ES2311666T3 - Sustrato transparente, con electrodos invisibles y dispositivos que lo incorporan. - Google Patents
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Abstract
Sustrato transparente con electrodos invisibles que comprende un soporte transparente (1) sobre el que se ha depositado la película conductora transparente (5), caracterizado porque se incorporan fisuras (11) cuya anchura máxima es inferior a la agudeza visual humana en la película conductora transparente (5), con la finalidad de determinar espacios no conductores (9) apropiados para estructurar de manera no visible en dicha película conductora transparente, electrodos (7) y sus zonas de contacto (15).
Description
Sustrato transparente, con electrodos invisibles
y dispositivos que lo incorporan.
La presente invención tiene como objeto un
sustrato transparente que tiene como mínimo una cara dotada de
electrodos transparentes, cuya estructuración es tal que sus
contornos no pueden ser percibidos por un observador en el campo de
las longitudes de onda de lo visible.
La invención se refiere igualmente a
dispositivos, generalmente aparatos electrónicos, que comportan uno
o varios sustratos transparentes con electrodos invisibles en los
que los electrodos tienen funciones de instrucciones o de recogida
de energía y más particularmente dispositivos colocados por debajo
de la pantalla de un aparato electrónico sobre la que se deben poder
leer las informaciones de dicha pantalla sin tener inconvenientes
producidos por la estructuración y disposición de los
electrodos.
La invención se refiere igualmente a un
procedimiento que permite efectuar de manera económica y con una
gran precisión la estructuración de los electrodos sobre un sustrato
transparente cualquiera, produciendo una compensación óptica entre
los electrodos que permite hacer sus contornos invisibles.
Se han propuesto ya soluciones para que el
interfaz constituido por electrodos dispuestos entre una pantalla y
un observador permanezca lo más discreto posible y que no perjudique
el aspecto estético del aparato electrónico, en especial en el caso
de una pieza de relojería. Se conocen, por ejemplo, relojes de
pulsera cuya cara interior del cristal presenta electrodos que
permiten un control táctil de las funciones horarias o no horarias
por efecto capacitivo o resistivo, como ya se describe de manera no
limitativa en las patentes US 4.228.534, EP 0 674 247 y EP 1 207
439. El cristal puede ser igualmente sustituido o completado por
una célula formada por dos sustratos con electrodos transparentes
entre los que está situado un material activo, por ejemplo para
formar una célula fotovoltaica que constituye la fuente de energía
tal como se describe en el documento WO 93/19479, o para formar una
célula con cristales líquidos que puede tener un estado transparente
y un estado que permite indicar según deseo informaciones
complementarias o distintas de las indicadas sobre una pantalla
subyacente, tal como se describe en el documento WO 99/32945.
Para realizar los electrodos se utilizan, de
manera conocida, óxidos conductores transparentes (TCO), es decir
materiales que son simultáneamente buenos conductores y
transparentes en lo visible, tales como óxido de estaño y de
indio(ITO), In_{2}O_{3} o SnO_{2} dopado con antimonio.
Igualmente se puede utilizar como película conductora que sirve para
la estructuración de los electrodos, polímeros conductores
transparentes que son compuestos orgánicos con dobles enlaces
conjugados cuya conductividad puede ser mejorada por dopado químico
o electroquímico. Se trata por ejemplo de un poliacetileno o de
polianilinas tales como Ormecon®. Estos depósitos del orden de 50 a
100 nm, son efectuados directamente sobre el sustrato transparente o
sobre una capa intermedia por un gran número de técnicas conocidas
tales como pulverización, evaporación, técnica
sol-gel así como técnicas de depósito en fase de
vapor (CVD), de las que se utilizará particularmente el depósito
asistido por láser (LICVD).
En lo que respecta a la estructuración de los
electrodos, existen igualmente diferentes métodos conocidos
utilizando como mínimo una mascara o pantalla de protección que
corresponde al contorno de los electrodos, en el momento del
depósito del TCO por cristalización localizada de una película
sol-gel por irradiación con un láser UV o bien
efectuando sobre una película continua de TCO un ataque químico o
una ablación localizada irradiando con un láser UV a una fluencia
suficiente o ablación mecánica tal como se describe en la patente US
6 225 577. La naturaleza del sustrato transparente, cristal o
plástico, es evidentemente determinante desde el punto de vista
técnico y económico para la elección del proceso a aplicar. La
cristalización localizada de una película sol-gel
por láser UV no es, por ejemplo, prácticamente aplicable a un
sustrato plástico tal como PMMA puesto que se origina de un proceso
fototérmico.
Por otra parte, la utilización de compuestos
químicos muy agresivos en los procedimientos de grabado selectivo
puede conducir a una degradación del sustrato o de una capa
intermedia interpuesta entre dichos sustrato y la película de TCO,
tal que los espacios no conductores entre los electrodos pueden
continuar siendo perceptibles a ojo desnudo, cualquiera que sea la
forma de ocupar dichos espacios no conductores. Estos espacios no
conductores pueden ser visibles igualmente en razón de la dificultad
de ocuparlos sin formar rebordes ni depresiones susceptibles de
desviar los rayos luminosos, teniendo en cuenta que es necesario
utilizar dos mascaras complementarias respectivamente para el
gravado y para el acabado o barnizado.
Para paliar el inconveniente que se ha indicado,
el procedimiento propuesto en la solicitud de patente europea EP 1
457 865 a nombre de la solicitante consiste en utilizar una mascara
única utilizando una radiación láser cuyas características
(fluencia, número de impulsos, frecuencia) se ajustan según dos
modos diferentes para dos etapas sucesivas. La primera etapa
consiste en eliminar totalmente el TCO en los espacios no
conductores en la segunda etapa consiste en provocar el deposito de
un material con índice de refracción y de espesor apropiados en los
mencionados espacios. Parecía, en efecto, bastante evidente que dos
electrodos próximos uno al otro no podían ser aislados
eléctricamente más que suprimiendo cualquier trazo de material
conductor en el espacio que le separa.
No obstante se ha descubierto de manera
sorprendente que la conductividad eléctrica podía ser reducida a un
nivel tan bajo que dos electrodos próximos uno a otro estén aislados
eléctricamente sin eliminar por ello el TCO, lo que permite mantener
las características ópticas iniciales y hacer por lo tanto
invisibles los contornos de los electrodos, cualquiera que sea el
ángulo bajo el cual se observa un sustrato transparente que comporta
los mencionados electrodos.
A estos efectos la invención tiene por objeto un
sustrato transparente con electrodos invisibles que comprende un
soporte transparente sobre el que está depositada una película
transparente conductora en la que se han estructurado electrodos con
contornos separados por espacios no conductores. El sustrato se
caracteriza por el hecho de que la película conductora que se
encuentra en el emplazamiento de dichos espacios no conductores
presenta nanofisuras en las que la mayor parte atraviesa todo el
grosor de la película conductora permitiendo interrumpir la
conductividad eléctrica entre electrodos adyacentes y modificar la
trayectoria de un radio luminoso de manera perceptible a ojo
desnudo. Los bordes de estas nanofisuras están como máximo separadas
en algunas micras y no pueden ser observadas por un observador cuya
agudeza visual no le permita distinguir en visión próxima
(20-30 cm) objetos distantes en menos de 1/10
milímetros.
La película conductora puede ser un óxido
conductor transparente TCO pero también puede ser un polímero
conductor transparente. No obstante, a continuación en la
descripción, se hará referencia esencialmente a los TCO que son los
productos más conocidos para realizar electrodos transparentes.
En una forma de realización preferente,
previamente el depósito de la película de TCO, el soporte
transparente es revestido de una capa de un material duro
transparente no conductor (Hard coating) que contribuye a la
formación de las nanofisuras.
Según otra forma de realización preferente,
después de la estructuración de los electrodos, toda la superficie
del sustrato, es decir los electrodos en los espacios no
conductores, eventualmente con excepción de las zonas de contacto de
los electrodos, es recubierta de una película protectora que puede
igualmente tener características antirreflejo y que contribuye a
estabilizar las nanofisuras a lo largo del tiempo.
Las nanofisuras en la capa de TCO se obtienen
por irradiación UV por medio de una fuente de rayos láser. Para ello
el procedimiento consiste en:
- -
- Colocar el sustrato, formado por el soporte y la película de TCO eventualmente depositada sobre una capa intermedia, en una envolvente cerrada que tiene una conducción de fluido gaseoso y una salida de bombeo;
- -
- Interponer entre la fuente de radiación UV y el sustrato una mascara que comporta ventanas transparentes de la radiación UV, cuyas ventanas reproducen los contornos deseados de los espacios no conductores; y
- -
- En función de los materiales utilizados para formar el sustrato, de sus espesores y de la elección de la fuente emisora, ajusta las características de radiación para provocar la nanofisuración de la película de TCO sin retirada de material.
En lo que respecta a la elección de la fuente,
se utiliza preferentemente un rayo láser excimer pulsante que emite
principalmente en la zona de ultravioleta y cuya utilización es
conocida para efectuar la fotoablación o el marcado. Se trata por
ejemplo de un excimer KrF (\lambda = 248 nm) con impulsos cortos
(20 ns) o de un excimer Xef (\lambda = 308 nm) con impulsos largos
(250 ns). Por "características de radiación" se comprende en la
afluencia, el número de impulsos y su frecuencia.
El ajuste de estas características se debe
efectuar entre un límite inferior en la que se pueden observar
fisuras pero sin reducción suficiente de la conductividad eléctrica
y un límite superior que provoca la ablación de la capa de TCO que
hace los contornos de los electrodos visibles, dado que el espacio
aislante usual entre los electrodos es del orden de algunas decenas
de milímetro. Evidentemente es posible, tal como se ha indicado en
la citada solicitud europea Nº 03005615.4 cubrir estos espacios con
un material dieléctrico transparente que permita obtener una
compensación óptica.
El procedimiento según la invención presenta por
lo tanto la ventaja de no requerir la etapa anteriormente indicada y
por lo tanto de ser más económico. No impone la elección delicada de
un material dieléctrico que tenga un índice de refracción y un
espesor adaptados para obtener una compensación óptica satisfactoria
teniendo en cuenta las características propias de la película de TCO
(índice de refracción y espesor).
Después de la estructuración de los electrodos
puede ser ventajoso dejar el sustrato dentro de la envolvente,
sustituir la mascara anterior por otra mascara cuya ventana
transparente a los UV permite efectuar el deposito de una película
protectora transparente sobre todo el sustrato, es decir, los
electrodos y los espacios no conductores, con excepción
eventualmente de las zonas de contacto de los electrodos,
introduciendo un gas precursor dentro de la envolvente. Se escoge
preferentemente para formar la película protectora un material cuya
naturaleza y grosor permiten tener propiedades antirreflejantes. La
película presenta igualmente la ventaja de estabilizar las
nanofisuras a lo largo del tiempo.
Por lo tanto, un sustrato transparente con
electrodos invisibles es utilizable en todas las aplicaciones
citadas en el preámbulo ofreciendo características de transparencia
y de uniformidad superiores a la de los productos conocidos en la
técnica anterior.
Otras características y ventajas de la presente
invención aparecerán en la descripción siguiente a título
ilustrativo y no limitativo, haciendo referencia a los dibujos
adjuntos en los cuales:
- La figura 1 es una representación esquemática
de un dispositivo que permite obtener un sustrato transparente con
electrodos invisibles de acuerdo con la invención;
- Las figuras 2 y 3 representan etapas de
fabricación de una primera forma de realización;
- Las figuras 4, 5 y 6 representan etapas de
fabricación de una segunda forma de realización;
- La figura 7 representa el esquema de montaje
que permite efectuar mediciones eléctricas;
- La figura 8 es una vista de una zona
dieléctrica nanofisurada según la invención;
- La figura 9 corresponde a la figura 8 cuando
las características de radiación UV son insuficientes;
- La figura 10 corresponde a la figura 8 cuando
las características de radiación UV son por lo contrario excesivas;
y
- La figura 11 es una imagen AFM de una
nanofisura indicada en la figura 8.
La figura 1 representa esquemáticamente el
dispositivo, que comprende fundamentalmente una fuente de radiación
UV (14) constituida por una fuente de rayos láser, una óptica de
tipo telescópico que comprende una lente convergente (16) y una
lente divergente (18) permitiendo disminuir la sección del haz láser
con la finalidad de aumentar su fluencia, una pantalla o mascara
(10) que presenta zonas (12) transparentes a la radiación UV y una
envolvente (2). La envolvente (2) presenta una ventana (8)
transparente a la radiación UV, una entrada de gas (4) y una salida
(6) de bombeo. La envolvente (2) puede igualmente comportar una
entrada suplementaria (no representada) de un gas vector de un gas
precursor. En el interior de la envolvente (2) se ha colocado un
sustrato que en el ejemplo representado presenta una base
transparente que está dotada de una película de revestimiento (5) de
TCO. Sería evidentemente posible, formar la película de TCO
directamente en la envolvente (2) por ejemplo mediante LICVD pero
sería de un interés económico más reducido, dado que el consumo de
energía sería 100 veces superior.
La fuente de radiación UV está constituida por
un láser excimer tal como un láser Xef (308 nm) con impulsos largos
(250 ns) que facilita una energía máxima de 150 mJ por impulso con
un haz rectangular de 1,9 x 2,4 cm^{2} o un láser KrF (248 nm) con
impulsos cortos (20 ns) que facilita una energía máxima de 180 mJ
por impulso con un haz rectangular de 1,5 x 4 cm^{2}. Otros tipos
de láser, por ejemplo un láser Nd:YAG triplicado o cuadruplicado
pueden ser evidentemente utilizados a condición de ajustar las
características al objetivo perseguido.
Las figuras 2 y 3 corresponden al modo de
realización más simple en el que un soporte (1) de un material
transparente está dotado del revestimiento de una película continua
de TCO tal como un óxido de estaño y de indio (ITO) que tiene en
este ejemplo un espesor de 70 nm. Sería evidentemente posible
utilizar otro TCO tal como In_{2}O_{3} o SnO_{2} dopado por Sb
y tener un espesor distinto comprendido por ejemplo entre 50 y
100nm, preferentemente entre 65 y 75nm. Tal como se ha representado
en la figura 3, después de la radiación UV en la envolvente (2), se
forman espacios no conductores (9) creados por nanofisuras (11) que
atraviesan la película de ITO y que separan eléctricamente los
electrodos (7) y las zonas de contacto (15). Para obtener esas
fisuras y no la ablación del ITO en esos espacios eléctricos (9) es
necesario ajustar las características de radiación UV dentro de
limites tales que la profundidad de las nanofisuras provoca una
interrupción de la conductividad suficiente para aislar
eléctricamente electrodos adyacentes, sin provocar por ello la
ablación de la capa de ITO, tal como ya ha sido explicado de manera
más detallada por la segunda forma de realización que corresponde a
las figuras 4 a 6.
En la figura 4 se observa que el sustrato está
constituido por el soporte (1) que en este ejemplo es de PMMA, sobre
el que está depositada una capa intermedia (3) de un material duro y
transparente no conductor (hardcoating). Esta capa intermedia que
protege el PMMA y que contribuye a estabilizar la base del ITO
después de la nanofisuración está compuesta por ejemplo por una
resina que incorpora SiO_{2} y su espesor es del orden de 20
\mum. Este sustrato está situado dentro de la envolvente (2) y a
continuación es sometido a través de la pantalla (10) a radiación UV
de una fuente (14). En los ejemplos siguientes la fuente está
constituida por un láser excimer XeF (\lambda = 308 nm) con
impulsos largos (250 ns) teniendo como características de
iluminación 20 impulsos de 5Hz con una superficie iluminada de 3 x 4
mm^{2} haciendo variar la fluencia.
La figura 5 representa esquemáticamente la
formación de nanofisuras (11) que crean espacios no conductores (9)
separando los electrodos (7) y las zonas de contacto (15).
La figura 6 representa una etapa opcional en la
que el sustrato queda dentro de la envolvente (2) pero se ha
remplazado la mascara (10) por otra mascara cuya ventana
transparente a la radiación delimita el contorno útil del sustrato
transparente. Se introduce entonce en la envolvente por el conducto
de entrada (4) un gas precursor que permite el depósito de una
película protectora (13) efectuando una nueva regulación de las
características de radiación UV. La película (13) está constituida
por ejemplo por un depósito de espesor uniforme de SiO_{2} y
TiO_{2} eventualmente modificado para tener características
antirreflejantes. La película (13) permite también por una parte
estabilizar las nanofisuras (11) en el tiempo y por otra parte hacer
que los electrodos sean todavía menos visibles cubriendo los
espacios entre las nanofisuras.
Las figuras 7 a 11 muestran en ejemplos la forma
como conviene ajustar las características de radiación UV. Para ello
se han tomado tres muestras idénticas que presentan una capa
intermedia que tiene un espesor de 20 \mum sobre la que se ha
depositado una película de ITO de 70 nm de espesor y se ha iluminado
una superficie de 3 x 4 mm con un láser excimer de 308 nm con
impulsos largos con 20 impulso de 5 Hz haciendo variar la
fluencia.
El esquema de la figura 7 corresponde a un
montaje que permite medir las características eléctricas de las
muestras en la zona iluminada. Un generador (17) suministra la
tensión sinusoidal de 1,77 V a un circuito que comprende en serie
una resistencia (19) calibrada entre 2.2 k\Omega y 570 k\Omega y
una parte de la muestra (23) lo que permita deducir valores de
corriente comprendidos entre 0,7 mA y 0,2 \muA midiendo por medio
de un voltímetro (21) la tensión en los bornes de la resistencia
(19) (R_{ech} = (V_{gen}.-V)/I). La "parte de muestra (23)"
es tomada entre dos puntos (24) distantes de 0,3 a 0,5 mm a un lado
y otro de una nanofisura, tal como se ha representado en la figura
8. Se puede igualmente utilizar un extremo en forma de bucle (no
representado), es decir tener un contacto suavizado para evitar el
deterioro de la película de ITO por las puntas.
Cuando la muestra no ha sufrido ninguna
irradiación UV, la resistencia entre puntas es de 180 \Omega para
una corriente que atraviesa la muestra de 1,5 mA con una resistencia
calibrada de 670 \Omega.
En la figura 8 se ha rediseñado la imagen
observada por microscopio de reflexión con un aumento aproximado de
15 veces, después de irradiación con un haz láser que tiene las
características antes citadas y una fluencia de 65 mJ/cm^{2}. Se
observan que las nanofisuras son numerosas. Efectuando las misma
mediciones eléctricas que para la muestra no iluminada con la misma
distancia entre puntas de medición la corriente alterna ya no es
medible («0.2 \muA) lo que significa que las zonas de ITO situadas
a un lado y otro de la fisura (11) están suficientemente aisladas
eléctricamente.
Esto queda confirmado por las imágenes AFM
realizadas a través de una nanofisura y representadas en la figura
11. Se aprecia que la nanofisura tiene una profundidad máxima de 75
nm, es decir, que la base de dicha nanofisura penetra muy
ligeramente en la capa aislante de tipo duro ("hardcoating")
(3) haciendo que los bordes inferiores de la nanofisura estén
separados eléctricamente aproximadamente en 70 nm. Se aprecia
igualmente que en la parte superior la anchura máxima de la
nanofisura (11) es del orden de 500 nm, es decir una anchura mucho
más reducida para que pueda ser observada a ojo desnudo.
Efectuando en una segunda, muestra la misma
irradiación pero con una fluencia más reducida, es decir 60
mJ/cm^{2} se obtiene igualmente fisuras tal como se ha
representado en la figura 9 pero con una reducida variación de
características eléctricas. Con una resistencia inicial de 670
\Omega se observa la resistencia entre puntas de 800 \Omega y
una corriente de 1,19 mA con el significado de que existe todavía
una conductividad importante a nivel de la fisura. Mediante imágenes
AFM (no representadas) se puede determinar el efecto que la
profundidad máxima de la fisura es de 66nm, es decir, que sigue
existiendo una unión de conducción eléctrica en la base de la
fisura.
Inversamente, haciendo referencia a la figura
10, se aprecia aumentando la fluencia de 65 mJ/cm^{2} a 70
m/cm^{2} se forman zonas (22) en las que la película de ITO es
arrancada en una anchura suficiente para hacer la zona en que separa
los electrodos visible a ojo desnudo. La conductividad eléctrica
está evidentemente interrumpida pero es entonces necesario efectuar
una etapa de fabricación complementaria para obtener compensación
óptica, por ejemplo según el procedimiento propuesto en la solicitud
ya citada EP Nº 1 457 865.
Es evidente que el técnico en la materia puede,
en función por una parte de la naturaleza de la película de TCO,
incluso de la de la capa intermedia y de sus espesores respectivos,
definir las características de la radiación UV en función de la
fuente de rayos láser utilizada para situarse entre un límite
inferior en el que la interrupción de conductividad eléctrica es
insuficiente y un limite superior en el que se produce un arrancado
del TCO.
De está manera se puede, en las mismas
condiciones de medición que se han descrito con referencia a la
figura 8, obtener los mismos resultados referentes a la
conductividad eléctrica cuando la zona irradiada tiene una
superficie de 1 x 4 mm^{2} con una fluencia de 85 mJ/cm^{2}.
Utilizando un láser de 248 nm, con impulsos
cortos, se obtiene igualmente el resultado correspondiente a la
figura 8 con una muestra de 2 x 8 mm^{2} con 50 impulsos de 5 Hz y
una fluencia de 50 mJ/cm^{2}.
En función de la fuente de rayos láser utilizada
que no está limitada a un láser excimer, el técnico en la materia
puede por lo tanto de manera fácil, mediante algunos ensayos
preliminares, determinar las condiciones óptimas que permiten
provocar nanofisuras sin levantamiento de materia pero de manera
suficiente para interrumpir la conductividad eléctrica entre
electrodos.
Claims (16)
1. Sustrato transparente con electrodos
invisibles que comprende un soporte transparente (1) sobre el que se
ha depositado la película conductora transparente (5),
caracterizado porque se incorporan fisuras (11) cuya anchura
máxima es inferior a la agudeza visual humana en la película
conductora transparente (5), con la finalidad de determinar espacios
no conductores (9) apropiados para estructurar de manera no visible
en dicha película conductora transparente, electrodos (7) y sus
zonas de contacto (15).
2. Sustrato según la reivindicación 1
caracterizado porque la película conductora transparente (5)
es un óxido transparente conductor (TCO) escogido entre óxido de
estaño y de indio (ITO) In_{2}O_{3} y SnO_{2} dopado mediante
Sb.
3. Sustrato según la reivindicación 2
caracterizado porque la película conductora transparente (5)
es una película de ITO que tiene un espesor comprendido entre 50 y
100 nm preferentemente entre 65 y 75 nm.
4. Sustrato según la reivindicación 1
caracterizado porque la película conductora transparente (5)
es un polímero conductor dopado con dobles enlaces conjugados
escogido entre un poliacetileno y polianilinas.
5. Sustrato según una de las reivindicaciones
anteriores caracterizado porque una capa intermedia (3) de
material transparente no conductor está interpuesta entre el soporte
(1) y la película conductora transparente (5).
6. Sustrato según la reivindicación 5
caracterizado porque la capa intermedia (3) está compuesta
por una resina que incorpora SiO_{2} y que tiene un espesor como
mínimo igual a 20 \mum.
7. Sustrato según una de las reivindicaciones
anteriores caracterizado porque la mayor parte de las fisuras
(11) atraviesan la totalidad de la película conductora.
8. Sustrato según una de las reivindicaciones
anteriores caracterizado porque el soporte (1) está realizado
en un material escogido entre polimetilenmetacrilato (PMMA) y
policarbonato (PC).
9. Sustrato según una de las reivindicaciones
anteriores caracterizado porque los electrodos (7) y los
espacios no conductores (9) están recubiertos además por una
película protectora (13) que puede tener igualmente características
antirreflejantes, no recubriendo dicha película protectora (13) las
zonas de contacto (15) de los electrodos (7).
10. Sustrato según una de las reivindicaciones
anteriores caracterizado porque constituye una pantalla
táctil de control de un aparato electrónico en el que está
integrado.
11. Sustrato según una de las reivindicaciones 1
a 9 caracterizado por constituir como mínimo una placa de
cierre de una célula de marcado de cristales líquidos y de una
célula fotovoltaica de un aparato electrónico.
12. Procedimiento para la fabricación de un
sustrato transparente con electrodos invisibles que comprende un
soporte (1) transparente sobre el que se ha depositado una película
conductora transparente (5) en la que los electrodos (7) están
estructurados con contornos separados por espacios no conductores
(9) por irradiación UV por medio de una fuente de radiación (14),
caracterizado por comprender las etapas siguientes:
- (i)
- colocar el sustrato, formado por el soporte (1) y la película conductora transparente (5), eventualmente depositada sobre la capa intermedia (3) en un material duro transparente no conductor, en una envolvente (2) cerrada que tiene una entrada de gas fluido (4) y una salida (6) de bombeo;
- (ii)
- interponer entre la fuente de radiación UV (14) y el sustrato, una pantalla (10) que presenta ventanas (12) transparentes a la radiación UV, correspondiendo dichas ventas a los espacios no conductores (9); y
- (iii)
- ajustar en función de la lección de los materiales del sustrato y de la fuente de emisión (14) las características de la radiación UV para provocar la fisuración de la película conductora transparente (5) cuya anchura máxima es inferior a la agudeza visual humana en la zona irradiada.
\vskip1.000000\baselineskip
13. Procedimiento según la reivindicación 12
caracterizado por comportar una etapa suplementaria que
consiste en efectuar el depósito de una película protectora (13),
eventualmente antireflejante, a partir de un gas precursor con la
misma fuente de UV (14) pero sustituyendo la pantalla (10) utilizada
con otra pantalla correspondiente a la superficie útil deseada para
el sustrato transparente, dejando visibles las zona de contacto (15)
de los electrodos (7).
14. Procedimiento según la reivindicación 12
caracterizado porque la película conductora transparente (5)
es un óxido transparente conductor TCO escogido entre un óxido de
estaño y de indio (ITO) In_{2}O_{3} y SnO_{2} dopado con
Sb.
15. Procedimiento según la reivindicación 12
caracterizado porque la película conductora transparente (5)
es un polímero conductor dopado escogido entre un poliacetileno y
polianilinas.
16. Procedimiento según la reivindicación 12
caracterizado porque la fuente UV (14) está constituida por
un láser excimer escogido entre los láseres XeF de impulsos largos y
KrF de impulsos cortos.
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