ES2366643T3 - Métodos para fabricar una preforma para fibras ópticas. - Google Patents

Métodos para fabricar una preforma para fibras ópticas. Download PDF

Info

Publication number
ES2366643T3
ES2366643T3 ES04774996T ES04774996T ES2366643T3 ES 2366643 T3 ES2366643 T3 ES 2366643T3 ES 04774996 T ES04774996 T ES 04774996T ES 04774996 T ES04774996 T ES 04774996T ES 2366643 T3 ES2366643 T3 ES 2366643T3
Authority
ES
Spain
Prior art keywords
deposition
atmosphere
moisture content
preform
optical fibers
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
ES04774996T
Other languages
English (en)
Inventor
Dennis Robert Simons
Jelle Philip Terpsma
Frans Gooijer
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Draka Fibre Technology BV
Original Assignee
Draka Fibre Technology BV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Draka Fibre Technology BV filed Critical Draka Fibre Technology BV
Application granted granted Critical
Publication of ES2366643T3 publication Critical patent/ES2366643T3/es
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma- or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01413—Reactant delivery systems
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma- or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma- or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
    • C03B37/01815—Reactant deposition burners or deposition heating means
    • C03B37/01823—Plasma deposition burners or heating means
    • C03B37/0183—Plasma deposition burners or heating means for plasma within a tube substrate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00—Type of glass produced
    • C03B2201/02—Pure silica glass, e.g. pure fused quartz
    • C03B2201/03—Impurity concentration specified
    • C03B2201/04—Hydroxyl ion (OH)
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00—Type of glass produced
    • C03B2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03B2201/07—Impurity concentration specified
    • C03B2201/075—Hydroxyl ion (OH)

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)

Abstract

Método para fabricar una preforma para fibras ópticas, en el que se realiza una deposición de componentes de formación de vidrio en el interior de un tubo de sustrato de vidrio y en el que la etapa de deposición es una etapa de deposición PCVD (deposición química en fase de vapor asistido por plasma) caracterizado por que la etapa de deposición se lleva a cabo en un entorno en el que el tubo de sustrato se encuentra en una atmósfera acondicionada, cuya atmósfera acondicionada tiene un contenido de humedad inferior al de una atmósfera sin acondicionar.

Description

[0001] La presente invención se refiere a un Método para fabricar una preforma para fibras ópticas, en el que se realiza una deposición de componentes de formación de vidrio en el interior de un tubo de sustrato de vidrio y en el que la etapa de deposición es una etapa de deposición PCVD (deposición química en fase de vapor asistido por plasma).
[0002] La deposición de capas de vidrio en el interior de un tubo de sustrato, donde uno o mas gases reactivos y gas que contiene oxigeno son suministrados al mencionado tubo de sustrato, son conocidos per se, por ejemplo en la Patente US No. 6,260,510 a nombre de este solicitante. De acuerdo con el método que es conocido a partir de esta, capas de dióxido de silicio que pueden estar o no dopadas (por ejemplo dióxido de silicio dopado con germanio) recubren la superficie interior de tubo de sustrato que consiste en vidrio de cuarzo, por ejemplo. Dicha reacción de deposición puede llevarse a cabo posicionando el tubo de sustrato a lo largo del eje cilíndrico de la cavidad resonante y posteriormente limpiar el interior del tubo con una mezcla gaseosa que contiene oxigeno, cloruro de silicio y cloruro de germanio, por ejemplo. Después de esto, un plasma localizado se genera en la cavidad para producir una deposición directa de dióxido de silicio dopado con germanio en la superficie interior del tubo de sustrato. Como dicha deposición solo ocurre en las inmediaciones del plasma localizado, la cavidad resonante (y por tanto el plasma) debe ser barrida a lo largo del eje cilíndrico de tubo de sustrato para revestir el uniformemente el tubo de sustrato a lo largo de toda su longitud . Cuando la deposición de la capa es completada, el tubo de sustrato es tratado termicamente de tal manera que se contrae en una barra, que también es llamada preforma óptica. Si el extremo de la preforma óptica es calentado de tal manera que el mencionado extremo empieza a derretirse se puede estirar una fibra óptica a partir de la preforma y enrollarse en una bobina. Dicha fibra óptica tiene por tanto una porción de revestimiento de núcleo que se corresponde al de la preforma óptica. Como el núcleo dopado con germanio tiene un indice de refracción más alto que un revestimiento sin dopar, por ejemplo, la fibra puede actuar como guía de ondas, a saber para su utilización en la propagación de señales ópticas de telecomunicaciones. Debe apuntarse, sin embargo, que la mezcla gaseosa que es descargada en la parte interior del tubo de sustrato puede contener también otros componentes; un compuesto que contenga flúor puede ser añadido causando una reducción del indice de refacción del dióxido de silicio dopado.
[0003] La Solicitud de patente Europea No. 0 401 742 describe a un proceso OVD donde el dióxido de silicio exento de iones de hidroxilo se deposita en un sustrato que esta localizado en una espacio separado de la atmósfera que le rodea.
[0004] La Patente US No. 4,162,908 describe un método para fabricar una preforma donde se introduce diclorodifluorometano bajo la llama del quemador de plasma. Sin embargo, no se pude inferir a partir de esta publicación mas información en relación a una atmósfera acondicionada.
[0005] La memoria de Patente Alemán No. 101 55 134 describe un método para fabricar una preforma donde el contenido de OH esta minimizado. Dicha publicación no menciona que el proceso de deposición se lleve a cabo en un entorno donde el sustrato esta presente en una atmósfera acondicionada con un particular contenido de humedad inferior al de una atmósfera sin acondicionar.
[0006] La patente Europea EP 0 401 741descrive un método y dispositivo para la deposición de plasma exterior de sílice exento de iones de hidroxilo que consiste en mantener la barra en la que se realiza la deposición de sílice un recinto hermético, separado de la atmósfera que le rodea y provisto de aire atmosférico que es sometido sucesivamente a filtrado, compresión y enfriamiento para drenar la condensación del agua y a una desecación final por absorción.
[0007] La solicitud Internacional WO 2005/011354 describe que un proceso MCVD requiere que el entorno de procesamiento deba ser controlado atentamente. Un ejemplo es que el vapor de agua en suspensión debe mantenerse al mínimo por que causa reacciones químicas no deseadas que sucesivamente generan los productos que contaminan el vidrio de sílice. Los contenidos de esta Solicitud Internacional como se han presentado se consideran comprendidos en el estado de la técnica relevante al requisito de novedad según el Articulo 54(3) y (4) del EPC de 1973.
[0008] La solicitud Internacional WO 01/05721revela un método para producir una preforma que esta substancialmente exenta de impurezas de OH.
[0009] El uso de esta fibra para fines de telecomunicaciones requiere que la fibra este substancialmente exenta de contaminación, ya que si la fibra se usa en una gran longitud tal contaminación puede causar una atenuación seria de la señal que esta siendo transportada. Como resultado, es importante no solo que el proceso PCVD arriba indicado sea altamente uniforme si no también que el gas reactivo usado para la deposición no contenga ninguna impureza no deseada. Durante la deposición de vapor químico arriba indicado, los átomos de hidrógeno pueden por tanto formar enlaces-OH en las capas de vidrio que han sido depositadas en el interior del tubo de sustrato cuyos enlaces-OH tienen un fuerte efecto adverso en el espectro de transmisión de una fibra estirada de una preforma óptica, en particular teniendo en cuenta la fuerte absorción del mismo a 1240 nm y 1385 nm. Dicha perdida de absorción debido a la presencia de pequeñas cantidades de impurezas en el material gaseoso inicial pueden cuantificarse de 10 a 20 dB/km para una longitud de onda de 1385nm. Aunque en el estado de la técnica existen métodos para prevenir la incorporación de tales grupos -OH en la fibra óptica de vidrio, por ejemplo mediante la realización de una etapa de cloración siguiendo a la etapa de deposición en el caso de estructuras de vidrio porosas, como se describe en la la Patente US 4,675,038 o añadiendo flúor durante la deposición química en fase de vapor, por ejemplo como se conoce de la patente Europea No. 0 127 227. Ambos métodos del estado de la técnica tienen el inconveniente de que una cantidad adicional de cloro o flúor respectivamente se encontrará en la estructura de vidrio final, llevando al incremento de la perdida por atenuación causadas por la dispersión de Rayleigh.
imagen1
[0010] La conducción de luz tiene lugar en una pequeña parte de la fibra óptica de vidrio, a saber el núcleo óptico y en una pequeña parte del revestimiento que recubre el mencionado núcleo. Es importante , por tanto, que las preformas óptica a partir de la cuales la fibra óptica es estirada cuya fibra de vidrio es responsable de la conducidnos de luz, esten exentas de impurezas, en particular grupos hidroxilo.
[0011] Un aspecto de la presente invención es por tanto proporcionar un método para fabricar una preforma que este sustancialmente exenta de grupos hidróxilo.
[0012] Otro aspecto de la presente invención es proporcionar un método para la fabricación de fibras ópticas, cuyas fibras ópticas presenten perdidas por atenuación pequeñas causadas por grupos hidroxilo, que muestren un pico de absorción fuerte para 1240 nm y 1385 nm.
[0013] La invención como se indica en la introducción esta caracterizada por que la etapa de deposición se lleva a cabo en un entorno en el que el tubo de sustrato se encuentra en una atmósfera acondicionada, cuya atmósfera acondicionada tiene un contenido de humedad inferior al de una atmósfera sin acondicionar.
[0014] Parece posible conseguir un reducción significativa de las perdidas por atenuación causadas por grupos hidroxilos mediante el acondicionamiento del entorno de producción en donde la preforma para la fibra de vidrio se fabrica. El termino “atmósfera acondicionada” tiene que entenderse que significa una atmósfera que tiene un contenido de humedad inferior al de la atmósfera que generalmente se ha usado hasta ahora.
[0015] Para el proceso de deposición interna en donde los componentes de formación de vidrio son añadidos al interior de un tubo de sustrato, cuyo tubo de sustrato se contrae en una preforma solida, es preferible que la etapa de contracción se lleve a cabo en un entorno en donde la atmósfera este acondicionada, cuya atmósfera acondicionada tiene un contenido de humedad inferior al de una atmósfera sin acondicionar. Mas realizaciones de la presente invención son definidas en las reivindicaciones adjuntas.
[0016] Preferiblemente, el contenido de humedad de la atmósfera acondicionada es inferior a 5g/kg, el contenido de humedad de la atmósfera acondicionada es en particular inferior a 2g/kg. Cuando el valor del contenido de humedad usado esta por debajo de 5g/kg, la reducción de la atenuación es significativa en comparación con la extensión de los niveles de atenuación que se producen cuando un valor de contenido de humedad normal es usado en atmósferas sin acondicionar, en el que el contenido de humedad normalmente oscila entre 8 y 12 g/kg. Esta fuerte disminución del contenido de humedad de aproximadamente 5g/kg, se asume que es la causa de la sub-saturación de las moléculas de agua en la superficie del sustrato, aunque los inventores de esta patente no desean estar limitados a dicha teoría. En el caso de un valor superior a 5g/kg, la perdida por atenuación y de la extensión de la misma son substancialmente independientes del contenido de humedad en el que esta asumido que las moléculas de agua son absorbidas completamente por la superficie del sustrato, de tal forma que incrementos adicionales del contenido de humedad no llevaran a perdidas por atenuación superiores. El contenido de humedad para la temperatura ambiente de 20º en una atmósfera sin acondicionada es por ejemplo 10,1g/kg con un nivel de humedad relativa del 75% y 5.8g/kg con un nivel de humedad del 40%. La figura adjunta muestra los resultado del experimento llevado a cabo de acuerdo con la presente invención, dentro del marco en el que ambos experimentos PCVD y MCVD ha sido examinandos.
[0017] Los inventores adicionalmente han averiguado que una reducción de atenuación adicional puede conseguirse mediante la colocación de la maquina, en la que la deposición y/o contracción tiene lugar, en un entorno que tenga un bajo contenido de humedad durante por un periodo prolongado de tiempo. Después de alrededor de 10 días una reducción adicional de alrededor de 0.01dB/km se obtiene de esta manera. Los inventores asumen que esto tiene algo que ver con la filtración de la atmósfera ambiente en la maquina y la absorción de moléculas de agua en las partes interiores de la maquina a través de las que fluyen los gases reactivos. Es importante por tanto mantener en el entorno un contenido de humedad bajo durante al menos 7 días.
[0018] Dicha reducción del contenido de humedad permite una reducción significativa de la perdida por atenuación en comparación con la realización que es conocida en el estado de la técnica, en la que la etapa de deposición así como la posible etapa de contracción se lleva a cabo en el aire ambiente o en un entorno sin acondicionar, sin el contenido de humedad reducido. Aunque el termino “atmósfera acondicionada” se usa aquí, debe entenderse que también otros gases que secan el aire pueden usarse para acondicionar el entorno, donde el contenido de humedad del mismo es en particular inferior a 5g/kg, mas en particular inferior a 2g/kg.
imagen2
[0020] La deposición de vapor exterior (OVD) y la deposición de vapor axial (VAD) pueden ser consideradas como procesos de deposición de vapor externos para la fabricación de preformas ópticas. Tanto el proceso OVD como el VAD utilizan un quemador de oxigeno/hidrógeno para depositar dióxido de silicio, el cual puede estar dopado, en la forma (no sinterizada) denominada “hollín”. Los precursores de formación de vidrio se se introducen el la llama y reaccionan ahí, formando una partícula de oxido que se precipita en un sustrato. Se usa un sustrato cilíndrico para la fabricación de barras de núcleo OVD, en el exterior de cuyo sustrato las partículas de hollín se depositan. Después de proceso de deposición, el sustrato es retirado y el tubo tipo hollín hueco es sinterizado y cerrado. El proceso OVD se usa también para barras de núcleo sobrerevestido que han sido fabricados mediante el uso del proceso OVD u otra técnica. En dicha realización, la partículas de hollín se depositan en una barra que has sido ya (parcialmente) sinterizada, después de lo cual es sinterizada totalmente para la obtención de una preforma compuesta. Con el proceso VAD, el crecimiento de barras tipo hollín tiene lugar en dirección axial, que significa que la preforma se hace mas y mas larga durante el proceso de deposición. Dicha Barra VAD también se sinterizada para formar una barra solida después de la deposición de hollín, después de lo cual se produce el sobrerevestimiento de la barra, por ejemplo por medio de un proceso OVD. Debe entenderse que la presente invención no esta relacionada con la realización de una etapa de sinterizado en un entorno acondicionado, sino que la presente invención se refiere explicitamente a las deposición de componentes de formación de vidrio en un sustrato, posiblemente seguida de una etapa de contracción para conformar el sustrato en una preforma solida, cuyas etapas de deposición y contracción son preferiblemente llevados a cabo en una atmósfera acondicionada, cuya atmósfera acondicionada tiene un contenido de humedad inferior al de la atmósfera sin acondicionar que se usa convencionalmente
[0021] Usando el procedimiento PCVD, un plasma de baja presión que prevalece en el interior del tubo de sustrato esta de forma reciproca a lo largo del eje longitudinal de tubo de sustrato, como resultado de lo cual se depositan capas en el interior del tubo de sustrato. Después de que las capas hayan sido depositadas de esta manera el tubo de sustrato se contrae en una barra solida, sometimiendolo a un tratamiento de calor externo. El contenido de humedad del entorno en el que la formación de la mencionada barra tiene lugar, preferiblemente durante ambos procesos PCVD y de contracción, se reduce por medio de un sistema de aire acondicionado, en el que la humedad se extrae del aire para conseguir un contenido de humedad inferior a 5g/kg. Un gran numero de barras solidas se han fabricado, usando diferentes valores de contenido de humedad, cuyas barras fueron conformadas posteriormente en fibras óptica. Después, son medidas las perdidas por atenuación de la mencionada fibra óptica para una longitud de onda de 1385nm. Usando el procedimiento MCVD ( que esta fuera del alcance de la invención) en el que la deposición en el interior del tubo de sustrato se efectuá por medio de una fuente de calor situada fuera del tubo de sustrato, por ejemplo un quemador de hidrógeno /oxigeno recíprocamente, horno o llama de plasma, y una subsiguiente etapa de contracción, se producen unas preformas ópticas, a partir de las cuales las fibras ópticas son estiradas, de cuyas fibras ópticas se mide las perdidas por atenuación para la longitud de onda arriba indicada. Una atmósfera acondicionada que tenga un contenido de humedad reducido es usado en ambas etapas de deposición y contracción. La Figura adjunta muestra las perdidas por atenuación como una función del contenido de humedad para ambos PCVD y MCVD. Los resultados de los experimentos muestran que para el MCVD las perdidas por atenuación son alrededor de 0.14 dB/km con un contenido de humedad de mas de 5g/Kg, cuyas perdidas se incrementan o disminuyen ligeramente en tanto el contenido de humedad se incrementa adicionalmente. Cuando el contenido de humedad se reduce a un valor inferior a 5g/kg, se observa una disminución significativa. La misma tendencia es medida con el PCVD, en el que las perdidas por atenuación fueron incluso reducidas a un valor inferior a 0.05 dB/km con un contenido de humedad inferior a 2g/kg.
imagen3
La lista de referencias citada por el solicitante lo es solamente para utilidad del lector, no formando parte de los documentos de patente europeos. Aún cuando las referencias han sido cuidadosamente recopiladas, no pueden 5 excluirse errores u omisiones y la OEP rechaza toda responsabilidad a este respecto.
Documentos de patente citado en la descripción
•
US 6260510 B [0002] • WO 2005011354 A [0007]
•
EP 0401742 A [0003] • WO 0105721 A [0008]
•
US 4162908 A [0004] • US 4675038 A [0009]
•
DE 10155134 [0005] • EP 0127227 A [0009]
•
EP 0401741 A [0006]
10
imagen4

Claims (6)

1.
Método para fabricar una preforma para fibras ópticas, en el que se realiza una deposición de componentes de formación de vidrio en el interior de un tubo de sustrato de vidrio y en el que la etapa de deposición es una etapa de deposición PCVD (deposición química en fase de vapor asistido por plasma) caracterizado por que la etapa de deposición se lleva a cabo en un entorno en el que el tubo de sustrato se encuentra en una atmósfera acondicionada, cuya atmósfera acondicionada tiene un contenido de humedad inferior al de una atmósfera sin acondicionar.
2.
Método de acuerdo con la reivindicación 1, caracterizado por que después de la mencionada deposición el tubo de sustrato es contraído en una preforma masiva.
3.
Método de acuerdo con la reivindicación 2, caracterizado por que la mencionada etapa de contracción se lleva a cabo en un entorno en el que la atmósfera está acondicionada, cuya atmósfera acondicionada tiene un contenido de humedad inferior al de una atmósfera sin acondicionar.
4.
Método de acuerdo con una o más de las anteriores reivindicaciones, caracterizada por que el contenido de humedad de la atmósfera acondicionada es inferior a 5 g/kg.
5.
Método de acuerdo con una o más de las reivindicaciones anteriores, caracterizada por que el contenido de humedad de la atmósfera acondicionada es inferior a 2 g/kg.
6.
Método para fabricar fibras ópticas, en el que una preforma para fibras ópticas, es fabricada de acuerdo con una o más de las reivindicaciones 2 a 5 donde un extremo de la mencionada preforma masiva es calentado, después de lo cual una fibra óptica es estirada a partir de ella.
ES04774996T 2003-10-08 2004-10-05 Métodos para fabricar una preforma para fibras ópticas. Expired - Lifetime ES2366643T3 (es)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1024480 2003-10-08
NL1024480A NL1024480C2 (nl) 2003-10-08 2003-10-08 Werkwijze ter vervaardiging van een voorvorm voor optische vezels, alsmede werkwijze ter vervaardiging van optische vezels.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ES2366643T3 true ES2366643T3 (es) 2011-10-24

Family

ID=34420823

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
ES04774996T Expired - Lifetime ES2366643T3 (es) 2003-10-08 2004-10-05 Métodos para fabricar una preforma para fibras ópticas.

Country Status (11)

Country Link
US (2) US8006518B2 (es)
EP (1) EP1670729B1 (es)
JP (1) JP4879019B2 (es)
KR (1) KR101057173B1 (es)
CN (1) CN1863742B (es)
AT (1) ATE510802T1 (es)
DK (1) DK1670729T3 (es)
ES (1) ES2366643T3 (es)
NL (1) NL1024480C2 (es)
RU (1) RU2380326C2 (es)
WO (1) WO2005033028A1 (es)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL1024480C2 (nl) 2003-10-08 2005-04-11 Draka Fibre Technology Bv Werkwijze ter vervaardiging van een voorvorm voor optische vezels, alsmede werkwijze ter vervaardiging van optische vezels.
US7946135B2 (en) * 2007-01-02 2011-05-24 Draka Comteq, B.V. Extended-baking process for glass deposition tubes
NL1033763C2 (nl) * 2007-04-26 2008-10-28 Draka Comteq Bv Inrichting en werkwijze voor het vervaardigen van een optische voorvorm.
NL1033773C2 (nl) * 2007-04-27 2008-10-28 Draka Comteq Bv Werkwijze voor de vervaardiging van een voorvorm alsmede daarmee te verkrijgen optische vezel.
NL2004544C2 (nl) 2010-04-13 2011-10-17 Draka Comteq Bv Inwendig dampdepositieproces.
NL2004546C2 (nl) 2010-04-13 2011-10-17 Draka Comteq Bv Inwendig dampdepositieproces.
NL2004874C2 (nl) 2010-06-11 2011-12-19 Draka Comteq Bv Werkwijze voor het vervaardigen van een primaire voorvorm.
EP2418523B1 (en) 2010-08-12 2016-10-05 Draka Comteq B.V. Depressed graded index multi-mode optical fiber
NL2006962C2 (nl) 2011-06-17 2012-12-18 Draka Comteq Bv Inrichting en werkwijze voor het vervaardigen van een optische voorvorm.
NL2007448C2 (nl) * 2011-09-20 2013-03-21 Draka Comteq Bv Werkwijze voor de vervaardiging van een primaire voorvorm voor optische vezels, primaire voorvorm, uiteindelijke voorvorm, optische vezels.
NL2007447C2 (nl) * 2011-09-20 2013-03-21 Draka Comteq Bv Werkwijze voor de vervaardiging van een primaire voorvorm voor optische vezels, primaire voorvorm, uiteindelijke voorvorm, optische vezel.
NL2011075C2 (en) * 2013-07-01 2015-01-05 Draka Comteq Bv Pcvd process with removal of substrate tube.

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4162908A (en) * 1975-08-16 1979-07-31 Heraeus Quarzschmelze Gmbh Method of producing synthetic quartz glass, apparatus for the practice of the method, and use of the synthetic quartz glass
CA1149653A (en) * 1980-07-17 1983-07-12 Keith J. Beales Glass fibres for optical communications
DE3318589A1 (de) * 1983-05-21 1984-11-22 Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg Verfahren zur herstellung von optischen wellenleitern
NL8601830A (nl) * 1986-07-14 1988-02-01 Philips Nv Werkwijze voor de vervaardiging van optische vezels met een kern en een mantel uit glas onder toepassing van de staaf in buistechniek.
FR2647853A1 (fr) 1989-06-05 1990-12-07 Cit Alcatel Pompe primaire seche a deux etages
FR2647778B1 (fr) * 1989-06-05 1992-11-20 Comp Generale Electricite Procede et dispositif de depot externe par plasma de silice exempte d'ions hydroxyles
FR2691144B1 (fr) * 1992-05-13 1994-10-14 Alcatel Nv Procédé d'élaboration d'une préforme pour fibre optique.
US5240488A (en) * 1992-08-14 1993-08-31 At&T Bell Laboratories Manufacture of vitreous silica product via a sol-gel process using a polymer additive
US5861047A (en) * 1997-09-29 1999-01-19 Lucent Technologies Inc. Method for manufacturing an article comprising a refractory dielectric body
US6253580B1 (en) * 1997-12-19 2001-07-03 Fibercore, Inc. Method of making a tubular member for optical fiber production using plasma outside vapor deposition
EP1060288B1 (en) * 1997-12-31 2003-03-19 Draka Fibre Technology B.V. Pcvd apparatus and a method of manufacturing an optical fiber, a preform rod and a jacket tube as well as the optical fiber manufactured therewith
CN1168681C (zh) * 1998-06-25 2004-09-29 三星电子株式会社 具有oh阻挡层的光纤预制品及其生产方法
NL1012616C2 (nl) 1999-07-16 2001-01-17 Plasma Optical Fibre Bv Werkwijze ter vervaardiging van een voorvorm, alsmede vezel verkregen uit een dergelijke voorvorm.
US6266980B1 (en) * 1999-10-28 2001-07-31 Corning Incorporated Centerline protection using heavy inert gases
DE10155134C1 (de) * 2001-11-12 2002-12-19 Heraeus Tenevo Ag Verfahren für die Herstellung einer Vorform für eine optische Faser und Vorform für eine optische Faser
WO2003057634A1 (en) * 2001-12-21 2003-07-17 Fibercore, Inc. Method for offline collapsing a preform
JP2003286033A (ja) * 2002-03-28 2003-10-07 Sumitomo Electric Ind Ltd ガラス微粒子堆積体の製造方法及び製造装置
NL1022140C2 (nl) 2002-12-11 2004-06-15 Draka Fibre Technology Bv Werkwijze voor de depositie van een of meer glaslagen met laag hydroxylgehalte op het inwendige van een substraatbuis.
KR100511936B1 (ko) 2003-01-15 2005-09-02 엘에스전선 주식회사 수정화학기상증착용 광섬유 모재 제조장치
CN1226211C (zh) * 2003-06-27 2005-11-09 长飞光纤光缆有限公司 一种低水峰单模光纤的制造方法
US20050022561A1 (en) 2003-08-01 2005-02-03 Guskov Michael I. Ring plasma jet method and apparatus for making an optical fiber preform
WO2005033208A1 (ja) 2003-10-06 2005-04-14 Kao Corporation 生分解性ワックス組成物
NL1024480C2 (nl) 2003-10-08 2005-04-11 Draka Fibre Technology Bv Werkwijze ter vervaardiging van een voorvorm voor optische vezels, alsmede werkwijze ter vervaardiging van optische vezels.

Also Published As

Publication number Publication date
US8006518B2 (en) 2011-08-30
US20120036896A1 (en) 2012-02-16
US20050120751A1 (en) 2005-06-09
EP1670729A1 (en) 2006-06-21
JP2007508227A (ja) 2007-04-05
EP1670729B1 (en) 2011-05-25
WO2005033028A1 (en) 2005-04-14
NL1024480C2 (nl) 2005-04-11
US8484996B2 (en) 2013-07-16
RU2380326C2 (ru) 2010-01-27
RU2006115605A (ru) 2007-11-27
CN1863742B (zh) 2010-04-28
JP4879019B2 (ja) 2012-02-15
DK1670729T3 (da) 2011-08-29
KR101057173B1 (ko) 2011-08-16
ATE510802T1 (de) 2011-06-15
CN1863742A (zh) 2006-11-15
KR20060123733A (ko) 2006-12-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8484996B2 (en) Method of manufacturing an optical fibre preform
CN102076623B (zh) 用来制备光学预成形件的方法
US4082420A (en) An optical transmission fiber containing fluorine
US4242375A (en) Process for producing optical transmission fiber
ES2578796T3 (es) Procedimiento para activar una superficie interior de un tubo de sustrato hueco para la fabricación de una preforma de fibra óptica.
US20020108404A1 (en) Drying agent and improved process for drying soot preforms
US20020186942A1 (en) Low-loss highly phosphorus-doped fibers for Raman amplification
KR100545813B1 (ko) 탈수 및 탈염소공정을 포함하는 수정화학기상증착공법을 이용한 광섬유 프리폼 제조방법 및 이 방법에 의해 제조된 광섬유
US11261121B2 (en) Optical fiber preforms with halogen doping
EP3473603B1 (en) Method of making halogen doped silica
CN1986467B (zh) 用于制造oh基团含量低的外包层的方法和设备
CN114057387B (zh) 用于制备氟化石英玻璃的方法
TW200422270A (en) Fluorine-doped quartz glass article and manufacturing method thereof
KR102249255B1 (ko) 플라즈마 증착 공정에 의해 광섬유용 1차 프리폼에 대한 전구체를 제조하는 방법
KR20040025087A (ko) 수정화학기상증착법에 있어서 이중토치를 이용한 광섬유모재의 제조 방법 및 장치
JP2007045643A (ja) 光ファイバ用ガラス母材の製造方法
KR100577491B1 (ko) 저손실 광섬유 및 그 제조방법
US20130291602A1 (en) Optical fiber preform manufacturing method
JP2004345869A (ja) 光ファイバ用ガラス母材の製造方法
KR850001680B1 (ko) 광파이버용 모재의 제조방법