ES2306896T3 - Agentes antiestaticos y composiciones polimericas derivadas de los misos. - Google Patents
Agentes antiestaticos y composiciones polimericas derivadas de los misos. Download PDFInfo
- Publication number
- ES2306896T3 ES2306896T3 ES03766822T ES03766822T ES2306896T3 ES 2306896 T3 ES2306896 T3 ES 2306896T3 ES 03766822 T ES03766822 T ES 03766822T ES 03766822 T ES03766822 T ES 03766822T ES 2306896 T3 ES2306896 T3 ES 2306896T3
- Authority
- ES
- Spain
- Prior art keywords
- aliphatic
- independently
- unsubstituted
- group substituted
- aromatic group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
- C08K5/0075—Antistatics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C211/00—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
- C07C211/62—Quaternary ammonium compounds
- C07C211/63—Quaternary ammonium compounds having quaternised nitrogen atoms bound to acyclic carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
- C07F7/081—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/54—Quaternary phosphonium compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/54—Silicon-containing compounds
- C08K5/548—Silicon-containing compounds containing sulfur
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
Un compuesto organosilícico de onio cuaternario que tiene la fórmula (I) (Ver fórmula) en la que cada R 1 comprende independientemente un grupo alifático o aromático sustituido o no sustituido; X comprende fósforo o nitrógeno; cada R 2 comprende independientemente un grupo alifático o aromático sustituido o no sustituido; cada R 3 comprende independientemente un grupo alifático sustituido o no sustituido, grupo aromático sustituido o no sustituido o un hidrógeno; y "n" tiene un valor de 1 a 20.
Description
Agentes antiestáticos y composiciones
poliméricas derivadas de los mismos.
Esta descripción se refiere a nuevos aditivos
antiestáticos, a composiciones poliméricas que comprenden estos
aditivos, así como a procedimientos para preparar estos aditivos y
las composiciones poliméricas.
Los agentes antiestáticos constituyen una clase
característica de aditivos poliméricos. Estos evitan la acumulación
de electricidad estática sobre la superficie de un artículo
elaborado con un polímero.
Estos también ofrecen valores estéticos evitando
la acumulación de polvo superficial sobre el artículo. Por ejemplo,
los cristales de los faros de los automóviles están realizados de
forma típica de polímeros, tales como policarbonatos, que tienen
una combinación deseable de estabilidad térmica, estabilidad
dimensional, transparencia y ductilidad. En el pasado, el sistema
óptico (también denominado a veces "lentes de Fresnel")
necesario para enfocar adecuadamente el haz de los faros sobre la
carretera no tenía un perfil liso. Por consiguiente, el polvo que
se acumulaba sobre la superficie del cristal, bien durante la
fabricación, o durante la vida en servicio del faro, no era visible
de forma evidente. Pero a medida que la industria del automóvil
tiende a cristales con un perfil más liso, el polvo acumulado se
hace más fácilmente visible, conduciendo por tanto a un problema
estético.
De igual modo, es importante mitigar la
acumulación de carga estática en el diseño de cintas
transportadoras. Las cintas transportadoras están realizadas de
forma típica en la mayoría de los casos de materiales poliméricos
sintéticos. El uso de plástico en cintas transportadoras ha
conducido a varias ventajas características en la tecnología de
cintas transportadoras, tales como limpieza, fiabilidad, reducción
del ruido, baja relación coste a vida útil, modularidad y
flexibilidad. Como resultado de estas ventajas, los sistemas de
transporte basados en plásticos se están usando en salas
hiperlimpias (clase 100 o superior) esenciales para la fabricación
de productos y sistemas electrónicos avanzados. Pero como las
dimensiones y tolerancias del producto se aproximan a niveles
submicrométricos, la descarga electrostática, un fenómeno intrínseco
de los materiales plásticos, plantea problemas intrínsecos a los
fabricantes de alta tecnología que usan componentes de
transportadores de plástico. La acumulación de carga superficial da
como resultado contaminación por suciedad secundaria, que tiene
consecuencias no deseables, en especial para componentes
electrónicos de precisión y alta tecnología.
Se pueden aplicar agentes antiestáticos de dos
modos: de forma externa e interna. Los agentes antiestáticos
externos se aplican pulverizando la superficie, o sumergiendo el
material polimérico en un medio que contiene el agente
antiestático. Los agentes antiestáticos internos se añaden al
polímero antes del procesado. Por esta razón, los agentes
antiestáticos internos tienen que ser térmicamente estables y
preferiblemente migrar a la superficie durante el procesado.
Además, la incorporación del agente antiestático
no reducirá características deseables del material polimérico como
la transparencia y la temperatura de transición vítrea (Tg). Están
disponibles varios tipos de agentes antiestáticos, pero son
necesarios agentes con propiedades mejoradas tales como capacidad de
procesado, estabilidad térmica y/o compatibilidad con la resina. El
documento GB-A-1030888 describe
silanos y siloxanos organofuncionales sulfopropilados útiles como
detergentes, resinas de intercambio iónico, agentes mojantes para
fibras sintéticas y catalizadores de polimerización para
siloxanos.
Por tanto, es deseable identificar agentes
antiestáticos más eficaces como aditivos que se puedan incorporar
en polímeros sin afectar de modo adverso las propiedades físicas y
químicas de las composiciones poliméricas resultantes.
Un aditivo antiestático comprende un compuesto
organosilícico de onio cuaternario que tiene la fórmula (I)
en la que cada R^{1} comprende
independientemente un grupo alifático o aromático que puede estar
sustituido o no sustituido; X comprende fósforo o nitrógeno; cada
R^{2} comprende independientemente un grupo alifático o aromático
que puede estar sustituido o no sustituido; cada R^{3} comprende
independientemente un hidrógeno o un grupo alifático o aromático
que puede estar sustituido o no sustituido; y "n" tiene un
valor de 1 a
20.
En otra realización de la descripción, una
composición polimérica antiestática comprende un polímero y un
compuesto organosilícico de onio cuaternario que tiene la fórmula
(I)
en la que R^{1}, X, R^{2},
R^{3} y "n" son como se han definido
anteriormente.
Todavía otra realización es un procedimiento
para preparar un compuesto organosilícico de onio cuaternario
antiestático que comprende poner en contacto un primer disolvente y
una sal organosilícica monosulfónica que tiene la fórmula (II)
en la que cada R^{2} comprende
independientemente un grupo alifático o aromático que puede estar
sustituido o no sustituido; cada R^{3} comprende
independientemente un hidrógeno o grupo alifático o aromático que
puede estar sustituido o no sustituido; y "n" tiene un valor de
1 a 20, con un medio ácido para generar el ácido sulfónico libre
correspondiente; poner en contacto el ácido sulfónico libre con un
compuesto cuaternario para formar una mezcla, extraer la mezcla con
un segundo disolvente para proporcionar una solución de un compuesto
organosilícico de onio cuaternario que tiene la fórmula
(I)
en la que cada R^{1} comprende
independientemente un grupo alifático o aromático que puede estar
sustituido o no sustituido; X comprende fósforo o nitrógeno; cada
R^{2} comprende independientemente un grupo alifático o aromático
que puede estar sustituido o no sustituido; cada R^{3} comprende
independientemente un grupo alifático o aromático que puede estar
sustituido o no sustituido; y "n" tiene un valor de 1 a 20; y
evaporar sustancialmente todo el disolvente de la solución de
compuesto organosilícico de onio
cuaternario.
En otra realización, un procedimiento para
preparar una composición polimérica termoplástica antiestática
comprende combinar un compuesto organosilícico de onio cuaternario
con una resina termoplástica en estado fundido, estando
representado el compuesto organosilícico por la fórmula:
en la que cada R^{1} comprende
independientemente un grupo alifático o aromático sustituido o no
sustituido; X comprende fósforo o nitrógeno; cada R^{2} comprende
independientemente un grupo alifático o aromático sustituido o no
sustituido; cada R^{3} comprende independientemente un grupo
alifático sustituido o no sustituido, un grupo aromático sustituido
o no sustituido o un hidrógeno; y "n" tiene un valor de 1 a
20.
En otra realización, un procedimiento para
preparar una composición de moldeo polimérica termoplástica
antiestática comprende mezclar en seco un compuesto organosilícico
de onio cuaternario con un polímero termoplástico, estando el
compuesto organosilícico representado por la fórmula:
en la que cada R^{1} comprende
independientemente un grupo alifático o aromático sustituido o no
sustituido; X comprende fósforo o nitrógeno; cada R^{2} comprende
independientemente un grupo alifático o aromático sustituido o no
sustituido; cada R^{3} comprende independientemente un grupo
alifático sustituido o no sustituido, un grupo aromático sustituido
o no sustituido o un hidrógeno; y "n" tiene un valor de 1 a
20.
Compuestos organosilícicos de onio cuaternario
que tienen la fórmula (I)
en la que cada R^{1} comprende
independientemente un grupo alifático o aromático que puede estar
sustituido o no sustituido; X se selecciona del grupo consistente
en fósforo y nitrógeno; cada R^{2} comprende independientemente
un grupo alifático o aromático que puede estar sustituido o no
sustituido; cada R^{3} comprende independientemente un hidrógeno
o un grupo alifático o aromático que puede estar sustituido o no
sustituido; y "n" tiene un valor de 1 a 20 tienen gran
utilidad como aditivos antiestáticos en composiciones poliméricas,
en particular en composiciones poliméricas termoplásticas. Los
aditivos antiestáticos descritos en la presente memoria son
térmicamente estables para los tiempos y temperaturas de ciclo
empleados de forma general en el procesado de polímeros. Las
composiciones poliméricas que comprenden los compuestos
organosilícicos de onio cuaternario mantienen sus propiedades
físicas, tales como la temperatura de transición vítrea, cuando se
comparan con composiciones poliméricas similares sin los compuestos
organosilícicos de onio cuaternario, incluso después de haberse
conformado en la forma o artículo deseados. Estas ventajas hacen a
las composiciones poliméricas antiestáticas resultantes valiosas en
muchas aplicaciones incluyendo aplicaciones para la industria del
automóvil, electrónica, sistemas de cinta transportadora y
dispositivos de presentación en los que son requerimientos
importantes la disipación eficaz de electricidad estática y/o efecto
repelente del polvo. En todas las realizaciones de la descripción,
el término "antiestático" también significa que incluye
"antipolvo".
Los grupos R^{1} en los compuestos
organosilícicos de onio cuaternario descritos antes en la presente
memoria pueden adoptar una amplia variación en sus estructuras con
tal que la estructura del grupo o grupos no impida la formación del
compuesto organosilícico de onio cuaternario. Cada grupo R^{1}
comprende independientemente un grupo alifático o aromático
sustituido o no sustituido. Además, pueden existir diversas
combinaciones de grupos alifáticos o aromáticos sustituidos o no
sustituidos. Expuesto de otro modo, los cuatro grupos R^{1}
unidos a X pueden ser todos iguales, o pueden consistir en dos, tres
o cuatro grupos diferentes.
Grupos R^{1} alifáticos útiles comprenden
grupos alquilo C_{1}-C_{18} lineal o ramificado,
aralquilo y cicloalquilo. El grupo alifático puede comprender
además uno o más heteroátomos. Con preferencia, R^{1} se
selecciona del grupo consistente en metilo, etilo,
n-propilo, n-butilo,
n-pentilo, n-hexilo,
n-octilo, n-dodecilo,
n-hexadecilo y n-octadecilo. Más
preferiblemente, R^{1} es n-butilo. Ejemplos de
grupos orgánicos que contienen átomos de oxígeno incluyen grupos
hidrocarbonados sustituidos con un grupo hidroxilo o alcoxi. Más
específicamente, el grupo que contiene heteroátomo incluye, aunque
sin quedar limitado a los mismos, grupos hidroxialquilo, tales como
hidroximetilo, hidroxietilo, hidroxipropilo, hidroxibutilo,
hidroxipentilo, hidroxihexilo, hidroxiheptilo e hidroxioctilo; y
grupos alcoxialquilo, tales como metoximetilo, etoximetilo,
etoxietilo, n-propoximetilo, isopropoximetilo,
n-butoximetilo, n-butoxietilo,
iso-butoxietilo, polialquilenglicol, y similares,
incluyendo sus mezclas.
Grupos R^{1} aromáticos útiles comprenden
grupos aromáticos C_{6}-C_{14} sustituidos o no
sustituidos. Grupos aromáticos no sustituidos se pueden seleccionar
del grupo consistente en fenilo, indenilo, bifenilo,
1-naftilo, 2-naftilo, antracenilo y
fluorenilo. Grupos aromáticos sustituidos se pueden seleccionar del
grupo consistente en halofenilo, polihalofenilo, clorofenilo,
diclorofenilo, triclorofenilo, bromofenilo, fluorofenilo,
difluorofenilo, alcoxifenilo, alcoxicarbonilfenilo, nitrofenilo,
cianofenilo, alquilfenilo, polialquilfenilo, tolilo, xililo,
bencilo, isopropilfenilo, isobutilfenilo, cloronaftilo, metilnaftilo
e isopropilnaftilo. El grupo aromático puede comprender además uno
o más sustituyentes que contienen heteroátomo.
Ejemplos del fragmento
(R^{1}_{4}X)^{+} del compuesto organosilícico de onio
cuaternario incluyen, aunque sin quedar limitados a los mismos,
tetrametilamonio, tetrametilfosfonio, tetraetilamonio,
tetraetilfosfonio,
tetra-n-butilamonio,
tetra-n-butilfosfonio,
tetra-n-pentilamonio,
tetra-n-pentilfosfonio,
tetra-n-hexilamonio,
tetra-n-hexilfosfonio,
tetra-n-heptilamonio,
tetra-n- heptilfosfonio,
tetra-n-octilamonio,
tetra-n-octilfosfonio,
tetrafenilamonio, tetrafenilfosfonio, metiltrifenilamonio,
metiltrifenilfosfonio, benciltrifenilamonio, benciltrifenilfosfonio,
benciltrimetilamonio, benciltrimetilfosfonio, benciltrietilamonio,
benciltrietilfosfonio,
(n-hexadecil)(tri-n-butil)amonio,
(n-hexadecil)(tri-n-butil)fosfonio,
(n-octadecil)trimetilamonio,
(n-octadecil)trimetilfosfonio,
(n-hexadecil)trimetilamonio,
(n-hexadecil)trimetilfosfonio,
metil(tri-n-octil)amonio,
metil(tri-n-octil)fosfonio,
metil(tri-n-decil)amonio,
metil(tri-n-decil)fosfonio,
(tri-n-butil)(n-tetradecil)amonio,
(tri-n-butil)(n-tetradecil)fosfonio,
etil(tri-n-butil)amonio
y
etil(tri-n-butil)fosfonio.
En una realización preferida, el fragmento
(R^{1})_{4}X^{+} se selecciona del grupo consistente en
tetra-n-butilamonio y
tetra-n-butilfosfonio.
Cada grupo R^{2} unido a silicio comprende
independientemente grupos alifáticos o aromáticos sustituidos o no
sustituidos. En otras palabras, los tres grupos R^{2} unidos a
silicio pueden comprender el mismo grupo o grupos diferentes.
Grupos R^{2} útiles comprenden radicales alquilo
C_{1}-C_{18} lineales o ramificados sustituidos
o no sustituidos, radicales aralqulio y cicloalquilo. Grupos R^{2}
alifáticos pueden comprender también uno o más heteroátomos. Con
preferencia, R^{2} se selecciona del grupo consistente en metilo,
etilo, n-propilo, n-butilo,
n-pentilo, n-hexilo,
n-octilo, n-dodecilo,
n-hexadecilo y n-octadecilo. Más
preferiblemente, R^{2} es un radical metilo. R^{2} también
puede ser un grupo hidrocarbilo monovalente fluorado, tal como
3,3,3-trifluoropropilo y otros grupos
perfluoroalquiletilo, alfa, alfa,
alfa-trifluorometilfenilo, pentafluorofenilo y
similares.
Grupos R^{2} aromáticos útiles comprenden de
forma típica grupos aromáticos C_{6}-C_{14}
sustituidos o no sustituidos. Grupos aromáticos ejemplo incluyen
fenilo, indenilo, bifenilo, 1-naftilo,
2-naftilo, antracenilo y fluorenilo. Grupos
aromáticos sustituidos ejemplo incluyen halofenilo, polihalofenilo,
clorofenilo, diclorofenilo, triclorofenilo, bromofenilo,
fluorofenilo, difluorofenilo, alcoxifenilo, alcoxicarbonilfenilo,
nitrofenilo, cianofenilo, alquilfenilo, polialquilfenilo, tolilo,
xililo, bencilo, isopropilfenilo, isobutilfenilo, cloronaftilo,
metilnaftilo, isopropilnaftilo y similares. El grupo aromático puede
comprender también uno o más sustituyentes que contienen
heteroátomos.
Los grupos R^{3} del fragmento
(R^{3}_{2}C)_{n} de los compuestos organosilícicos de
onio cuaternario comprenden grupos alifáticos o aromáticos
sustituidos o no sustituidos como se han descrito antes con respecto
a R^{1} y R^{2}. Además, R^{3} puede ser hidrógeno. Los
grupos R^{3} pueden ser iguales o distintos. Con preferencia,
R^{3} se selecciona del grupo consistente en metilo, etilo,
n-propilo, n-butilo,
n-pentilo, n-hexilo,
n-octilo, n-dodecilo,
n-hexadecilo y n-octadecilo. Más
preferiblemente, R^{3} es hidrógeno. El "n" en la fórmula
general de los compuestos organosilícicos de onio cuaternario tiene
un valor de 1 a 20. En una realización particular, "n" tiene
un valor de aproximadamente 3.
En una realización preferida, el compuesto
organosilícico de onio cuaternario tiene la estructura en la que
cada R^{1} es un radical n-butilo, X es fósforo o
nitrógeno, cada R^{2} es un radical metilo, cada R^{3} es un
hidrógeno y "n" tiene un valor en el intervalo de 2 a 10. En
una realización particular, cada R^{1} es un radical
n-butilo, X es fósforo o nitrógeno, cada R^{2} es
un radical metilo, cada R^{3} es un hidrógeno y "n" tiene un
valor de aproximadamente 3. Preferiblemente, X es fósforo.
El metal alcalino "M" en la sal de ácido
monosulfónico organosilícico se selecciona del grupo consistente en
litio, sodio, potasio, rubidio y cesio. Estas sales se usan como
precursores para obtener el ácido monosulfónico organosilícico
libre correspondiente. En diversas realizaciones, el medio ácido que
se usa para generar el ácido monosulfónico organosilícico libre
comprende ácidos fuertes.
Ejemplos de ácidos fuertes que se pueden usar
incluyen ácido sulfúrico, ácidos fluoralquilsulfónicos y ácidos
perfluoralquilsulfónicos. En una realización particular, el medio
ácido comprende una resina de intercambio iónico fuertemente ácida
polimérica que tiene grupos ácido sulfónico. Ejemplos adecuados de
resina de intercambio iónico fuertemente ácida polimérica que tiene
grupos ácido sulfónico incluyen, aunque sin quedar limitadas a las
mismas, resinas de ácido sulfónico polimérico fluorado tales como la
serie D de resinas Nafion® (disponibles de forma comercial de
Dupont) y copolímeros de estireno-divinilbenceno
sulfonados preparados usando de aproximadamente 0,5 por ciento en
moles a aproximadamente 20 por ciento en moles de divinilbenceno por
cien moles de estireno empleado. En realizaciones particulares, los
copolímeros de estireno-divinilbenceno sulfonados
comprenden variedades de tipo gel y macrorreticular, que
corresponden a los copolímeros de bajo y alto porcentaje de
divinilbenceno-estireno reticulados sulfonados,
respectivamente. Un ejemplo de resina de tipo gel es
Amberlyst-121 (resina de divinilbenceno al
4%-poliestireno reticulado sulfonado) disponible de forma comercial
de Rohm and Haas Company. Un ejemplo de resina macrorreticular es
Amberlyst-15 (resina de divinilbenceno al
20%-poliestireno reticulado sulfonado) disponible de forma
comercial de Rohm and Haas Company.
Por lo general, un exceso del medio ácido sobre
la sal de ácido monosulfónico organosilícico se emplea para
garantizar la conversión esencialmente completa al ácido
monosulfónico organosilícico libre. Conversión esencialmente
completa se define en la presente memoria como completada en un
grado mayor que aproximadamente 95%, preferiblemente mayor que
aproximadamente 98% y más preferiblemente mayor que aproximadamente
99%, en base a la cantidad de partida de la sal de ácido
monosulfónico organosilícico. En una realización, el medio ácido
empleado es una resina de estireno-divinilbenceno
sulfonado y se usa en una cantidad de aproximadamente 15 veces a
aproximadamente 20 veces el número de moles de la sal de ácido
sulfónico organosilícico de metal alcalino. También se pueden
emplear cantidades mayores de medio ácido, aunque por lo general no
son necesarias.
En una realización, la sal de ácido
monosulfónico organosilícico se pone en contacto con un medio ácido
que comprende una resina ácida polimérica introduciendo una
solución que comprende el ácido monosulfónico organosilícico en la
parte superior de una columna de relleno que contiene la resina
ácida. Los iones del metal alcalino son intercambiados por iones
hidrógeno en la columna de modo que la corriente líquida que llega
de la parte inferior de la columna contiene el ácido monosulfónico
organosilícico libre correspondiente. Como alternativa, se efectúa
la puesta en contacto bombeando la solución desde la parte inferior
de la columna de relleno y la solución de la mezcla producto se
recoge de la parte superior.
Disolventes adecuados para preparar una solución
que comprende la sal de ácido monosulfónico organosilícico
comprenden agua, alcoholes alifáticos
C_{1}-C_{4}, tetrahidrofurano, acetonitrilo,
hidrocarburos aromáticos C_{7}-C_{9} y mezclas
de los mismos. Por lo general, la presencia de agua facilita el
proceso de intercambio de ion metálico alcalino-ion
hidrógeno.
La composición de ácido monosulfónico
organosilícico libre obtenida antes se neutraliza poniendo en
contacto la misma con un compuesto cuaternario que comprende
(XR^{1}_{4})^{+}Y^{-}, donde X y R^{1} se han
descrito antes, formando una mezcla de neutralización. Y comprende
hidróxido, OCOR^{4}, o OR^{4}, donde R^{4} comprende un grupo
alifático, carbocíclico o aromático sustituido o no sustituido.
Estos compuestos de amonio y fosfonio cuaternario básicos
reaccionan con el grupo ácido sulfónico para generar los compuestos
organosilícicos de onio cuaternario correspondientes en la mezcla de
reacción. En una realización, Y es un grupo hidróxido. En otra
realización, el compuesto cuaternario se selecciona del grupo
consistente en hidróxido de tetraetilfosfonio, hidróxido de
tetra-n-butilfosfonio, hidróxido de
tetra-n-butilamonio, hidróxido de
tetra-n-octilfosfonio e hidróxido de
tetrafenilfosfonio.
La etapa de neutralización se lleva a cabo de un
modo tal que la temperatura de la mezcla de reacción se mantiene a
aproximadamente 10ºC a aproximadamente 50ºC en una realización y a
aproximadamente 20ºC a aproximadamente 30ºC en otra realización. En
otra realización, la reacción se lleva a cabo a temperatura
autógena. El proceso de neutralización se lleva a cabo
convenientemente controlando el pH de la mezcla de neutralización.
En una realización, el pH de la mezcla de neutralización es
aproximadamente 4 a aproximadamente 6, mientras que en otra
realización, el pH es aproximadamente 5 a aproximadamente 5.5.
El sulfonato organosilícico de onio cuaternario
obtenido de la etapa de neutralización se extrae de la mezcla
producto usando un disolvente adecuado. Disolventes adecuados
incluyen aquellos que disuelven el compuesto organosilícico de onio
cuaternario. En algunas realizaciones, disolventes adecuados
comprenden compuestos alifáticos y aromáticos halogenados,
hidrocarburos alifáticos y aromáticos, éteres cíclicos y acíclicos y
sus mezclas. En una realización particular, un disolvente adecuado
para la extracción es cloroformo.
El disolvente presente en el extractante se
evapora tal que se elimina prácticamente todo el disolvente. En una
realización "prácticamente" significa que se elimina una
cantidad que es mayor que 90% en peso (% peso), en otras
realizaciones, se elimina una cantidad mayor que aproximadamente 98%
en peso (% peso), todavía en otras realizaciones, se elimina una
cantidad mayor que aproximadamente 99% en peso (% peso), en base al
peso de disolvente usado. Todavía en otra realización, la
eliminación de prácticamente todo el disolvente significa que no se
obtiene más condensado en el proceso de evaporación.
El procedimiento general descrito antes puede
aplicarse para la preparación de cualquiera de los compuestos
organosilícicos de onio cuaternario descritos antes. En una
realización particular, el procedimiento general se usa para
preparar 3-trimetilsililpropanosulfonato de
tetra-n-butilfosfonio. La solución
que comprende agua y
3-trimetilsililpropanosulfonato sódico, usada para
llevar a cabo el intercambio de ion sodio-ion
hidrógeno también puede comprender alcoholes alifáticos
C_{1}-C_{4}, tetrahidrofurano, acetonitrilo,
hidrocarburos aromáticos C_{7}-C_{9} y mezclas
de los mismos. El disolvente usado para la extracción del producto
en diversas realizaciones comprende compuestos alifáticos y
aromáticos halogenados, hidrocarburos alifáticos y aromáticos,
éteres cíclicos y acíclicos y mezclas de los mismos. La evaporación
del disolvente del extracto para aislar el producto final se puede
llevar a cabo a presión atmosférica o a presión subatmosférica.
Los compuestos organosilícicos de onio
cuaternario descritos antes en la presente tienen una elevada
aptitud migradora hacia la superficie en composiciones poliméricas
que ayuda a una rápida disipación de la carga estática localizada
acumulada sobre una superficie de un polímero. Estos compuestos
poseen un grupo sulfonato onio hidrófilo polar y un resto hidrófobo
no polar. Aunque la invención no está limitada por ninguna teoría de
operación, se cree que el resto hidrófobo que contiene silicio
potencia la aptitud migradora y el grupo polar atrae la humedad
ambiental para formar una capa de moléculas de agua sobre la
superficie del polímero. Estas moléculas de agua están a su vez
unidas por hidrógeno entre sí. La disipación de la carga superficial
localizada se produce a través de la capa de unión por hidrógeno de
las moléculas de agua, conduciendo así a actividad antiestática.
Los compuestos organosilícicos de onio
cuaternario tienen una elevada estabilidad térmica en base a
análisis termogravimétricos (en lo sucesivo denominado "TGA").
Estudios de TGA muestran que estos compuestos no sufren
descomposición térmica alguna incluso a temperaturas mayores que
aproximadamente 300ºC, condiciones que por lo general se usan para
procesar polímeros. Las características de estabilidad térmica son
comparables a las de 4-dodecibencenosulfonato de
tetra-n-butilfosfonio (CAS:
111503-99-2; disponible
comercialmente como EPA 202 de Takemoto Oil & Fat Co., Ltd.).
Otra característica importante de los compuestos organosilícicos de
onio cuaternario es que éstos no afectan de modo adverso las
propiedades físicas de las composiciones a las que se añaden, tal
como la temperatura de transición vítrea de las composiciones
poliméricas resultantes.
Los compuestos organosilícicos de onio
cuaternario descritos antes son valiosos como aditivos antiestáticos
para cualquier polímero. Así, éstos se pueden usar en composiciones
de polímeros termoplásticos así como termoestables. En una
realización, los polímeros que se pueden usar comprenden polímeros
de condensación y de adición. Dependiendo del tipo de aplicación y
del tipo de polímero, la cantidad del compuesto organosilícico de
onio cuaternario puede variar. Las composiciones poliméricas
comprenden típicamente el compuesto organosilícico de onio
cuaternario en cantidades de aproximadamente 2,5 X10^{-3} partes
a aproximadamente 6 partes por 100 partes del polímero en una
realización, aproximadamente 3 X 10^{-2} partes a aproximadamente
6 partes por 100 partes de polímero en una segunda realización y
aproximadamente 0,5 partes a aproximadamente 6 partes por 100 partes
de polímero en una tercera realización. Compuestos organosilícicos
de onio cuaternario preferidos son
3-trimetilsililpropanosulfonato de
tetra-n-butilfosfonio,
3-trimetilsililpropanosulfonato de
tetra-n-butilamonio y sus
mezclas.
Polímeros termoplásticos útiles comprenden
policarbonato aromático, poliéster carbonato, poli(sulfuro de
fenileno), poliéterimida, poliéster, poliéster cristalino líquido,
poliestireno, polifenilen éter, mezclas de polímeros de polifenilen
éter/estireno, poliamida, policetona, copolímero de
acrilonitrilo-butadieno-estireno,
copolímero de estireno-acrilonitrilo, poliolefina,
polietileno, polipropileno, poliacetal, mezclas de los mismos y
mezclas de los mismos con otros materiales, tales como por ejemplo,
vidrio. Polímeros termoplásticos preferidos son policarbonatos y
poliéster carbonatos obtenidos de procesos de polimerización, que
incluyen transesterificación en estado fundido, polimerización
interfacial, polimerización en estado sólido y procesos en solución
y de redistribución o combinaciones de los mismos.
La composición de polímero puede comprender
además materiales tales como antioxidantes, estabilizadores
térmicos, estabilizadores ultravioletas, agentes de procesado,
agentes de desmoldeo, cargas y retardantes de la llama.
Las composiciones poliméricas antiestáticas se
pueden preparar usando procedimientos conocidos en la técnica. En
realizaciones particulares, las composiciones poliméricas se pueden
preparar por procedimientos que comprenden etapas, al menos una
etapa de las cuales comprende mezclar en seco el compuesto
organosilícico de onio cuaternario con gránulos o polvo de la
resina termoplástica para producir una composición polimérica,
mezclar en estado fundido el compuesto organosilícico de onio
cuaternario con resina polimérica en un proceso en estado fundido o
mezclar en solución el compuesto organosilícico de onio cuaternario
con la resina polimérica. Estas técnicas son conocidas en la
técnica.
Mezclar en seco representa el proceso de
preparar la composición polimérica mezclando todo los ingredientes
necesarios antes de que la mezcla homogeneizada se someta a una
etapa de procesado de polímero para preparar los artículos. La
mezcla en seco se lleva a cabo usando técnicas que son bien
conocidas por los expertos en la técnica. El componente de resina
polimérica de la alimentación está bien en forma de gránulos, en
forma de polvo o ambas. En una realización particular, el
componente de resina polimérica de la alimentación está en forma de
polvo. En diversas realizaciones, la alimentación para el proceso de
mezcla también puede incluir otros materiales como aditivos, como
se ha descrito antes.
Otro procedimiento para preparar la composición
polimérica implica combinar los ingredientes en estado fundido.
Dependiendo del compuesto organosilícico de onio cuaternario se usa
opcionalmente un disolvente para ayudar a mezclar con el resto de
la mezcla de alimentación. En algunas realizaciones, el equipo de
procesado puede tener un sistema de desvolatilización para eliminar
de forma eficaz volátiles tales como disolvente durante la etapa de
procesado. Se puede emplear cualquier tipo conveniente de equipo de
procesado en estado fundido y los expertos en la técnica pueden
elegir el equipo apropiado sin experimentación innecesaria
dependiendo de factores tales como el tipo de polímero que se va a
procesar. En diversas realizaciones, el equipo de procesado en
estado fundido adecuado incluye, aunque sin quedar limitado a los
mismos, extrusoras, amasadoras, laminadoras y equipo similar.
La composición polimérica se puede conformar en
artículos o revestimientos usando cualquiera de los procedimientos
conocidos en la técnica tales como moldeo por inyección, moldeo por
laminado, termoconformado, moldeo por soplado y revestimiento por
pulverización.
Las composiciones antiestáticas encuentran una
diversidad de usos en aplicaciones tales como en conjuntos de
iluminación delanteros, cristales de faros principales para
automóviles, cristales de faros antiniebla, dispositivos
oftálmicos, sistemas de cinta transportadora, dispositivos de
impresión y dispositivos de paneles de presentación para
electrodomésticos.
Los siguientes ejemplos se incluyen para
proporcionar una enseñanza adicional a los expertos en la técnica
en la puesta en práctica de la descripción reivindicada. Los
ejemplos proporcionados son únicamente representativos del trabajo
que contribuye a describir la presente solicitud.
Por consiguiente, estos ejemplos no pretenden
limitar en modo alguno la descripción, tal como se define en la
reivindicaciones adjuntas.
Este ejemplo describe la preparación de
3-trimetilsililpropanosulfonato de
tetra-n-butilfosfonio.
Se adquirió Tulsion T-42
MP(H^{+}), una resina de intercambio iónico tipo gel ácida
de Thermax Company, India. La resina tenía un contenido en humedad
de aproximadamente 50-52% y una capacidad de
intercambio de aproximadamente 1,8 miliequivalentes de H^{+} por
unidad de volumen de resina en estado húmedo (aproximadamente 4,9
miliequivalentes de H^{+} por unidad de volumen de resina en el
estado seco).
Se añadió una solución de
3-(trimetilsilil)-1-propanosulfonato
sódico (13 gramos, 59,5 mmol) disuelto en agua desmineralizada (75
ml) gota a gota a una columna corta rellena con un exceso
(15-20 veces la cantidad molar de
3-(trimetilsilil)-1-propanosulfonato)
de resina de intercambio iónico ácida Tulsion T-42
MP(H^{+}). A continuación se lavó el lecho de resina con
agua hasta que el pH de la solución que eluye de la columna fue
aproximadamente 5 a 6. La solución acuosa de ácido
3-(trimetilsilil)-1-propanosulfónico
libre así obtenido se neutralizó con hidróxido de
tetra-n-butilfosfonio hasta que el
pH de la solución fue aproximadamente 5 a 5,5. La mezcla resultante
se extrajo con cloroformo (tres veces) y las aguas de lavado de
cloroformo reunidas se lavaron con agua (tres veces). Se separó la
fase de cloroformo, se secó con sulfato sódico anhidro y se
concentró a presión reducida para eliminar el disolvente y otros
volátiles. El material residual se secó finalmente a 40ºC y 0,1 mm
Hg proporcionando
3-(trimetilsilil)-1-propanosulfonato
de tetra-n-butilfosfonio como un
sólido blanco. El rendimiento del producto fue de 26,9 gramos, o
99% de la cantidad teórica. El espectro de RMN de protón del
compuesto indicó que era el compuesto deseado.
Este ejemplo describe la preparación de
3-trimetilsililpropanosulfonato de
tetra-n-butilamonio.
Se añadió una solución de
3-(trimetilsilil)-1-propanosulfonato
sódico (9 gramos, 41,2 mmol) disuelto en agua desmineralizada (75
ml) gota a gota a una columna corta rellena con un exceso
(15-20 veces la cantidad molar de
3-(trimetilsilil)-1-propanosulfonato)
de resina de intercambio iónico ácida Tulsion T-42
MP(H^{+}). Seguidamente, se lavó el lecho de resina con
agua hasta que el pH de la solución que eluye de la columna fue
aproximadamente 5 a 6. La solución acuosa del ácido
3-(trimetilsilil)-1-propanosulfónico
libre así obtenida se neutralizó con hidróxido de
tetra-n-butilamonio hasta que el pH
de la solución fue aproximadamente 5 a 5,5. La mezcla resultante se
extrajo con cloroformo (tres veces) y las aguas de lavado de
cloroformo se lavaron con agua (tres veces). La fase de cloroformo
se separó, se secó con sulfato sódico anhidro y se concentró a
presión reducida eliminando el disolvente y otros volátiles. El
material residual se secó finalmente a 40ºC y 0,1 mm Hg
proporcionando
3-(trimetilsilil)-1-propanosulfonato
de tetra-n-butilamonio como un
sólido blanco higroscópico.
El rendimiento del producto fue 17,4 gramos, o
97% de la cantidad teórica. El espectro de RMN de protón del
compuesto indicó que era el compuesto deseado.
Ejemplos
3-5
Estos ejemplos describen la preparación de las
placas y procedimientos para medir su tiempo de semireducción
estática, temperatura de transición vítrea y transmisión
porcentual.
La resina de policarbonato aromática usada en
los ejemplos fue una resina de homopolicarbonato de bisfenol A (en
lo sucesivo denominado "BPA") que tiene una viscosidad
intrínseca de aproximadamente 0,46 decilitros por gramo, medida en
diclorometano a 20ºC. El policarbonato se mezcló en estado fundido
con 15 gramos de agente antiestático y/o antipolvo por kilogramo de
mezcla de moldeo. La mezcla de moldeo también contenía 2,7 gramos
de aceite de silicona como agente de desmoldeo por kilogramo de
mezcla de moldeo y 3,9 gramos de estabilizadores por kilogramo de
mezcla de moldeo que no se cree que afecten las propiedades
antiestáticas. La mezcla de moldeo se moldeó en una extrusora de
doble husillo de 25 mm usando una temperatura de operación de
aproximadamente 285ºC. Después de extrudirse a través de un
orificio de la boquilla, los filamentos resultantes se enfriaron en
agua y se cortaron en gránulos, que se secaron a aproximadamente
120ºC durante aproximadamente 2 h. Los gránulos secos se moldearon
por inyección usando una máquina de moldeo por inyección de husillo
sencillo produciendo placas de 10 cm cuadrados que tenían un
espesor de aproximadamente 2,5 mm. La temperatura máxima para el
cilindro de moldeo por inyección fue de aproximadamente 285ºC.
Las placas requeridas para llevar a cabo los
ensayos de reducción estática se obtuvieron de placas mayores
preparadas antes. Cada placa usada para el ensayo de reducción
estática medía aproximadamente 78 mm X 58 mm X 2,5 mm. Antes del
ensayo, se acondicionaron las placas a una temperatura de
aproximadamente 23ºC y una humedad relativa de aproximadamente 50%
durante aproximadamente tres días. Los ensayos de reducción estática
se llevaron a cabo en estas placas usando un aparato Static
Honestmeter, Modelo S-5109 fabricado por Shishido
Electrostatic Ltd. La tensión aplicada se interrumpió cuando la
carga superficial alcanzó un valor fijo de aproximadamente 3
kilovolts. A continuación, se siguió la reducción de la carga
superficial con el tiempo con un detector. El tiempo de
semireducción estática (indicado por "T_{1/2}") representa el
tiempo en el que la carga superficial alcanza un valor que es la
mitad del valor inicial. El procedimiento anterior se repitió para
el material de referencia, EPA 202. Las temperaturas de transición
vítrea (Tg) se midieron usando un Analizador Termogravimétrico
Perkin Elmer Modelo TGA-7. La transmisión porcentual
(en lo sucesivo denominada "%T"), se midió usando un
colorímetro Pacific Scientific®; Modelo XL-835. Los
resultados se muestran en la Tabla 1.
El proceso anterior se repitió con una mezcla de
moldeo de homopolicarbonato de BPA, pero que no contenía un agente
antiestático. La placa resultante se ensayó para determinar su
tiempo de semireducción estática y T_{g}.
Como se puede apreciar de los ejemplos
anteriores, el compuesto organosilícico de onio cuaternario muestra
una disipación significativamente mejor de la carga superficial de
una composición polimérica sin afectar de modo significativo a la
temperatura de transición vítrea.
Claims (10)
1. Un compuesto organosilícico de onio
cuaternario que tiene la fórmula (I)
\vskip1.000000\baselineskip
en la que cada R^{1} comprende
independientemente un grupo alifático o aromático sustituido o no
sustituido; X comprende fósforo o nitrógeno; cada R^{2} comprende
independientemente un grupo alifático o aromático sustituido o no
sustituido; cada R^{3} comprende independientemente un grupo
alifático sustituido o no sustituido, grupo aromático sustituido o
no sustituido o un hidrógeno; y "n" tiene un valor de 1 a
20.
2. El compuesto de la reivindicación 1, en el
que cada R^{1} es un radical n-butilo, X es
fósforo o nitrógeno, cada R^{2} es un radical metilo, cada
R^{3} es hidrógeno y "n" tiene un valor de 2 a 10.
3. Una composición polimérica que comprende un
polímero y un compuesto organosilícico de onio cuaternario que
tiene la fórmula (I)
\vskip1.000000\baselineskip
en la que cada R^{1} comprende
independientemente un grupo alifático o aromático sustituido o no
sustituido; X comprende fósforo o nitrógeno; cada R^{2} comprende
independientemente un grupo alifático o aromático sustituido o no
sustituido; cada R^{3} comprende independientemente un grupo
alifático sustituido o no sustituido, grupo funcional aromático
sustituido o no sustituido o un hidrógeno; y "n" tiene un valor
de 1 a
20.
4. La composición de la reivindicación 3, en la
que el compuesto organosilícico está presente en una cantidad de
aproximadamente 2,5 x 10^{-3} partes a aproximadamente 6 partes
por 100 partes de polímero.
5. La composición de la reivindicación 3, en la
que el polímero comprende al menos un polímero de condensación o de
adición.
6. La composición de la reivindicación 5, en la
que dicho polímero comprende al menos un policarbonato aromático,
poliéster carbonato, poli(sulfuro de fenileno),
poliéterimida, poliéster, polifenilen éter, mezclas de polímeros de
polifenilen éter/estireno, poliamida, policetona, copolímero de
acrilonitrilo-butadieno-estireno,
copolímero de estireno-acrilonitrilo, poliolefina,
mezclas de los mismos o mezclas de los mismos con otros
materiales.
7. La composición de la reivindicación 6, en la
que el compuesto organosilícico comprende
11
110 o mezclas de los mismos.
8. Un procedimiento para preparar un compuesto
organosilícico de onio cuaternario que comprende:
poner en contacto una solución que comprende un
primer disolvente y una sal de ácido monosulfónico organosilícico
que tiene la fórmula
en la que M es un metal alcalino,
cada R^{2} comprende independientemente un grupo alifático o
aromático sustituido o no sustituido; cada R^{3} comprende
independientemente un grupo alifático sustituido o no sustituido,
un grupo aromático sustituido o no sustituido o un hidrógeno; y n es
un número entero que tiene un valor de aproximadamente 1 a
aproximadamente 20, con un medio ácido para generar la composición
de ácido sulfónico libre
correspondiente;
poner en contacto la composición de ácido
sulfónico libre con un compuesto cuaternario para formar una mezcla
de neutralización,
extraer la mezcla de neutralización con un
segundo disolvente para proporcionar un extractante; y
evaporar sustancialmente todo el disolvente del
extractante para aislar un compuesto organosilícico de onio
cuaternario que tiene la fórmula (I)
en la que cada R^{1} comprende
independientemente un grupo alifático o aromático sustituido o no
sustituido; X comprende fósforo o nitrógeno; cada R^{2} comprende
independientemente un grupo alifático o aromático sustituido o no
sustituido; cada R^{3} comprende independientemente un grupo
funcional alifático sustituido o no sustituido, grupo aromático
sustituido o no sustituido o un hidrógeno; y "n" tiene un valor
de 1 a
20.
9. Un procedimiento para preparar
3-trimetilsililpropanosulfonato de
tetra-n-butilfosfonio que
comprende:
poner en contacto una solución que comprende un
primer disolvente y 3-trimetilsililpropanosulfonato
sódico con una resina de intercambio iónico ácida para generar una
solución del ácido 3-trimetilsililpropanosulfónico
libre;
poner en contacto la solución de ácido
3-trimetilsililpropanosulfónico libre con hidróxido
de tetra-n-butilfosfonio para
formar una mezcla que tiene un pH de aproximadamente 5,0 a
aproximadamente 5,5;
extraer la mezcla con un segundo disolvente para
formar un extractante que comprende
3-trimetilsililpropanosulfonato de
tetra-n-butilfosfonio; y
evaporar sustancialmente todo el disolvente del
extractante para aislar
3-trimetilsililpropanosulfonato de
tetra-n-butilfosfonio.
10. Un procedimiento para preparar una
composición de polímero termoplástico antiestático que
comprende:
mezclar en seco un polímero termoplástico con un
compuesto organosilícico de onio cuaternario, o
combinar un compuesto organosilícico de onio
cuaternario con una resina termoplástica en estado fundido, estando
representado el compuesto organosilícico por la fórmula:
en la que cada R^{1} comprende
independientemente un grupo alifático o aromático sustituido o no
sustituido; X comprende fósforo o nitrógeno; cada R^{2} comprende
independientemente un grupo alifático o aromático sustituido o no
sustituido; cada R^{3} comprende independientemente un grupo
funcional alifático sustituido o no sustituido, grupo aromático
sustituido o no sustituido o un hidrógeno; y "n" tiene un valor
de 1 a
20.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US64676 | 2002-08-06 | ||
| US10/064,676 US6900257B2 (en) | 2002-08-06 | 2002-08-06 | Antistatic agents and polymer compositions derived therefrom |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ES2306896T3 true ES2306896T3 (es) | 2008-11-16 |
Family
ID=31493933
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| ES03766822T Expired - Lifetime ES2306896T3 (es) | 2002-08-06 | 2003-06-17 | Agentes antiestaticos y composiciones polimericas derivadas de los misos. |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6900257B2 (es) |
| EP (1) | EP1556437B1 (es) |
| JP (1) | JP2005535690A (es) |
| KR (1) | KR20050062767A (es) |
| CN (1) | CN100341928C (es) |
| AT (1) | ATE402977T1 (es) |
| AU (1) | AU2003247597A1 (es) |
| DE (1) | DE60322565D1 (es) |
| ES (1) | ES2306896T3 (es) |
| TW (1) | TW200402444A (es) |
| WO (1) | WO2004013218A1 (es) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6841598B2 (en) * | 2002-08-16 | 2005-01-11 | General Electric Company | Antistatic and antidust agents, compositions thereof, and methods of manufacture |
| KR101016913B1 (ko) * | 2003-03-31 | 2011-02-22 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 처리요소용 배리어층 및 그의 형성방법 |
| EP1856189A4 (en) * | 2005-01-14 | 2010-12-29 | Du Pont | ANTISTATIC AGENT FOR POLYMERS |
| US8071667B2 (en) | 2005-06-02 | 2011-12-06 | Nalco Company | Compositions comprising (poly) alpha olefins |
| JP5866829B2 (ja) | 2011-07-04 | 2016-02-24 | 日清紡ホールディングス株式会社 | イオン液体 |
| JP6090561B2 (ja) * | 2012-10-16 | 2017-03-08 | 日清紡ホールディングス株式会社 | 蓄電デバイス用電解質塩及び電解液、並びに蓄電デバイス |
| JP6051757B2 (ja) | 2012-10-16 | 2016-12-27 | 日清紡ホールディングス株式会社 | イオン液体 |
| WO2014197458A1 (en) | 2013-06-03 | 2014-12-11 | Polyone Corporation | Low molecular weight polyphenylene ether prepared without solvents |
| CN107532100B (zh) * | 2015-05-11 | 2020-10-02 | 日清纺控股株式会社 | 包含含有硅的离子液体的润滑剂 |
| JP6582705B2 (ja) * | 2015-08-10 | 2019-10-02 | 日清紡ホールディングス株式会社 | 下限臨界共溶温度型の相挙動を示す化合物の利用 |
| JP6601094B2 (ja) * | 2015-09-25 | 2019-11-06 | 日清紡ホールディングス株式会社 | 電解液用添加剤 |
| JP6651968B2 (ja) | 2016-04-21 | 2020-02-19 | 日清紡ホールディングス株式会社 | ケイ素含有硫酸エステル塩 |
| JP6958511B2 (ja) * | 2018-08-17 | 2021-11-02 | 信越化学工業株式会社 | オルガノポリシロキサン化合物およびその製造方法並びにそれを含有する帯電防止剤および硬化性組成物 |
Family Cites Families (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3141898A (en) * | 1961-01-03 | 1964-07-21 | Minnesota Mining & Mfg | 2, 2-dimethyl-2-silaalkane-sulfonic acids and their salts |
| US3328449A (en) | 1963-12-05 | 1967-06-27 | Dow Corning | Sulfopropylated, organofunctional silanes and siloxanes |
| US4093589A (en) | 1977-02-03 | 1978-06-06 | General Electric Company | Non-opaque flame retardant polycarbonate composition |
| DE2931172A1 (de) | 1979-08-01 | 1981-02-19 | Bayer Ag | Verwendung von alkali- und erdalkalisalzen alkylsubstituierter aromatischer sulfonsaeuren, phosphonsaeuren und sauerer phosphonsaeureester als interne antistatika fuer polycarbonat, insbesondere fuer polycarbonatfolien |
| US4570197A (en) | 1983-01-03 | 1986-02-11 | Minnesota Mining & Manufacturing Company | Static reduction in magnetic recording cassettes |
| US4943380A (en) | 1987-09-18 | 1990-07-24 | Takemoto Yushi Kabushiki Kaisha | Antistatic resin composition with transparency containing phosphonium sulphonate |
| US4873020A (en) | 1988-10-04 | 1989-10-10 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Fluorochemical surfactants and process for preparing same |
| US4904825A (en) | 1988-11-08 | 1990-02-27 | Ppg Industries, Inc. | Quaternary ammonium antistatic compounds |
| US4973616A (en) | 1988-11-14 | 1990-11-27 | Ppg Industries, Inc. | Toluene sulfonate salts of 2-alkyl imidazolines |
| JP2855370B2 (ja) | 1990-11-19 | 1999-02-10 | 日華化学株式会社 | 内部練込み型ポリエステル樹脂用帯電防止剤 |
| DE4320920C1 (de) * | 1993-06-24 | 1994-06-16 | Goldschmidt Ag Th | Silane mit hydrophilen Gruppen, deren Herstellung und Verwendung als Tenside in wäßrigen Medien |
| JP3427848B2 (ja) | 1993-07-02 | 2003-07-22 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 帯電防止性樹脂組成物 |
| EP0640646B1 (en) | 1993-08-26 | 2002-11-06 | Teijin Limited | Process for production of stabilized polycarnonate |
| US5468793A (en) | 1994-07-25 | 1995-11-21 | Wico Corporation | Plastic compositions with antistatic properties |
| JPH10298539A (ja) | 1997-04-22 | 1998-11-10 | Arutetsuku Kk | 静電防止剤及びこの静電防止剤を用いて成る塗布及び接着剤 |
| US6194497B1 (en) | 1997-07-23 | 2001-02-27 | General Electric Company | Anti-static resin composition containing fluorinated phosphonium sulfonates |
| JPH11106635A (ja) | 1997-09-30 | 1999-04-20 | Ge Plastics Japan Ltd | ポリカーボネート樹脂組成物およびその成形品 |
| US6372829B1 (en) | 1999-10-06 | 2002-04-16 | 3M Innovative Properties Company | Antistatic composition |
| US6592988B1 (en) | 1999-12-29 | 2003-07-15 | 3M Innovative Properties Company | Water-and oil-repellent, antistatic composition |
-
2002
- 2002-08-06 US US10/064,676 patent/US6900257B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-06-17 KR KR1020057002247A patent/KR20050062767A/ko not_active Ceased
- 2003-06-17 WO PCT/US2003/019602 patent/WO2004013218A1/en not_active Ceased
- 2003-06-17 CN CNB038236907A patent/CN100341928C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2003-06-17 DE DE60322565T patent/DE60322565D1/de not_active Expired - Fee Related
- 2003-06-17 AU AU2003247597A patent/AU2003247597A1/en not_active Abandoned
- 2003-06-17 AT AT03766822T patent/ATE402977T1/de not_active IP Right Cessation
- 2003-06-17 JP JP2004526002A patent/JP2005535690A/ja active Pending
- 2003-06-17 EP EP03766822A patent/EP1556437B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-06-17 ES ES03766822T patent/ES2306896T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2003-07-29 TW TW092120685A patent/TW200402444A/zh unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1556437A1 (en) | 2005-07-27 |
| JP2005535690A (ja) | 2005-11-24 |
| KR20050062767A (ko) | 2005-06-27 |
| WO2004013218A1 (en) | 2004-02-12 |
| CN100341928C (zh) | 2007-10-10 |
| US20040030015A1 (en) | 2004-02-12 |
| AU2003247597A1 (en) | 2004-02-23 |
| TW200402444A (en) | 2004-02-16 |
| US6900257B2 (en) | 2005-05-31 |
| DE60322565D1 (de) | 2008-09-11 |
| CN1688644A (zh) | 2005-10-26 |
| ATE402977T1 (de) | 2008-08-15 |
| EP1556437B1 (en) | 2008-07-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| ES2306896T3 (es) | Agentes antiestaticos y composiciones polimericas derivadas de los misos. | |
| US7851524B2 (en) | Antistatic agents, compositions thereof, and methods of manufacture | |
| US3933779A (en) | Antistatic polymer blend | |
| ES2218771T3 (es) | Composicion de resina antiestatica. | |
| CN114258415A (zh) | 含膦酸酯阻燃剂的聚合物配混物 | |
| KR20000070850A (ko) | 정전기 소산성 조성물 | |
| KR100737661B1 (ko) | 대전방지제 | |
| TWI618691B (zh) | 次磺醯胺滯焰劑 | |
| TWI665191B (zh) | 紫外線吸收劑及合成樹脂組合物 | |
| US3224889A (en) | Anti-static high molecular weight compounds | |
| KR101400630B1 (ko) | 대전 방지제 및 이것을 함유하는 대전 방지성 수지 조성물 | |
| KR101266296B1 (ko) | 폴리에스테르 수지 조성물 및 이를 이용한 성형품 | |
| MXPA01010902A (es) | Agentes antiestatica y composiciones de resina incorporadas en ellos. | |
| JP6871824B2 (ja) | 帯電防止性ポリカーボネート樹脂組成物 | |
| JP2021021004A (ja) | 樹脂用分散剤、樹脂組成物及びその成形体 | |
| US3395137A (en) | Process for rendering high molecular weight compounds resistant to electrostatic charge | |
| US11680154B2 (en) | Silyl functional compound for improving flame retardant properties | |
| TW201900665A (zh) | 新穎化合物及樹脂組合物 | |
| KR0166982B1 (ko) | 열가소성수지조성물 | |
| CA3067853A1 (en) | Polymer compositions stabilized with organopolysulfides | |
| KR20070120710A (ko) | 대전방지제 및 이를 포함하는 플라스틱 조성물 | |
| JP5536513B2 (ja) | ポリカーボネート樹脂用帯電防止剤及びポリカーボネート樹脂組成物 |