ES2309710T3 - Procedimiento para revestir abrasivos. - Google Patents
Procedimiento para revestir abrasivos. Download PDFInfo
- Publication number
- ES2309710T3 ES2309710T3 ES05702232T ES05702232T ES2309710T3 ES 2309710 T3 ES2309710 T3 ES 2309710T3 ES 05702232 T ES05702232 T ES 05702232T ES 05702232 T ES05702232 T ES 05702232T ES 2309710 T3 ES2309710 T3 ES 2309710T3
- Authority
- ES
- Spain
- Prior art keywords
- coating
- metal
- diamond
- procedure
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 99
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 92
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 52
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 title claims abstract description 14
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims abstract description 71
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims abstract description 69
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 54
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 54
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 9
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 5
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 claims abstract description 4
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims abstract description 3
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 58
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 17
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 15
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 11
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N alumane;titanium Chemical compound [AlH3].[Ti] UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 abstract description 12
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 9
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 abstract description 6
- -1 carbide Chemical class 0.000 abstract description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 abstract description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 abstract description 2
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 61
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 22
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 19
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 18
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 17
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 11
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 description 11
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 10
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 10
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 description 10
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 6
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 5
- 238000000399 optical microscopy Methods 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000011236 particulate material Substances 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000009498 subcoating Methods 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 2
- GJNGXPDXRVXSEH-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzonitrile Chemical compound ClC1=CC=C(C#N)C=C1 GJNGXPDXRVXSEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- GVEHJMMRQRRJPM-UHFFFAOYSA-N chromium(2+);methanidylidynechromium Chemical compound [Cr+2].[Cr]#[C-].[Cr]#[C-] GVEHJMMRQRRJPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009672 coating analysis Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 230000002860 competitive effect Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 238000005087 graphitization Methods 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 238000004518 low pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002843 nonmetals Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 150000002926 oxygen Chemical class 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000004663 powder metallurgy Methods 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910003470 tongbaite Inorganic materials 0.000 description 1
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09G—POLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
- C09G1/00—Polishing compositions
- C09G1/02—Polishing compositions containing abrasives or grinding agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
- C09K3/1436—Composite particles, e.g. coated particles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
- B24D11/00—Constructional features of flexible abrasive materials; Special features in the manufacture of such materials
- B24D11/001—Manufacture of flexible abrasive materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
- B24D18/00—Manufacture of grinding tools or other grinding devices, e.g. wheels, not otherwise provided for
- B24D18/0018—Manufacture of grinding tools or other grinding devices, e.g. wheels, not otherwise provided for by electrolytic deposition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/4584—Coating or impregnating of particulate or fibrous ceramic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
- C09K3/1436—Composite particles, e.g. coated particles
- C09K3/1445—Composite particles, e.g. coated particles the coating consisting exclusively of metals
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Un procedimiento para producir materiales abrasivos ultraduros revestidos seleccionados entre diamante y CBN, que incluye las etapas de aplicar un elemento capaz de formar (individualmente o en combinación) carburos, nitruros o boruros sobre la(s) superficie(s) del material abrasivo como capa interior usando un procedimiento de revestimiento en caliente, y aplicar como mínimo una capa exterior de material de revestimiento seleccionado entre el grupo que comprende carburos metálicos, nitruros metálicos, boruros metálicos, óxidos metálicos y carbonitruros metálicos, boronitruros y borocarbonitruros metálicos, por pulverización catódica reactiva usando un gas reactivo que da por resultado el depósito de un compuesto del gas reactivo y el elemento pulverizado.
Description
Procedimiento para revestir abrasivos.
Esta invención se refiere a un procedimiento
para revestir un material abrasivo ultraduro, en especial material
abrasivo en partículas.
Los materiales abrasivos en partículas, tales
como partículas de diamante y de nitruro de boro cúbico, se usan
ampliamente en aplicaciones de corte con sierra, perforación,
desbaste, pulido y en otras aplicaciones abrasivas y de corte. En
tales aplicaciones, por lo general el material abrasivo en
partículas está rodeado por una matriz constituida por metales
tales como Fe, Co, Ni, Cu y sus aleaciones, (matrices de unión
metálicas). Alternativamente se pueden usar matrices de resina
(matrices de unión de resina) o vítreas (matrices de unión
vítreas), siendo la elección función de la aplicación particular en
que se usa el abrasivo.
El uso de material abrasivo en partículas en la
producción de herramientas abrasivas no está exento de problemas.
Durante la fabricación de herramientas de corte, por ejemplo durante
la sinterización de segmentos de corte que contienen partículas de
diamante, puede estar presente el oxígeno, disuelto en los polvos
del metal que forma la matriz de unión, o en forma gaseosa en la
atmósfera. A la temperatura de sinterización, este oxígeno es capaz
de atacar la superficie de las partículas de diamante, lo que
debilita las partículas. En algunas aplicaciones, la matriz de
unión puede estar constituida por metales que típicamente se usan
como disolvente/catalizadores para la síntesis del diamante. Son
ejemplos de tales metales, Fe, Co y Ni. En estado fundido, estos
metales son capaces de disolver el diamante que, al enfriar,
precipita para formar grafito. Este proceso de grafitización de la
superficie del diamante no sólo debilita las partículas, sino que
también puede dar por resultado una peor retención de las
partículas en la unión.
El revestimiento del diamante con metales de
transición de los Grupos IVa, Va y VIa (Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr,
Mo y W) o sus aleaciones y/o sus respectivos carburos, ha revelado
que mejora el comportamiento de las partículas abrasivas. En
particular, los diamantes revestidos se usan extensamente en
aplicaciones de matrices de unión metálica tales como corte con
sierra, esmerilado y perforación.
Para el revestimiento que ha de proteger las
partículas de diamante se ha de formar una barrera entre la matriz
de unión y las partículas. Con otras palabras, debe ser impermeable
y densa de manera que los componentes de la matriz de unión no sean
capaces de pasar a través y tener contacto con la superficie de las
partículas. Una manera de que los componentes pudieran pasar a
través del revestimiento es por difusión en estado sólido a través
del revestimiento. Alternativamente, si el revestimiento es
incompleto, agrietado o poroso, los componentes pueden pasar a
través del revestimiento para llegar a la superficie de las
partículas. Un revestimiento puede ser inicialmente denso e
impermeable, pero, durante el proceso de sinterización, puede
producirse un cambio de fase debido a que se alee con la matriz de
unión, por ejemplo, de lo resultaría la formación de una aleación
menos densa o, quizás, un revestimiento poroso que permitiera el
paso de los componentes de la matriz a través del revestimiento a
la superficie de las partículas.
Algunos de los modos de fallo mencionados antes
pueden depender del tiempo o la temperatura. Para tiempos de
sinterización cortos, puede no haber tiempo suficiente para que se
produzcan, pero, en condiciones de sinterización agresivas, por
ejemplo, tiempos de sinterización largos o temperaturas de
sinterización altas, estos modos de fallo pueden llegar a
manifestarse.
Los procedimiento para depositar las capas de
metal sobre las partículas abrasivas incluyen procedimientos de PVD
tales como los descritos en Vacuum Deposition of Thin Films,
por L. Holland, Chapman y Hall, 1ª edición, 1956. También se pueden
usar los procedimientos de CVD en fase vapor tales como los
descritos por M.J. Hampdem-Smith y T.T. Kodas en
Chemical Vapor Deposition, vol. 1, nº. 1, 1995. Los
procedimientos alternativos de termodifusión implican la mezcla del
material abrasivo en partículas con polvos metálicos oxidados y el
calentamiento en atmósfera inerte (usualmente en vacío) según
describe V.G. Chuprina (Soviet Powder Metallurgy and Metal
Ceramics, 1992, vol. 31, nº. 7, págs. 578-83 e
ibid. 1992, vol. 31, nº. 8, págs. 687-92).
En los procedimientos que implican depositar a partir de un gas de
un haluro metálico, las partículas a revestir se exponen a un
haluro metálico que contiene el metal con el que se reviste (por
ejemplo Ti) en un medio gaseoso apropiado (por ejemplo, medios no
oxidantes que contienen uno o más de los siguientes: gas inerte,
hidrógeno, hidrocarburo, presión reducida). El haluro metálico se
puede generar como parte del proceso a partir de un metal.
La mezcla se somete a un ciclo térmico durante
el cual el haluro metálico transporta el Ti a la superficie de las
partículas en la que se libera y se une químicamente a las
partículas. El uso de haluros de metales alcalinos fundidos, tal
como describen Oki y Tanikawa en Proceedings of 1st. Internacional
Conference on Molten Salt Chemistry and Technology, pág. 265, 1983
ofrece también un medio para revestir diamantes con metales de
transición de los grupos IVa, Va y VIa. Este último procedimiento
utiliza una química similar a la de los procedimientos de CVD.
La patente U.S. nº. 5.024.680 describe unas
partículas abrasivas de diamante revestidas de forma múltiple para
una retención mejorada en la matriz de la herramienta. Las
partículas abrasivas revestidas comprenden una primera capa de
revestimiento de un carburo metálico o un formador fuerte de
carburo, preferiblemente cromo, químicamente unido al diamante, y
una segunda capa de revestimiento de un metal formador de carburos
resistentes a la oxidación, preferiblemente wolframio, tantalio o
molibdeno, unida químicamente a la primera capa de metal. Se puede
añadir una tercera capa de un metal tal como níquel. El abrasivo
revestido se produce aplicando una primera capa a las partículas
mediante depósito del metal en fase vapor (se dice que el depósito
químico en fase vapor de esta capa no aporta ventaja alguna) a lo
que sigue la aplicación de la segunda capa metálica por depósito
químico en fase vapor.
Es bien conocido que elementos como Fe, Co y Ni
pueden grafitizar el diamante. Cuando como material de revestimiento
se usa carburo de cromo, no es particularmente eficaz para prevenir
tal grafitización, por ejemplo en el caso del hierro, que limita su
eficacia.
La segunda capa específicamente es también una
capa gruesa. Por tanto es necesario tener la segunda capa unida
químicamente a la primera capa, lo que requiere el uso de
procedimientos de revestimiento a alta temperatura o una etapa
separada de calentamiento para crear la unión química.
La patente U.S. nº. 5.232.469 describe
partículas abrasivas de diamante revestidas con multicapas que
tienen un comportamiento mejorado en herramientas abrasivas. El
revestimiento comprende una sola capa homogénea principal de un
metal que forma carburo, principalmente cromo, que está unida a la
superficie de las partículas abrasivas de diamante. Se dice que un
procedimiento adecuado para depositar la capa principal es un
procedimiento de cementación con sales en paquete. Se dice que
entre otros procedimientos para depositar la capa primaria están
incluidos el depósito químico en fase vapor (CVD), en particular el
depósito químico en fase vapor a baja presión (LPCVD). Sobre la
capa principal se aplica por depósito sin corriente eléctrica como
mínimo una capa secundaria que no forma carburo. Típicamente
comprende níquel/fósforo o cobalto/fósforo.
El uso de una capa exterior depositada sin paso
de corriente eléctrica limita las capas exteriores a relativamente
pocos metales de transición, tales como, por ejemplo, Ni y Co. Estos
metales, si bien pueden conferir algunas propiedades favorables en
el revestimiento, tienen el inconveniente de que pueden penetrar la
capa subyacente de carburo metálico y catalizar la grafitización
del diamante durante un posterior ciclo de sinterización. Esto da
por resultado la desunión del revestimiento y el diamante.
Otra limitación es que estos metales típicamente
se usan en matrices usadas para soportar las partículas de diamante
revestidas. Así, hay pocas ventajas al tenerlos en cuenta como un
revestimiento adicional del revestimiento.
De acuerdo con la invención, un procedimiento
para producir material abrasivo ultraduro revestido incluye las
etapas de aplicar un elemento capaz de formar (individualmente o en
combinación) carburos, nitruros o boruros en
la(s) superficie(s) del material abrasivo como una capa interior usando un procedimiento de revestimiento en caliente y aplicar como mínimo una capa exterior de un material de revestimiento seleccionado entre el grupo comprendido por carburos metálicos, nitruros metálicos, boruros metálicos, óxidos metálicos y carbonitruros, boronitruros y borocarbonitruros metálicos por depósito físico en fase vapor o depósito químico en fase vapor.
la(s) superficie(s) del material abrasivo como una capa interior usando un procedimiento de revestimiento en caliente y aplicar como mínimo una capa exterior de un material de revestimiento seleccionado entre el grupo comprendido por carburos metálicos, nitruros metálicos, boruros metálicos, óxidos metálicos y carbonitruros, boronitruros y borocarbonitruros metálicos por depósito físico en fase vapor o depósito químico en fase vapor.
Típicamente, los elementos de la capa interior
proceden de los grupos IVa, Va, VIa, IIIb y IVb de la tabla
periódica y entre ellos están incluidos, por ejemplo, vanadio,
molibdeno, tantalio, indio, zirconio, niobio, wolframio, aluminio,
boro y silicio.
La aplicación de la capa o revestimiento
interior puede hacerse por cualquier procedimiento de revestimiento
en caliente apropiado, incluidos procedimientos que implican el
depósito desde una fase gas de un haluro de un metal, un
procedimiento de CVD o un procedimiento de termodifusión que den por
resultado una unión química entre el metal de la capa interior y el
sustrato.
La aplicación del revestimiento exterior se
selecciona de manera que corresponda a las propiedades físicas y
químicas del revestimiento para conseguir un balance equilibrado
entre los requerimientos, frecuentemente competitivos, de un
revestimiento de este tipo. Los beneficios de esto incluyen:
- -
- proporcionar un revestimiento más grueso sobre el material abrasivo ultraduro que el que se puede conseguir con la técnica de revestimiento en caliente, lo que hace que sea más robusto y capaz de resistir temperaturas más altas y capaz de demorar el paso de elementos de agresivos, por ejemplo en la matriz de unión de un componente de una herramienta abrasiva, impidiendo así un ataque químico tal como la oxidación o grafitización del sustrato o partes de él;
- -
- proporcionar una capa de revestimiento con una composición que previene el paso de elementos agresivos, con lo que se protege la capa interior y el sustrato contra el deterioro procedente de un ataque químico u otros procesos deteriorantes;
- -
- proporcionar un capa de revestimiento con una composición que es resistente al ataque por oxidación o por elementos de la matriz durante posteriores etapas de fabricación tales como sinterización que de otra forma comprometerían uno de los papeles o ambos papeles principales del revestimiento (retención y protección del sustrato), y
- -
- una compatibilidad mejorada del sistema de revestimiento con la matriz, lo que da por resultado una unión mejorada entre el sistema de revestimiento y la matriz.
El revestimiento exterior se aplica por
pulverización catódica reactiva, en el que se admite un gas reactivo
en la cámara de pulverización catódica reactiva dando por resultado
el depósito de un compuesto del gas reactivo y el elemento que se
está depositando. Entre los ejemplos están incluidos carburo o
nitruro de titanio formado admitiendo un hidrocarburo o nitrógeno,
respectivamente.
El material abrasivo ultraduro es diamante o cBN
y puede incluir diamante o partículas de cBN, sustratos de PCD,
sustratos de PCD térmicamente estables (TSPCD), sustratos de PcBN,
película de diamante CVD, sustratos de diamante monocristalino.
Si bien el procedimiento de la invención se
puede usar para revestir cualquier material abrasivo ultraduro, por
razones de conveniencia será descrito haciendo referencia al
revestimiento de material abrasivo de diamante.
Las partículas abrasivas de diamante son las
usadas en la fabricación de herramientas sinterizadas con matriz de
metal. Generalmente el tamaño es uniforme, típicamente de 0,1 a 10
micrómetros. Entre los ejemplos de tales partículas abrasivas están
incluidos: abrasivo en partículas Micron de 0,1 a 60 micrómetros,
abrasivo en partículas para discos de 40 micrómetros a 200
micrómetros, abrasivo para serrar de 180 micrómetros a 2 mm,
monocristales de 1 mm a 10 mm, insertos de CVD de unos pocos
mm^{2} a discos de hasta 200 mm de diámetro, insertos de PCD de
unos pocos mm^{2} a discos de 104 mm de diámetro, abrasivo de cBN
en partículas en el intervalo de 0,1 a 60 micrómetros, en el
intervalo de abrasivos de 40 micrómetros a 200 micrómetros para
discos, insertos de PCBN de unos pocos mm a discos de hasta 104
mm.
Las partículas de diamante se revisten
primeramente en un proceso de revestimiento en caliente para obtener
una capa interior que puede ser una capa de metal o un carburo,
nitruro o carbonitruro metálico. En el caso del cBN, tal
revestimiento interior típicamente sería una capa de un nitruro,
boruro o boronitruro metálico. En este procedimiento de
revestimiento en caliente, el revestimiento de base metálica se
aplica al sustrato de diamante en condiciones adecuadas para que se
produzca tal unión. Entre las técnicas típicas de revestimiento en
caliente que se pueden usar y que implican el depósito a partir de
una fase gaseosa de haluro metálico están incluidos procedimientos
de CVD o de termodifusión, por ejemplo. Se prefieren los
procedimientos que implican depósito a partir de un haluro metálico
en fase gas y los procedimientos de CVD.
En los procedimientos que implican depositar
metal a partir de un haluro metálico en fase gas, las partículas a
revestir se exponen a un haluro metálico que contiene el metal con
el que revestir (por ejemplo Ti) en un medio gaseoso apropiado (por
ejemplo, medios no oxidantes que contienen uno o varios de los
siguientes: gas inerte, hidrógeno, hidrocarburo, presión reducida).
El haluro metálico se puede generar a partir del metal como parte
del proceso.
La mezcla se somete a un ciclo térmico durante
el cual el haluro metálico transporta el Ti a la superficie de las
partículas donde se libera y se une químicamente a las
partículas.
La capa o capas exteriores se depositan usando
depósito por pulverización catódica reactiva. En este procedimiento,
un metal tal como Ti se deposita como carburo de titanio estable,
nitruro de titanio o dióxido de titanio admitiendo en la cámara de
reacción un gas como C, N u O. La relación entre los compuestos se
puede ajustar variando la cantidad de gas admitida. Así se puede
lograr una variación de Ti:C, por ejemplo. También es posible
depositar simultáneamente por pulverización catódica desde dos
puntos diferentes dando lugar a compuestos con diferentes
relaciones o composiciones. La capa o capas exteriores proporcionan
espesores de revestimiento sobre las partículas de diamante mayores
que el que se obtendría con un procedimiento de revestimiento en
caliente usado para la capa interior, que está limitado por la
velocidad de difusión del carbono a través del propio
revestimiento. La capa exterior permite también conseguir las
propiedades y el comportamiento deseados.
En una realización, la capa de revestimiento
exterior tiene la misma composición que la capa interior, por
ejemplo carburo de titanio. Si bien la composición puede ser la
misma, el uso de diferentes composiciones para depositar las dos
capas permite modificar la microestructura de la segunda capa
haciéndola más coherente y consecuentemente menos permeable, por
ejemplo. El revestimiento grueso de carburo de titanio que resulta
es más robusto y es capaz de resistir temperaturas más altas o
ambientes más agresivos. También permite tiempos de reacción más
largos cuando se fabrican herramientas abrasivas, sin difusión de
metales en la matriz de unión, por ejemplo, a través del
revestimiento y sin atacar las partículas de diamante. Como
consecuencia, es posible el uso de partículas de diamante
revestidas con carburo de titano en aplicaciones que en el pasado
eran demasiado agresivas.
La aplicación de PVD en la capa exterior en esta
realización permite también diferentes capas de diferentes
composiciones de carburo de titanio o gradientes de composición de
carburo de titanio. Tales capas se aplican por pulverización
catódica reactiva de carburo de titanio. Al aplicarlas así, es
posible intensificar la unión de la(s) capa(s)
exterior(es) de carburo de titanio a la capa interior de carburo de titanio ajustando sus propiedades y constantes reticulares a las de la capa interior, mientras que se intensifica la unión de la(s) capa(s) exterior(es) a la matriz metálica de unión. Por tanto, ello permite el uso de revestimientos de carburo de titanio en aplicaciones en las que tradicionalmente no se unen bien a la matriz de unión metálica. Un ejemplo sería el carburo de wolframio, que se usaría para prevenir la grafitización de la superficie del diamante.
exterior(es) de carburo de titanio a la capa interior de carburo de titanio ajustando sus propiedades y constantes reticulares a las de la capa interior, mientras que se intensifica la unión de la(s) capa(s) exterior(es) a la matriz metálica de unión. Por tanto, ello permite el uso de revestimientos de carburo de titanio en aplicaciones en las que tradicionalmente no se unen bien a la matriz de unión metálica. Un ejemplo sería el carburo de wolframio, que se usaría para prevenir la grafitización de la superficie del diamante.
En otra realización, la capa interior es una
capa de carburo de titanio aplicada por CVD y la capa o capas
exterior(es)
está(n) formada(s) por un carbonitruro metálico, tal como carbonitruro de titanio, que es particularmente adecuado en condiciones de sinterización agresivas. Es particularmente adecuado para formar una barrera a la difusión de Co, Fe y Ni de una matriz de unión de estos metales, lo que permite el uso en procedimientos de prensado en caliente de bajo Cu en Fe, Co y Cu o hierro o con alto contenido de hierro. Las relaciones Ti(C,N) y C:N se pueden manipular para optimizar las propiedades de la capa exterior. Además permite el empleo de múltiples capas o el empleo de gradientes del carbonitruro de titanio en la capa de PVD.
está(n) formada(s) por un carbonitruro metálico, tal como carbonitruro de titanio, que es particularmente adecuado en condiciones de sinterización agresivas. Es particularmente adecuado para formar una barrera a la difusión de Co, Fe y Ni de una matriz de unión de estos metales, lo que permite el uso en procedimientos de prensado en caliente de bajo Cu en Fe, Co y Cu o hierro o con alto contenido de hierro. Las relaciones Ti(C,N) y C:N se pueden manipular para optimizar las propiedades de la capa exterior. Además permite el empleo de múltiples capas o el empleo de gradientes del carbonitruro de titanio en la capa de PVD.
Esto permite también su empleo para adecuar el
material para aplicaciones en las que los revestimientos de
carbonitruro de titanio tradicionalmente no forman buenas uniones
con la matriz metálica de unión. Un ejemplo similar, útil para la
resistencia química, es el carbonitruro de
titanio-aluminio. La relación entre metal y no
metal, las relaciones entre los metales o entre los no metales
pueden variarse bien continuamente (creando gradientes) o
discontinuamente (creando capas múltiples) con el fin de conseguir
las propiedades químicas y físicas del revestimiento.
La invención se describirá ahora más
detalladamente, sólo a modo de ejemplo, haciendo referencia a los
siguientes ejemplos no limitativos.
Ejemplo
1
(Fuera de la
invención)
Se revistió diamante abrasivo Eleven Six de
tamaño de malla U.S. 40/45 por un procedimiento de CVD para producir
diamante revestido con TiC de acuerdo con procedimientos comúnmente
conocidos en la técnica. El diamante revestido con TiC por CVD se
usó luego como sustrato para la segunda etapa de revestimiento.
Se pusieron 3.000 quilates de este diamante
revestido con TiC, de tamaño de malla U.S. 40/45, en un dispositivo
de revestimiento por pulverización catódica con magnetrón con tambor
rotatorio y una placa grande de titanio puro como diana. Se evacuó
la cámara de revestimiento, se admitió argón y luego se conectó la
corriente para formar plasma. Se aumentó la potencia de depósito
por pulverización catódica a 5000 W mientras que giraba el tambor
para asegurar un revestimiento uniforme sobre todas las partículas
de diamante. Se continuó depositando titanio metal por
pulverización catódica durante dos tandas de 160 min; se tomó una
muestra para análisis después de la primera tanda antes de
continuar. Se dejó enfriar el diamante revestido antes de sacarlo de
la cámara.
Se realizó un análisis de este diamante
revestido después de la segunda tanda por difracción de rayos X,
fluorescencia de rayos X, análisis químico del revestimiento,
examen por microscopía óptica y microscopía electrónica de barrido
y de fractura de las partículas y seguidamente análisis en secciones
transversales por SEM (microscopía electrónica de barrido).
Visualmente, este revestimiento tenía un color
gris metálico. Este aspecto del color estaba distribuido
uniformemente en cada partícula y era idéntico para todas las
partículas. El revestimiento era uniforme y no presentaba zonas
descubiertas. La observación por SEM reveló un revestimiento
uniforme de partículas aglomeradas con una morfología ligeramente
rugosa. Este revestimiento particular fue en un ensayo de 3,4%.
Típicamente, el revestimiento de TiC de este tamaño usado para este
lote tiene un ensayo de 0,77%. Por tanto, el resto hasta 3,4% es
atribuible a la capa de titanio encima del TiC. Se fracturaron las
partículas y se observaron por SEM, pudiendo distinguirse los dos
revestimientos sólo por la microestructura. Se midió el
revestimiento de PVD que resultó ser de 1 micrómetro en la parte
superior del subrrevestimiento de TiC hecho por CVD. Cuando se hizo
el análisis por difracción de rayos X, se encontró diamante, TiC y
Ti metal. El análisis por fluorescencia de rayos X dio 100% de
Ti.
Ejemplo
2
(Fuera de la
invención)
Se produjo como en el Ejemplo 1 diamante
revestido con TiC por CVD. Este diamante revestido con TiC se usó
luego como sustrato para la segunda etapa de revestimiento. Se
pusieron 500 quilates de este diamante revestido con TiC, de tamaño
de malla U.S. 40/45, en un dispositivo de revestimiento por
pulverización catódica con magnetrón con tambor rotatorio y una
placa grande de titanio puro como diana. Se evacuó la cámara de
revestimiento, se admitió argón y luego se conectó la corriente
para formar plasma. Se aumentó la potencia de depósito a 5000 W
mientras que giraba el tambor para asegurar un revestimiento
uniforme sobre todas las partículas de diamante. Se continuó
depositando titanio metal por pulverización catódica durante 120
min. Se dejó enfriar el diamante revestido antes de sacarlo de la
cámara.
Se realizó un análisis de este diamante
revestido por difracción de rayos X, fluorescencia de rayos X,
análisis químico del revestimiento, examen por microscopía óptica y
microscopía electrónica de barrido y de fractura de las partículas
y seguidamente análisis en secciones transversales por SEM.
Visualmente, este revestimiento tenía un color
gris metálico. Este aspecto del color estaba distribuido
uniformemente en cada partícula y todas las partículas aparecían
idénticas. El revestimiento era uniforme y no presentaba zonas
descubiertas. La observación por SEM reveló un revestimiento
uniforme de partículas aglomeradas con una morfología ligeramente
rugosa. Este revestimiento particular fue en un ensayo de 3,77%.
Típicamente, el revestimiento de TiC de este tamaño usado para este
lote tiene un ensayo de 0,77%. Por tanto, el resto hasta 3,77% es
atribuible a la capa de titanio encima del TiC. Se fracturaron las
partículas y se observaron por SEM, pudiendo distinguirse los dos
revestimientos sólo por la microestructura. Se midió el
revestimiento de PVD que resultó ser de 1 a 2 micrómetros en la
parte superior del subrrevestimiento de TiC hecho por CVD. Cuando
se hizo el análisis por difracción de rayos X, se encontró diamante,
TiC y Ti metal. El análisis por fluorescencia de rayos X dio 100%
de Ti.
\vskip1.000000\baselineskip
Ejemplo
3
Se produjo como en el Ejemplo 1 diamante
revestido con TiC por CVD. Este diamante revestido con TiC se usó
luego como sustrato para revestimiento. Se pusieron 1.000 quilates
de este diamante revestido con TiC, de tamaño de malla U.S. 40/45,
en un dispositivo de revestimiento por pulverización catódica con
magnetrón con tambor rotatorio y una placa grande de silicio metal
como diana. Se evacuó la cámara de revestimiento, se admitió argón
y luego se conectó la corriente para formar plasma. Se aumentó la
potencia de depósito a 5 A (400 V) sobre la diana mientras que
giraba el tambor para asegurar un revestimiento uniforme sobre todas
las partículas de diamante a una presión de 20sccm de argón. Se
admitió butano gas para conseguir una presión de 30sccm. Se
continuó depositando silicio reaccionado con carbono durante 5
horas. Se dejó enfriar el diamante revestido antes de sacarlo de la
cámara.
Se realizó un análisis de este diamante
revestido por difracción de rayos X, fluorescencia de rayos X,
análisis químico del revestimiento, examen por microscopía óptica y
microscopía electrónica de barrido y de fractura de las partículas
y seguidamente análisis en secciones transversales por SEM.
Visualmente, este revestimiento aparecía como
teniendo un efecto de arco iris entre partículas, viéndose
coloraciones de rojo, verde, azul y oro. El revestimiento tenía un
aspecto uniforme y no presentaba zonas descubiertas. La observación
por SEM reveló un revestimiento uniforme con una morfología alisada.
Era particularmente evidente una estructura en dos capas, teniendo
la capa de SiC un espesor de aproximadamente 0,25 micrómetros. Este
revestimiento particular fue en un ensayo de 0,59%. Típicamente, el
revestimiento de TiC de este tamaño usado para este lote tiene un
ensayo de 0,45%. Por tanto, el resto hasta 0,59% es atribuible a la
capa de SiC encima del TiC. Cuando se hizo el análisis por
difracción de rayos X, se encontró diamante, TiC y lo que se cree
que era SiC. El análisis por fluorescencia de rayos X dio 75% de Ti
y 22% de Si.
\vskip1.000000\baselineskip
Ejemplo
4
Se produjo como en el Ejemplo 1 diamante
revestido con TiC por CVD. Este diamante revestido con TiC se usó
luego como sustrato para revestimiento. Se pusieron 1.000 quilates
de este diamante revestido con TiC, de tamaño de malla U.S. 40/45,
en un dispositivo de revestimiento por pulverización catódica con
magnetrón con tambor rotatorio y una placa grande de aluminio metal
puro como diana. Se evacuó la cámara de revestimiento, se admitió
argón y luego se conectó la corriente para formar plasma. Se aumentó
la potencia de depósito a 8 A (290 V) sobre la diana de aluminio
mientras que giraba el tambor para asegurar un revestimiento
uniforme sobre todas las partículas de diamante a una presión de 20
sccm de argón. Se admitió oxígeno gas para conseguir una Medida de
Emisión Óptica de 30%. Se continuó depositando por pulverización
catódica aluminio reaccionado con oxígeno durante 1 hora. Se dejó
enfriar el diamante revestido antes de sacarlo de la cámara.
Se realizó un análisis de este diamante
revestido por difracción de rayos X, fluorescencia de rayos X,
análisis químico del revestimiento, examen por microscopía óptica y
microscopía electrónica de barrido y de fractura de las partículas
y seguidamente análisis en secciones transversales por SEM.
Visualmente, este revestimiento no parecía muy
diferente del revestimiento de TiC por CVD. Al examinar más
detalladamente, sobre las partículas se vio un revestimiento delgado
blanco lechoso. La observación por SEM reveló un revestimiento muy
delgado encima del TiC de CVD. No era evidente una estructura de dos
capas, teniendo la capa completa un espesor total de
aproximadamente 0,6 micrómetros. Este revestimiento particular
resultó ser en un ensayo de 0,45%. Típicamente, el revestimiento de
TiC de este tamaño usado para este lote tiene un ensayo de 0,45%.
Por tanto, el resto hasta 0,69% es atribuible a la capa de
Al_{2}O_{3} encima del TiC. Cuando se hizo el análisis por
difracción de rayos X, se encontró diamante y TiC. El análisis por
fluorescencia de rayos X dio 85% de Ti y 15% de Al.
\vskip1.000000\baselineskip
Ejemplo
5
Se produjo como en el Ejemplo 1 diamante
revestido con TiC por CVD. Este diamante revestido con TiC se usó
luego como sustrato para revestimiento. Se pusieron 1.000 quilates
de este diamante revestido con TiC, de tamaño de malla U.S. 40/45,
en un dispositivo de revestimiento por vaporización catódica con
magnetrón con tambor rotatorio y una placa grande de aluminio metal
puro como diana. Se evacuó la cámara de revestimiento, se admitió
argón y luego se conectó la corriente para formar plasma. Se aumentó
la potencia de depósito a 6 A (290 V) sobre la diana mientras que
giraba el tambor para asegurar un revestimiento uniforme sobre todas
las partículas de diamante a una presión de 20 sccm de argón. Se
admitió C_{4}H_{10} gas para conseguir una Medida de Emisión
Óptica de 50%. Se continuó depositando por pulverización catódica
aluminio reaccionado con carbono durante 1 hora. Se dejó enfriar el
diamante revestido antes de sacarlo de la cámara.
Se realizó un análisis de este diamante
revestido por difracción de rayos X, fluorescencia de rayos X,
análisis químico del revestimiento, examen por microscopía óptica y
microscopía electrónica de barrido y de fractura de las partículas
y seguidamente análisis en secciones transversales por SEM.
Visualmente, este revestimiento aparecía con un
color gris-castaño con un efecto de arco iris
reflejado. El revestimiento tenía un aspecto uniforme y alisado sin
zonas no revestidas. La observación por SEM reveló un revestimiento
liso muy delgado con una morfología relativamente uniforme. No era
evidente una estructura en dos capas, teniendo la capa completa un
espesor total de aproximadamente 0,25 micrómetros. Este
revestimiento particular resultó ser en un ensayo de 0,71%.
Típicamente, el revestimiento de TiC de este tamaño usado para este
lote tiene un ensayo de 0,45%. Por tanto, el resto hasta 0,71% es
atribuible a la capa de AlC encima del TiC. Cuando se hizo el
análisis por difracción de rayos X, se encontró sólo diamante y TiC.
El análisis por fluorescencia de rayos X dio 77% de Ti y 23% de
Al.
Claims (9)
1. Un procedimiento para producir materiales
abrasivos ultraduros revestidos seleccionados entre diamante y CBN,
que incluye las etapas de aplicar un elemento capaz de formar
(individualmente o en combinación) carburos, nitruros o boruros
sobre la(s) superficie(s) del material abrasivo como
capa interior usando un procedimiento de revestimiento en caliente,
y aplicar como mínimo una capa exterior de material de revestimiento
seleccionado entre el grupo que comprende carburos metálicos,
nitruros metálicos, boruros metálicos, óxidos metálicos y
carbonitruros metálicos, boronitruros y borocarbonitruros metálicos,
por pulverización catódica reactiva usando un gas reactivo que da
por resultado el depósito de un compuesto del gas reactivo y el
elemento pulverizado.
2. Un procedimiento de acuerdo con la
reivindicación 1, en el que la aplicación de la capa o revestimiento
interior se hace por un procedimiento de revestimiento en caliente
seleccionado entre el grupo que comprende procedimientos que
implican depósito a partir de una fase gaseosa de un haluro
metálico, procedimientos de CVD y procedimientos de
termodifusión.
3. Un procedimiento de acuerdo con la
reivindicación 1 o la reivindicación 2, en el que la capa interior
se forma a partir de un elemento seleccionado entre el grupo que
comprende los grupos IVa, Va, VIa, IIIb y IVb de la tabla
periódica.
4. Un procedimiento de acuerdo con la
reivindicación 2, en el que la capa interior se forma a partir de un
elemento seleccionado entre el grupo que comprende vanadio,
molibdeno, tantalio, indio, zirconio, niobio, wolframio, aluminio,
boro y silicio.
5. Un procedimiento de acuerdo con una
cualquiera de las reivindicaciones precedentes, en el que el
revestimiento exterior es de carburo o nitruro de titanio, silicio
o aluminio, formado por aportación de un hidrocarburo o nitrógeno,
respectivamente.
6. Un procedimiento de acuerdo con la
reivindicación 1, en el que el material ultraduro es diamante o
abrasivo en partículas de cBN, un sustrato de PCD, un sustrato de
PCD térmicamente estable (TSPCD), un sustrato de PcBN, una película
de diamante CVD o un sustrato de diamante monocristalino.
7. Un procedimiento de acuerdo con una
cualquiera de las reivindicaciones precedentes, en el que el
revestimiento interior y el revestimiento exterior tienen la misma
composición pero una microestructura diferente.
8. Un procedimiento de acuerdo con la
reivindicación 7, en el que la capa interior y el revestimiento
exterior son ambos de carburo de titanio.
9. Un procedimiento de acuerdo con una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 6, en el que la capa interior
es de carburo de titanio y el revestimiento exterior es de
carbonitruro de titanio o carbonitruro de
titanio-aluminio.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IE2004/0022 | 2004-01-15 | ||
| IES20040022 | 2004-01-15 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ES2309710T3 true ES2309710T3 (es) | 2008-12-16 |
Family
ID=34856837
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| ES05702232T Expired - Lifetime ES2309710T3 (es) | 2004-01-15 | 2005-01-13 | Procedimiento para revestir abrasivos. |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20070157525A1 (es) |
| EP (1) | EP1709139B1 (es) |
| JP (1) | JP4850074B2 (es) |
| KR (1) | KR101103876B1 (es) |
| CN (1) | CN1934211A (es) |
| AT (1) | ATE400625T1 (es) |
| AU (1) | AU2005213533A1 (es) |
| CA (1) | CA2553567C (es) |
| DE (1) | DE602005008009D1 (es) |
| ES (1) | ES2309710T3 (es) |
| RU (1) | RU2378231C2 (es) |
| WO (1) | WO2005078045A1 (es) |
| ZA (1) | ZA200605819B (es) |
Families Citing this family (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7866343B2 (en) | 2002-12-18 | 2011-01-11 | Masco Corporation Of Indiana | Faucet |
| US7866342B2 (en) | 2002-12-18 | 2011-01-11 | Vapor Technologies, Inc. | Valve component for faucet |
| AU2005213530A1 (en) * | 2004-01-15 | 2005-08-25 | Element Six Limited | Coated abrasives |
| EP2256229A1 (de) * | 2005-11-04 | 2010-12-01 | Sulzer Metaplas GmbH | Schichtsystem zur Bildung einer Oberflächenschicht auf einer Oberfläche eines Substrats, Beschichtungsverfahren und Substrat mit einem Schichtsystem |
| EP2351870B1 (de) * | 2007-06-25 | 2018-08-08 | Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon | Schichtsystem zur Bildung einer Oberflächenschicht auf einer Oberfläche eines Substrats |
| WO2009013714A1 (en) * | 2007-07-23 | 2009-01-29 | Element Six Limited | Air brazeable material |
| GB0902232D0 (en) | 2009-02-11 | 2009-03-25 | Element Six Production Pty Ltd | Method of coating carbon body |
| JP5565852B2 (ja) * | 2009-09-30 | 2014-08-06 | 新技術開発株式会社 | 二重被覆ダイヤモンド研材粒子の製造方法 |
| JP2011079929A (ja) * | 2009-10-06 | 2011-04-21 | Shingijutsu Kaihatsu Kk | 二重被覆ダイヤモンド研磨材粒子及びその製造方法 |
| RU2014130166A (ru) * | 2011-12-30 | 2016-02-20 | Сэнт-Гобэйн Керамикс Энд Пластикс Инк. | Абразивный зернистый материал, содержащий суперабразивный материал с металлическим покрытием |
| CN102642022B (zh) * | 2012-04-05 | 2014-09-10 | 燕山大学 | 一种表面镀活性金属镀硅超硬磨粒及制造方法 |
| US9126273B2 (en) | 2012-12-17 | 2015-09-08 | Kennametal Inc | Tool for the cutting machining of workpieces and process for coating substrate bodies |
| RU2521780C1 (ru) * | 2013-02-04 | 2014-07-10 | Общество с ограниченной ответственностью научно-производственное предприятие "Плазма" ООО НПП "Плазма" | Способ нанесения теплозащитного износостойкого покрытия на детали из чугуна и стали |
| RU2561612C2 (ru) * | 2013-07-12 | 2015-08-27 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
| RU2558313C2 (ru) * | 2013-07-19 | 2015-07-27 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
| RU2553778C1 (ru) * | 2013-12-03 | 2015-06-20 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
| RU2558308C2 (ru) * | 2013-12-03 | 2015-07-27 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
| RU2558312C2 (ru) * | 2013-12-03 | 2015-07-27 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
| RU2558307C2 (ru) * | 2013-12-03 | 2015-07-27 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
| RU2553773C1 (ru) * | 2013-12-03 | 2015-06-20 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
| AR099053A1 (es) * | 2014-01-10 | 2016-06-29 | Esco Corp | Partículas de desgaste encapsuladas |
| EP3029113B1 (en) * | 2014-12-05 | 2018-03-07 | Ansaldo Energia Switzerland AG | Abrasive coated substrate and method for manufacturing thereof |
| RU2596529C1 (ru) * | 2015-03-13 | 2016-09-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
| RU2596532C1 (ru) * | 2015-03-13 | 2016-09-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
| DE102017201487A1 (de) * | 2017-01-31 | 2018-08-02 | Gühring KG | Verfahren zum Beschichten von soliden Diamantwerkstoffen |
| CN111855724B (zh) * | 2020-06-11 | 2023-10-24 | 宁夏大学 | 一种等轴钛铝枝晶微观组织形貌的直接显示方法 |
| CN113458655B (zh) * | 2021-07-01 | 2022-05-17 | 安徽工业大学 | 一种含Hf的多元无硼镍基合金钎料、制备方法及其钎焊方法 |
| KR102649810B1 (ko) * | 2023-08-30 | 2024-03-21 | 주식회사 코미코 | 증착 공정용 챔버의 코팅방법 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4810368B1 (es) * | 1968-11-19 | 1973-04-03 | ||
| US4505720A (en) * | 1983-06-29 | 1985-03-19 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Granular silicon carbide abrasive grain coated with refractory material, method of making the same and articles made therewith |
| US5024680A (en) * | 1988-11-07 | 1991-06-18 | Norton Company | Multiple metal coated superabrasive grit and methods for their manufacture |
| US5250367A (en) * | 1990-09-17 | 1993-10-05 | Kennametal Inc. | Binder enriched CVD and PVD coated cutting tool |
| JPH04202490A (ja) * | 1990-11-30 | 1992-07-23 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 被覆ダイヤモンド砥粒 |
| HUT62831A (en) * | 1991-09-12 | 1993-06-28 | Gen Electric | Method for producing covered cubed leather-nitride abrasive grain, abrasive grain and grinding tool by using the same |
| US5500248A (en) * | 1994-08-04 | 1996-03-19 | General Electric Company | Fabrication of air brazable diamond tool |
| DE19844397A1 (de) * | 1998-09-28 | 2000-03-30 | Hilti Ag | Abrasive Schneidkörper enthaltend Diamantpartikel und Verfahren zur Herstellung der Schneidkörper |
| JP4011276B2 (ja) * | 1999-09-24 | 2007-11-21 | 株式会社リコー | 画像処理装置、画像処理方法およびその方法をコンピュータに実行させるプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
-
2005
- 2005-01-13 CA CA2553567A patent/CA2553567C/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-01-13 KR KR1020067014942A patent/KR101103876B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2005-01-13 AT AT05702232T patent/ATE400625T1/de not_active IP Right Cessation
- 2005-01-13 EP EP05702232A patent/EP1709139B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2005-01-13 WO PCT/IB2005/000062 patent/WO2005078045A1/en not_active Ceased
- 2005-01-13 RU RU2006129351/03A patent/RU2378231C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2005-01-13 JP JP2006548469A patent/JP4850074B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-01-13 US US10/586,309 patent/US20070157525A1/en not_active Abandoned
- 2005-01-13 ZA ZA200605819A patent/ZA200605819B/en unknown
- 2005-01-13 CN CNA2005800064962A patent/CN1934211A/zh active Pending
- 2005-01-13 AU AU2005213533A patent/AU2005213533A1/en not_active Abandoned
- 2005-01-13 ES ES05702232T patent/ES2309710T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2005-01-13 DE DE602005008009T patent/DE602005008009D1/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20070003832A (ko) | 2007-01-05 |
| RU2006129351A (ru) | 2008-02-20 |
| EP1709139A1 (en) | 2006-10-11 |
| CA2553567A1 (en) | 2005-08-25 |
| ZA200605819B (en) | 2007-11-28 |
| ATE400625T1 (de) | 2008-07-15 |
| CA2553567C (en) | 2012-10-02 |
| US20070157525A1 (en) | 2007-07-12 |
| CN1934211A (zh) | 2007-03-21 |
| JP4850074B2 (ja) | 2012-01-11 |
| JP2007517956A (ja) | 2007-07-05 |
| EP1709139B1 (en) | 2008-07-09 |
| RU2378231C2 (ru) | 2010-01-10 |
| KR101103876B1 (ko) | 2012-01-12 |
| WO2005078045A1 (en) | 2005-08-25 |
| DE602005008009D1 (de) | 2008-08-21 |
| AU2005213533A1 (en) | 2005-08-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4850074B2 (ja) | 研磨剤を被覆する方法 | |
| JP5078615B2 (ja) | 拡散結合増強層を有するAl2O3セラミック工具 | |
| KR102296186B1 (ko) | 보호 접착 코팅을 갖는 초연마 재료 및 상기 코팅의 제조 방법 | |
| US20090205260A1 (en) | Coated abrasives | |
| JP2000508376A (ja) | ホウ素と窒素を含有する被膜およびその製造方法 | |
| CN100543102C (zh) | 涂覆的磨料 | |
| JP2825521B2 (ja) | 強く負荷される基材のための硬物質保護層およびその製法 | |
| US20070214727A1 (en) | Coated Abrasives | |
| JPH04168276A (ja) | ダイヤモンド被覆超硬合金工具 | |
| JPS6059085B2 (ja) | 被覆セラミツク工具 | |
| JP2974284B2 (ja) | 被覆超硬工具の製造法 | |
| WO2005078040A1 (en) | Coated abrasives |