ES2620121T3 - Líquido de tratamiento para limpiar una parte de un implante - Google Patents

Abstract

Uso de un líquido de tratamiento formado por una solución acuosa de un ácido que está provista de una sal metálica de forma que se obtiene una conductividad de al menos 30 mS/cm para eliminar biopelícula de una pieza, particularmente, de un implante óseo o dental.

Description

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DESCRIPCION

Liquido de tratamiento para limpiar una parte de un implante

La invencion se refiere a un liquido de tratamiento, particularmente, para limpiar superficies de implantes oseos o implantes dentales contaminadas con bacterias, o de otros componentes contaminados con biopelicula. Ademas, se refiere al uso del liquido de tratamiento, particularmente, para limpiar una parte de implante dental introducida en el hueso maxilar de un paciente.

De la solicitud de patente alemana no publicada con el numero de expediente 10 2012 022 593.8 se conoce un elemento de tratamiento, particularmente, para su uso con una parte de implante, asi como un metodo para limpiar una parte de implante dental. En la superficie fija de los implantes, envuelta por el tejido y el liquido tisular, se puede formar una biopelicula colonizada por bacterias que puede dar lugar en ultima instancia a infecciones cronicas y recurrentes. Este cuadro clinico se denomina periimplantitis. Particularmente, en la zona dental, como sucede con la periodontitis, la combinacion de una higiene bucal descuidada, una adherencia de biopelicula a la superficie de la parte del pilar, por lo general microrrugosa, y otros factores, es la causante del cuadro de periimplantitis, que se caracteriza por una contaminacion creciente y una destruccion del tejido blando y duro. Las zonas en las que se retrae el tejido duro y/o blando suelen cubrirse por una biopelicula.

El metodo de limpieza descrito en la solicitud nombrada reside en el concepto de destruir o eliminar la biopelicula o los germenes que forman la contaminacion de la superficie del implante sin danar con ello la superficie del implante. Para ello, se preve un proceso electrolitico en el que se transportan iones (cationes y/o aniones) a traves de la biopelicula mediante fuerzas electrostaticas. Estos iones reaccionan de forma quimica o electroquimica en la superficie del implante. Mediante estas reacciones se crean nuevos compuestos y/o los mismos iones y/o partes de estos iones se transforman al estado atomico. Ademas de ello, existe la posibilidad de que los iones reaccionen con el material de la superficie (p. ej., formacion de una capa de oxido o desgaste de material).

La accion germicida de este proceso se basa en distintos efectos. Por un lado, al aplicar una tension electrica, los iones son transportados desde la misma biopelicula (tambien desde las bacterias) hasta el anodo o el catodo. Ello puede dar lugar a la destruccion de bacterias y virus. Ademas de ello, los iones pueden, mientras que pasan por la biopelicula, formar reacciones bioquimicas, lo que tambien puede dar lugar a la destruccion de bacterias y/o virus. Otra posibilidad de destruccion consiste en que los nuevos compuestos formados en la superficie del implante tengan un efecto antibacteriano y/o antivirico y/o antifungico. Evidentemente, lo mismo puede ocurrir si los iones se transforman al estado atomico. En principio, en todos los procesos descritos arriba existe el riesgo de que se puedan formar o liberar sustancias o compuestos toxicos o perjudiciales para las celulas y/o perjudiciales para los huesos.

WO2010139762 describe un metodo de limpieza para implantes medicos con un liquido de tratamiento que contiene acido.

La presente invencion se basa en la tarea de proporcionar un liquido de tratamiento que sea especialmente adecuado para su uso en el sistema de tratamiento mencionado. Particularmente, se debe proporcionar un liquido de tratamiento que sea especialmente adecuado y tenga una elevada eficacia para tratar o limpiar componentes de un sistema de implante dental, de otras partes de implante, como implantes oseos en general o, en su caso, otras piezas cubiertas de biopelicula.

Esta tarea se resuelve segun la invencion formando el liquido de tratamiento como constituyente basico de una solucion acuosa de un acido que esta provista de una sal metalica de manera que se obtiene una conductividad de al menos 30 mS/cm, preferentemente, al menos 75 mS/cm y, muy preferentemente, de al menos 150 mS/cm.

Las configuraciones ventajosas de la invencion son objeto de las reivindicaciones dependientes. De la descripcion de las figuras tambien se deducen otras configuraciones ventajosas y/o configuraciones ventajosas alternativas de la invencion.

Asi, la invencion parte de la consideracion de que, por un lado, un liquido de tratamiento adecuado se deberia planificar de forma especifica para el uso y el favorecimiento de los efectos del sistema nombrado, que residen en la limpieza electrolitica, mientras que, por otro lado, se deberia evitar en consecuencia, precisamente en cuanto al posible uso del liquido tambien para limpiar partes de implante en un estado insertado, la formacion de sustancias toxicas, perjudiciales para las celulas y/o los huesos o, en general, que pongan en riesgo la salud, o al menos mantenerlas reducidas a un nivel clinicamente aceptable. Para hacerlo posible, el liquido de tratamiento se configura, por un lado, de forma especifica como electrolito para que se adecue a los procesos electroquimicos, de forma que se preve particularmente una conductividad elegida de forma adecuada para ello. No obstante, el liquido de tratamiento tambien se elige, por otro lado, respecto a la seleccion y composicion de sus constituyentes basicos, de forma que las sustancias presentes en el liquido y los productos que se generan en el transcurso de los procesos electroliticos favorezcan especialmente la destruccion de germenes y, en su caso, la separacion mecanica de la biopelicula sin provocar con ello danos ni riesgos considerables para el tejido corporal u oseo.

De forma ventajosa, se preve como sal metalica una sal de aluminio o de un metal alcalino o alcalinoterreo, particularmente una sal de potasio, sodio, magnesio o calcio. Se prefiere muy especialmente una sal de potasio o de

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sodio. Tambien se preve de manera ventajosa el cloro o el yodo como formadores de la sal metalica. Por su parte, como acido se prefiere especialmente un acido organico, muy preferentemente, un acido a-hidroxilcarboxilico, preferentemente, un acido lactico, acido citrico, acido acetico, acido malico o una combinacion de estos constituyentes. Una composicion de los constituyentes basicos se considera ventajosa si, respecto a una amortiguacion del pH para compensar segun sea necesario una produccion de hidroxido, el pH del liquido de tratamiento es menor que 5, preferentemente, menor que 4, muy preferentemente, de aproximadamente 2,7 a 2,9.

De forma ventajosa e independientemente inventiva, el liquido de tratamiento se utiliza para limpiar superficies de implantes oseos o implantes dentales contaminados con bacterias, o de otros componentes contaminados de biopelicula, es decir, basicamente, para eliminar la biopelicula.

Las ventajas conseguidas con la invencion consisten particularmente en que, combinando los constituyentes basicos de la sal metalica y los acidos, y la conductividad electrica resultante, se pueden favorecer especialmente los procesos electroliticos o electroquimicos deseados durante la limpieza debido a la densidad de iones. Particularmente, mediante el acido en forma de amortiguacion del pH se puede contrarrestar un aumento indeseado del pH a causa de la produccion de hidroxido de metal provocada por la reaccion.

Se ilustra con mayor detalle un ejemplo de realizacion de la invencion mediante un dibujo. En este muestran:

la Figura 1 la Figura 2 la Figura 3 la Figura 4 la Figura 5

la Figura 6 las Figuras 7, 8

la Figura 9 la Figura 10

un sistema de implante dental en dos partes en un estado de montaje, el sistema de implante dental segun la Figura 1 en una representacion en despiece, la parte de pilar del sistema de implante dental segun las Figuras 1,2 en una vista lateral, la parte de pilar segun la Figura 3 en una seccion longitudinal,

un elemento de tratamiento para la parte de pilar segun las Figuras 3, 4 en una vista en perspectiva,

el elemento de tratamiento segun la Figura 5 en una seccion longitudinal,

cada una, una forma de realizacion alternativa de un elemento de tratamiento en una vista en perspectiva,

el elemento de tratamiento segun la Figura 8 en una seccion longitudinal y un sistema de tratamiento.

En todas las figuras se proporcionan los mismos numeros de referencia a las partes que son iguales.

En el presente documento, el liquido de tratamiento segun la invencion se explica en mayor detalle mediante un uso considerado como preferido en un sistema de tratamiento para un implante dental. Sin embargo, no se limita de ningun modo a este uso. Mas bien, se considera de forma analoga un uso para tratar o limpiar otros componentes de un sistema de implante dental, otras piezas de implante, como por ejemplo, implantes oseos en general o, en su caso, tambien otras piezas o componentes cubiertos de biopelicula.

El sistema de implante dental 1 segun la Figura 1 se preve para su uso en los huesos maxilares en el lugar de un diente extraido o caido con el fin de mantener en dicho lugar una parte protetica o una corona que sirva como sustituto dental. Asi, el sistema de implante dental 1 se realiza en varias partes y comprende una primera parte de implante 2 realizada como lo que se denomina una parte de pilar y una segunda parte de implante 4 asignada a la misma, prevista para colocar una parte de sustituto dental y denominada tambien pieza de montaje o soporte. La primera parte de implante 2 o parte de pilar esta provista de un filete exterior 6 en su parte externa que se configura particularmente como un filete de tornillo autorroscante en el extremo apical 8. De esta forma, la primera parte de implante 2 o parte de pilar se puede introducir en el hueso maxilar atornillandola en el punto previsto.

Para permitir una introduccion en la parte de pilar o en la primera parte de implante 2 con una alta estabilidad mecanica despues de que se haya colocado adecuadamente la pieza de sustituto dental o de la protesis en la pieza de montaje o en la segunda parte de implante 4, se forma un perno de union 10 en la segunda parte de implante 4 que se puede insertar en un canal de recepcion 12 asignado, previsto en la primera parte de implante 2. Al insertar el perno de union 10 en el canal de recepcion 12 se genera una union mecanica de las partes de implante 2, 4 entre si. En este aspecto, para obtener una alta estabilidad mecanica, el perno de union 10 se adapta en su contorno exterior al contorno interior del canal de recepcion 12, de forma que ambos, vistos en una direccion longitudinal, pueden estar formados de manera conica (ejemplo de realizacion segun la Figura 2). Ademas, como se preve especialmente en el ejemplo de realizacion segun la Figura 3, el contorno exterior del perno de union 10 y el contorno interior del canal de recepcion 12 correspondientemente adaptado se pueden configurar con una simetria multiple (en el ejemplo de realizacion, sextuple) en la seccion transversal, de forma que, al ensamblar los componentes mencionados, se genere un bloqueo rotatorio y, con ello, se pueda ajustar una orientacion rotatoria fiable de la pieza de montaje respecto a la parte de pilar. En el ejemplo de realizacion segun las Figuras 3, 4, para

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indicar o configurar un bloqueo rotatorio, se dispone un elemento de indicacion 14 con una seccion transversal con simetria multiple en el lado del extremo del perno de union 10, el cual, en el estado de montaje, se encaja en una pieza del extremo del canal 16 correspondiente asignada en el canal de recepcion 12.

En el ejemplo de realizacion, el sistema de implante dental 1 se realiza para una union roscada de las partes de implante 2, 4 entre si. Para ello se preve en cada caso un tornillo de union 18 que se encaja en cada caso en un filete de tornillo 20 previsto dentro de la primera parte de implante 2. Respecto a la eleccion de su material, las partes de implante 2, 4 se adaptan de forma adecuada al uso previsto y se hacen basicamente de material ceramico, como por ejemplo, de oxido de circonio u oxido de aluminio, o de un metal elegido adecuadamente, como, por ejemplo, de titanio.

En general, en los sistemas de implante dental, particularmente, tambien en los sistemas de implante de dos piezas del tipo descrito anteriormente, existe el problema de que se pueden generar inflamaciones o focos de inflamacion debido a la entrada de bacterias o germenes en la zona del tejido cercana al punto de insercion, particularmente, en la zona del filete exterior 6 introducido en la mandibula. Las inflamaciones de este tipo, particularmente, tambien generadas debido a una denominada periimplantitis, pueden dar lugar, particularmente si se pueden desarrollar y consolidar durante un periodo de tiempo prolongado, a un deterioro grave del tejido y del hueso en la zona del punto de insercion. Si no se toman las medidas adecuadas, estos deterioros pueden provocar que se tenga que retirar del hueso todo el sistema de implante, particularmente, tambien la parte de pilar ya insertada o segunda parte de implante 4, y sustituirlo por otra protesis. Asi pues, este efecto, muy indeseable, causado por la periimplantitis puede dar lugar a una perdida total del sistema de implante, de forma que pueda ser necesario recurrir de nuevo a medidas quirurgicas, como por ejemplo, un raspado de la zona del hueso maxilar afectada y una repeticion del tratamiento con otro sistema de implante. Ademas, una retirada de este tipo puede dar lugar a una perdida osea o a otra perdida de sustancia tisular, que, en un caso extremo, puede llegar al punto de hacer que no se pueda repetir el tratamiento con otro implante. Tambien se puede dar este tipo de necesidad de repetir el tratamiento causada por la periimplantitis despues de periodos de tiempo relativamente largos, de, por ejemplo, algunos anos o incluso decadas, despues de insertar el sistema de implante.

En principio, los germenes o las bacterias observados en relacion con una periimplantitis pueden colonizar el interior de la parte de pilar 2, pero, preferentemente, se adhieren directamente a la superficie de la parte de pilar 2 insertada en el hueso maxilar, en la zona de contacto con el tejido circundante o el material oseo, es decir, particularmente en la zona del filete exterior 6. La superficie de la parte de pilar 2 puede estar provista de una rugosidad o similar en dicha zona para favorecer especialmente el crecimiento en el tejido o el hueso y contribuir a la curacion de la parte de pilar 2 despues de la insercion. No obstante, precisamente en la zona de una rugosidad de este tipo, que en realidad se considera especialmente favorable para el sistema de implante, puede suceder que los germenes o las bacterias se asienten de manera multiplicada, de forma que la rugosidad dificulte aun mas una eliminacion especifica de los germenes o las bacterias presentes.

Por ello, existe el deseo urgente de encontrar medidas adecuadas para, en el caso de una periimplantitis incipiente o ya existente, hacer frente al foco de la infeccion de forma eficaz manteniendo el sistema de implante ya insertado, es decir, particularmente, la parte de pilar 2 ya insertada, y poder destruir los germenes invasores, de forma que seguidamente se pueda volver a formar tejido sano o sustancia osea sana en la zona de alrededor del filete exterior 6. Para ello, resulta deseable, ademas de una destruccion especifica de los germenes o las bacterias en la zona afectada, eliminar tambien de forma fiable sus restos de material y fragmentos de la zona espacial afectada, de manera que, seguidamente, la zona afectada se pueda volver a llenar de tejido o de material oseo sano y se pueda volver a formar una union interna entre la superficie exterior de la parte de pilar 2 y el tejido o el material oseo circundante. Ademas, la biopelicula formada por el recubrimiento bacteriano, junto con los restos organicos de las bacterias destruidas, se deberia poder eliminar de manera fiable.

Para ello, es decir, para destruir germenes o bacterias en la zona de insercion de la parte de pilar 2, y particularmente, tambien para los posteriores enjuague, eliminacion y retirada de los restos de tejido y material de las bacterias destruidas, se preve un elemento de tratamiento 30 como se muestra en una vista en perspectiva en la Figura 5 y en una seccion longitudinal en la Figura 6. Asi, debido a la realizacion en si misma en dos partes del sistema de implante 1, el elemento de tratamiento 30 se realiza en forma de un soporte de tratamiento en el ejemplo de realizacion y se preve para desarrollar el tratamiento mencionado para el sistema de implante 1 representado, realizado en dos partes, de forma que el soporte de tratamiento 30 debe colocarse temporalmente en la parte de pilar 2 en lugar del soporte real o de la segunda parte de implante 4. Por ello, las siguientes realizaciones se refieren a este caso de un sistema de implante 1 de dos partes; evidentemente, tambien se puede prever un uso correspondiente de implantes de una pieza con una configuracion analoga; para ello, solo se tendria que configurar de manera adecuada la union mecanica del elemento de tratamiento 30 con la parte del sistema de implante que tambien se mantiene en el hueso maxilar durante el tratamiento, por ejemplo, mediante una superficie de contacto adecuada con la que el elemento de tratamiento 30 se colocara en el soporte en vez de en la protesis. Igualmente, el elemento de tratamiento 30 tambien se puede colocar arriba de forma alternativa, en el soporte 4 real del sistema de implante 1, de manera que se pueda prever un uso, por ejemplo, para hacer frente a una inflamacion del tejido blando (mucositis) destruyendo las bacterias y limpiando la superficie, sin que para ello se tenga que eliminar el soporte 4 real.

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En la realizacion en dos partes del sistema de implante 1 prevista en el ejemplo de realizacion, para desarrollar el tratamiento descrito con mayor detalle a continuacion, en su caso, despues de eliminar la protesis situada en el soporte real o en la segunda parte de implante 4, se deshace la union roscada entre la primera y la segunda parte de implante 2, 4 y se retira la segunda parte de implante 4. La primera parte de implante o parte de pilar 2 se mantiene en el hueso maxilar. A continuacion, el soporte de tratamiento 30 se coloca en la parte de pilar 2 en lugar del soporte real 4 y se une a esta mediante la union roscada. Para ello, el elemento de tratamiento 30 tiene una superficie de contacto 32 esencialmente plana con la que se puede colocar en el canto frontal 34 de la parte de pilar 2. La superficie de contacto 32 tambien puede cumplir opcionalmente la funcion de superficie de sellado y configurarse para ello; particularmente, puede realizarse para ello de forma conica.

Respecto a su configuracion y realizacion principal, el soporte de tratamiento 30 reside en el concepto basico de destruir los germenes o las bacterias que se encuentran en la zona de insercion de la parte de pilar 2 suministrando de forma especifica un agente de limpieza o desinfectante, de forma que, los restos o fragmentos de germenes y/o bacterias que posiblemente permanezcan adheridos en la superficie de la parte de pilar 2, particularmente, en la zona del filete exterior 6, se destruyan aplicando adecuadamente una corriente o descargas de corriente desde la superficie exterior de la parte de pilar 2, de manera que se puedan lavar seguidamente.

Por ello, en un primer aspecto, que se considera independientemente inventivo tanto respecto a la configuracion del sistema como respecto a las etapas del metodo de tratamiento previstas, el elemento de tratamiento 30 se disena tanto de forma estructural como funcional/conceptual para alimentar de forma especifica un liquido de tratamiento para destruir los germenes o las bacterias y/o para limpiar la parte de implante 2 insertada en la zona de insercion de la parte de pilar 2, particularmente, en la zona de su filete exterior 6.

En un segundo aspecto, que tambien es independientemente inventivo tanto respecto a la configuracion del sistema como a la eleccion y composicion de los constituyentes basicos del liquido de tratamiento utilizado como respecto a las etapas del metodo de tratamiento previstas, el elemento de tratamiento 30 se disena para desprender las bacterias o los germenes destruidos y sus restos o fragmentos, respectivamente, de la superficie exterior de la parte de pilar 2 de forma segura, de manera que se puedan enjuagar a continuacion y despues se pueda colocar tejido o material oseo sano en la superficie de la parte de pilar 2, y esta pueda volver a crecer completamente como tejido o material oseo sano. Para desprender las bacterias o los germenes y sus restos o fragmentos, respectivamente, de la superficie, se preve su humedecimiento con un liquido de tratamiento conductor aplicando corriente, en su caso, en forma de descargas de corriente pulsadas. Como se ha descubierto de forma totalmente sorprendente, precisamente esta aplicacion de corriente junto con la eleccion de las concentraciones de iones adecuadas en el liquido de tratamiento parece provocar de forma fiable la destruccion de las bacterias o de los germenes y de sus fragmentos o restos, respectivamente, de la superficie situada debajo de los mismos, incluso si esta presenta una rugosidad y, de hecho, favorece especialmente la adherencia del material organico debido a su estructura superficial.

Asi pues, el descubrimiento sorprendente se basa en que la aplicacion de corriente a la parte de pilar 2 utilizando un liquido de tratamiento elegido adecuadamente en la zona de la superficie exterior de la parte de pilar, es decir, particularmente, en la zona del filete exterior 6, provoca una reaccion electrolitica en el liquido de tratamiento y, con ello, en su caso, la produccion de burbujas de gas en la proximidad inmediata a la superficie. Mediante esta formacion de burbujas de gas en la superficie de la parte de pilar 2, los componentes o fragmentos de los germenes o las bacterias que se adhieren a la superficie se destruyen y se eliminan asi sin dejar restos, de manera que no pueden formar ninguna base ni ningun medio de cultivo para un nuevo asentamiento de bacterias en estas zonas. Como resultado, queda una superficie rugosa y porosa de la parte de pilar 2 exenta de germenes, bacterias o sus componentes o restos que sirve bien como base para una integracion futura en el tejido oseo que vuelve a crecer. Asi, la superficie que se mantiene tambien puede estar formada por una capa de oxido de titanio que tambien se generaria con una anodizacion de la superficie.

Se puede conseguir que se favorezca especialmente este desprendimiento, de la parte de pilar 2 insertada, de los componentes de la biopelicula adheridos a la superficie deseada en el sentido de una limpieza fiable de la superficie aplicando corriente mediante un desarrollo ventajoso del metodo especialmente adecuado. Este se puede llevar a cabo de forma que se potencie especialmente la formacion electrolitica de burbujas de gas que tiene lugar en la zona de la superficie insertada como resultado del flujo de corriente. En este sentido, la parte de pilar 2 se puede conectar de forma anodica o catodica. Particularmente, con una conexion catodica de la parte de pilar 2 al menos temporal, se genera gas hidrogeno inducido por electrolisis, que contribuye a la formacion de burbujas de gas de forma especialmente eficaz. Por el contrario, con una conexion anodica de la parte de pilar se generan, en funcion de la composicion del liquido del tratamiento, gas cloro, oxigeno, nitrogeno, monoxido de carbono y/o dioxido de carbono. Las burbujas de gas formadas de esta manera suben en el liquido circundante y, con ello, provocan efectos de arrastre mediante los cuales los componentes superficiales mencionados se desgastan y se transportan hacia el exterior. Por ejemplo, se ha observado de forma completamente sorprendente que, al utilizar una solucion que contiene iones positivos, por ejemplo, una solucion salina acuosa, con una conexion catodica de la parte de pilar 2, estos iones se separan en la misma y, con ello, potencian claramente la formacion de burbujas de gas. Por ejemplo, con una conexion catodica de la parte de pilar 2, la presencia de iones Na+ provoca una formacion significativa de burbujas de gas, puesto que el Na+ reacciona en el catodo formando NaOH con el agua circundante y libera asi hidrogeno.

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En un tercer aspecto, que tambien es independientemente inventivo tanto respecto a la configuracion del sistema como respecto a las etapas del metodo de tratamiento previstas, el elemento de tratamiento 30 se configura para una combinacion especialmente sencilla y continuamente eficiente de los aspectos mencionados. Asi, el concepto se basa en que se puede alcanzar tanto el suministro de liquido de limpieza previsto como el desprendimiento especifico de los restos y fragmentos de bacterias y germenes aplicando la corriente nombrada en un sistema comun y, con ello, con medios especialmente sencillos de mantener.

El liquido de tratamiento segun la invencion se elige y se compone de forma adecuada respecto a estos aspectos. Asi, la seleccion y la composicion de los constituyentes basicos del liquido de tratamiento se lleva a cabo particularmente respecto al modo de accion previsto, es decir, a la aplicacion de una corriente electrica en la zona espacial de la superficie que necesite tratamiento, de forma que se garantiza particularmente que exista una conductividad electrica lo suficientemente alta para ello en el liquido de tratamiento. Particularmente, esta se debe garantizar mediante una densidad de iones elegida de forma que sea lo suficientemente alta en el liquido de tratamiento. Para ello, como constituyente basico del liquido de tratamiento se preve una sal metalica, preferentemente en solucion acuosa. Esta proporciona los iones para el transporte de corriente y, ademas, los productos de conversion que se generan de la respectiva reaccion electrodica tambien pueden presentar efectos bioquimicos adecuados. Eligiendo de forma especifica una conductividad electrica lo suficientemente alta se debe garantizar, en un desarrollo del metodo de limpieza en el implante insertado, que el flujo de corriente tenga lugar a traves del liquido de tratamiento y, con ello, a traves de las partes y componentes que necesiten tratamiento, pero no a traves del tejido corporal del paciente, de forma que se pueda minimizar el riesgo de exponer al paciente a un flujo de corriente indeseado a traves del tejido blando, el hueso, la sangre y/u otros materiales corporales. La conductividad electrica del liquido de tratamiento deberia tener en la medida de lo posible un multiplo de la conductividad electrica de la sangre, el hueso, el tejido blando, el tejido graso u otros materiales corporales.

Por consiguiente, al elegir y componer los constituyentes basicos del liquido de tratamiento se tienen que tener en cuenta particularmente los siguientes valores de conductividad (se indica la conductividad a en la unidad habitual, mS/cm):

Piel: 0,03 a 0,1 mS/cm

Hueso: 0,06 a 0,2 mS/cm

Tejido graso: 0,20 a 1,0 mS/cm

Tejido muscular: 0,80 a 2,5 mS/cm

Sangre: aprox. 6,7 mS/cm

Otros fluidos corporales: aprox. 15 mS/cm

Para mantener el potencial de riesgo para el paciente adecuadamente bajo y limitar el flujo de corriente a las zonas deseadas, la conductividad electrica deberia ser de dos veces, preferentemente, de cinco veces, muy preferentemente, de diez veces la conductividad de otros fluidos corporales. Por ello, la conductividad electrica del liquido de tratamiento deberia tener un valor de, al menos, 30 mS/cm, preferentemente, al menos 75 mS/cm, y, muy preferentemente, al menos 150 mS/cm. En comparacion con la sangre, ello conlleva que la conductividad electrica del liquido de tratamiento sea preferentemente de al menos unas cinco veces, preferentemente, al menos unas diez veces y, muy preferentemente, al menos unas veinte veces la conductividad de la sangre. Las mediciones han concluido que, al utilizar un liquido de tratamiento elegido de esta forma, la tension electrica a la que se exponen el tejido corporal, la sangre, los fluidos corporales, etc. es de menos de 6 V, preferentemente, de menos de 3 V, muy preferentemente, de menos de 1,5 V. De esta forma se pueden descartar de forma segura danos en el paciente debido a que las tensiones se mantienen bajas. Para mantener una conductividad de este tipo, la concentracion de iones en el liquido de tratamiento y en los constituyentes basicos que lo forman se elige particularmente de forma suficientemente alta; para ello, se pueden emplear soluciones alcalinas, acidos, sales y/u otras sustancias o compuestos que formen iones.

Al elegir y componer los constituyentes basicos del liquido de tratamiento se considera especialmente que el efecto de limpieza o de desprendimiento de la biopelicula del tratamiento electrolitico de una superficie de implante contaminada reside en una combinacion de varias causas, que se deberian hacer utilizables de forma que se complementen entre si en la medida de lo posible. Por un lado, se pueden formar gases o burbujas de gas, preferentemente en la zona de los electrodos durante el flujo de corriente a traves del electrolito, los cuales tienen un efecto de levantamiento (mecanico) en la biopelicula. La generacion de estos gases tiene lugar inmediatamente en la superficie del implante que sirve como electrodo, y, con ello, entre esta y la biopelicula. Las burbujas de gas que se generan en el proceso influyen, con su velocidad de crecimiento y su tamano maximo, en el proceso de desprendimiento.

Como segunda causa del efecto de limpieza del implante o de desprendimiento de la biopelicula del proceso electrolitico se puede nombrar el efecto de corrosion, destruccion y desintegracion de las sustancias o los compuestos que se generan por la electrolisis en la adherencia efectiva de la biopelicula a la superficie del implante, es decir, al mecanismo de adhesion o anclaje.

La tercera causa del efecto de limpieza o de desprendimiento del proceso electrolitico se basa en los efectos de desgaste de material del material del implante, de forma que los componentes o las particulas del implante real se

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desprenden de este en su zona superficial.

La cuarta causa del efecto de limpieza o de desprendimiento del proceso electrolftico se basa en la formacion de una capa de oxido de los implantes metalicos que permiten que ello suceda. En este sentido, los atomos de metal del material metalico basico penetran en la capa de oxido posiblemente ya existente en funcion de la tension electrica aplicada y reaccionan con sustancias del electrolito (en su mayorfa, oxfgeno => formacion de oxido de metal). En el caso de los metales que no forman ninguna capa de oxido o ninguna capa de oxido mecanicamente estable, tambien se pueden generar compuestos no oxfdicos (en su mayorfa, sales), que despues se disuelven.

Los constituyentes basicos previstos para formar el lfquido de tratamiento se eligen y se combinan entre sf adecuadamente respecto a estos efectos. Ademas, se considera un objetivo fundamental que no se produzcan efectos toxicos ni que supongan de otro modo un riesgo para el paciente o le sean desagradables, de forma que el lfquido de tratamiento tambien sea adecuado para un uso en el implante dental insertado, es decir, en la boca del paciente. Asf, en el ejemplo de realizacion, se preven como constituyentes basicos al menos, por un lado, una sal, y por el otro, un acido, preferentemente diluido con agua, cuya seleccion y composicion se rigen particularmente por los criterios mencionados. En este aspecto, como acido se prefiere especialmente el acido fosforico, acido cftrico, acido malico, acido acetico, acido lactico, acido carbonico o una combinacion de estos. Como sal se prefieren especialmente, de forma alternativa o adicional, el yoduro, cloruro, nitrato, carbonato o hidrogenocarbonato de sodio, calcio, aluminio, magnesio o potasio y/o el clorito, nitrato o yoduro de amonio, o una combinacion de estos.

Por lo demas, se considera que el proceso electrolftico previsto se pueda llevar a cabo opcionalmente con una conexion anodica o catodica de la parte de pilar. Por consiguiente, en lo sucesivo se hara una distincion entre una reaccion anodica y una reaccion catodica.

En una reaccion anodica, es decir, en una conexion anodica de la parte de pilar 2, los aniones que se encuentran en el lfquido de tratamiento se oxidan generalmente en el anodo por la retirada de electrones. En este aspecto, se puede producir una reaccion inmediata con el material, particularmente para formar una capa de oxido y/o una sal con el material de implante. Los implantes oseos y, por consiguiente, tambien la parte de pilar 2, se hacen en su mayorfa de titanio, circonio, tantalio o de aleaciones de estos metales. Ademas, tambien se anaden otros metales a la aleacion. Estos metales o estas aleaciones de metales tienen en su mayorfa un alto grado de formacion de capas de oxido. Esta formacion de capas de oxido tiene un efecto de pasivacion en la superficie. Su consecuencia es una supresion o al menos una reduccion muy fuerte de la reaccion anodica de estos metales o estas aleaciones de metales. Puesto que en la biopelfcula se encuentran en su mayorfa compuestos con oxfgeno, en la mayorfa de los casos no es posible suprimir esta pasivacion. En caso de que la parte de pilar estuviera conectada anodicamente, el efecto de limpieza de desprendimiento se limita en su mayorfa a la formacion de una capa de oxido. A tensiones de servicio mas elevadas, por ejemplo, de mas de 10 V se podrfa mostrar con unas amplias investigaciones que es posible que se produzca un proceso de desgaste de material, pero que este va asociado a una fuerte generacion de calor. Esta generacion de calor puede dar lugar a una necrosis indeseada del hueso. Ademas, el desgaste de material resultante tambien modifica de forma no deseada las propiedades de la superficie del implante original.

Como excepcion se ha demostrado sorprendentemente que, en un material de base de la parte de pilar 2 que tenga aluminio como componente de aleacion (por ejemplo, en el caso del titanio grado 5, que tiene aproximadamente una proporcion de aluminio del 6 % y una proporcion de vanadio del 4 %) tambien es posible aplicar corriente a la parte de pilar 2 sin que la formacion de una capa de oxido dificulte demasiado el proceso. Para ello se puede producir, segun la composicion del lfquido de tratamiento, gas cloro o gas yodo, o tambien CO2 directamente en la superficie de la parte de pilar 2 y, asf, hacerlo inmediatamente utilizable para el desprendimiento de la biopelfcula que se pretende conseguir. De forma especialmente ventajosa, para un desarrollo del metodo de este tipo, el elemento de tratamiento 30 esta provisto de un recubrimiento superficial conductor, por ejemplo, de DLC («diamond like carbon» esp.: carbono tipo diamante), un metal, un plastico conductor o una ceramica conductora de la electricidad.

En este sentido, ha demostrado ser especialmente ventajoso que, con un material de base de titanio grado IV o titanio grado V de la parte de pilar, sea posible una formacion de CO2, una formacion de CI y/o una formacion de I anadiendo CO2 al lfquido de tratamiento pese a que se forma una capa de oxido cuando se aplica una corriente anodica, la cual hace posible un flujo de corriente mas prolongado.

No obstante, por los motivos mencionados arriba, la parte de pilar 2 se suele conectar preferentemente de forma catodica en el tratamiento con el lfquido de tratamiento. En este caso, los iones con carga positiva (cationes) migran hacia la superficie de la parte de pilar 2. Estos pueden ser, especialmente, iones H+, iones de metal o iones de hidrocarburos de cadena larga, p. ej., de lfquidos ionicos. La sal prevista como constituyente basico para el lfquido de tratamiento se selecciona particularmente de forma especffica respecto a las caracterfsticas de los cationes que favorecen o incluso hacen posible el proceso mencionado. Para generar una conductividad electrica lo mas alta posible son adecuados, particularmente, los iones pequenos (iones H+ o iones de metal) que, ademas, pueden atravesar de manera relativamente facil la biopelfcula, en su caso, presente, como otro efecto especialmente favorable. Los iones H+ se reducen a hidrogeno H elemental en el catodo formado por la parte de pilar 2. Ello provoca una formacion de burbujas.

Los metales alcalinos, los metales alcalinoterreos y/o el aluminio reaccionan en el catodo con el agua circundante

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formando hidrogeno elemental y sus cationes de metal e iones OH-. Ello conlleva que se formen burbujas de hidrogeno y el hidroxido del ion de metal utilizado. Asf, combinando estos componentes se consigue, junto con el efecto de desprendimiento del hidrogeno que se genera, que el hidroxido de metal actue de forma antibacteriana y ejerza una influencia diluyente o desintegrante en la biopelfcula o en su mecanismo de adherencia.

Para evitar intolerancias con el tejido corporal, se prefieren especialmente como cationes de metal los propios del cuerpo (p. ej., iones de potasio y/o de sodio). Ademas, tambien son adecuados el calcio, el magnesio y/o los iones de aluminio. Por ello, como sal prevista como constituyente basico para el lfquido de tratamiento se prefiere especialmente una sal de estos metales, particularmente, puesto que de todos modos estos cationes de metal solo estan disponibles en forma de sal, p. ej., disueltos en agua.

Estas sales metalicas pueden ser componentes de los metales nombrados con formadores de sal adecuados, por ejemplo, con azufre, fosforo, nitrogeno, fluor, cloro, yodo, hidrocarburo, oxfgeno, boro u otros no metales. Por su parte, el formador de sal se elige de forma adecuada considerando ventajosamente el principio de «cuanto mas grande sea el anion, menor sera la conductividad electrica» y respecto a la conductividad electrica elevada que se desee fundamentalmente. Ademas, como anion solo se consideran, preferentemente, las sustancias que no influyen ni en la salud ni en el tejido periimplantario. Ademas, tambien se debe considerar que no se desean olores o compuestos de sabor desagradables. Por este motivo, se consideran mas bien inadecuados los aniones de azufre o los aniones que contengan azufre en combinacion con oxfgeno u otros elementos. Ello tambien se aplica a los iones de fluor, bromo, nitrogeno y boro, en su caso, tambien en combinacion con otros elementos.

Por el contrario, en la mayona de los casos, los fosfatos, iones fosfato e iones hidrogenofosfato no tienen o apenas tienen efectos perjudiciales. Los iones de cloro o los iones que contienen cloro tienen, en la mayona de los casos, un efecto antibacteriano. No obstante, si el ion de cloro se oxida por electrolisis y se encuentra en el agua de forma elemental, se forma un acido clorhfdrico y un acido hipocloroso. En combinacion con el hidroxido generado catodicamente, ello provocana una neutralizacion. Sin embargo, se ha demostrado en las investigaciones que el cloro que se genera en el electrodo contrario al implante (anodo) se escapa en gran medida del electrolito en forma de gas. Si el cloro no se pudiera absorber sin dejar restos en el tratamiento, se pueden producir fuertes corrosiones en el pulmon y/o en las membranas mucosas. En este sentido, se debe valorar si es mayor la utilidad para el paciente o su exposicion a un riesgo.

Ademas, en cuanto a los fosfatos de aluminio, potasio, sodio, calcio o magnesio, cabe destacar que la solubilidad en agua es tan baja que no se garantiza una suficiente conductividad electrica del electrolito (no obstante, estos fosfatos son muy adecuados como aditivos del electrolito para amortiguar el pH). Si bien los cloruros de los metales recien nombrados tendnan una solubilidad suficiente en agua y un buen efecto de limpieza y de destruccion sobre la biopelfcula, estos no se pueden considerar optimos. En el caso de los nitratos y/o de los nitritos, cabe esperar la exposicion del paciente a un riesgo por la formacion de gases NOx. Por ello, se desaconseja emplear nitritos o nitratos.

En cuanto a los objetivos mencionados, particularmente, para una buena tolerancia para el paciente, se preve el yodo como formador de sal en una realizacion preferida. Asf, resulta especialmente ventajoso que las sales de yodo del potasio y del sodio tambien se encuentren en el cuerpo humano por naturaleza. En un primer momento, en la oxidacion de los iones de yodo en el anodo se genera un yodo elemental que se puede disolver en una solucion de yoduro de sodio/yoduro de potasio. De esta forma se genera una solucion de yodo-potasio-yoduro o una solucion de yodo-sodio-yoduro. Las dos soluciones son potentes desinfectantes que han demostrado su eficacia en la medicina humana.

Sin embargo, las soluciones puras de yoduro de sodio o de potasio, o una mezcla de las dos tienen como consecuencia la posible desventaja de que se forme hidroxido de sodio y/o de potasio, y el consiguiente aumento del pH. En lmeas muy generales, en la formacion de hidroxido de metal descrita arriba, se podna calificar como problematico que un hidroxido de metal aumente el pH del electrolito. Un pH aumentado de esta forma y la solucion alcalina o base del hidroxido de metal que se forma podnan tener una influencia indeseada en el tejido circundante de la boca del paciente y, particularmente, en el hueso. Tambien podna suceder que se vieran perjudicados los dientes circundantes. Ademas, la formacion de hidroxidos podna provocar que estos se depositaran en la parte de pilar 2 debido a su baja solubilidad en agua o, en general, que se depositaran en la pieza que necesita tratamiento y, de esta forma, dificultaran que prosiguiera el flujo de corriente y, con ello, el proceso en su conjunto. En todo caso, cuando se utiliza una sal de calcio en el lfquido de tratamiento, el hidroxido de calcio que se genera, que aparece como componente del material oseo, se podna integrar en los huesos; asf pues, se prefiere especialmente el calcio como constituyente de la sal. Para compensar estas influencias indeseadas, el lfquido de tratamiento tiene como otro constituyente basico el acido en forma de amortiguador o reductor del pH.

En este sentido, el acido se elige por su parte de forma especffica segun el criterio de no poner en riesgo al paciente o al tejido periimplantario en la medida de lo posible, sino que, por un lado, neutralice el hidroxido (y tampoco deje que el pH alcance un nivel mayor que 7), mientras que, por el otro, los productos de reaccion deben servir para el objetivo efectivo de limpiar el cuerpo de implante y de separar la biopelfcula. Preferentemente, como acidos minerales se consideran los acidos fosforicos y/o acidos fosfaticos. Para evitar un riesgo para la salud y/o los huesos o los tejidos, su concentracion se debe limitar a valores maximos del 30 % o, preferentemente del 10 al 20 %. Por el

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contrario, un acido especialmente preferido que tambien se considera acido mineral y tiene un efecto especialmente positivo en cuanto al objetivo general de la destruccion y la limpieza es el acido carbonico. Sin embargo su cantidad aplicable es limitada debido a su solubilidad relativamente baja en agua.

En cambio, los acidos organicos, como los acidos minerales, disponen de iones H+ que reducen el pH y neutralizan el hidroxido. Puesto que, ademas, no provocan o, en todo caso, provocan danos leves en el tejido o en el paciente en conjunto, los acidos organicos de este tipo se prefieren especialmente como constituyentes basicos para el liquido de tratamiento. Acidos organicos serian, p. ej., acidos alcanoicos, acidos de frutas, acidos carboxilicos asi como acidos hidroxilcarboxilicos. Han demostrado ser acidos especialmente adecuados los acidos a- hidroxilcarboxilicos. Particularmente, los acidos especialmente preferidos, el acido lactico, el acido citrico y el acido malico, no tienen ningun tipo de efecto perjudicial para la salud en el paciente en general o en el tejido periimplantario. En especial, en los implantes en los que se ha adherido fuertemente la biopelicula y que estan contaminados con ella, en los que tambien se ha formado sarro, las dosis relativamente bajas de acido acetico ya mostraron un buen resultado de limpieza. Otros acidos que incluyen tanto la funcion de limpieza como el efecto destructor de bacterias, pero no son admisibles por motivos de salud, serian el acido fumarico, el acido gluconico, el acido glicolico, el acido salicilico, el acido mandelico, el acido tartarico, el acido oxalico y el acido formico.

Durante la neutralizacion del ion de hidroxido OH- con el correspondiente ion H+ de un acido se genera, ademas, la sal metalica del acido utilizado del hidroxido de metal correspondiente. Asi pues, el uso previsto del acido no es solo ventajoso para amortiguar el pH, sino que, ademas, contribuye a transformar el hidroxido, con una solubilidad en agua relativamente mala, en sales con una solubilidad en agua relativamente buena y, de esta forma, dificulta la separacion del precipitado indeseado que dificulta el proceso en la pieza que necesita tratamiento. Las sales nombradas se emplean, particularmente, en la combinacion de los materiales preferidos nombrados, entre otros, tambien en la medicina. En la neutralizacion del hidroxido de potasio, sodio y/o calcio con el acido lactico se forma el lactato de potasio (de amplio efecto antimicrobiano), el lactato de sodio o el lactato de calcio. Por el contrario, si los hidroxidos que se forman se neutralizan con acido citrico, se forman los citratos de potasio, sodio o calcio. Ello es especialmente ventajoso precisamente para el citrato de sodio, puesto que este impide la coagulacion de la sangre pues la sangre que sale durante el proceso y se coagula en la superficie del implante podria dificultar la migracion de los iones a la superficie del implante y, con ello, dificultar que prosiga el proceso de tratamiento en su conjunto.

Por el contrario, con una neutralizacion de los hidroxidos con acido malico se generan malatos del cation correspondiente que tambien tienen efectos favorables para el proceso. En la neutralizacion de los hidroxidos con acido acetico se generan acetatos del potasio, sodio y/o calcio que tambien tienen una influencia favorable en el proceso.

Todos los lactatos, citratos, malatos y/o acetatos del potasio, sodio y/o calcio tienen un efecto regulador del acido y se pueden digerir de tal manera que, segun la normativa vigente de la UE para aditivos alimentarios, no llevan asociados ningun limite de cantidad.

En la utilizacion de los acidos en el electrolito en combinacion con yoduros y/o cloruros de sodio, potasio, magnesio, aluminio y/o calcio, se ha descubierto sorprendentemente en la aplicacion electrolitica que, reduciendo directamente el ion H+, se influye tan positivamente en la formacion de burbujas que la biopelicula se separa mejor y de forma claramente mas rapida. Asi, se genera una pluralidad de burbujas relativamente mas pequenas con un alto indice de produccion, las cuales pueden separar la biopelicula de la superficie situada debajo en su conjunto y no de forma local debido a su tamano relativamente mas pequeno. De esta forma, la biopelicula se levanta preferentemente en su conjunto o en trozos anexos relativamente mas grandes, en lugar de en una pluralidad de fragmentos mas pequenos, lo que provoca un efecto de limpieza claramente mejorado.

Se pueden utilizar cationes de amonio en lugar de los cationes de metal. No obstante, en este sentido existe el riesgo de que se formen otros compuestos de amonio (p. ej., amoniaco) en el proceso electrolitico. Ello representa un riesgo para el paciente y se hace notar por un sabor y olor muy desagradables.

En los experimentos se ha observado que la biopelicula se desprende en fragmentos muy pequenos o en partes anexas mas grandes. Se prefiere esto ultimo, puesto que, de esta forma, se pueden conseguir resultados de limpieza muy favorables en superficies relativamente grandes. Ademas, las investigaciones tambien han demostrado que la retirada de la biopelicula separada y/o de sus fragmentos se favorece por la formacion de espuma en la superficie del implante. Ha demostrado ser favorable que, despues de utilizar un electrolito de las sales metalicas, los acidos descritos y agua, los cuales son responsables particularmente de la destruccion y la separacion, se utilice un segundo electrolito que incluya ademas una formacion de espuma en la zona del catodo. Se puede conseguir una formacion de espuma de este tipo anadiendo preferentemente otra sustancia al electrolito que tenga al menos tres miembros de la cadena CH2 o al menos un miembro de la cadena CH2, y al menos un compuesto del anillo de carbono. En este sentido, se pueden utilizar, p. ej. aceite y/o clorhexidina. Ademas, tambien se pueden utilizar liquidos ionicos que tengan preferentemente un ion I-, Cl- y/u OH-. Puesto que la proporcion organica de cationes de un liquido ionico se reduce en algunos casos en la superficie del implante y desaparece en la misma, en una realizacion especialmente favorable es posible anadir factores de crecimiento oseo a esta proporcion de cationes.

Si se mezclan los cloruros y los yoduros en la relacion correcta, se puede evitar la molesta formacion de gas cloro.

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En el anodo se genera:

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Ello conlleva que se formen acido clorhfdrico y acido yodico en el anodo. Estos tienen con certeza un fuerte efecto antimicrobiano y, ademas, se vuelven a neutralizar cuando coinciden con el hidroxido que se forma de manera catodica.

Una composicion muy especialmente preferida del lfquido de tratamiento que mostro unas propiedades de limpieza especialmente favorables en el laboratorio comprende una solucion acuosa de yoduro de sodio (Nal) o yoduro de potasio (Kl) en una relacion de mezcla de al menos 5, preferentemente, al menos 10, muy preferentemente, al menos 20 g de sal por 30 ml de lfquido (es decir, agua, H2O, en su caso enriquecida con CO2) anadiendo acido lactico reducido a un pH de aproximadamente 2,7 a 2,9.

En el desarrollo del proceso se preve una densidad de corriente media en la parte de pilar 2 o en la pieza que necesita tratamiento de al menos 50 mA/cm2, ventajosamente, de al menos 100 mA/cm2, muy preferentemente, de al menos 250 mA/cm2, de forma que esta densidad de corriente se refiere a la superficie exterior de la parte de pilar 2 (es decir, sin considerar propiedades que aumenten la superficie, como por ejemplo, la rugosidad o la estructura superficial). Para separar la biopelfcula, ha resultado ser especialmente favorable una densidad de corriente media de 50 mA/cm2 a 300 mA/cm2, ventajosamente, de 100 mA/cm2 a 200 mA/cm2. Para retirar los fragmentos de biopelfcula, se deberfa aumentar el espesor de corriente preferentemente al intervalo de 300 mA/cm2 a 5000 mA/cm2 o, de forma especialmente ventajosa, de 1000 mA/cm2 a 2000 mA/cm2.

Anadiendo H2O2 se reduce en gran medida o se suprime el efecto de burbujeo en el catodo. Se produce una formacion muy fuerte de H2O que se puede utilizar para enjuagar la superficie.

Para suministrar de forma especffica el lfquido de tratamiento mencionado, considerado independientemente inventivo, a la zona espacial que necesite tratamiento en la parte de pilar 2, el lfquido de tratamiento 30 tiene una estructura constructiva que se puede deducir de las representaciones en vista en perspectiva segun la Figura 5 y en seccion longitudinal segun la Figura 6. En cada una de ellas se representa el elemento de tratamiento 30 en el estado de montaje en la parte de pilar 2. En ellas se representa igualmente una zona espacial 36 en el hueso maxilar 38 que envuelve de forma anular la parte de pilar 2 en la zona de su filete exterior 6, la cual sufre periimplantitis y, por consiguiente, esta contaminada de bacterias.

El elemento de tratamiento 30 tiene un cuerpo base 40 realizado esencialmente como cuerpo de envoltura cilfndrico, que se coloca sobre la superficie o el canto frontal 34 superior de la parte de pilar 2 con su superficie frontal 42 que forma la superficie de contacto 32. Ademas, para aumentar la estabilidad mecanica, se forma un perno de union 43 en el cuerpo base 40 que se adapta respecto al contorno y a los parametros geometricos al canal de recepcion 12 en la parte de pilar 2 y se puede insertar en el mismo.

En el interior del cuerpo base 40 y coaxial al mismo se preve un canal interior 44 en el que se introduce un tornillo de union 46. El tornillo de union 46 se encaja con su filete de tornillo 48 en el filete de tornillo 20 provisto en el interior de la parte de pilar 2. A diferencia del tornillo de union 18 previsto para la union del soporte real 4 con la parte de pilar 2, el tornillo de union 46 no se disena para una alta resistencia mecanica y duracion de la union roscada producida, sino que el tornillo de union 46 se basa en otros criterios. Asf pues, se considera particularmente la secuencia de tratamiento que se explica a continuacion, en la que el tornillo de union 46 y, con este, la parte de pilar 2, deben servir como electrodo para los pulsos de corriente. En consecuencia, el tornillo de union 46 se hace de un material conductor de la electricidad, particularmente, de un metal, como por ejemplo, de titanio.

Para suministrar el lfquido de tratamiento, que puede, entre otros, causar la destruccion de germenes o bacterias, el elemento de tratamiento 30 se disena en la zona espacial 36. Para ello, el cuerpo base 40 esta provisto de una serie de canales de medio 50 que se unen a un sistema de distribucion o alimentacion del lfquido de tratamiento por el lado de la entrada. En el ejemplo de realizacion, los canales de medio 50 se forman mediante muescas 54 incorporadas en un cuerpo anular 52 que envuelve el cuerpo base 40. Asf, el cuerpo anular 52 se desplaza sobre el cuerpo base 40, de forma que las muescas 54 estan cerradas hacia el interior por la envoltura exterior del cuerpo base 40 y, de esta manera, forman un sistema canalizado de los canales de medio 50. Obviamente y como alternativa, los canales de medio tambien se podrfan incorporar directamente de otra manera en el cuerpo base 40.

En la proximidad inmediata a la zona de contacto de la superficie frontal 42 del cuerpo base 40 con el canto frontal 34 de la parte de pilar 2, el sistema canalizado formado por los canales de medio 50 tiene una serie de orificios de salida 60 de los que, por motivos de claridad, solo se muestran dos en la Figura 6. En el ejemplo de realizacion, cada canal de medio 50 esta provisto de un orificio de salida 60. No obstante, los orificios de salida 60 se pueden adaptar a requisitos individuales en cuanto a su seccion transversal y su numero. Por ejemplo, se podrfa prever un unico orificio de salida que, por ejemplo, formara una hendidura anular completamente circular entre la superficie frontal 42 y el canto frontal 34. De forma alternativa, tambien se puede prever una pluralidad de orificios de salida 60 que, vistos particularmente en la direccion circunferencial del cuerpo base 40, se dispongan de manera uniforme alrededor de su perfmetro. El sistema canalizado formado por los canales de medio 50 termina con sus orificios de salida 60 de forma inmediatamente adyacente a la superficie frontal 42 y, de esta forma, inmediatamente encima de

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la zona espacial 36, de manera que el medio que sale de los orificios de salida 60 llega de forma mas o menos directa a la zona espacial 36 situada debajo. Mediante esta configuracion del cuerpo base 40 considerada independientemente inventiva en si misma, el elemento de tratamiento 30 forma un sistema canalizado con el que el liquido de tratamiento se puede incorporar directamente de forma especifica y eficaz en la zona espacial 36 que necesite tratamiento. De forma adicional, el elemento de tratamiento 30 se configura especificamente como sistema electrico. En este aspecto, como criterio se preve particularmente hacer posible una aplicacion pulsada del medio introducido en los canales de medio 50, particularmente, del liquido de tratamiento introducido en los mismos, con pulsos de corriente. Para ello, el elemento de tratamiento 30 se disena para que pueda aplicar especificamente el flujo de corriente previsto para la limpieza de la parte de implante 2 insertada de forma localizada en la zona espacial 36 que necesite tratamiento. En este sentido, el elemento de tratamiento 30 se estructura segun el criterio de que la corriente electrica se transporta a la parte de implante 2 insertada y esta se puede utilizar como electrodo. Para ello, el elemento de tratamiento 30 comprende un primer elemento conductor 62 que forma una primera trayectoria de corriente electrica y esta conectado electricamente con la parte de implante 2 mediante el tornillo de union 46, el cual se puede acoplar por su parte a una fuente de corriente o de tension elegida de forma adecuada.

Para formar un polo opuesto o el electrodo opuesto se preve el uso de la conductividad electrica del liquido de tratamiento introducido en los canales de medio 50. Para ello, el interior de los canales de medio 50 esta unido por su parte electricamente con el otro polo o la fuente de corriente o de tension. Asi, desde un punto de vista electrico, los orificios de salida 60 de los canales de medio 50 forman un contacto 64 o un punto de contacto electrico mediante el cual tiene lugar el flujo de corriente a la parte de implante 2 o desde la parte de implante 2. Utilizando los orificios de salida 60 situados en una proximidad inmediata a la zona espacial 36 que necesite tratamiento como contacto electrico 64 se consigue que la corriente electrica aplicada para el tratamiento y la limpieza pueda fluir a traves de la zona superficial atacada por las bacterias de la parte de implante 2 insertada y, desde la misma practicamente de forma inmediata, es decir, practicamente sin «rodeos», mediante mas tejido corporal o similar, a la superficie de contacto 64 o al punto de contacto. Los canales de medio 50, junto con el liquido de tratamiento conductor de la electricidad introducido dentro de los mismos y los correspondientes elementos de acople, forman asi un segundo elemento conductor 66 que forma una trayectoria de corriente al contacto 64 dispuesto en el lado del extremo en el ejemplo de realizacion.

De forma alternativa, el segundo elemento conductor 66 tambien se podria realizar en forma de electrodo «convencional», es decir, particularmente como un elemento de metal de tipo aguja conductora de electricidad. Particularmente, este se podria colocar en una direccion longitudinal de forma esencialmente paralela al eje central del cuerpo base 40 de forma que se pueda desplazar en el mismo. Para formar este electrodo o un tercer electrodo que se prevea adicionalmente por necesidad, por ejemplo, para generar un campo electrico de forma local para, por ejemplo reforzar el campo, se puede proporcionar, en su caso, otro cuerpo metalico 68 formado de manera adecuada. En este sentido, el elemento de tratamiento 30 tambien se puede realizar sin los canales de medio, de forma que el electrodo opuesto y, con el, la segunda trayectoria de corriente, se puedan formar exclusivamente mediante el cuerpo de metal 68. En este caso, el contacto 64 se forma mediante la superficie del correspondiente cuerpo de electrodo libre por el lado del extremo.

Ademas, colocando los orificios de salida 60 y/o la superficie de contacto 69 en el lado del extremo del cuerpo metalico 68 se garantiza que la superficie de contacto 64 del segundo elemento conductor 66 formada por los mismos se coloque a una distancia de al menos 1 mm y de como mucho 10 mm del eje longitudinal central de la parte de implante 2 dental visto en una direccion longitudinal.

El cuerpo base 40 del elemento de tratamiento 30 podria estar formado de material aislante, como por ejemplo, de una ceramica o de un plastico. No obstante, en el ejemplo de realizacion esta hecho de metal, en concreto, de titanio. Para garantizar un aislamiento electrico fiable de los componentes unos respecto a otros, se realiza de forma que esta provisto de un recubrimiento aislante 70 en su superficie frontal 42 que forma la superficie de contacto con la parte de implante dental 2, y por consiguiente, electricamente aislado. Por lo demas, el cuerpo anular 52 se realiza de un material aislante, como por ejemplo, una ceramica.

En una forma de realizacion alternativa, el elemento de tratamiento 30', como se muestra en una vista en perspectiva en la Figura 7, esta provisto de otro sistema canalizado que puede estar previsto, por ejemplo, como canal de retorno para el liquido de tratamiento, como conducto separado para introducir una mezcla de medio, o tambien como canal de succion. Para ello, en esta forma de realizacion, el cuerpo anular 52 esta rodeado por otro cuerpo anular 71 en el que se incorporan igualmente muescas 74 en el interior para formar otros canales de medio 72.

En las formas de realizacion explicadas anteriormente, los canales de medio 50 y/o los elementos conductores 60, 66 se realizan de forma que se montan de manera esencialmente integrada y se introducen dentro del cuerpo base 40 o del cuerpo anular 52, 71 unido a este. Sin embargo, de forma alternativa o adicional, tambien se pueden disponer algunos o todos los canales de medio 50 y/o elementos conductores 60, 66 fuera del cuerpo base 40 y unirse a este mediante sistemas de retencion adecuados. Esta forma de realizacion se muestra en el ejemplo de realizacion en una vista en perspectiva segun la Figura 8 y en seccion longitudinal segun la Figura 9. Ademas de los componentes ya explicados, el elemento de tratamiento 30” mostrado en ellas esta provisto de elementos de canal 80 dispuestos en el exterior del cuerpo anular 52 y desplazables en la direccion longitudinal. De forma analoga a los

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canales de medio 50, estos se pueden realizar en forma de canula o similar y aplicarseles el liquido de tratamiento y, ademas, servir de elementos conductores 66. Sin embargo, de forma alternativa, tambien se pueden realizar de metal en forma de electrodos y unirse de forma electrica con la fuente de corriente o de tension. De forma adicional, en el ejemplo de realizacion segun la Figura 8 se muestra otra variante en la que, ademas de los canales de medio formados por los elementos de canal 80 dispuestos de forma externa, tambien se preven canales de medio 50 integrados formados por muescas 54 en el cuerpo anular 52.

Preferentemente, el elemento de tratamiento 30, 30', 30" se utiliza en un sistema de tratamiento 90, como se muestra en la Figura 10. El sistema de tratamiento 90 se preve para una parte de implante dental o parte de pilar 2 y comprende el elemento de tratamiento 30, 30', 30" y, ademas de este, un elemento de union 92 entre este y un paquete de tubos 94, una union enchufable 96 entre este y una unidad de distribucion y control 98 dispuesta fuera de la boca del paciente. Esta unidad de distribucion y control 98 contiene un suministro electrico que puede aplicar una tension y/o hacer fluir una corriente entre el electrodo en la parte de pilar 2 y otro electrodo que se puede encontrar en el elemento de tratamiento 30, 30', 30", las uniones enchufables 96, el paquete de tubos 94 y/o la unidad de distribucion y control 98.

Esta tension o esta corriente se puede aplicar a los dos electrodos como tension o corriente continua, en los dos sentidos de la polaridad o como tension alterna. Si se trata de una tension alterna, esta puede ser un seno, un triangulo, un rectangulo o cualquier superposicion posible de esta con distintas frecuencias. Ademas, esta tension alterna puede estar superpuesta por una tension continua. Tambien existe la posibilidad de utilizar una tension continua pulsante. Se puede incorporar, preferentemente en el elemento de tratamiento 30, 30', 30", un tercer electrodo aislado electricamente para producir un campo electrico.

Como se ha descrito anteriormente, es especialmente ventajoso incorporar en o sobre el implante varios electrolitos anexos entre si de forma distinta, bien de forma consecutiva, o bien al mismo tiempo. El sistema de tratamiento 90 se realiza de forma adecuada para ello. Particularmente, la unidad de distribucion y de control 98 contiene recipientes de almacenamiento para, al menos, dos liquidos o electrolitos. Estos se pueden transportar al mismo tiempo (mezclandose) o de forma consecutiva al elemento de tratamiento 30, 30', 30" mediante bombas o mediante una o mas valvulas o unidades de valvulas por medio del paquete de tubos 94. En un caso especialmente favorable, la unidad de distribucion y control 98 tambien contiene una unidad de succion para poder volver a succionar los liquidos o los electrolitos transportados mediante el elemento de tratamiento 30, 30', 30" despues de su uso. En una realizacion especialmente favorable, la unidad de distribucion y control 98 contiene ademas un tratamiento de CO2 para el agua u otros liquidos/electrolitos. Para optimizar el proceso, tambien se puede integrar un sistema de atemperacion de medio en la unidad de distribucion y de control 98.

El paquete de tubos 94 y las uniones enchufables 96 se disenan de forma que puedan garantizar el flujo de corriente y el flujo de medio. En un equipamiento completo, serian particularmente tres conductores electricos y dos conductores de liquido/de electrolito.

El material de los electrodos puede ser el mismo material que el de la parte de pilar 2. Puesto que las partes de pilar 2 se fabrican preferentemente de titanio o de una aleacion de titanio, se prefiere realizar el o los otros electrodos de otro material. Cuando se aplica una corriente anodica, el titanio y los metales parecidos al titanio forman una capa de oxido protectora que actua como aislante. Para no limitar el flujo de corriente en una aplicacion de tension catodica a la parte de pilar 2 mediante una capa de oxido de este tipo es ventajoso utilizar un metal que no forme o que apenas forme una capa de oxido como electrodo opuesto. En un caso especialmente favorable, este electrodo no se corroe ni con el contacto con los medios/los electrolitos ni al aplicar una tension o una corriente. Preferentemente, este electrodo se hace de oro, platino o paladio.

En el caso de que el interior del implante insertado/de la parte de pilar 2, tambien este contaminado y, por consiguiente, se tenga que limpiar, existe la posibilidad de enjuagar el interior y aplicar tension de forma separada o junto con el medio.

Los elementos conductores tambien se pueden configurar en forma de membrana fija o flexible que no deje pasar ningun liquido, sino solo los iones que se encuentren en el electrolito. En una configuracion de este tipo, una de las trayectorias de corriente termina preferentemente en el interior de la parte de pilar 2 y continua pasando por las superficies de contacto 32 que, en este caso, no impermeabilizan o solo lo hacen en parte hasta llegar a la superficie exterior de la parte de pilar 2.

Lista de numeros de referencia

1 Sistema de implante dental

2 primera parte del implante/parte de pilar

4 segunda parte del implante

6 filete exterior

8 extremo apical

10 perno de union

12 canal de recepcion

14 elemento de indicacion

16 pieza del extremo del canal

18 tornillo de union

20 filete de tornillo

5

30, 30', 30" elemento de tratamiento/soporte de tratamiento

32 superficie de contacto

34 canto frontal

36 zona espacial

40 cuerpo base

10

42 superficie frontal

43 perno de union

44 casquillo de guia

45 piezas separadoras

46 tornillo de union

15

48 filete de tornillo

50 canal/canal de medio

52 cuerpo anular

60 orificio de salida

62 elemento conductor

20

64 contacto

66 elemento conductor

68 cuerpo metalico

69 superficie de contacto

70 recubrimiento aislante

25

71 cuerpo anular

72 canal de medio

74 muesca

90 sistema de tratamiento

92 elemento de union

30

94 paquete de tubos

96, 98 unidad de distribucion y control

Claims (15)

1. 5

   10

   15

   20

   25

   30

   35

   REIVINDICACIONES

   1. Uso de un liquido de tratamiento formado por una solucion acuosa de un acido que esta provista de una sal metalica de forma que se obtiene una conductividad de al menos 30 mS/cm para eliminar biopelicula de una pieza, particularmente, de un implante oseo o dental.
2. 2. Uso segun la reivindicacion 1, en donde la conductividad del liquido de tratamiento es de al menos 75 mS/cm, en especial preferentemente de al menos 150 mS/cm.
3. 3. Uso segun las reivindicacionrd 1 o 2, en donde esta prevista como sal metalica una sal de aluminio, de un metal alcalino o alcalinoterreo para el liquido de tratamiento.
4. 4. Uso segun una de las reivindicaciones 1 a 3, en donde esta prevista como sal metalica una sal de potasio, sodio, calcio, magnesio o aluminio para el liquido de tratamiento.
5. 5. Uso segun una de las reivindicaciones 1 a 4, en donde esta previsto yodo como formador de sal para la sal metalica para el liquido de tratamiento.
6. 6. Uso segun una de las reivindicaciones 1 a 5, en donde esta previsto como acido un acido organico para el liquido de tratamiento.
7. 7. Uso segun una de las reivindicaciones 1 a 6, en donde esta previsto como acido un acido a-hidroxilcarboxilico, preferentemente acido lactico, acido citrico, acido acetico o acido malico o una combinacion de estos constituyentes para el liquido de tratamiento.
8. 8. Uso segun una de las reivindicaciones 1 a 7, en el que el liquido de tratamiento presenta un valor de pH de menos de 5, preferentemente de menos de 4, muy preferentemente de aproximadamente 2,7 a 2,9.
9. 9. Liquido de tratamiento para limpiar superficies de implantes oseos, implantes dentales contaminadas por bacterias o de otros componentes contaminados con biopelicula, con una solucion acuosa de un fosfato de potasio, sodio, calcio, magnesio o aluminio y/o un acido, en donde la solucion acuosa esta provista de una sal metalica formada por yodo como formador de sal, de tal manera que se obtiene una conductividad de, al menos, 30 mS/cm.
10. 10. Liquido de tratamiento segun la reivindicacion 9, cuya conductividad es de al menos 75 mS/cm, en especial preferentemente de al menos 150 mS/cm.
11. 11. Liquido de tratamiento segun las reivindicaciones 9 o 10, en el que esta prevista como sal metalica una sal de aluminio, de un metal alcalino o alcalinoterreo.
12. 12. Liquido de tratamiento segun las reivindicaciones 9 o 10, en el que esta prevista como sal metalica una sal de potasio, sodio, calcio, magnesio o aluminio.
13. 13. Liquido de tratamiento segun una de las reivindicaciones 9 a 12, cuyo acido es un acido organico.
14. 14. Liquido de tratamiento segun una de las reivindicaciones 9 a 13, cuyo acido es un acido a-hidroxilcarboxilico, preferentemente acido lactico, acido citrico, acido acetico o acido malico o una combinacion de estos constituyentes.
15. 15. Liquido de tratamiento segun una de las reivindicaciones 9 a 14, que presenta un valor de pH de menos de 5, preferentemente de menos de 4, muy preferentemente de aproximadamente 2,7 a 2,9.