ES239334A3 - Procedimiento para fabricar placas para la impresiën en offset por via fotomecanica - Google Patents

Procedimiento para fabricar placas para la impresiën en offset por via fotomecanica

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Procedimiento para fabricar placas para la impresión en offset por via fotomecánica, en el que la imagen que se ha de transmitir se copia sobre la capa sensible a la luz revelando esta última con agua o bien lavándola después del ataque con agua fuerte, debiendo a continuación secarse caracterizado por el hecho de que la placa o capa copiadora respectivamente es sometida después del tratamiento con agua a l proceso de secado directamente en el lugar de dicho tratamiento con agua, asi como a un chorro de agua caliente que actúa sobre el lado posterior de la placa.
ES0239334A 1957-12-28 1957-12-28 Procedimiento para fabricar placas para la impresiën en offset por via fotomecanica Expired ES239334A3 (es)

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