z) dentro de la zona de enfoque
(MZ).
Se busca localizar la posición de medición (12')
más próxima posible dentro del espacio de medición (10') de manera
que los parámetros antes citados de intervalo entre impulsos
\DeltaT, la distancia (y), la distancia (d) y el ángulo de
inclinación \alpha estén dentro del espacio de proceso, para poder
realizar la medición siguiente en dicha posición. Así pues, el
espacio de proceso está definido como:
d_{u} \leq d
\leq
d_{o}
-\alpha_{máx}
\leq \alpha \leq
\alpha_{máx}
y_{u} \leq y
\leq
y_{o}
\Delta
T_{m\text{í}n} \leq \Delta T \leq \Delta
T_{máx}
\newpage
Para poder posicionar cada impulso láser en las
posiciones óptimas de medición (12), (12') a determinar de dicha
manera, se calcula mediante el control del sistema el momento de la
generación del impulso láser, y mediante una unidad de desviación
de rayos se posiciona el rayo del láser de análisis transversalmente
respecto a la dirección de avance, es decir, en la dirección (y).
En comparación con el estado de la técnica, mediante este
procedimiento se aumenta considerablemente el número de mediciones
aprovechables realizadas sobre piezas en desplazamiento.
La figura 5 muestra la realización del
procedimiento. En el momento (t_{A}) la unidad de triangulación
(17) detecta en la posición (x_{A}) la superficie (4') del objeto
a medir. Para cada línea (14) medida, los valores de distancia (s)
de los puntos de medición de triangulación (15) se transmiten al
dispositivo (18) de regulación del autoenfoque. El dispositivo de
regulación del autoenfoque, mediante el recorrido de la superficie
interpolado, determina en la siguiente zona de medición (10')
válida el siguiente punto de medición (12') posible, cuyos
parámetros \DeltaT, (d) y \alpha están dentro del espacio de
proceso válido. Preferentemente, la búsqueda en el siguiente
espacio de medición (10') de una posición de medición (12') con un
espacio de medición válido se realiza con valores crecientes de
\DeltaT y, para cada valor de \DeltaT, con distancias crecientes
respecto a la coordenada (y) de la posición de medición (12) de la
zona de medición (10). De esta manera, se da preferencia a los
puntos de medición que, dentro de la zona de medición (10'), se
encuentran a una distancia espacial mínima respecto al impulso
anterior. Con ello siempre se consigue el número máximo de puntos de
medición (12), (12') sobre la superficie (4') de la muestra, posible
dentro del marco de la aplicación.
En caso de que en la zona de medición (10') no
se pueda encontrar ningún punto de medición (12') dentro del
espacio de proceso, se emite un impulso de bombeo del láser, pero no
un impulso de láser. El intervalo entre impulsos \DeltaT se
determina entonces del modo siguiente:
\Delta T =
\Delta T_{g}{}^{m\text{í}n} \ para \ \Delta T_{medio,N} \ > \
\Delta
T_{teórico}
\Delta T =
\Delta T_{g}{}^{máx} \ para \ \Delta T_{medio,N} \ \leq \ \Delta
T_{teórico}
Con ello se aumenta la estabilidad térmica del
sistema láser y, al mismo tiempo, se regula el intervalo medio
entre impulsos \DeltaT_{medio,N} al valor teórico
\DeltaT_{teórico}. En caso de que para un número definido de
impulsos ya se hubieran emitido impulsos de bombeo en vez de
impulsos láser, y fuera necesario emitir nuevamente sólo un impulso
de bombeo, se emitirá un impulso láser cuyos valores de medición se
desechan. Mediante estos "impulsos ciegos" se aumenta la
estabilidad térmica del láser.
La figura 6 muestra, a título de ejemplo, la
regulación descrita de las distancias entre impulsos para las
mediciones sobre un objeto a medir en el plano (xz). El eje (x) está
representado por un eje temporal equivalente (eje -t-). La
referencia (P) designa un impulso de bombeo emitido, y la referencia
(L) designa un impulso láser emitido. En los momentos (t_{1}) y
(t_{2}) no hay ningún objeto a medir en la posición de medición,
y para los intervalos entre impulsos se selecciona el valor
\DeltaT_{teórico}. Se emiten impulsos de bombeo (P) pero no
impulsos láser (L). En los momentos (t_{3}) y (t_{4}), el objeto
a medir está en posición, la superficie está en las zonas de
medición (10^{3}'), (10^{4}') y se elige el valor
\DeltaT_{g}^{m\text{í}n} para los dos intervalos entre
impulsos. Esto debe permitir realizar el mayor número posible de
mediciones sucesivas. Se emiten impulsos de bombeo (P) e impulsos
láser (L). En el momento (t_{5}) no se puede encontrar ninguna
posición de medición en la zona de medición (10^{5}), por lo que
se ajusta un intervalo entre impulsos de \DeltaT_{g}^{máx}.
Se emite un impulso de bombeo (P) pero no un impulso láser (L). En
el momento (t_{9}) ya se han realizado tres mediciones en los
momentos (t_{6}) a (t_{8}) con un intervalo entre impulsos de
\DeltaT_{g}^{m\text{í}n}, y el intervalo medio para los tres
impulsos ya ha alcanzado el valor límite \DeltaT_{medio,3}. Por
ello, el intervalo mínimo ajustable \DeltaT_{m\text{í}n} pasa a
ser \DeltaT_{g}^{máx} y el intervalo entre impulsos \DeltaT
sólo puede ser ajustado a \DeltaT_{g}^{máx}. Se encuentra una
posición de medición adecuada y se emiten un impulso de bombeo y un
impulso láser, con un intervalo entre impulsos de
\DeltaT_{g}^{máx}. En el momento (t_{12}) no se puede
encontrar en la zona de medición (10^{12}') ninguna posición cuyos
parámetros estén dentro del espacio de proceso. El ángulo de
inclinación \alpha de la normal a la superficie es demasiado
grande, o bien los elementos de superficie están fuera de la zona
(MZ) de medición vertical. Dado que la duración media de impulsos
debe ser \DeltaT_{medio,3} < \DeltaT_{teórico}, el
intervalo entre impulsos se ajusta a \DeltaT_{g}^{máx}. En el
momento (t_{14}) el objeto a medir ya no está en la posición de
medición, y los intervalos entre impulsos se vuelven a ajustar a
\DeltaT_{teórico}.
Para la siguiente posición de medición (12')
posible determinada, en el momento (t_{B}) de llegada del objeto
a medir (16) a la posición de medición (x_{B}), se utilizan los
parámetros \DeltaT, (y) y (d) para enfocar el rayo láser (2)
sobre la superficie (4') del objeto a medir (16) mediante la óptica
de enfoque (1). La óptica de enfoque (1), que consta de la óptica
de autoenfoque (1a) y de la unidad de desviación de rayos (1b),
enfoca el rayo láser (2) del láser de análisis (19) sobre la
superficie (4') de la muestra, en la posición de medición (x_{B}),
según muestra la figura 5.
Para ajustar la posición del punto focal del
láser se procede del modo siguiente. Se ajusta la distancia vertical
(d) mediante la óptica de autoenfoque (1a). La zona de medición
vertical ajustable es (MZ). La magnitud de ajuste de la óptica de
autoenfoque se elige de manera que (\Deltas) sea constante para
todas las mediciones. Mediante la unidad de desviación de rayos (1b)
se ajusta la coordenada (y) de la siguiente posición de medición
(12'). La zona ajustable de este traslado horizontal es (MY).
Mediante el momento de la medición se ajusta la coordenada (x) de
la siguiente posición de medición (12'). La longitud de la zona de
medición (10') ajustable es (MX).
\newpage
La óptica de autoenfoque (1a) se puede realizar,
por ejemplo, con un sistema de dos lentes, compuesto por una lente
cóncava y una lente convexa, de modo que, mediante un movimiento de
la lente cóncava paralelo al eje óptico, se pueda variar la
distancia del punto focal respecto a la óptica de enfoque (1). La
unidad de desviación (1b) se puede realizar, por ejemplo,
utilizando un sistema de escaneado (X/Y) en combinación con un
objetivo theta (F).
La emisión del plasma (6) inducido por láser en
la posición de medición (x_{B}) es recogida por la óptica de
recepción de la unidad de detección (9) y conducida a un
espectrómetro (20).
La óptica de recepción de la unidad de detección
(9) está configurada de modo tal que se puedan detectar las
emisiones de plasma en toda la zona de medición (MX) (MY), según
muestra la figura 3. Esto se puede conseguir, por ejemplo, mediante
un haz de fibras que posee una sección transversal en forma de
líneas, dispuesto paralelamente al eje (y) en el lugar de la
medición, el cual puede detectar las emisiones de plasma de cada
lugar posible de medición, cuyo lado orientado hacia el
espectrómetro está adaptado mediante el cambio de sección
transversal a la rendija de entrada del espectrómetro, y que está
montado antes del mismo. La unidad de dispersión (20a) del
espectrómetro (20) descompone el espectro de emisión del plasma
detectado, y la unidad de detección (20b) del espectrómetro
determina, para un periodo de tiempo definido, la emisión integrada
en el tiempo de las líneas espectrales observadas. Una función de
corrección f(\alpha) corrige la variación de la emisión de
plasma integrada en el tiempo de todas las líneas de emisión
observadas debida al ángulo \alpha, respecto al valor
correspondiente, por ejemplo, al caso en que \alpha=0º. En general
no se realiza una corrección del espectro de emisión cuando el
ángulo de inclinación \alpha se aparta de un valor predeterminado
\alpha_{K}.
La concentración de cada elemento a analizar
observado en la muestra se determina mediante una función de
calibrado. Para ello, la unidad de detección (20b) calcula para cada
emisión del plasma las señales de referencia de cada impulso que
corresponden a una línea del elemento a analizar. Estas señales de
referencia se calculan a partir de la relación entre la emisión
integrada en el tiempo corregida de la línea del elemento a analizar
observado y una combinación de las demás emisiones de líneas, o
bien de una señal de medición representativa de la emisión total
del plasma y las distancias verticales (s1), (s2), (s3),...,
determinadas mediante la unidad de triangulación (17). Se desechan
todas las líneas de elementos a analizar cuya emisión de plasma,
integrada en el tiempo por tramos, presenta un valor situado fuera
de la correspondiente zona de medición. A continuación se calcula
el valor promedio de todas las señales de cada impulso referenciadas
que pertenecen a cada objeto a medir (16). La concentración de los
elementos a analizar observados en la muestra se determina mediante
una función de calibrado, que incluye todas las señales de cada
impulso referenciadas observadas para los correspondientes
elementos a analizar. La ponderación en la función de calibrado de
las señales de cada impulso referenciadas observadas de los
diferentes elementos a analizar depende de los propios valores de
las señales de cada impulso referenciadas observadas.
Las concentraciones de los elementos a analizar
determinadas de esta forma para cada objeto a medir son transmitidas
por la unidad de detección (20b) del espectrómetro a un dispositivo
de control (21), el cual las utiliza, por ejemplo, para clasificar
los objetos a medir, para comprobar errores o para documentar el
control de calidad.
- 1
- Óptica de enfoque
- 1a
- Óptica de autoenfoque
- 1b
- Unidad desviadora del rayo
- 2
- Rayo láser
- 3
- Dirección de propagación
- 4
- Elemento de la superficie de la muestra
- 4'
- Superficie de la muestra
- 5
- Normal a la superficie
- 6
- Punto de penetración
- 7
- Proyección de la sección transversal del rayo láser sobre el elemento de superficie
- 8
- Plano focal
- 9
- Unidad de detección
- 10,10'
- Zona de medición
- 11
- Distancia entre el último lugar de medición y el comienzo de la siguiente zona de medición
- 12, 12'
- Posición de medición
- 13
- Distancia entre el último lugar de medición y el final de la siguiente zona de medición
- 14, 14'
- Líneas de medición de la unidad de triangulación
- 15
- Punto de la superficie de la muestra detectado por la unidad de triangulación
- 16
- Objeto a medir
- 17
- Unidad de triangulación
- 18
- Regulación de autoenfoque
- 19
- Láser de análisis
- 20
- Espectrómetro
- 20a
- Unidad de dispersión del espectrómetro
- 20b
- Unidad de detección del espectrómetro
- 21
- Control del dispositivo.
Claims (15)
1. Procedimiento para realizar espectrometría de
emisión, en especial, espectrometría de emisión láser, en la que se
enfoca automáticamente un rayo láser con impulsos sobre una pieza a
trabajar para generar un plasma inducido por láser,
en la que se detecta la radiación emitida por el
láser y con el espectro de emisión se realiza un análisis
elemental,
caracterizado porque,
antes de la generación del plasma, además de
determinar la distancia entre la óptica de autoenfoque y la
superficie de la pieza a trabajar, se determinan los parámetros
geométricos adicionales P1, P2 ... PN de un lugar potencial de
medición sobre la superficie de la pieza a trabajar,
y sólo se realiza un análisis elemental para los
lugares potenciales de medición sobre los que se encuentra, como
mínimo, uno de los parámetros geométricos adicionales dentro de un
intervalo de tolerancias [T1...T2] predefinido.
2. Procedimiento según la reivindicación 1,
caracterizado porque el ángulo de
inclinación \alpha de la superficie de la pieza a trabajar en
relación al eje del rayo láser presente en el lugar potencial de
medición se determina como parámetro geométrico.
3. Procedimiento según la reivindicación 2,
caracterizado porque se realiza una
corrección del espectro de emisión cuando existe una diferencia
entre el ángulo de inclinación \alpha y un valor predefinido
\alpha_{K}.
4. Procedimiento según una de las
reivindicaciones 1 a 3,
caracterizado porque, antes de la
inducción del plasma, se determina mediante un método de
triangulación el perfil superficial, como mínimo, de una zona
parcial de la superficie de la pieza a trabajar, y a partir de
dicho perfil superficial se calculan los parámetros geométricos
adicionales.
5. Procedimiento según una de las
reivindicaciones 1 a 4,
caracterizado porque solamente se induce
plasma en los lugares en los que todos los parámetros geométricos
predefinidos están dentro del intervalo de tolerancias.
6. Procedimiento según una de las
reivindicaciones 1 a 5,
caracterizado porque los parámetros
geométricos predefinidos, en lo que respecta a su tipo e intervalo
de tolerancias, se corresponden con los parámetros geométricos para
los que previamente se ha trazado una curva de calibrado.
7. Procedimiento según una de las
reivindicaciones 1 a 6,
caracterizado porque el rayo láser se
desvía transversalmente respecto a la dirección de movimiento del
objeto a medir.
8. Procedimiento según una de las
reivindicaciones 1 a 7,
caracterizado porque se miden piezas que
se desplazan sobre una cinta.
9. Procedimiento según una de las
reivindicaciones 1 a 8,
caracterizado porque se mide chatarra de
aluminio o desechos eléctricos.
10. Procedimiento según una de las
reivindicaciones 1 a 9,
caracterizado porque la penetración de
rayos láser se realiza con un intervalo de impulsos \DeltaT
variable, de modo que los valores de \DeltaT están dentro de un
intervalo de tolerancias predefinido [\DeltaT_{m\text{í}n} ...
\DeltaT_{máx}] y la distancia media entre impulsos
\DeltaT_{medio} fluctúa alrededor de un valor teórico
\DeltaT_{teórico}.
11. Procedimiento según la reivindicación
10,
caracterizado porque, cuando un
dispositivo de detección detecta un objeto a medir, se selecciona un
intervalo entre impulsos menor que cuando no se detecta un objeto a
medir.
12. Procedimiento según una de las
reivindicaciones 10 u 11,
caracterizado porque, cuando un
dispositivo de detección no detecta un objeto a medir, se emite
impulso de bombeo y no se emite impulso láser.
13. Procedimiento según una de las
reivindicaciones 10 a 12,
caracterizado porque el intervalo entre
impulsos \DeltaT se regula individualmente para cada impulso.
14. Procedimiento según una de las
reivindicaciones 10 a 13,
caracterizado porque se determinan
individualmente para cada impulso los límites del intervalo de
tolerancias \DeltaT_{m\text{í}n} y \DeltaT_{máx}.
15. Dispositivo para la espectrometría de
emisión, en especial, para la espectrometría láser, que comprende
un láser de impulsos para generar un plasma inducido por láser sobre
una pieza a trabajar que se desplaza respecto al rayo láser, un
dispositivo de autoenfoque del rayo láser, un detector para detectar
la radiación emitida por el plasma, y un dispositivo para realizar
un análisis elemental,
caracterizado porque dispone de un medio
para medir el perfil de la superficie de una muestra
transversalmente respecto a la dirección de movimiento del objeto a
medir.
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